JPH0751347B2 - 薄膜張付装置 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 （１）発明の目的 〔産業上の利用分野〕 本発明は、薄膜張付技術に関し、特に、基板の薄膜張付
面に基板の長さに対応した薄膜を張り付ける薄膜張付技
術に適用して有効な技術に関するものである。

〔従来の技術〕

コンピュータ等の電子機器に使用されるプリント配線板
の製造プロセスにおいて、プリント配線用基板の表面に
積層体を張り付ける工程がある。積層体は感光性樹脂層
（レジスト層）及び透光性樹脂フィルムで形成されてい
る。感光性樹脂層はプリント配線用基板の表面に直接々
着される。透光性樹脂フィルムは感光性樹脂層の表面に
それを保護するように形成されている。

前記プリント配線用基板への積層体の張り付けは、本願
出願人により先に出願された特開昭63−117487号公報等
に記載されるように、薄膜張付装置で行われている。こ
の薄膜張付装置において、前記プリント配線用基板への
積層体の張付プロセスは下記のとおりである。

まず、基板搬送機構により、プリント配線用基板の搬送
方向の先端部を薄膜張付位置に搬送し停止させる。

次に、薄膜供給ローラから供給される連続した（長尺状
の）積層体の供給方向の先端側をメインバキュームプレ
ート（薄膜供給部材）で吸着する。メインバキュームプ
レートの薄膜張付位置側の先端部には薄膜仮付部材が設
けられ、積層体の供給方向の最先端側は前記薄膜仮付部
材に吸着される。この薄膜仮付部材は、前述のように積
層体を吸着する真空系に連結された吸着孔が設けられて
おり、又積層体の最先端部を仮り付けするための加熱ヒ
ータが内蔵されている。

次に、前記メインバキュームプレート及び薄膜仮付部材
を薄膜張付位置（プリント配線用基板の搬送方向の先端
部の表面）に近接させる。そして、プリント配線用基板
の搬送方向の先端部の表面（薄膜張付面）に積層体を供
給方向の最先端側を当接させ、薄膜仮付部材で熱圧着に
より仮り付けを行う。

次に、前記メインバキュームプレート及び薄膜張付部材
の吸着動作を停止し、これらを薄膜張付位置から離反さ
せる。この時、積層体の供給方向の最先端側は、前記仮
付動作でプリント配線用基板の表面に接着されているの
で、薄膜張付位置からずれることがない。

次に、前記薄膜張付位置に熱圧着ローラを近接させて積
層体の仮り付けされた部分を押圧し、この状態で熱圧着
ローラを回転させてプリント配線用基板の表面に積層体
を順次熱圧着ラミネートすると共にプリント配線用基板
を搬送方向に搬送する。前記熱圧着ローラの回転及びプ
リント配線用基板の搬送によって、積層体は自動的に薄
膜張付位置に供給されるようになっている。

次に、前記プリント配線用基板の表面に積層体を熱圧着
ラミネート中に、プリント配線用基板の搬送方向の後端
部に検出し、この検出信号に基づき、連続している積層
体の供給方向の後端側を切断する。つまり、切断された
積層体の長さはプリント配線用基板の搬送方向の長さに
対応した寸法で形成される。積層体の切断は、積層体の
供給経路に配置されたサブバキュームプレートで積層体
の切断位置（供給方向の後端側）を吸着保持した状態に
おいて、切断用カッタを積層体を供給方向と交差する方
向に移動することにより行われている。切断用カッタは
円板状カッタで構成されている。そして、前記切断され
た積層体の後端側は、ワニバー（薄膜後端部吸着部材）
で吸着保持され、適度なテンションを与えた状態におい
て、プリント配線用基板の供給方向の後端部にガイドさ
れる。この積層体の供給方向の後端側は熱圧着ローラで
プリント配線用基板の搬送方向は後端部の表面に熱圧着
ラミネートされる。

このように、薄膜張付装置で積層体が張り付けられたプ
リント配線用基板は次段の露光装置に搬送される。

なお、プリント配線用基板に積層体の一部を仮り付けし
た後、この積層体をプリント配線用基板に熱圧着するこ
の種の薄膜張付技術は、例えば、西独特許DE3334009C2
号、特公昭62−49169号公報等にも記載されている。

〔発明が解決しようとする課題〕

前述の張付プロセスにおいては、熱圧着ラミネート中に
積層体の供給方向の後端側を切断する工程が組込まれて
いる。積層体の切断には前述のように切断用カッタが使
用されるが、切断した際には積層体の切屑が飛散し周囲
が汚染される。飛散した切屑は熱圧着ラミネート直前の
プリント配線用基板の表面、積層体の表面等に付着す
る。このため、切屑が付着した部分は欠陥となる場合が
多く、不良のプリント配線用基板を増大させるので、張
付プロセス上の歩留りが低下するという問題があった。

本発明の目的は、薄膜張付技術において、薄膜の切断で
発生する切屑の汚染を低減することが可能な技術を提供
することにある。

本発明の他の目的は、薄膜の張付プロセスにおける歩留
りを向上することが可能な技術を提供することにある。

本発明の前記ならびにその他の目的と新規な特徴は、本
明細書の記述及び添付図面によって明らかになるであろ
う。

（２）発明の構成 〔課題を解決するための手段〕 前記目的を達成するために、本発明は、基板の搬送方向
の先端部の薄膜張付面から後端部の薄膜張付面に向って
連続した薄膜を供給方向の先端側から順次張り付け、こ
の薄膜の張り付け中に前記連続した薄膜を基板の搬送方
向の長さに対応した寸法に切断する薄膜張付装置であっ
て、前記連続した薄膜の供給経路の薄膜切断位置に設け
られた薄膜の切断位置を保持する切断用保持部材と、該
切断用保持部材で保持された薄膜を介在させて対向する
位置に設けられた切断用カッタと、該切断用カッタの連
続した薄膜の切断位置の近傍に、薄膜を切断した際に発
生する薄膜の切り屑を吸引する切屑吸引手段とを備え、
前記切断用カッタは切断刃の厚さが薄い円板状カッタで
構成され、前記切断用保持部材は前記切断用カッタの切
断刃をガイドする切断用ガイド溝が設けられ、前記切断
用保持部材の切断用ガイド溝は前記切断用カッタの切断
刃の厚さに近い狭い溝幅で構成され、この切断用ガイド
溝は内部には前記切屑吸引手段を構成する真空系に連結
された切屑吸引孔が設けられていることを特徴とする。

〔作用〕

本発明は、前述の手段により、薄膜の張り付け中に発生
する薄膜の切り屑を除去するようにしたので、基板表
面、基板と薄膜との間、薄膜の表面、或は装置本体が切
り屑で汚染されることを低減することができる。

また、この結果、薄膜張付プロセス上の歩留りを向上す
ることができる。

〔発明の実施例〕

以下、プリント配線用基板に感光性樹脂層と透光性樹脂
フィルムとからなる積層体を熱圧着ラミネートする薄膜
張付装置に適用した本発明の一実施例について、図面を
用いて具体的に説明する。

なお、実施例を説明するための全図において、同一機能
を有するものは同一符号を付け、その繰り返しの説明は
省略する。

本発明の一実施例である薄膜張付装置を第１図（概略構
成図）で示す。

第１図に示すように、透光性樹脂フィルム、感光性樹脂
層及び透光性樹脂フィルムの３層構造からなる積層体１
は供給ローラ２に連続的に巻回されている。供給ローラ
２の積層体１は薄膜分離ローラ３で透光性樹脂フィルム
（保護膜）1A、一面（接着面）が露出された感光性樹脂
層（1BR）及び透光性樹脂フィルム（1BC）からなる積層
体1Bの夫々に分離される。

前記分離されたうちの一方の透光性樹脂フィルム1Aは巻
取ローラ４により巻き取られるように構成されている。
前記供給ローラ２、巻取ローラ４の夫々は基板搬送経路
Ｉ−Ｉを中心に上下に設けられている。

前記分離されたうちの他方の積層体1Bの供給方向の先端
側は同第１図に示すようにテンションローラ５を通して
メインバキュームプレート（薄膜供給部材）６に供給さ
れる。

前記テンションローラ５は供給ローラ２とメインバキュ
ームプレート６との間の積層体1Bに適度なテンションを
与えるように構成されている。つまり、テンションロー
ラ５は供給される積層体1Bにしわ等を生じないように構
成されている。

メインバキュームプレート６は薄膜張付位置に近接しか
つ離反する（矢印Ａ方向に移動する）ように構成されて
いる。つまり、メインバキュームプレート６は、積層体
1Bの供給経路に配置されており、供給ローラ２から前記
薄膜張付位置に積層体1Bを供給するように構成されてい
る。メインバキュームプレート６は前記薄膜張付位置に
近接しかつ離反する（矢印Ｂ方向に移動する）支持部材
７に設けられている。支持部材７は、ガイド部材８を矢
印Ｂ方向に摺動するように構成され、このガイド部材８
を介在させて装置本体（薄膜張付装置の筐体）９に設け
られている。前記メインバキュームプレート６、支持部
材７の夫々は基板搬送経路Ｉ−Ｉを中心に上下に設けら
れている。上側、下側の夫々の支持部材７はラックアン
ドピニオン機構により連動的に動作するように構成され
ている。つまり、支持部材７の夫々はラック7A及びこの
ラック7Aと嵌合するピニオン7Bで両者が互いに近接又は
離反するように構成されている。下側（上側でもよい）
の支持部材７には駆動源（図示しない）が連結され、こ
の駆動源により支持部材７が動作するように構成されて
いる。駆動源は例えばエアーシリンダで構成されてい
る。また、駆動源は油圧シリンダ、電磁シリンダ、ステ
ップモータ及びその変位を支持部材７に伝達する伝達機
構等で構成してもよい。

前記メインバキュームプレート６は支持部材７の移動と
同様に又独立に矢印Ａ方向に移動できるように構成され
ている。メインバキュームプレート６の独立な移動は支
持部材７に設けられた駆動源7C及びそれに連結されたラ
ックアンドピニオン機構で行われている。ラックアンド
ピニオン機構は駆動源7Cのシャフトに連結されたピニオ
ン7D、支持部材７に設けられたラック7E、メインバキュ
ームプレート６の裏面（積層体1Bの吸着面でない面）に
設けられた図示しないラックの夫々で構成されている。
駆動源7Cは例えばエアーシリンダで構成されている（駆
動源7Cの変形例は前述の駆動源の変形例と同様であ
る）。

メインバキュームプレート６は第12図（要部拡大断面
図）に示すように内部の真空室6Aから薄膜吸着面6Bに達
する薄膜吸着用孔6Cが設けられている。この薄膜吸着用
孔6Cは前記薄膜吸着面6Bに複数個規則的に配列されてい
る。前記真空室6Aは図示しない真空系（真空ポンプ）Ｐ
に連結されている。つまり、メインバキュームプレート
６は真空室6A及び薄膜吸着用孔6Cを介在させて真空系Ｐ
により薄膜吸着面6Bに積層体1Bを吸着保持するように構
成されている。積層体1Bは同第12図に示すように感光性
樹脂層1BR及び透光性樹脂フィルム1BCの２層構造で構成
されており、メインバキュームプレート６の薄膜吸着面
6Bには透光性樹脂フィルム1BCの表面が吸着されるよう
になっている。

前記メインバキュームプレート６の真空室6Aは全ての薄
膜吸着用孔6Cに対して１個設けられている（共通に設け
られている）。また、前記真空室6Aは、積層体1Bの供給
方向と交差する方向（積層体1Bの幅方向）に沿って、所
定数毎の薄膜吸着用孔6Cに対して１個、他の真空室6Aに
対して真空的に独立に設けてもよい。この真空室6Aを複
数個夫々独立的に設けることにより、積層体1Bの幅寸法
が変化した場合（幅方向のサイズが異なる積層体1Bを使
用した場合）でも、メインバキュームプレート６の薄膜
吸着面6Bに積層体1Bを吸着する吸着力は実質的に低下し
ない。

また、メインバキュームプレート６の薄膜吸着面6Bには
薄膜吸着用孔6Cの周囲に細溝を設けているが、これらの
詳細な構成については先に本願出願人により出願された
特開昭62−259834号公報又は特開昭63−117487号公報に
記載されているので、ここでの説明は省略する。また、
メインバキュームプレート６の他の構成又は変形例につ
いても同様に省略する。

メインバキュームプレート６の薄膜張付位置側の先端部
6Dは第１図及び第12図に示すように薄膜吸着面6Bを円弧
形状に構成している。先端部6Dの円弧形状は、後述する
熱圧着ローラ（11）、薄膜先端部保持部材（16）の夫々
の積層体1Bと接触する面の形状に対応し、それらと実質
的に等しい形状で構成されている。先端部6Dは、メイン
バキュームプレート６と同様に複数個の薄膜吸着用孔6C
が配置され、積層体1Bの弾力性に抗して積層体1Bの供給
方向の先端側を円弧形状面に吸着保持できるように構成
されている。先端部6Dに吸着保持された積層体1Bの供給
方向の先端側はメインバキュームプレート６の矢印Ａ方
向の移動により薄膜張付位置に供給されるようになって
いる。

前記先端部6Dは、従来の薄膜仮付部材に相当する部分で
あり、本実施例は仮付工程を行わないので仮付工程に必
要とされる加熱ヒータが存在しない。したがって、メイ
ンバキュームプレート６特にその先端部6Dは、加熱ヒー
タに相当する分、構造そのものを簡単にすることができ
る。

なお、本実施例においてはメインバキュームプレート
６、その先端部6Dの夫々は一体に構成しているが、メイ
ンバキュームプレート６、先端部6Dの夫々が単独に製作
し易い場合等は両者を夫々別部材で構成して接合しても
よい。

積層体1Bの供給経路の近傍においてメインバキュームプ
レート６と薄膜張付位置との間には第１図に示すように
サブバキュームプレート（切断用保持部材）10が設けら
れている。サブバキュームプレート10は前述と同様に基
板搬送経路Ｉ−Ｉを中心に上下に設けられている。サブ
バキュームプレート10は、第２図（部分断面斜視図）及
び第３図（断面図）に示すように、主に薄膜吸着部材10
A、真空室形成部材10B及びベース部材10Cで構成されて
いる。

薄膜吸着部材10Aは積層体1Bの供給経路に対向する薄膜
吸着面10D及び切断用ガイド溝10Gを有している。薄膜吸
着部材10Aの薄膜吸着面10Dには切断用ガイド溝10Gを中
心に上下に吸着用溝10E及び薄膜吸着用孔10Fの夫々が配
列されている。薄膜吸着用孔10Fは、一端側が吸着用溝1
0Eの底部に通じ、他端側が真空室形成部材10Bで形成さ
れた真空室10K内に通じている。吸着用溝10Eは積層体1B
の幅方向の寸法に対応してその方向に複数個配置されて
いる。吸着用溝10Eは基本的に積層体1Bの幅方向のサイ
ズが変化しても積層体1Bの幅方向の端部がかからない位
置に配列されている（端部は薄膜吸着面10Dに位置す
る）。つまり、吸着用溝10Eの配列は、積層体1Bの端部
が吸着用溝10Eにかかった場合に吸着用溝10Eを通して空
気が侵入することを防止し、積層体1Bの吸着効果を高め
ている。

前記切断用ガイド溝10Gは薄膜吸着面10Dの略中央部分に
積層体1Bの幅方向に延在するように構成されている。切
断用ガイド溝10Gは、薄膜吸着面10Dからの深さが深く、
しかも溝幅が狭い寸法で構成されている。例えば第３図
に示すように、後述する切断装置（13）の切断用カッタ
（13A）の切断刃の厚さLtが約1.5［mm］の場合、切断用
ガイド溝10Gの溝深さLdは約2.0〜4.5［mm］、溝幅Lwは
約2.0［mm］で構成されている。つまり、切断用ガイド
溝10Gは切断用カッタ（13A）の切断刃の厚さに近い狭い
溝幅で構成されている。この溝幅が狭い切断用ガイド溝
10Gは、その延在方向に沿って移動する切断用カッタ（1
3A）を正確にガイドし、積層体1Bの供給方向の後端側
（切断位置）を正確に切断するように構成されている。
切断用ガイド溝10Gの延在方向の端部には第２図に示す
ように溝幅を順次広げたガイド入口部10Hが設けられて
いる。このガイド入口部10Hは切断用カッタ（13A）の切
断用ガイド溝10G内への侵入を容易に行うことができる
ように構成されている。また、溝幅が狭い切断用ガイド
溝10Gは、積層体1Bの切断位置をたるみがなく適度な張
りを有する状態で薄膜吸着面10Dに吸着保持できるよう
に構成されている。つまり、切断用ガイド溝10Gは積層
体1Bの切断位置において切削性を向上できるように構成
されている。また、溝幅が狭くしかも深い切断用ガイド
溝10Gは、積層体1Bを切削した際に発生する切屑を外部
に放出せずに後述する切屑吸引手段により効率良く吸引
できるように構成されている。

前記薄膜吸着部材10Aの切断用ガイド溝10Gの底部には切
屑吸引手段の一部を構成する切屑吸引孔10Jが設けられ
ている。この切屑吸引孔10Jは、一端側が切断用ガイド
溝10Gの底部に通じ、他端側が前記真空室10Kに通じてい
る。

この薄膜吸着面10D、吸着用溝10E、薄膜吸着用孔10F、
切断用ガイド溝10G及び切屑吸引孔10Jを有する薄膜吸着
部材10Aは、成型及び加工がし易くかつ適度な硬質性を
有する例えばアルミニウム合金等で形成されている。

前記真空室形成部材10Bは薄膜吸着部材10Aとベース部材
10Cとの間に設けられている。この真空室形成部材10B
は、薄膜吸着用孔10F、切屑吸引孔10Jの夫々に共通の真
空室10Kとして構成されている。真空室形成部材10Bは、
第２図に示すように、前記薄膜吸着面10Dの吸着用溝10E
に又は吸着用溝10Eの所定数毎に他の隣接する真空室10K
に対して真空的に独立な真空室10Kを形成する間仕切り
が設けられている。夫々独立に設けられた真空室10Kは
ベース部材10Cの共通吸引孔10L及び吸引管10Mを介在さ
せて図示しない真空系（真空ポンプ）Ｐに連結されてい
る。この真空室10Kを複数個夫々独立的に設けることに
より、積層体1Bの幅寸法が変化した場合（幅方向のサイ
ズが異なる積層体1Bを使用した場合）でも、真空作用が
生じている（積層体1Bで薄膜吸着用孔10Fが塞がれてい
る部分の）真空室10Kに対して真空作用が生じていない
（積層体1Bで薄膜吸着用孔10Fが塞がれていない部分
の）真空室10Kが独立しているので、サブバキュームプ
レート10の薄膜吸着面10Dに積層体1Bを吸着する吸着力
は実質的に低下しない。前述の切屑吸引孔10J、真空室1
0K、共通吸引孔10L、吸引管10M及び図示しない真空系Ｐ
は、積層体1Bを切断した際に生じる切屑を吸引除去する
切屑吸引手段を構成している。

前記真空室形成部材10Bは薄膜吸着部材10A、ベース部材
10Cの夫々に対して気密性を確保できるように例えば硬
質ゴム材料で形成されている。また、ベース部材10Cは
成型及び加工がし易くかつ適度な硬質性を有する例えば
アルミニウム合金等で形成されている。薄膜吸着部材10
A、真空室形成部材10B、ベース部材10Cの夫々は例えば
図示しないねじ部材で組立てられている。

このサブバキュームプレート10は、積層体1Bの切断位置
を吸着保持し、かつ切断後に新たに形成された次段の積
層体1Bの供給方向の先端側をメインバキュームプレート
６の先端部6Dに吸着保持できるように構成されている。
つまり、サブバキュームプレート10は、第１図に示すよ
うに、積層体1Bの供給経路に近接及び離反できる（矢印
Ｃ方向に移動する）ように構成されている。このサブバ
キュームプレート10は駆動源7Fを介在させて支持部材７
に設けられている。駆動源7Fは例えばエアーシリンダで
構成され、駆動源7Fはシャフト10Nを介在させてサブバ
キュームプレート10を支持している。

また、サブバキュームプレート10は、積層体1Bの切断位
置の切断に際して積層体1Bの供給方向の後端側を吸着保
持し、熱圧着ラミネート中にバキュームプレート12との
間において積層体1Bの供給方向の後端側にたるみを形成
するように構成されている。このたるみを持たせた積層
体1Bは、熱圧着ローラ11の周速度（熱圧着ラミネート速
度）に対してメインバキュームプレート６による積層体
1Bの供給速度を速く制御することにより形成し、熱圧着
ラミネートを行いながら積層体1Bの切断位置を切断する
ために形成されている。

前記サブバキュームプレート10の薄膜吸着面10Dに対向
する位置には、第１図に示すように、積層体1Bの供給経
路を介在させて切断装置13が設けられている。切断装置
13は前記第２図及び第３図に示すように円板状の切断用
カッタ13Aを有している。本実施例では片面を磨き落し
た片刃タイプの切断用カッタ13Aを使用しているが、こ
れに限定されず、切断用カッタ13Aは両面を磨き落した
両刃タイプを使用してもよい。切断用カッタ13Aは、第
２図に示すように、積層体1Bの幅方向（矢印Ｄ方向）を
サブバキュームプレート10の切断用ガイド溝10Gに沿っ
て移動するように構成されている。切断用カッタ13Aの
移動は例えば空圧によって行われている。切断装置13は
メインバキュームプレート６で連続的に供給される積層
体1Bをプリント配線用基板の搬送方向の長さに対応した
所定の長さに切断するように構成されている。切断装置
13は、基板搬送経路Ｉ−Ｉを中心に上下に設けられてい
る。前記切断装置13の切断用カッタ13Aの切断のための
移動の構成等は本願出願人により先に出願された特開昭
62−259834号公報又は特開昭63−117487号公報に詳細に
説明され、実質的に同様の構成を使用するので、ここで
の説明は省略する。

前記熱圧着ローラ11は、第１図に実線で示す退避位置と
点線で示す薄膜張付位置との間を移動できるように構成
されている。バキュームプレート（ワニバー又は薄膜後
端部保持部材）12は、熱圧着ローラ11で熱圧着ラミネー
トされる積層体1Bの供給方向の後端側を吸着保持し、積
層体1Bにしわ等が発生しないように適度なテンションを
与えるように構成されている。このバキュームプレート
12は回転動作しないように構成されている。熱圧着ロー
ラ11、バキュームプレート12の夫々は基板搬送経路Ｉ−
Ｉを中心に上下に設けられている。なお、この熱圧着ロ
ーラ11、バキュームプレート12及びそれらの周辺の構成
については前述の公開公報に詳細に記載され、実質的に
同様の構成を使用するので、ここでの説明は省略する。

前記基板搬送経路Ｉ−Ｉには、第１図に示すように、薄
膜張付装置に内蔵又は取り付けられた基板搬送機構によ
ってプリント配線用基板14が搬送されるようになってい
る。つまり、基板搬送機構は、プリント配線用基板14を
薄膜張付位置まで搬送し、プリント配線用基板14に積層
体1Bを熱圧着ラミネート後に薄膜張付位置から次段の露
光装置に搬送する（退避する）ように構成されている。
基板搬送機構は主に駆動用ローラ15A及び従動用ローラ1
5Bで構成されている。

前記プリント配線用基板14は前記第12図に示すように絶
縁性基板14A及びその両薄膜張付面に形成された導電層
（例えばCu）14Bで構成されている。

前記薄膜張付位置であって基板搬送経路Ｉ−Ｉに最っと
も近接した位置には第１図に示すように薄膜先端部保持
部材16が設けられている。薄膜先端部保持部材16は装置
本体９に固定又は微調整機構等を介在させて固定されて
いる。薄膜先端部保持部材16は、第４図（部分断面斜視
図）及び第12図に示すように、主に、保持面16A、吸着
用溝16B、薄膜吸着用孔16C及び真空室16Dで構成されて
いる。

前記薄膜先端部保持部材16の保持面16Aは前記メインバ
キュームプレート６の先端部6D又は熱圧着ローラ11の円
弧形状に対応した円弧形状で構成されている。この保持
面16Aは、メインバキュームプレート６特に先端部6Dで
供給される積層体1Bの供給方向の先端側に近接又は接触
し、後述する薄膜吸着手段で供給された積層体1Bの供給
方向の先端側を吸着保持するように構成されている。保
持面16Aの円弧長は、薄膜張付位置部分においてメイン
バキュームプレート６の先端部6Dの円弧長に比べて若干
短いサイズで構成されている（薄膜張付位置から若干離
隔している）。つまり、第13図（要部拡大断面図）に示
すように、保持面16Aで積層体1Bの供給方向の先端側を
吸着保持した状態において、熱圧着ローラ11が薄膜先端
部保持部材16に当接することなく、熱圧着ローラ11でプ
リント配線用基板14の導電層14B上に積層体1Bの供給方
向の最も先端側を熱圧着ラミネートできるように構成さ
れている。

この保持面16Aには前述のサブバキュームプレート10と
同様に吸着用溝16B及び薄膜吸着用孔16Cが夫々複数個設
けられている。薄膜吸着用孔16Cは、一端側が保持面16A
に形成された吸着用溝16Bの底部に通じ、他端側が真空
室16Dに通じている。吸着用溝16Bは積層体1Bの幅方向に
配列された薄膜吸着用孔16C毎又は複数個の薄膜吸着用
孔16C毎に１個の割合で配置されている。吸着用溝16Bの
配列は真空室16Dの配列に対応しており、夫々の真空室1
6Dは吸着用溝16Bの配列毎に他の真空室16Dに対して真空
的に独立に構成されている。つまり、この薄膜先端部保
持部材16は、前述のサブバキュームプレート10と同様
に、積層体10Bの幅方向の寸法が変化しても（幅方向の
サイズの異なる積層体1Bであっても）、保持面16Aの積
層体1Bの供給方向の先端側の吸着力が実質的に低下しな
い。

前記独立に配列された真空室16Dは個々に吸引管16Eを介
在させて図示しない真空ないし減圧系（真空ブロア、真
空ポンプ等）Ｐに連結されている。

前記薄膜先端部保持部材16の基板搬送経路Ｉ−Ｉに近接
する位置であってプリント配線用基板14の搬入側（薄膜
張付位置と異なる側）の角部分16Fは、第４図、第12図
及び第13図に示すように、プリント配線用基板14をスム
ーズにガイドするガイド部として作用するように、面取
りが施されている。

また、前記薄膜先端部保持部材16は基板搬送経路Ｉ−Ｉ
を中心に上下に設けられている。下側に配置された薄膜
先端部保持部材16の保持面16Aに配列された薄膜吸着用
孔16Cの数は上側に配置された薄膜先端部保持部材16の
保持面16Aに配列された薄膜吸着用孔16Cの数に比べて多
く設けられている。つまり、下側の薄膜先端部保持部材
16は、重力の作用により、上側の薄膜先端部保持部材16
に比べて大きな吸着力が必要とされるので、多くの薄膜
吸着用孔16Cが配列されている。なお、下側の薄膜先端
部保持部材16の吸着力がかなり強い場合には、上下夫々
の薄膜先端部保持部材16の薄膜吸着用孔16Cの数を等し
くしてもよい。

なお、第１図に示す薄膜張付装置において、基板搬送経
路Ｉ−Ｉに近接した位置にはセンサS1S2の夫々が配置さ
れている。このセンサS1は、プリント配線用基板14の搬
送方向の先端部を薄膜張付位置に停止させるために、プ
リント配線用基板14の搬送方向の先端部の位置を検出す
るように構成されている。センサS2は、プリント配線用
基板14の搬送方向の長さに対応して、積層体1Bの供給方
向の後端側（切断位置）を設定するために、プリント配
線用基板14の搬送方向の後端部の位置を検出するように
構成されている。つまり、センサS2は、積層体1Bの切断
位置を確定し、切断装置13で積層体1Bの切断位置を切断
するための検出信号を発生するように構成されている。
センサS1、S2の夫々は例えば光透過型センサで構成され
ている。

また、前記積層体1Bの供給経路に近接した位置であっ
て、サブバキュームプレート10とバキュームプレート12
との間には流体吹付装置17が配置されている。この流体
吹付装置17はメインバキュームプレート６の先端部6Dに
積層体1Bの供給方向の先端側を吸着保持させ易くするた
めに設けられている。また、流体吹付装置17は積層体1B
の供給方向の後端側に前記たるみを形成し易くするため
に設けられている。

次に、前述の薄膜張付装置を使用した張付プロセス（熱
圧着ラミネート）について、第５図乃至第11図（各張付
動作工程毎に示す要部概略構成図）を用いて簡単に説明
する。

まず最初に、第５図に示すように、手作業により、薄膜
分離ローラ３で分離された積層体1Bの供給方向の先端側
をサブバキュームプレート10の薄膜吸着面10Dと切断装
置13との間に配置する。

次に、サブバキュームプレート10の薄膜吸着面10Dで積
層体1Bの供給方向の先端側を吸着保持する。この後、前
記第１図に示す駆動源7Fでサブバキュームプレート10を
矢印Ｃ方向に移動させ、第６図に示すように、積層体1B
の供給経路から離反する位置に積層体1Bの供給方向の先
端側を移動させてメインバキュームプレート６の先端部
6Dに吸着保持させる。

なお、連続動作が行われている時は、切断装置13で切断
された積層体1Bの供給方向の先端側がメインバキューム
プレート６の先端部6Dに吸着保持される。

次に、基板搬送機構により、駆動用ローラ15A及び従動
用ローラ15Bで基板搬送経路Ｉ−Ｉを搬送されてきたプ
リント配線用基板14の搬送方向の先端部を薄膜張付位置
に停止させる。この停止は、前記第１図に示すセンサS1
でプリント配線用基板14の搬送方向の先端部を検出し、
この検出信号に基づいて基板搬送機構の駆動用ローラ15
Aを停止することにより行う。基板搬送機構で搬送され
るプリント配線用基板14は基板搬送経路Ｉ−Ｉを中心に
上下に配置された薄膜先端部保持部材16の間を通過する
が、第４図、第12図及び第13図に示すように、薄膜先端
部保持部材16の搬入側の角部16Fがガイド部として作用
するので、薄膜先端部保持部材16にプリント配線用基板
14が引っかかる等の基板搬送不良が生じない。

次に、第７図に示すように、薄膜張付位置に停止したプ
リント配線用基板14の搬送方向の先端部の表面（薄膜張
付面）に向って（矢印Ａ方向に）メインバキュームプレ
ート６及びその先端部6Dを近接させ、積層体1Bの供給方
向の先端側を薄膜張付位置に供給する。

次に、第８図及び第12図に示すように、メインバキュー
ムプレート６及びその先端部6Dを薄膜張付位置まで移動
させ、先端部6Dをプリント配線用基板14の搬送方向の先
端部の薄膜張付面に近接又は当接させる。また、当接さ
せてもよいが、軽く接触させる程度であり、好ましくは
当接させない方がよい。そして、メインバキュームプレ
ート６及びその先端部6Dの吸着動作を停止する。この
時、前記先端部6Dに対向する位置には薄膜先端部保持部
材16の保持面16Aが配置されており、薄膜先端部保持部
材16の薄膜吸着用孔16Cを介在させた真空系Ｐの吸着動
作により、薄膜張付位置に供給された積層体1Bの供給方
向の先端側が薄膜先端部保持部材16の保持面16Aに吸着
保持される。この状態の積層体1Bの供給方向の先端側は
第12図に点線で示されている。この時のメインバキュー
ムプレート６の先端部6Dと薄膜先端部保持部材16の保持
面16との間はきわめて狭く設定されており、例えば約１
［mm］程度の間隔である。前記積層体1Bは適度な復元力
を有しているので、メインバキュームプレート６及び先
端部6Dの吸着動作の停止後、前記積層体1Bの復元力が作
用し、前記薄膜先端部保持部材16の保持面16Aには供給
方向の先端側は瞬時に吸着保持される。また、薄膜先端
部保持部材16の保持面16Aに吸着保持された積層体1Bの
供給方向の最先端側は第12図に示すように保持面16より
も若干薄膜張付位置側に突出している。この積層体1Bの
供給方向の最先端側は、前述のように薄膜先端部保持部
材16に当接せずに熱圧着ローラ11を退避位置から薄膜張
付位置に移動することができるように突出している。

なお、より前記薄膜先端部保持部材16の保持面16Aに積
層体1Bの供給方向の先端側を瞬時に吸着保持できるよう
に、メインバキュームプレート６及び先端部6Dの吸着動
作の停止後、即座に薄膜先端部保持部材16の保持面16A
に向って流体（例えば圧力を加えた空気）を吹き付ける
ように構成してもよい。流体の吹き付けは、前記先端部
6Dの薄膜吸着用孔6Cを薄膜吹付用孔として兼用し、吹付
装置（例えばコンプレッサ）及びそれと真空系Ｐとの切
換弁を設けることにより行える。

次に、第９図に示すように、薄膜先端部保持部材16の保
持面16Aに積層体1Bの供給方向の先端側を吸着保持した
状態において、メインバキュームプレート６及びその先
端部6Dを薄膜張付位置から離反させる。このメインバキ
ュームプレート６及びその先端部6Dは前記第５図に示す
位置よりも供給ローラ２側に離反させる。この動作に基
づき、退避位置から薄膜張付位置への熱圧着ローラ11の
移動を開始する。

次に、熱圧着ローラ11が薄膜張付位置に移動すると、熱
圧着ローラ11が薄膜先端部保持部材16の保持面16Aに吸
着保持された状態の積層体1Bの供給方向の最先端側に適
度な押圧力で当接する。そして、熱圧着ローラ11を回転
させかつ基板搬送機構でプリント配線用基板14を矢印Ｅ
方向に搬送し、第10図に示すように、熱圧着ラミネート
を開始する。積層体1Bの供給方向の先端側は、熱圧着ロ
ーラ11の回転及びプリント配線用基板14の搬送により、
プリント配線用基板14の搬送方向の先端部から後端部に
向って順次熱圧着ラミネートされる。積層体1Bは、メイ
ンバキュームプレート６の吸着動作を停止しているの
で、熱圧着ローラ11の回転及びプリント配線用基板14の
搬送により、順次自動的に薄膜張付位置に供給される。
サブバキュームプレート10（又は及びバキュームプレー
ト12）は吸着動作が行われており、熱圧着ラミネート前
の積層体1Bに適度なテンションを与え、積層体1Bにしわ
等の発生がないようにしている。

また、熱圧着ローラ11の回転及びプリント配線用基板14
の搬送により、第13図に実線で示すように、積層体1Bは
熱圧着ローラ11側に沿って薄膜張付位置に供給されるの
で、熱圧着ラミネートの開始後は薄膜先端部保持部材16
の吸着動作を行っても停止してもよい。ただし、熱圧着
ラミネートの開始後、積層体1Bの感光性樹脂層1BRと保
持面16Aとが擦れ、感光性樹脂層1BRを損傷する可能性が
ある場合は、薄膜先端部保持部材16の吸着動作は停止さ
せた方が好ましい。

次に、前記熱圧着ラミネート中に、プリント配線用基板
14の搬送方向の後端部がセンサS2により検出されると、
最も離反した位置に保持されているメインバキュームプ
レート６及びサブバキュームプレート10が積層体1Bを吸
着保持する。このサブバキュームプレート10で吸着保持
された積層体1Bは切断用ガイド溝10Gに対向する部分が
切断位置となる。そして、即座に第１図に示す支持部材
７を矢印Ｂ方向に熱圧着ラミネート速度よりも速く移動
させ、サブバキュームプレート10の切断用ガイド溝10G
が切断装置13の切断用カッタ13Aに対向する位置で支持
部材７の移動を停止する。この動作により、サブバキュ
ームプレート10とバキュームプレート12との間には積層
体1Bの供給方向の後端側にたるみを持たせることができ
る。この後、切断装置13の切断用カッタ13Aを積層体1B
の幅方向に移動させ、第11図に示すように、積層体1Bの
供給方向の後端側を切断する。この積層体1Bの切断は熱
圧着ラミネート中のプリント配線用基板14の搬送方向の
長さに対応した長さで行われる。積層体1Bの切断は、積
層体1Bにたるみを持たせているので、熱圧着ラミネート
を進行しながら行える。

次に、積層体1Bの切断された供給方向の後端側はプリン
ト配線用基板14の搬送方向の後端部の薄膜張付面に熱圧
着ラミネートされ、熱圧着ラミネートが終了する。前記
バキュームプレート12は、回転動作させ、薄膜先端部保
持部材16を退避させるか、あるいはバキュームプレート
12を回転動作させると共に熱圧着ローラ11を邪魔になら
ない程度に少し移動させてもよい。熱圧着ラミネートが
終了する直前まで吸着動作が行われ、積層体1Bに適度な
テンションを与え、しわ等の発生を防止している。前記
熱圧着ラミネートが終了したプリント配線用基板14は基
板搬送機構により次段の露光装置に搬送される。

このように、プリント配線用基板14の薄膜張付面にその
長さに対応した積層体1Bを熱圧着ローラ11で張り付ける
薄膜の張付方法において、メインバキュームプレート６
及びその先端部6D（薄膜供給部材）に連続した積層体1B
の供給方向の先端側を吸着する段階と、薄膜張付位置に
搬送されたプリント配線用基板14の搬送方向の先端部の
薄膜張付面側に前記メインバキュームプレート６及びそ
の先端部6Dを近接させて連続した積層体1Bの供給方向の
先端側を供給する段階と、この積層体1Bの供給方向の先
端側を前記薄膜張付位置に保持する段階と、前記メイン
バキュームプレート６及びその先端部6Dを前記プリント
配線用基板14の薄膜張付面側から離反させる段階と、前
記薄膜張付位置に保持された状態の積層体1Bの供給方向
の先端側に熱圧着ローラ11を近接させ、この熱圧着ロー
ラ11を回転させて自動的に前記積層体1Bを供給しながら
プリント配線用基板14の搬送方向の先端部から後端部に
向ってプリント配線用基板14の薄膜張付面に積層体1Bを
張り付ける段階と、前記連続した積層体1Bの供給方向の
後端側を前記プリント配線用基板14の搬送方向の長さに
対応させて切断し、この切断された積層体1Bの供給方向
の後端側を前記熱圧着ローラ11でプリント配線用基板14
の搬送方向の後端部の薄膜張付面で張り付ける段階とを
備える。この構成により、積層体1Bの供給方向の先端側
を薄膜張付位置に供給した後、この薄膜張付位置に熱圧
着ローラ11を配置する際に、積層体1Bの供給方向の先端
側を薄膜張付位置に保持したので、プリント配線用基板
14の搬送方向の先端部の薄膜張付面に積層体1Bの供給方
向の先端部を仮り付けする仮付工程を廃止することがで
きる。

また、この仮付工程の廃止によって、仮付工程に伴う仮
付温度、仮付時間、仮付圧力等の複雑な条件設定を廃止
することができ、又前記条件設定の不備による積層体1B
の不均一な仮り付けやボイドが発生する仮付不良を低減
することができるので、張付プロセスにおける歩留りを
向上することができる。

また、前記仮付工程の廃止によって、積層体1Bの供給方
向の先端側を薄膜張付位置に供給した後、即座にメイン
バキュームプレート６及びその先端部6Dを薄膜張付位置
から離反させて熱圧着ローラ11を薄膜張付位置に配置す
ることができるので、仮付工程に相当する分、張付プロ
セス時間を短縮することができる。

また、プリント配線用基板14の薄膜張付面にその長さに
対応した積層体1Bを熱圧着ローラ11で張り付ける薄膜張
付装置において、前記プリント配線用基板14を薄膜張付
位置に搬送しかつこの薄膜張付位置から退避する基板搬
送機構（主に15A及び15B）を設け、連続した積層体1Bの
供給方向の先端側を吸着し、この積層体1Bの供給方向の
先端側を前記薄膜張付位置に供給するメインバキューム
プレート６及びその先端部6D（薄膜供給部材）を設け、
前記薄膜張付位置の近傍に前記メインバキュームプレー
ト６及びその先端部6Dで薄膜張付位置に供給された積層
体1Bの供給方向の先端側と面接触する保持面16Aを有
し、この保持面16Aに積層体1Bの供給方向の先端側を吸
着させる真空系Ｐに連結された薄膜吸着用孔16Cを有す
る薄膜先端部保持部材16を設け、該薄膜先端部保持部材
16で前記薄膜張付位置に保持された状態の積層体1Bの供
給方向の先端側からその後端側を前記プリント配線用基
板14の搬送方向の先端部の薄膜張付面から後端部の薄膜
張付面に向って張り付ける熱圧着ローラ11を設け、前記
連続した積層体1Bの供給方向の後端側を前記プリント配
線用基板14の搬送方向の長さに対応させて切断する切断
装置13を設ける。この構成により、加熱ヒータを埋込ん
だ複雑な構造の仮付部材に変えて、保持面16A及びこの
保持面16Aに形成された薄膜吸着用孔16Cを有する簡単な
構造の薄膜先端部保持部材16を備えたので、薄膜張付装
置の構造を簡単化することができる。

また、プリント配線用基板14の搬送方向の先端部の薄膜
張付面から後端部の薄膜張付面に向って連続した積層体
1Bの供給方向の先端側から順次張り付け、この積層体1B
の張り付け中に前記連続した積層体1Bをプリント配線用
基板14の搬送方向の長さに対応した寸法に切断する薄膜
張付装置において、前記連続した積層体1Bの切断位置の
近傍に、積層体1Bを切断した際に発生する積層体1Bの切
り屑を吸引する切屑吸引手段を設ける。切屑吸引手段
は、主に、切屑吸引孔10J、真空室10K、共通吸引孔10
L、吸引管10M及び真空系Ｐで構成されている。この構成
により、積層体1Bの張り付け中に発生する積層体1Bの切
り屑を除去するようにしたので、プリント配線用基板14
の表面、プリント配線用基板14と積層体1Bとの間、積層
体1Bの表面、或は装置本体が切り屑で汚染されることを
低減することができる。この結果、前記切り屑の汚染に
よる張付不良を低減し、薄膜張付プロセス上の歩留りを
向上することができる。

また、前記サブバキュームプレート（切断用保持部材）
10の切断用ガイド溝10Gを前記切断用カッタ13Aの切断刃
の厚さに近い狭い溝幅で構成し、前記切断用ガイド溝10
Gの内部に前記切屑吸引手段を構成する真空系Ｐに連結
された切屑吸引孔10Jを設ける。この構成により、狭い
溝幅の切断用ガイド溝10Gは積層体1Bの切断位置に張力
を与えることができるので切削性を向上することがで
き、しかも、積層体1Bの切断個所の切断用ガイド溝10G
部分を真空雰囲気に近い状態に形成することができるの
で、切り屑の吸引効果を向上することができる。

以上、本発明者によってなされた発明を前記実施例に基
づき具体的に説明したが、本発明は前記実施例に限定さ
れるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲において
種々変形し得ることは勿論である。

例えば、本発明は、前記薄膜張付装置の切断装置13をメ
インバキュームプレート６及びサブバキュームプレート
10が支持された支持部材７に取り付けてもよい。この場
合、積層体1Bを供給し熱圧着ラミネートを行いながら積
層体1Bの切断を行うことができ、積層体1Bにたるみを持
たせる必要がない。

また、本発明は、前記薄膜張付装置の装置本体にサブバ
キュームプレート10を取り付けてもよい。

また、本発明は、プリント配線用基板14の片側の薄膜張
付面にのみ積層体1Bを熱圧着ラミネートする薄膜張付装
置に適用することができる。

また、本発明は、前記薄膜張付装置の熱圧着ローラ11を
積層体1Bの材質により非熱圧着ローラに変えてもよい。

また、本発明は、建築材として使用される化粧板の表面
に保護フィルムを張り付ける薄膜張付技術に適用するこ
とができる。

（３）発明の効果 本発明によれば、以下の効果を奏することができる。

薄膜張付技術において、薄膜を切断した際に発生する切
屑により汚染を低減することができる。

また、薄膜張付技術において、張付プロセス上の歩留り
を向上することができる。

【図面の簡単な説明】 第１図は、本発明の一実施例である薄膜張付装置の概略
構成図、 第２図は、前記薄膜張付装置のサブバキュームプレート
の部分断面斜視図、 第３図は、前記サブバキュームプレートの断面図、 第４図は、前記薄膜張付装置の薄膜先端部保持部材の部
分断面斜視図、 第５図乃至第11図は、前記薄膜張付プロセスを各張付動
作工程毎に示す前記薄膜張付装置の要部概略構成図、 第12図及び第13図は、前記薄膜張付装置の要部拡大断面
図である。 図中、1B……積層体（薄膜）、６……メインバキューム
プレート（薄膜供給部材）、6B……先端部、10……サブ
バキュームプレート（切断用保持部材）、10D……薄膜
吸着面、10E,16B……吸着用溝、10F,16C……薄膜吸着用
孔、10K,16D……真空室、10G……切断用ガイド溝、10J
……切屑吸引孔、Ｐ……真空系、11……熱圧着ローラ、
13……切断装置、13A……切断用カッタ、14……プリン
ト配線用基板、15A,15B……ローラ、16……薄膜先端部
保持部材、16A……保持面である。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】基板の搬送方向の先端部の薄膜張付面から
   後端部の薄膜張付面に向って連続した薄膜を供給方向の
   先端側から順次張り付け、この薄膜の張り付け中に前記
   連続した薄膜を基板の搬送方向の長さに対応した寸法に
   切断する薄膜張付装置であって、前記連続した薄膜の供
   給経路の薄膜切断位置に設けられた薄膜の切断位置を保
   持する切断用保持部材と、該切断用保持部材で保持され
   た薄膜を介在させて対向する位置に設けられた切断用カ
   ッタと、該切断用カッタの連続した薄膜の切断位置の近
   傍に、薄膜を切断した際に発生する薄膜の切り屑を吸引
   する切屑吸引手段とを備え、前記切断用カッタは切断刃
   の厚さが薄い円板状カッタで構成され、前記切断用保持
   部材は前記切断用カッタの切断刃をガイドする切断用ガ
   イド溝が設けられ、前記切断用保持部材の切断用ガイド
   溝は前記切断用カッタの切断刃の厚さに近い狭い溝幅で
   構成され、この切断用ガイド溝の内部には前記切屑吸引
   手段を構成する真空系に連結された切屑吸引孔が設けら
   れていることを特徴とする薄膜張付装置。