JPH0753431A - グリセリルエーテルの製造法 - Google Patents
グリセリルエーテルの製造法Info
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- JPH0753431A JPH0753431A JP5207705A JP20770593A JPH0753431A JP H0753431 A JPH0753431 A JP H0753431A JP 5207705 A JP5207705 A JP 5207705A JP 20770593 A JP20770593 A JP 20770593A JP H0753431 A JPH0753431 A JP H0753431A
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- Japan
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- glyceryl ether
- ether
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- glycidyl ether
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- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/52—Improvements relating to the production of bulk chemicals using catalysts, e.g. selective catalysts
Landscapes
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 従来法に比べて極めて簡単な方法で、しかも
大量に純度の高いグリセリルエーテルを高収率、廉価に
製造する方法を提供する。 【構成】 式（Ｉ）で表されるグリシジルエーテルを３
級アミンの存在下に加水分解して式（II）で表されるグ
リセリルエーテルを得る。 【化１】 （式中、R は炭素数１〜32の飽和又は不飽和の、直鎖又
は分岐鎖のアルキル基を示す。）
大量に純度の高いグリセリルエーテルを高収率、廉価に
製造する方法を提供する。 【構成】 式（Ｉ）で表されるグリシジルエーテルを３
級アミンの存在下に加水分解して式（II）で表されるグ
リセリルエーテルを得る。 【化１】 （式中、R は炭素数１〜32の飽和又は不飽和の、直鎖又
は分岐鎖のアルキル基を示す。）
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明はグリセリルエーテルの製
造法に関し、詳しくは高収率、高純度でかつ簡便にグリ
セリルエーテルを製造する方法に関する。
造法に関し、詳しくは高収率、高純度でかつ簡便にグリ
セリルエーテルを製造する方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】α−モノアルキルグリセリルエーテルと
しては、従来より魚類の脂質中に存在するパルミチルグ
リセリルエーテル、ステアリルグリセリルエーテル及び
オレイルグリセリルエーテル等が知られており、これら
は乳化剤、特にＷ／Ｏ型の乳化剤として優れた性能を有
すること（特開昭49−87612 号、同49−92239 号、同52
−12109 号等）、並びに骨髄における血球生成促進効
果、抗炎症作用、抗腫瘍活性等の薬理作用も有すること
が知られている（特公昭49−10724号、同52−18171
号）。更にまた、近年、防菌、防カビ剤としての利用も
報告されている（特公昭54−2249号）。これらのα−モ
ノアルキルグリセリルエーテルを対応するアルコールよ
り製造する方法としては、従来、次のような方法が知ら
れている。
しては、従来より魚類の脂質中に存在するパルミチルグ
リセリルエーテル、ステアリルグリセリルエーテル及び
オレイルグリセリルエーテル等が知られており、これら
は乳化剤、特にＷ／Ｏ型の乳化剤として優れた性能を有
すること（特開昭49−87612 号、同49−92239 号、同52
−12109 号等）、並びに骨髄における血球生成促進効
果、抗炎症作用、抗腫瘍活性等の薬理作用も有すること
が知られている（特公昭49−10724号、同52−18171
号）。更にまた、近年、防菌、防カビ剤としての利用も
報告されている（特公昭54−2249号）。これらのα−モ
ノアルキルグリセリルエーテルを対応するアルコールよ
り製造する方法としては、従来、次のような方法が知ら
れている。
【０００３】
【化４】
【０００４】（式中、R5は炭化水素基を、R6およびR7は
低級アルキル基を、X はハロゲン原子を、M はアルカリ
金属を示す。）すなわち、アルコールをハライドとな
し、これに水酸基を保護したグリセロールアルカリ金属
アルコラートを反応させて４−アルコキシメチル−1,3
−ジオキソランに導き、次いで、これを加水分解する方
法である。
低級アルキル基を、X はハロゲン原子を、M はアルカリ
金属を示す。）すなわち、アルコールをハライドとな
し、これに水酸基を保護したグリセロールアルカリ金属
アルコラートを反応させて４−アルコキシメチル−1,3
−ジオキソランに導き、次いで、これを加水分解する方
法である。
【０００５】
【化５】
【０００６】（式中、R5およびX は前記と同じ意味を有
する。）すなわち、アルコールとエピハロヒドリンを反
応させてグリシジルエーテルを得、これを加水分解する
方法である。
する。）すなわち、アルコールとエピハロヒドリンを反
応させてグリシジルエーテルを得、これを加水分解する
方法である。
【０００７】
【化６】
【０００８】（式中、R8は炭化水素基を示し、R5は前記
と同じ意味を有する。）すなわち、上記の公知方法(2)
で得られるグリシジルエーテルにカルボン酸を反応させ
てα−グリセロールのモノエステル化合物に導き、これ
を加水分解する方法である。
と同じ意味を有する。）すなわち、上記の公知方法(2)
で得られるグリシジルエーテルにカルボン酸を反応させ
てα−グリセロールのモノエステル化合物に導き、これ
を加水分解する方法である。
【０００９】
【化７】
【００１０】（式中、R9およびR10 は炭化水素基を示
し、R5は前記と同じ意味を有する。）すなわち、グリシ
ジルエーテルにカルボニル化合物を付加させて、1,3 −
ジオキソラン化合物に導き、これを加水分解する方法で
ある（特開昭56−133281号）。
し、R5は前記と同じ意味を有する。）すなわち、グリシ
ジルエーテルにカルボニル化合物を付加させて、1,3 −
ジオキソラン化合物に導き、これを加水分解する方法で
ある（特開昭56−133281号）。
【００１１】
【化８】
【００１２】（式中、R11 は炭化水素基を示し、R5は前
記と同じ意味を有する。）すなわち、グリシジルエーテ
ルを触媒の存在下カルボン酸無水物と反応させてジエス
テル化合物に導き、これを加水分解する方法である（特
開昭58−134049号）。
記と同じ意味を有する。）すなわち、グリシジルエーテ
ルを触媒の存在下カルボン酸無水物と反応させてジエス
テル化合物に導き、これを加水分解する方法である（特
開昭58−134049号）。
【００１３】
【化９】
【００１４】（式中、R5は前記と同じ意味を有する。）
すなわち、グリシジルエーテルに塩基存在下、ベンジル
アルコールを反応させてベンジルエーテルを得、これを
水素化分解する方法である（特開昭62−84036号）。
すなわち、グリシジルエーテルに塩基存在下、ベンジル
アルコールを反応させてベンジルエーテルを得、これを
水素化分解する方法である（特開昭62−84036号）。
【００１５】
【化１０】
【００１６】（式中、R5は前記と同じ意味を有する。）
すなわち、グリシジルエーテルをリン酸又は活性白土触
媒下、プロピレングリコール又はジプロピレングリコー
ルのモノアルキルエーテル溶媒中、加水分解する方法で
ある（特開平５−43501 号）。
すなわち、グリシジルエーテルをリン酸又は活性白土触
媒下、プロピレングリコール又はジプロピレングリコー
ルのモノアルキルエーテル溶媒中、加水分解する方法で
ある（特開平５−43501 号）。
【００１７】
【発明が解決しようとする課題】しかしながらこれらの
公知方法は次に示すいくつかの欠点を有する。(1) の方
法においては、（イ）原料である水酸基を保護したグリ
セロール化合物（４−ヒドロキシメチル−1,3 −ジオキ
ソラン）は、グリセリンとカルボニル化合物から酸触媒
の存在下で合成できるが、反応時間が長く、さらに脱水
反応であるため大量の脱水剤を必要とする。（ロ）アル
キルハライドと４−ヒドロキシメチル−1,3 −ジオキソ
ランのアルカリ金属アルコラートとの縮合反応では、反
応系に強塩基が存在するためアルキルハライドの一部が
脱ハロゲン化水素反応により末端オレフィンを生成し、
目的とする４−アルコキシメチル−1,3 −ジオキソラン
の収率を低下させる。
公知方法は次に示すいくつかの欠点を有する。(1) の方
法においては、（イ）原料である水酸基を保護したグリ
セロール化合物（４−ヒドロキシメチル−1,3 −ジオキ
ソラン）は、グリセリンとカルボニル化合物から酸触媒
の存在下で合成できるが、反応時間が長く、さらに脱水
反応であるため大量の脱水剤を必要とする。（ロ）アル
キルハライドと４−ヒドロキシメチル−1,3 −ジオキソ
ランのアルカリ金属アルコラートとの縮合反応では、反
応系に強塩基が存在するためアルキルハライドの一部が
脱ハロゲン化水素反応により末端オレフィンを生成し、
目的とする４−アルコキシメチル−1,3 −ジオキソラン
の収率を低下させる。
【００１８】(2) の方法においては、反応系が水と油の
不均一系であるため均一反応が困難となり、目的とする
グリセリルエーテル以外にグリシジルエーテル同志が付
加した重合物が多量に発生する。そのため、グリセリル
エーテルの収率が低下するとともに品質が劣悪になる。
従って、高純度のグリセリルエーテルを得るためには分
子蒸留等の操作が必要となり、これは工業的規模での実
施の障害となる。
不均一系であるため均一反応が困難となり、目的とする
グリセリルエーテル以外にグリシジルエーテル同志が付
加した重合物が多量に発生する。そのため、グリセリル
エーテルの収率が低下するとともに品質が劣悪になる。
従って、高純度のグリセリルエーテルを得るためには分
子蒸留等の操作が必要となり、これは工業的規模での実
施の障害となる。
【００１９】(3) の方法においては、グリシジルエーテ
ルに酸が付加することにより生成するα−アルキルグリ
セロールのモノエステル化合物には、活性水素を有する
遊離水酸基が存在するため、この遊離水酸基にさらに１
モル以上のグリシジルエーテルが付加して高分子量の化
合物を副生する欠点がある。従って、この方法で得たグ
リセリルエーテルは、純度が極めて低い。
ルに酸が付加することにより生成するα−アルキルグリ
セロールのモノエステル化合物には、活性水素を有する
遊離水酸基が存在するため、この遊離水酸基にさらに１
モル以上のグリシジルエーテルが付加して高分子量の化
合物を副生する欠点がある。従って、この方法で得たグ
リセリルエーテルは、純度が極めて低い。
【００２０】(4) の方法においては、1,3 −ジオキソラ
ン化合物の加水分解で生成するケトンやアルデヒドが、
反応系中に存在する酸触媒によりアルドール縮合をおこ
し、着色やにおいの原因となる。
ン化合物の加水分解で生成するケトンやアルデヒドが、
反応系中に存在する酸触媒によりアルドール縮合をおこ
し、着色やにおいの原因となる。
【００２１】(5) の方法においては、ジエステルを強塩
基性条件下に加水分解することから、後処理の段階で中
和、水洗に多量の水を必要とするため工業的に利用する
場合、解決すべき問題が残っている。
基性条件下に加水分解することから、後処理の段階で中
和、水洗に多量の水を必要とするため工業的に利用する
場合、解決すべき問題が残っている。
【００２２】(6) の方法においては、ベンジルエーテル
体合成の収率が低くなるという欠点がある。(7) の方法
においては、酸触媒による副生成物が着色やにおいの原
因となる。
体合成の収率が低くなるという欠点がある。(7) の方法
においては、酸触媒による副生成物が着色やにおいの原
因となる。
【００２３】以上のように従来法は、グリセリルエーテ
ルを高純度、高収率かつ簡便に得るには、いずれも未だ
十分な製造法ではない。従って、本発明の目的は、従来
法に比べて極めて簡単な方法で、しかも大量に純度の高
いグリセリルエーテルを高収率、廉価に製造する方法を
提供することにある。
ルを高純度、高収率かつ簡便に得るには、いずれも未だ
十分な製造法ではない。従って、本発明の目的は、従来
法に比べて極めて簡単な方法で、しかも大量に純度の高
いグリセリルエーテルを高収率、廉価に製造する方法を
提供することにある。
【００２４】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、従来法の
もつ種々の欠点を克服し、α−モノアルキルグリセリル
エーテルを高収率、高純度かつ簡便に製造する方法につ
いて鋭意研究を進めたところ、グリシジルエーテルの加
水分解反応を３級アミン存在下に行うことによって、こ
れらの課題が解決されることを見い出し、本発明を完成
した。すなわち、本発明は、式（Ｉ）
もつ種々の欠点を克服し、α−モノアルキルグリセリル
エーテルを高収率、高純度かつ簡便に製造する方法につ
いて鋭意研究を進めたところ、グリシジルエーテルの加
水分解反応を３級アミン存在下に行うことによって、こ
れらの課題が解決されることを見い出し、本発明を完成
した。すなわち、本発明は、式（Ｉ）
【００２５】
【化１１】
【００２６】（式中、R は炭素数１〜32の飽和又は不飽
和の、直鎖又は分岐鎖のアルキル基を示す。）で表され
るグリシジルエーテルを３級アミンの存在下に加水分解
することを特徴とする式（II）
和の、直鎖又は分岐鎖のアルキル基を示す。）で表され
るグリシジルエーテルを３級アミンの存在下に加水分解
することを特徴とする式（II）
【００２７】
【化１２】
【００２８】（式中、R は前記と同じ意味を有する。）
で表されるグリセリルエーテルの製造法を提供するもの
である。
で表されるグリセリルエーテルの製造法を提供するもの
である。
【００２９】本発明で用いられる式（Ｉ）で表されるグ
リシジルエーテル中の R基は、炭素数１〜32の飽和又は
不飽和の、直鎖又は分岐鎖のアルキル基を示し、具体的
には、メチル、エチル、ｎ−プロピル、ｎ−ブチル、ｎ
−ペンチル、ｎ−ヘキシル、ｎ−ヘプチル、ｎ−オクチ
ル、ｎ−ノニル、ｎ−デシル、ｎ−ウンデシル、ｎ−ド
デシル、ｎ−トリデシル、ｎ−テトラデシル、ｎ−ペン
タデシル、ｎ−ヘキサデシル、ｎ−ヘプタデシル、ｎ−
オクタデシル、ｎ−ノナデシル、ｎ−エイコシル、ｎ−
ヘンエイコシル、ｎ−ドコシル、ｎ−トリコシル、ｎ−
テトラコシル、ｎ−ペンタコシル、ｎ−ヘキサコシルな
どの直鎖飽和１級アルキル基；２−エチルヘキシル、２
−ブチルデシル、２−エチルドデシル、２−ブチルドデ
シル、２−エチルテトラデシル、２−ヘキシルデシル、
２−ブチルテトラデシル、２−エチルヘキサデシル、２
−ヘキシルドデシル、２−ブチルヘキサデシル、２−エ
チルオクタデシル、２−ヘキシルテトラデシル、２−オ
クチルドデシル、２−ブチルオクタデシル、２−エチル
エイコシル、２−ヘキシルヘキサデシル、２−オクチル
テトラデシル、２−ブチルエイコシル、２−エチルドコ
シル、２−ヘキシルオクタデシル、２−オクチルヘキサ
デシル、２−ブチルドコシル、２−エチルテトラコシ
ル、２−ヘキシルエイコシル、２−オクチルオクタデシ
ル、２−ヘプチルウンデシル、２−（1,3,3 −トリメチ
ルブチル）オクチル、２−デシルテトラデシル、２−ド
デシルヘキサデシル、２−テトラデシルオクタデシル、
5,7,7 −トリメチル−２−(1,3,3−トリメチルブチル）
オクチル、及び次の式
リシジルエーテル中の R基は、炭素数１〜32の飽和又は
不飽和の、直鎖又は分岐鎖のアルキル基を示し、具体的
には、メチル、エチル、ｎ−プロピル、ｎ−ブチル、ｎ
−ペンチル、ｎ−ヘキシル、ｎ−ヘプチル、ｎ−オクチ
ル、ｎ−ノニル、ｎ−デシル、ｎ−ウンデシル、ｎ−ド
デシル、ｎ−トリデシル、ｎ−テトラデシル、ｎ−ペン
タデシル、ｎ−ヘキサデシル、ｎ−ヘプタデシル、ｎ−
オクタデシル、ｎ−ノナデシル、ｎ−エイコシル、ｎ−
ヘンエイコシル、ｎ−ドコシル、ｎ−トリコシル、ｎ−
テトラコシル、ｎ−ペンタコシル、ｎ−ヘキサコシルな
どの直鎖飽和１級アルキル基；２−エチルヘキシル、２
−ブチルデシル、２−エチルドデシル、２−ブチルドデ
シル、２−エチルテトラデシル、２−ヘキシルデシル、
２−ブチルテトラデシル、２−エチルヘキサデシル、２
−ヘキシルドデシル、２−ブチルヘキサデシル、２−エ
チルオクタデシル、２−ヘキシルテトラデシル、２−オ
クチルドデシル、２−ブチルオクタデシル、２−エチル
エイコシル、２−ヘキシルヘキサデシル、２−オクチル
テトラデシル、２−ブチルエイコシル、２−エチルドコ
シル、２−ヘキシルオクタデシル、２−オクチルヘキサ
デシル、２−ブチルドコシル、２−エチルテトラコシ
ル、２−ヘキシルエイコシル、２−オクチルオクタデシ
ル、２−ヘプチルウンデシル、２−（1,3,3 −トリメチ
ルブチル）オクチル、２−デシルテトラデシル、２−ド
デシルヘキサデシル、２−テトラデシルオクタデシル、
5,7,7 −トリメチル−２−(1,3,3−トリメチルブチル）
オクチル、及び次の式
【００３０】
【化１３】
【００３１】（式中、ｐは４〜10の整数、ｑは５〜11の
整数を示し、ｐ＋ｑが11〜17を示し、かつｐ＝７、ｑ＝
８を頂点とする分布を有する）で示されるメチル分岐イ
ソステアリル等の分岐鎖１級飽和アルキル基；２−プロ
ピル、 sec−ブチル、 sec−ペンチル、sec−ヘキシ
ル、 sec−ヘプチル、 sec−オクチル、 sec−ノニル、
sec−デシル、 sec−ウンデシル、 sec−ドデシル等の
２級飽和アルキル基が挙げられ、好ましくは炭素数６〜
20の飽和又は不飽和の、直鎖又は分岐鎖のアルキル基、
特に好ましくはメチル分岐イソステアリル基である。
整数を示し、ｐ＋ｑが11〜17を示し、かつｐ＝７、ｑ＝
８を頂点とする分布を有する）で示されるメチル分岐イ
ソステアリル等の分岐鎖１級飽和アルキル基；２−プロ
ピル、 sec−ブチル、 sec−ペンチル、sec−ヘキシ
ル、 sec−ヘプチル、 sec−オクチル、 sec−ノニル、
sec−デシル、 sec−ウンデシル、 sec−ドデシル等の
２級飽和アルキル基が挙げられ、好ましくは炭素数６〜
20の飽和又は不飽和の、直鎖又は分岐鎖のアルキル基、
特に好ましくはメチル分岐イソステアリル基である。
【００３２】これらの式（Ｉ）で表されるグリシジルエ
ーテルは、いずれの方法で製造されたものであってもよ
く、例えば対応するアルコールとエピハロヒドリンの反
応により得ることができる。
ーテルは、いずれの方法で製造されたものであってもよ
く、例えば対応するアルコールとエピハロヒドリンの反
応により得ることができる。
【００３３】本発明において使用される３級アミンとし
ては、いずれのものでもよく、例えばトリエチルアミ
ン、トリブチルアミン、トリオクチルアミン、テトラメ
チルエチレンジアミン、テトラメチル−1,3 −ジアミノ
プロパン、テトラメチル−1,6−ジアミノヘキサン、ト
リエチレンジアミン、ピリジン、ジメチルアニリン、キ
ノリン、ペンタメチルジエチレントリアミン、ペンタメ
チルジプロピレントリアミン、ジメチルピペラジン、ジ
メチルイミダゾール、ジメチルアミノエタノール、ビス
（２−ジメチルアミノエチル）エーテル、トリフェニル
アミン、2,6 −ルチジン、ヘキサメチレンテトラミン、
1,8 −ジアザビシクロ〔5.4.0 〕ウンデセ−７−エン、
ジメチルオクチルアミン等が挙げられるが、好ましくは
式（ＩＩＩ）
ては、いずれのものでもよく、例えばトリエチルアミ
ン、トリブチルアミン、トリオクチルアミン、テトラメ
チルエチレンジアミン、テトラメチル−1,3 −ジアミノ
プロパン、テトラメチル−1,6−ジアミノヘキサン、ト
リエチレンジアミン、ピリジン、ジメチルアニリン、キ
ノリン、ペンタメチルジエチレントリアミン、ペンタメ
チルジプロピレントリアミン、ジメチルピペラジン、ジ
メチルイミダゾール、ジメチルアミノエタノール、ビス
（２−ジメチルアミノエチル）エーテル、トリフェニル
アミン、2,6 −ルチジン、ヘキサメチレンテトラミン、
1,8 −ジアザビシクロ〔5.4.0 〕ウンデセ−７−エン、
ジメチルオクチルアミン等が挙げられるが、好ましくは
式（ＩＩＩ）
【００３４】
【化１４】
【００３５】（式中、Ｒ１，R2，R3及びR4は同一又は異
なって、炭素数１〜10、好ましくは１〜４、より好まし
くは１〜２の直鎖又は分岐鎖のアルキル基、n は２〜５
の数、mは０〜３の数を示す。）で表される化合物であ
る。
なって、炭素数１〜10、好ましくは１〜４、より好まし
くは１〜２の直鎖又は分岐鎖のアルキル基、n は２〜５
の数、mは０〜３の数を示す。）で表される化合物であ
る。
【００３６】本発明において、３級アミンは一種又は二
種以上を混合して用いてもよい。３級アミンの使用量は
式（Ｉ）で表されるグリシジルエーテルに対して、0.1
〜100重量％が好ましく、更に好ましくは 0.5〜20重量
％である。本発明において、水の使用量は、式（Ｉ）で
表されるグリシジルエーテル１モルに対して１モル〜50
モルが好ましく、更に好ましくは２〜10モルである。
種以上を混合して用いてもよい。３級アミンの使用量は
式（Ｉ）で表されるグリシジルエーテルに対して、0.1
〜100重量％が好ましく、更に好ましくは 0.5〜20重量
％である。本発明において、水の使用量は、式（Ｉ）で
表されるグリシジルエーテル１モルに対して１モル〜50
モルが好ましく、更に好ましくは２〜10モルである。
【００３７】本発明では、溶媒は特に使用しなくてもよ
いが、反応を速やかに進行させるため、場合によっては
使用してもよい。使用される溶媒としては式（Ｉ）で表
されるグリシジルエーテルに対して不活性でかつ相溶性
を有するものが好ましく、ジメチルスルホキシド、キシ
レン、トルエン、ベンゼン、ヘキサン、テトラヒドロフ
ラン（ＴＨＦ）、ジオキサン、エチレングリコールジメ
チルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテ
ル、tert−ブタノールなどが挙げられる。溶媒の使用量
は式（Ｉ）で表されるグリシジルエーテルに対し、重量
で 0.1〜10倍が好ましく、更に好ましくは１〜３倍であ
る。
いが、反応を速やかに進行させるため、場合によっては
使用してもよい。使用される溶媒としては式（Ｉ）で表
されるグリシジルエーテルに対して不活性でかつ相溶性
を有するものが好ましく、ジメチルスルホキシド、キシ
レン、トルエン、ベンゼン、ヘキサン、テトラヒドロフ
ラン（ＴＨＦ）、ジオキサン、エチレングリコールジメ
チルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテ
ル、tert−ブタノールなどが挙げられる。溶媒の使用量
は式（Ｉ）で表されるグリシジルエーテルに対し、重量
で 0.1〜10倍が好ましく、更に好ましくは１〜３倍であ
る。
【００３８】本発明における反応温度は40〜200 ℃が好
ましく、更に好ましくは 100〜160℃である。40℃未満
では反応に長時間を要し、 200℃を超える温度では副反
応が促進され、品質の低下をきたす。反応時間は触媒
量、温度、溶媒量に大きく影響されるが、概ね１〜50時
間であり、通常５〜30時間である。
ましく、更に好ましくは 100〜160℃である。40℃未満
では反応に長時間を要し、 200℃を超える温度では副反
応が促進され、品質の低下をきたす。反応時間は触媒
量、温度、溶媒量に大きく影響されるが、概ね１〜50時
間であり、通常５〜30時間である。
【００３９】反応終了後、反応液から中和、濾過、蒸
留、抽出などの方法により３級アミンを除去し、蒸留精
製又は晶析することにより、高収率で、しかも高純度の
前記式（II）で表されるグリセリルエーテルを得ること
ができる。
留、抽出などの方法により３級アミンを除去し、蒸留精
製又は晶析することにより、高収率で、しかも高純度の
前記式（II）で表されるグリセリルエーテルを得ること
ができる。
【００４０】
【発明の効果】本反応は従来法がグリシジルエーテルか
ら、中間体を経由してグリセリルエーテルを合成する多
段階反応であるのに対し、一段階でグリシジルエーテル
からグリセリルエーテルを合成できること、又、酸触媒
を用いる際、グリシジルエーテルの重合物が生成する
が、これらが本反応ではほとんど生成しないなどの点に
優れており工業的生産に利点を有する。本発明によって
前記式（II）で表されるグリセリルエーテルを高収率、
高純度かつ簡便に製造することが可能となった。
ら、中間体を経由してグリセリルエーテルを合成する多
段階反応であるのに対し、一段階でグリシジルエーテル
からグリセリルエーテルを合成できること、又、酸触媒
を用いる際、グリシジルエーテルの重合物が生成する
が、これらが本反応ではほとんど生成しないなどの点に
優れており工業的生産に利点を有する。本発明によって
前記式（II）で表されるグリセリルエーテルを高収率、
高純度かつ簡便に製造することが可能となった。
【００４１】
【実施例】次に実施例を挙げて本発明を更に詳細に説明
するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものでは
ない。
するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものでは
ない。
【００４２】実施例１ ４つ口フラスコにイソステアリルグリシジルエーテル32
6g、ジエチレングリコールジメチルエーテル980g、テト
ラメチル−1,3 −ジアミノプロパン65ｇ、水73ｇを仕込
み、 130℃で43時間反応させた。反応終了後、アミン、
水、溶媒を減圧留去により回収した。残留物を酢酸エチ
ル、１％芒硝水で抽出洗浄後、有機層中の酢酸エチルを
留去した。残留物を蒸留精製することにより、イソステ
アリルグリセリルエーテル285g（収率84％）を得た。
6g、ジエチレングリコールジメチルエーテル980g、テト
ラメチル−1,3 −ジアミノプロパン65ｇ、水73ｇを仕込
み、 130℃で43時間反応させた。反応終了後、アミン、
水、溶媒を減圧留去により回収した。残留物を酢酸エチ
ル、１％芒硝水で抽出洗浄後、有機層中の酢酸エチルを
留去した。残留物を蒸留精製することにより、イソステ
アリルグリセリルエーテル285g（収率84％）を得た。
【００４３】・IR（液膜，cm-1）：3400, 1100, 1040 ・1Ｈ−ＮＭＲ（CDCl3 溶媒， TMS内部標準δ）：
【００４４】
【化１５】
【００４５】・酸価 ：0.10（計算値 ０） ・ケン化価：0.52（計算値 ０） ・水酸基価：316 （計算値 328） ・ヨウ素価：0.36（計算値 ０） 実施例２ ４つ口フラスコにステアリルグリシジルエーテル326g、
ジメチルスルホキシド1027ｇ、テトラメチル−1,3 −ジ
アミノプロパン13ｇ、及び水40ｇを仕込み、 130℃で21
時間反応させた。反応終了後、触媒、水、溶媒を減圧蒸
留により回収した。残留物を酢酸エチル、１％芒硝水で
抽出洗浄後、有機層中の酢酸エチルを留去した。残留物
を再結晶することによりステアリルグリセリルエーテル
239g（収率69％）を得た。
ジメチルスルホキシド1027ｇ、テトラメチル−1,3 −ジ
アミノプロパン13ｇ、及び水40ｇを仕込み、 130℃で21
時間反応させた。反応終了後、触媒、水、溶媒を減圧蒸
留により回収した。残留物を酢酸エチル、１％芒硝水で
抽出洗浄後、有機層中の酢酸エチルを留去した。残留物
を再結晶することによりステアリルグリセリルエーテル
239g（収率69％）を得た。
【００４６】・IR（液膜，cm-1）：3400, 1100, 1040 ・1Ｈ−ＮＭＲ（CCl4溶媒， TMS内部標準，δ）：
【００４７】
【化１６】
【００４８】・酸価 ：0.08（計算値 ０） ・ケン化価：0.36（計算値 ０） ・水酸基価：314 （計算値 328） ・ヨウ素価：0.32（計算値 ０） 実施例３ ４つ口フラスコにイソステアリルグリシジルエーテル32
6g、ジメチルスルホキシド1001ｇ、ペンタメチルジエチ
レントリアミン17ｇ、水36ｇを仕込み、 130℃で８時間
反応した。反応終了後、触媒、水、溶媒を減圧留去によ
り回収した。残留物を酢酸エチル、水で抽出洗浄後、有
機層中の酢酸エチルを留去した。残留物を蒸留精製する
ことによりイソステアリルグリセリルエーテル216g（収
率64％）を得た。
6g、ジメチルスルホキシド1001ｇ、ペンタメチルジエチ
レントリアミン17ｇ、水36ｇを仕込み、 130℃で８時間
反応した。反応終了後、触媒、水、溶媒を減圧留去によ
り回収した。残留物を酢酸エチル、水で抽出洗浄後、有
機層中の酢酸エチルを留去した。残留物を蒸留精製する
ことによりイソステアリルグリセリルエーテル216g（収
率64％）を得た。
【００４９】・IR（液膜，cm-1）：3400, 1100, 1040 ・1Ｈ−ＮＭＲ（CDCl3 溶媒， TMS内部標準δ）：
【００５０】
【化１７】
【００５１】・酸価 ：0.08（計算値 ０） ・ケン化価：0.30（計算値 ０） ・水酸基価：315 （計算値 328） ・ヨウ素価：0.30（計算値 ０） 実施例４ ４つ口フラスコにヘキシルグリシジルエーテル158g、Ｔ
ＨＦ316g、トリエチルアミン10ｇ及び水36ｇを仕込み、
60℃で20時間反応させた。反応終了後、硫酸で中和し、
溶媒、水を減圧留去により回収した。残留物を酢酸エチ
ル、水で抽出洗浄後、有機層中の酢酸エチルを留去し
た。残留物を蒸留精製することによりヘキシルグリセリ
ルエーテル123g（収率70％）を得た。
ＨＦ316g、トリエチルアミン10ｇ及び水36ｇを仕込み、
60℃で20時間反応させた。反応終了後、硫酸で中和し、
溶媒、水を減圧留去により回収した。残留物を酢酸エチ
ル、水で抽出洗浄後、有機層中の酢酸エチルを留去し
た。残留物を蒸留精製することによりヘキシルグリセリ
ルエーテル123g（収率70％）を得た。
【００５２】・IR（液膜，cm-1）：3400, 1100, 1040 ・1Ｈ−ＮＭＲ（CDCl3 溶媒， TMS内部標準，δ）：
【００５３】
【化１８】
【００５４】・酸価 ：0.1 （計算値 ０） ・ケン化価：0.3 （計算値 ０） ・水酸基価：628 （計算値 638） ・ヨウ素価：0.3 （計算値 ０）
Claims (2)
- 【請求項１】 式（Ｉ） 【化１】 （式中、R は炭素数１〜32の飽和又は不飽和の、直鎖又
は分岐鎖のアルキル基を示す。）で表されるグリシジル
エーテルを３級アミンの存在下に加水分解することを特
徴とする式（II） 【化２】 （式中、R は前記と同じ意味を有する。）で表されるグ
リセリルエーテルの製造法。 - 【請求項２】 ３級アミンが、式(III) 【化３】 （式中、R1，R2，R3及びR4は同一又は異なって、炭素数
１〜10の直鎖又は分岐鎖のアルキル基、n は２〜５の
数、m は０〜３の数を示す。）で表される化合物である
請求項１記載のグリセリルエーテルの製造法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5207705A JPH0753431A (ja) | 1993-08-23 | 1993-08-23 | グリセリルエーテルの製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5207705A JPH0753431A (ja) | 1993-08-23 | 1993-08-23 | グリセリルエーテルの製造法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0753431A true JPH0753431A (ja) | 1995-02-28 |
Family
ID=16544205
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5207705A Pending JPH0753431A (ja) | 1993-08-23 | 1993-08-23 | グリセリルエーテルの製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0753431A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2000043340A1 (en) * | 1999-01-25 | 2000-07-27 | Kao Corporation | Process for producing glyceryl ether |
| CN102320936A (zh) * | 2011-09-28 | 2012-01-18 | 宜兴市宏博乳化剂有限公司 | 季戊四醇乙氧基或丙氧基化物的合成方法 |
-
1993
- 1993-08-23 JP JP5207705A patent/JPH0753431A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2000043340A1 (en) * | 1999-01-25 | 2000-07-27 | Kao Corporation | Process for producing glyceryl ether |
| CN102320936A (zh) * | 2011-09-28 | 2012-01-18 | 宜兴市宏博乳化剂有限公司 | 季戊四醇乙氧基或丙氧基化物的合成方法 |
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