JPH0751442B2 - 高純度水素の製造方法 - Google Patents
高純度水素の製造方法Info
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- JPH0751442B2 JPH0751442B2 JP61101978A JP10197886A JPH0751442B2 JP H0751442 B2 JPH0751442 B2 JP H0751442B2 JP 61101978 A JP61101978 A JP 61101978A JP 10197886 A JP10197886 A JP 10197886A JP H0751442 B2 JPH0751442 B2 JP H0751442B2
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Description
【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本発明はメタノールの水蒸気改質による高純度水素の製
造方法に関し，更に詳しくはメタノールと水を接触反応
させて得られた粗水素ガスから安価に効率良く高純度の
水素を製造する方法に関するものである。
造方法に関し，更に詳しくはメタノールと水を接触反応
させて得られた粗水素ガスから安価に効率良く高純度の
水素を製造する方法に関するものである。
水素ガスは各種有機化合物の水素化，石油精製，脱硫な
どに多く使われ，更に冶金工業，半導体工業などの分野
でも使用され，その需要は年々伸び，また高純度のもの
が要求されている。
どに多く使われ，更に冶金工業，半導体工業などの分野
でも使用され，その需要は年々伸び，また高純度のもの
が要求されている。
メタノールの水蒸気改質による水素製造法は従来の天然
ガス，ナフサ，液化石油ガスの水蒸気改質に比較し，反
応温度が低く，脱硫が不要であるなど数々の利点を有
し，また，輸送の容易な安価なメタノールを原料とする
ので最近注目されている。
ガス，ナフサ，液化石油ガスの水蒸気改質に比較し，反
応温度が低く，脱硫が不要であるなど数々の利点を有
し，また，輸送の容易な安価なメタノールを原料とする
ので最近注目されている。
（従来の技術） メタノールの水蒸気改質による水素の製造法は水／メタ
ノールの混合液を蒸発・過熱し，触媒の存在下,5〜40Kg
/cm2G,250〜300℃にて水蒸気改質反応を行い，水素，炭
酸ガス及び微量の一酸化炭素を含有する粗水素ガスと
し，原料液との熱交換及び冷却により余剰の水分及び未
反応メタノールを凝縮液として分離した後，吸着分離装
置にて炭酸ガス，一酸化炭素，同伴水分などを吸着除去
することにより、99.999％以上の高純度水素とするのが
一般である。
ノールの混合液を蒸発・過熱し，触媒の存在下,5〜40Kg
/cm2G,250〜300℃にて水蒸気改質反応を行い，水素，炭
酸ガス及び微量の一酸化炭素を含有する粗水素ガスと
し，原料液との熱交換及び冷却により余剰の水分及び未
反応メタノールを凝縮液として分離した後，吸着分離装
置にて炭酸ガス，一酸化炭素，同伴水分などを吸着除去
することにより、99.999％以上の高純度水素とするのが
一般である。
この吸着分離装置はモレキュラーシーブ，活性炭などの
分子吸着量が物質により，また圧力により異なることを
利用してガス分離を行う装置で，一般にPSA装置と呼ば
れる。改質反応と同等の圧力で炭酸ガスなどを吸着した
吸着剤は，減圧により脱着し，更にこれらの脱着された
不純物を系外に放出するため，高純度水素ガスの一部を
使用して吸着層の掃気を行う。
分子吸着量が物質により，また圧力により異なることを
利用してガス分離を行う装置で，一般にPSA装置と呼ば
れる。改質反応と同等の圧力で炭酸ガスなどを吸着した
吸着剤は，減圧により脱着し，更にこれらの脱着された
不純物を系外に放出するため，高純度水素ガスの一部を
使用して吸着層の掃気を行う。
（発明が解決しようとする問題点） この水素製造装置において，改質反応後に冷却・分離さ
れた粗水素ガス中には，その温度における蒸気圧に相当
するメタノール分が残留する。プロセス補給水でこの粗
水素ガスを吸収・洗浄することにより，このメタノール
分が補給水で吸収され回収されると共にPSA装置の設計
が容易となる。しかしながら，このプロセスでは微量の
酸素及び窒素がPSA装置入口の粗水素ガス中に含有す
る。PSA装置の吸着剤に対する不純物の平衡吸着量は，
炭酸ガスが最も大きく，一酸化炭素，窒素，酸素の順に
小さくなる。このため,PSA装置より取り出される高純度
水素ガスには微量の酸素が残存し易く，また窒素は吸着
除去できるが平衡吸着量が小さいためPSA装置の運転中
の僅かな変動に対しても高純度水素ガス中に混入し易
く，これを防ぐには水素回収率を低下させるか，或いは
吸着剤の充填量を増やす必要があることが本プロセスの
難点であった。
れた粗水素ガス中には，その温度における蒸気圧に相当
するメタノール分が残留する。プロセス補給水でこの粗
水素ガスを吸収・洗浄することにより，このメタノール
分が補給水で吸収され回収されると共にPSA装置の設計
が容易となる。しかしながら，このプロセスでは微量の
酸素及び窒素がPSA装置入口の粗水素ガス中に含有す
る。PSA装置の吸着剤に対する不純物の平衡吸着量は，
炭酸ガスが最も大きく，一酸化炭素，窒素，酸素の順に
小さくなる。このため,PSA装置より取り出される高純度
水素ガスには微量の酸素が残存し易く，また窒素は吸着
除去できるが平衡吸着量が小さいためPSA装置の運転中
の僅かな変動に対しても高純度水素ガス中に混入し易
く，これを防ぐには水素回収率を低下させるか，或いは
吸着剤の充填量を増やす必要があることが本プロセスの
難点であった。
（問題点を解決するための手段） 本発明者は前記プロセスにおける微量の酸素及び窒素の
混入はメタノール及び補給水中に溶存する酸素及び窒素
によるものであり，予めこれらのガスを除去しておけば
粗水素ガス中に酸素及び窒素が含まれず，その結果高純
度の水素が安定してられること，また予めメタノール及
び補給水をPSA掃気ガスと向流接触させることによって
溶存酸素及び窒素を除去することができることを見出し
た。
混入はメタノール及び補給水中に溶存する酸素及び窒素
によるものであり，予めこれらのガスを除去しておけば
粗水素ガス中に酸素及び窒素が含まれず，その結果高純
度の水素が安定してられること，また予めメタノール及
び補給水をPSA掃気ガスと向流接触させることによって
溶存酸素及び窒素を除去することができることを見出し
た。
即ち本発明は，メタノールと水を接触反応させて水素，
炭酸ガス及び微量の一酸化炭素を含有する粗水素ガスと
し，これを冷却して余剰の水と未反応メタノールを凝縮
分離し，残ガスを水で洗浄しメタノール蒸気を除去した
のち，吸着分離装置に導き炭酸ガス等の不純ガスを吸着
除去し高純度水素ガスを得る方法において，予め原料メ
タノール及び補給水を吸着分離装置の掃気ガスとの向流
接触により脱気することを特徴とする高純度水素の製造
方法である。
炭酸ガス及び微量の一酸化炭素を含有する粗水素ガスと
し，これを冷却して余剰の水と未反応メタノールを凝縮
分離し，残ガスを水で洗浄しメタノール蒸気を除去した
のち，吸着分離装置に導き炭酸ガス等の不純ガスを吸着
除去し高純度水素ガスを得る方法において，予め原料メ
タノール及び補給水を吸着分離装置の掃気ガスとの向流
接触により脱気することを特徴とする高純度水素の製造
方法である。
またPSA装置の掃気ガスには，一般に水素，炭酸ガス，
一酸化炭素，窒素等を含み，改質工程の燃料に使用され
るが，本発明によれば，窒素量が著しく減少するため,P
SA装置入口または掃気ガス中の炭酸ガスを吸収除去する
ことにより，掃気ガスを原料系に戻しても窒素の蓄積を
生じることなしに，循環使用でき，水素の収率を著しく
向上する。これにより系外に放出されるガス量が減少し
水素を有効に利用されると共に，得られる高純度水素ガ
スの純度が極めて高くなる。
一酸化炭素，窒素等を含み，改質工程の燃料に使用され
るが，本発明によれば，窒素量が著しく減少するため,P
SA装置入口または掃気ガス中の炭酸ガスを吸収除去する
ことにより，掃気ガスを原料系に戻しても窒素の蓄積を
生じることなしに，循環使用でき，水素の収率を著しく
向上する。これにより系外に放出されるガス量が減少し
水素を有効に利用されると共に，得られる高純度水素ガ
スの純度が極めて高くなる。
即ち本発明は，前記発明において，予め原料メタノール
及び補給水を吸着分離装置の掃気ガスの一部との向流接
触により脱気すると共に，メタノール蒸気を洗浄除去し
たのちの粗水素ガスを炭酸ガス吸収装置に導き，炭酸ガ
スを吸収除去したのち吸着分離装置に導き，且つ吸着分
離装置の掃気ガスの残部を接触反応の原料として循環使
用することを特徴とする高純度水素の製造方法，および
予め原料メタノール及び補給水を吸着分離装置の掃気ガ
スの一部との向流接触により脱気すると共に，吸着分離
装置の掃気ガスの残部を炭酸ガス吸収装置に導き，炭酸
ガスを吸収分離した後，これを接触反応の原料として循
環使用することを特徴とする高純度水素の製造方法が包
含される。
及び補給水を吸着分離装置の掃気ガスの一部との向流接
触により脱気すると共に，メタノール蒸気を洗浄除去し
たのちの粗水素ガスを炭酸ガス吸収装置に導き，炭酸ガ
スを吸収除去したのち吸着分離装置に導き，且つ吸着分
離装置の掃気ガスの残部を接触反応の原料として循環使
用することを特徴とする高純度水素の製造方法，および
予め原料メタノール及び補給水を吸着分離装置の掃気ガ
スの一部との向流接触により脱気すると共に，吸着分離
装置の掃気ガスの残部を炭酸ガス吸収装置に導き，炭酸
ガスを吸収分離した後，これを接触反応の原料として循
環使用することを特徴とする高純度水素の製造方法が包
含される。
本発明における水とメタノールの接触反応は，銅，鉛，
クロム，アルミニュウムを含有する触媒が好適に使用さ
れ，反応温度150〜400℃，圧力１〜50Kg/cm2G,メタノー
ル１モルに対して水１〜20モルの混合蒸気をSV50〜5000
0 1/Hで通過して行う。この改質反応により，水素，炭
酸ガスの他，微量の一酸化炭素等が生成され，粗水素ガ
スとなる。
クロム，アルミニュウムを含有する触媒が好適に使用さ
れ，反応温度150〜400℃，圧力１〜50Kg/cm2G,メタノー
ル１モルに対して水１〜20モルの混合蒸気をSV50〜5000
0 1/Hで通過して行う。この改質反応により，水素，炭
酸ガスの他，微量の一酸化炭素等が生成され，粗水素ガ
スとなる。
反応ガスの冷却は，一般に原料液の予熱及び冷却水ない
し空冷により行い,50℃以下とする。残ガスの洗浄には
ラッシヒリング，ボールリングなどの充填物を使用し，
前記脱気水との向流接触により，メタノール分を100PPM
以下とする。
し空冷により行い,50℃以下とする。残ガスの洗浄には
ラッシヒリング，ボールリングなどの充填物を使用し，
前記脱気水との向流接触により，メタノール分を100PPM
以下とする。
PSA装置は吸着剤としてモレキュラーシーブ，ゼオライ
ト，活性炭などの混合物を使用し，改質圧と同等の圧
力,50℃以下の温度で炭酸ガス，微量の一酸化炭素，メ
タン，メタノール，窒素などを吸着する。この吸着剤の
再生時に掃気されるガスは圧力0.1〜1.0Kg/cm2Gであ
り，掃気に使用された水素を30〜50vol％含有し，その
発生量は高純度水素量の50〜80％となる。
ト，活性炭などの混合物を使用し，改質圧と同等の圧
力,50℃以下の温度で炭酸ガス，微量の一酸化炭素，メ
タン，メタノール，窒素などを吸着する。この吸着剤の
再生時に掃気されるガスは圧力0.1〜1.0Kg/cm2Gであ
り，掃気に使用された水素を30〜50vol％含有し，その
発生量は高純度水素量の50〜80％となる。
メタノール及び補給水の脱気はラッシヒリング，ポール
リングなどの充填物を用い，常温，常圧でこの掃気ガス
との向流接触により行なう。補給水の脱気に使用後の掃
気ガスは改質工程の燃料に使用する。
リングなどの充填物を用い，常温，常圧でこの掃気ガス
との向流接触により行なう。補給水の脱気に使用後の掃
気ガスは改質工程の燃料に使用する。
PSA装置入口粗水素ガスまたは掃気ガス中の炭酸ガス除
去は，通常のモノエタノールアミン，熱炭酸カリなどの
アルカリ溶液による化学吸収法または低温メタノールに
よる物理吸収法（レクチゾール法）等が用いられ，吸収
液は減圧・加熱により再生し循環使用する。
去は，通常のモノエタノールアミン，熱炭酸カリなどの
アルカリ溶液による化学吸収法または低温メタノールに
よる物理吸収法（レクチゾール法）等が用いられ，吸収
液は減圧・加熱により再生し循環使用する。
PSA装置入口粗水素ガスの炭酸ガス除去を行った場合，
粗水素ガス中の不純物が少量であるため,PSA掃気ガス中
の水素濃度が80〜90％となる。PSA掃気ガス発生量の0.1
〜10％，好ましくは0.2〜５％に相当する掃気ガスをメ
タノール及び補給水の脱気に使用し，残りのガスを圧縮
機により改質工程の圧力以上に昇圧して原料系に循環使
用する。
粗水素ガス中の不純物が少量であるため,PSA掃気ガス中
の水素濃度が80〜90％となる。PSA掃気ガス発生量の0.1
〜10％，好ましくは0.2〜５％に相当する掃気ガスをメ
タノール及び補給水の脱気に使用し，残りのガスを圧縮
機により改質工程の圧力以上に昇圧して原料系に循環使
用する。
PSA掃気ガスは，メタノール放散塔と補給水放散塔を直
列に導くことができるし，また並列に導くこともでき
る。直列に導く場合には，メタノール放散塔出口ガスに
同伴するメタノールが補給水により吸収されるため，メ
タノールの損失が無く有利である。
列に導くことができるし，また並列に導くこともでき
る。直列に導く場合には，メタノール放散塔出口ガスに
同伴するメタノールが補給水により吸収されるため，メ
タノールの損失が無く有利である。
次に，図面により本発明を説明する。
第１図は本発明により，メタノール及び補給水を吸着分
離装置の掃気ガスで脱気する場合のフローを示す。原料
メタノールはメタノール供給ライン11により供給され，
メタノール放散塔４に導かれ,PSA装置の掃気ガス21によ
って脱気された後，水洗塔２から取り出される原料水
（凝縮液＋脱気水）と合流し，原料予熱器８及び蒸発過
熱器７を経て改質反応器１に入り，触媒存在下水蒸気改
質され粗水素ガスとなる。改質反応器よりの粗水素ガス
は原料予熱器８及び冷却器９で冷却され，余分の水と未
反応メタノールが凝縮する。冷却ガスは粗水素ガスライ
ン16により水洗塔２に入り，脱気水供給ライン14より供
給される脱気水によって凝縮液中のメタノール蒸気圧に
相当するメタノール蒸気が吸収・洗浄される。凝縮液は
吸収・洗浄に使用された脱気水と混合され，凝縮液取出
しライン15から原料水として供給され再使用される。
離装置の掃気ガスで脱気する場合のフローを示す。原料
メタノールはメタノール供給ライン11により供給され，
メタノール放散塔４に導かれ,PSA装置の掃気ガス21によ
って脱気された後，水洗塔２から取り出される原料水
（凝縮液＋脱気水）と合流し，原料予熱器８及び蒸発過
熱器７を経て改質反応器１に入り，触媒存在下水蒸気改
質され粗水素ガスとなる。改質反応器よりの粗水素ガス
は原料予熱器８及び冷却器９で冷却され，余分の水と未
反応メタノールが凝縮する。冷却ガスは粗水素ガスライ
ン16により水洗塔２に入り，脱気水供給ライン14より供
給される脱気水によって凝縮液中のメタノール蒸気圧に
相当するメタノール蒸気が吸収・洗浄される。凝縮液は
吸収・洗浄に使用された脱気水と混合され，凝縮液取出
しライン15から原料水として供給され再使用される。
吸収塔２を出た粗水素ガスは粗水素ガスライン17によっ
てPSA装置３に送気され，炭酸ガスなどの不純物が吸着
除去され，高純度水素ガスライン19から99.999％以上の
高純度水素ガスとして取り出される。一方炭酸ガス等の
不純物は減圧によりPSA掃気ガスとして取り出され,PSA
掃気ガスライン21によっててメタノール放散塔４に導か
れ，メタノール供給ライン11よりのメタノールと向流接
触し溶存酸素及び窒素を放散した後，補給水放散塔５に
供給され，補給水中の溶存酸素及び窒素を放散し，オフ
ガスライン23によって改質工程の燃料に使用される。補
給水供給ライン12よりの補給水は放散塔５で散後，脱気
水供給ライン14より水洗塔２に入る。またPSA掃気ガス
はメタノール放散塔４及び補給水散塔５に並列に導くこ
ともできる。
てPSA装置３に送気され，炭酸ガスなどの不純物が吸着
除去され，高純度水素ガスライン19から99.999％以上の
高純度水素ガスとして取り出される。一方炭酸ガス等の
不純物は減圧によりPSA掃気ガスとして取り出され,PSA
掃気ガスライン21によっててメタノール放散塔４に導か
れ，メタノール供給ライン11よりのメタノールと向流接
触し溶存酸素及び窒素を放散した後，補給水放散塔５に
供給され，補給水中の溶存酸素及び窒素を放散し，オフ
ガスライン23によって改質工程の燃料に使用される。補
給水供給ライン12よりの補給水は放散塔５で散後，脱気
水供給ライン14より水洗塔２に入る。またPSA掃気ガス
はメタノール放散塔４及び補給水散塔５に並列に導くこ
ともできる。
第２図は本発明により,PSA装置入口の粗水素ガス中の炭
酸ガスを除去し,PSA掃気ガスを原料として循環使用する
場合のフローを示す。吸収塔２から取り出された粗水素
ガスは，炭酸ガス除去装置６に導かれ，含有する炭酸ガ
スが殆ど除去された後,PSA装置３に導かれ，残存する少
量の不純物が除去され,99.999％以上の高純度水素とし
て19より取り出される。PSA掃気ライン21よりの掃気ガ
スの一部はメタノール放散塔４及び補給水散塔５に導か
れる。他の大部分のガスは,PSA掃気ガス圧縮機10に導か
れ、原料系の圧力以上に昇圧され，蒸発・過熱器７を出
た混合ガスと合流して循環使用される。
酸ガスを除去し,PSA掃気ガスを原料として循環使用する
場合のフローを示す。吸収塔２から取り出された粗水素
ガスは，炭酸ガス除去装置６に導かれ，含有する炭酸ガ
スが殆ど除去された後,PSA装置３に導かれ，残存する少
量の不純物が除去され,99.999％以上の高純度水素とし
て19より取り出される。PSA掃気ライン21よりの掃気ガ
スの一部はメタノール放散塔４及び補給水散塔５に導か
れる。他の大部分のガスは,PSA掃気ガス圧縮機10に導か
れ、原料系の圧力以上に昇圧され，蒸発・過熱器７を出
た混合ガスと合流して循環使用される。
第３図は本発明により,PSA掃気ガス中の炭酸ガスを除去
し，これを循環使用する場合のフローを示す。PSA掃気
ライン21よりの掃気ガスの一部はメタノール放散塔４及
び補給水放散塔５に導かれる。他の大部分のガスは,PSA
掃気ガス圧縮機10に導かれ，原料系の圧力以上に昇圧
後，炭酸ガス除去装置６に導かれ，含有する炭酸ガスが
殆ど除去され，蒸発・過熱器７を出た混合ガスと合流し
て循環使用される。
し，これを循環使用する場合のフローを示す。PSA掃気
ライン21よりの掃気ガスの一部はメタノール放散塔４及
び補給水放散塔５に導かれる。他の大部分のガスは,PSA
掃気ガス圧縮機10に導かれ，原料系の圧力以上に昇圧
後，炭酸ガス除去装置６に導かれ，含有する炭酸ガスが
殆ど除去され，蒸発・過熱器７を出た混合ガスと合流し
て循環使用される。
（実施例） 本発明によりPSA掃気ガスによりメタノール及び補給水
を脱気した場合,PSA装置入口ガス中の炭酸ガスを除去し
循環使用した場合と，メタノール及び補給水の脱気を実
施しない場合の酸素及び窒素濃度を比較し，第１表に示
した。各例の操作条件は次の通りである。
を脱気した場合,PSA装置入口ガス中の炭酸ガスを除去し
循環使用した場合と，メタノール及び補給水の脱気を実
施しない場合の酸素及び窒素濃度を比較し，第１表に示
した。各例の操作条件は次の通りである。
実施例１ 第１図において，メタノール12.2Kg/H,補給水6.6Kg/H反
応器入口水／メタノールモル比2.0とし270℃,15Kg/cm
2G,混合蒸気のSV1800 1/Hにて水蒸気改質を行い，得ら
れる粗水素ガス33.7Nm3/Hを補給水6.6Kg/Hで洗浄し，モ
レキュラーシーブ及び活性炭からなる吸着剤のPSA装置
にて精製を行い,99.999％以上の高純度水素20Nm3/Hを得
た。メタノール及び補給水の脱気には,PSA掃気ガス発生
量13.7Nm3/Hの１％に相当する0.14Nm3/Hを使用した。
応器入口水／メタノールモル比2.0とし270℃,15Kg/cm
2G,混合蒸気のSV1800 1/Hにて水蒸気改質を行い，得ら
れる粗水素ガス33.7Nm3/Hを補給水6.6Kg/Hで洗浄し，モ
レキュラーシーブ及び活性炭からなる吸着剤のPSA装置
にて精製を行い,99.999％以上の高純度水素20Nm3/Hを得
た。メタノール及び補給水の脱気には,PSA掃気ガス発生
量13.7Nm3/Hの１％に相当する0.14Nm3/Hを使用した。
実施例２ 第２図のフローにおいてPSA装置よりの掃気ガス発生量
の１％をメタノール及び補給水の脱気に使用し，残りの
ガスを16Kg/cm2Gに昇圧し改質反応器に循環使用した。
改質工程及び洗浄工程の操作条件は実施例１と同一条件
とし，高純度水素発生量25.5Nm3/H,,PSA掃気ガス循環量
13.56Nm3/H,メタノール及び補給水の放散塔に使用したP
SA掃気ガス量0.14Nm3/Hであった。
の１％をメタノール及び補給水の脱気に使用し，残りの
ガスを16Kg/cm2Gに昇圧し改質反応器に循環使用した。
改質工程及び洗浄工程の操作条件は実施例１と同一条件
とし，高純度水素発生量25.5Nm3/H,,PSA掃気ガス循環量
13.56Nm3/H,メタノール及び補給水の放散塔に使用したP
SA掃気ガス量0.14Nm3/Hであった。
比較例１ メタノール及び補給水を脱気せず，実施例１と同一条件
で高純度水素装置を運転した。
で高純度水素装置を運転した。
（効果） 実施例に示した如く本発明により,PSA掃気ガスによって
予めメタノール及び補給水中の溶存酸素及び窒素を除去
することにより,PSA装置入口粗水素ガス中酸素及び窒素
濃度が著しく低下し，高純度水素の純度が向上する。
予めメタノール及び補給水中の溶存酸素及び窒素を除去
することにより,PSA装置入口粗水素ガス中酸素及び窒素
濃度が著しく低下し，高純度水素の純度が向上する。
また，これによりPSA装置の運転が安定し，水素回収率
の向上，或いはPSA装置での吸着剤の減が計られ，高純
度水素ののコストを低減できる。
の向上，或いはPSA装置での吸着剤の減が計られ，高純
度水素ののコストを低減できる。
更に本発明によりPSA装置の供給粗水素ガス又は掃気ガ
ス中の炭酸ガス除去を行うとによって，掃気ガスを原料
系に戻しても窒素の蓄積を生ぜず，循環使用することが
でき，水素の収率が著しく向上できる。これにより系外
に放出されるガス量が減少し水素を有効に利用されると
共に，得られる高純度水素ガスの純度が極て高くなる。
ス中の炭酸ガス除去を行うとによって，掃気ガスを原料
系に戻しても窒素の蓄積を生ぜず，循環使用することが
でき，水素の収率が著しく向上できる。これにより系外
に放出されるガス量が減少し水素を有効に利用されると
共に，得られる高純度水素ガスの純度が極て高くなる。
第１図に本発明におけるメタノール及び補給水をPSA装
置の掃気ガスで脱気する場合のフロー，第２図にPSA装
置入口の粗水素ガス中の炭酸ガスを除去し,PSA掃気ガス
を原料として循環使用する場合のフロー，第３図にPSA
掃気ガス中の炭酸ガスを除去し，これを循環使用する場
合のフローを示す。
置の掃気ガスで脱気する場合のフロー，第２図にPSA装
置入口の粗水素ガス中の炭酸ガスを除去し,PSA掃気ガス
を原料として循環使用する場合のフロー，第３図にPSA
掃気ガス中の炭酸ガスを除去し，これを循環使用する場
合のフローを示す。
Claims (3)
- 【請求項１】メタノールと水を接触反応させて水素，炭
酸ガス及び微量の一酸化炭素を含有する粗水素ガスと
し，これを冷却して余剰の水と未反応メタノールを凝縮
分離し，残ガスを水で洗浄しメタノール蒸気を除去した
のち，吸着分離装置に導き炭酸ガス等の不純ガスを吸着
除去し高純度水素ガスを得る方法において，予め原料メ
タノール及び補給水を吸着分離装置の掃気ガスとの向流
接触により脱気することを特徴とする高純度水素の製造
方法 - 【請求項２】メタノールと水を接触反応させて水素，炭
酸ガス及び微量の一酸化炭素を含有する粗水素ガスと
し，これを冷却して余剰の水と未反応メタノールを凝縮
分離し，残ガスを水で洗浄しメタノール蒸気を除去した
のち，吸着分離装置に導き炭酸ガス等の不純ガスを吸着
除去し高純度水素ガスを得る方法において，予め原料メ
タノール及び補給水を吸着分離装置の掃気ガスの一部と
の向流接触により脱気すると共に，メタノール蒸気を洗
浄除去したのち粗水素ガスを炭酸ガス吸収装置に導き，
炭酸ガスを吸収除去したのち吸着分離装置に導き，且つ
吸着分離装置の掃気ガスの残部を接触反応の原料として
循環使用することを特徴とする高純度水素の製造方法 - 【請求項３】メタノールと水を接触反応させて水素，炭
酸ガス及び微量の一酸化炭素を含有する粗水素ガスと
し，これを冷却して余剰の水と未反応メタノールを凝縮
分離し，残ガスを水で洗浄しメタノール蒸気を除去した
のち，吸着分離装置に導き炭酸ガス等の不純ガスを吸着
除去し高純度水素ガスを得る方法において，予め原料メ
タノール及び補給水を吸着分離装置の掃気ガスの一部と
の向流接触により脱気すると共に，吸着分離装置の掃気
ガスの残部を炭酸ガス吸収装置に導き，炭酸ガスを吸収
分離した後，これを接触反応の原料として循環使用する
ことを特徴とする高純度水素の製造方法
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61101978A JPH0751442B2 (ja) | 1986-05-06 | 1986-05-06 | 高純度水素の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61101978A JPH0751442B2 (ja) | 1986-05-06 | 1986-05-06 | 高純度水素の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62260702A JPS62260702A (ja) | 1987-11-13 |
| JPH0751442B2 true JPH0751442B2 (ja) | 1995-06-05 |
Family
ID=14314946
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP61101978A Expired - Lifetime JPH0751442B2 (ja) | 1986-05-06 | 1986-05-06 | 高純度水素の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0751442B2 (ja) |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP4744971B2 (ja) * | 2005-07-29 | 2011-08-10 | 株式会社東芝 | 低質廃熱回収システム |
| US7699907B2 (en) * | 2005-08-17 | 2010-04-20 | Air Liquide Process & Construction, Inc. | Apparatus and methods for gas separation |
| CN114592199A (zh) * | 2022-03-03 | 2022-06-07 | 上海丹通新材料有限公司 | 一种采用变压吸附制备高纯氢气的系统 |
| CN115057412A (zh) * | 2022-06-13 | 2022-09-16 | 新疆天业汇合新材料有限公司 | 利用甲醇合成反应脱除co、co2提高氢气纯度的方法 |
-
1986
- 1986-05-06 JP JP61101978A patent/JPH0751442B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS62260702A (ja) | 1987-11-13 |
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|---|---|---|---|
| EXPY | Cancellation because of completion of term |