JPH0621087B2 - グリセリルエ−テルの製造法 - Google Patents

グリセリルエ−テルの製造法

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JPH0621087B2
JPH0621087B2 JP60224096A JP22409685A JPH0621087B2 JP H0621087 B2 JPH0621087 B2 JP H0621087B2 JP 60224096 A JP60224096 A JP 60224096A JP 22409685 A JP22409685 A JP 22409685A JP H0621087 B2 JPH0621087 B2 JP H0621087B2
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  • Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明はグリセリルエーテルの製造法に関する。
〔従来の技術〕
α−モノアルキルグリセリルエーテルとしては、従来よ
り魚類の脂質中に存在するパルミチルグリセリルエーテ
ル、ステアリルグリセリルエーテル及びオレイルグリセ
リルエーテル等が知られており、これは乳化剤、特にW
/O型の乳化剤として優れた性能を有すること(特開昭
49−87612号、同49−92239号、同52−
12109号等)、並びに骨髄における血球生成促進効
果、抗炎症作用、抗腫瘍活性等の薬理作用も有すること
が知られている(特公昭49−10724号、同52−
18171号)。更にまた、近年、防菌、防カビ剤とし
ての利用も報告されている(特公昭54−2249
号)。
これらのα−モノグリセリルエーテルを対応するアルコ
ールより製造する方法としては、従来、次のような方法
が知られている。
(1) (式中、R1は炭化水素基を、R2およびR3は低級アル
キル基を、Xはハロゲン原子を、Mはアルカリ金属を示
す) すなわち、アルコールをハライドとなし、これに水酸基
を保護したグリセロールアルカリ金属アルコラートを反
応させて4−アルコキシメチル−1,3−ジオキソラン
に導き、次いで、これを加水分解する方法である。
(2) (式中、R1およびXは前記と同じ) すなわち、アルコールとエピハロヒドリンを反応させて
グリシジルエーテルを得、これを加水分解する方法であ
る。
(3) (式中、R4は炭化水素基を示し、R1は前記と同じ) すなわち、上記の公知方法(2)で得られるグリシジルエ
ーテルにカルボン酸を反応させてα−グリセロールのモ
ノエステル化合物に導き、これを加水分解する方法であ
る。
(4) (式中、R5およびR6は炭化水素基を示し、R1は前記
と同じ) すなわち、本発明者らが先に報告した方法であり、グリ
シジルエーテルにカルボニル化合物を付加させて1,3
−ジオキソラン化合物に導き、これを加水分解する方法
である(特開昭56−133281号)。
(5) (式中、R7は炭化水素基を示し、R1は前記と同じ) すなわち、本発明者らが先に報告した方法であり、グリ
シジルエーテルを触媒の存在下カルボン酸無水物と反応
させてジエステル化合物に導き、これを加水分解する方
法である。
〔発明が解決しようとする問題点〕
しかしながらこれらの公知方法は次に示すいくつかの欠
点を有する。
(1)方法においては、(イ)原料である水酸基を保護し
たグリセロール化合物4−ヒドロキシメチル−1,3−
ジオキソラン)は、グリセリンとカルボニル化合物から
酸触媒の存在下で合成できるが、反応時間が長く、さら
に脱水反応であるため大量の脱水剤を必要とする。
(ロ)アルキルハライドと4−ヒドロキシメチル−1,
3−ジオキソランのアルカリ金属アルコラートとの縮合
反応では、反応系に強塩基が存在するためアルキルハラ
イドの一部が脱ハロゲン化水素反応により末端オレフイ
ンを生成し、目的とする4−アルコキシメチル−1,3
−ジオイキソランの収率を低下させる。
(2)の方法においては、反応系が水と油の不均一系であ
るため均一反応が困難となり、目的とするグリセリルエ
ーテル以外にグリシジルエーテル同志が付加した重合物
が多量に副生する。そのため、グリセリルエーテルの収
率が低下するとともに品質が劣悪になる。従つて、高純
度のグリセリルエーテルを得るためには分子蒸留等の操
作が必要となり、これは工業的規模での実施の障害とな
る。
(3)の方法においては、グリシジルエーテルに酸が付加
することにより生成するα−アルキルグリセロールのモ
ノエステル化合物には、活性水素を有する遊離水酸基が
存在するため、この遊離水酸基にさらに1モル以上のグ
リシジルエーテルが付加して高分子量の化合物を副生す
る欠点がある。従つて、この方法で得たグリセリルエー
テルは、純度が極めて低い。
(4)の方法においては、1,3−ジオキソラン化合物の
加水分解で生成するケトンやアルデヒドが、反応系中に
存在する酸触媒によりアルドール縮合をおこし、着色や
においの原因となる。
(5)の方法においては、ジエステルを強酸基性条件下に
加水分解することから、後処理の段階で中和、水洗に多
量の水を必要するため工業的に利用する場合、解決すべ
き問題が残つている。
以上のように従来法は、グリセリルエーテルを高純度、
高収率かつ簡便に得るには、いずれも未だ十分な製造法
ではない。
〔問題点を解決するための手段〕
本発明者らは、従来法のもつ種々の欠点を克服しα−モ
ノグリセリルエーテルを高収率、高純度かつ簡便に製造
する方法について鋭意研究を進めたところ、グリシジル
エーテルのエポキサイド開環反応をベンジルアルコール
と塩基を用いて行なうことによつて、これらの課題が解
決されることを見い出し、本発明を完成した。
すなわち、本発明は 一般式(II) (式中、Rは炭素数1〜26の直鎖若しくは分岐のアル
キル基又はアリール基を示す) で表わされるグリシジルエーテルに、塩基存在下ベンジ
ルアルコールを反応させ、次いで得られる成績体を金属
触媒存在下で水素化分解することを特徴とする一般式
(I) (式中、Rは前記と同じ) で表わされるグリセリルエーテルの製造法を提供するも
のである。
本発明で得られる一般式(I)で表わされるグリセリルエ
ーテルのRのうち、炭素数1〜26の直鎖若しくは分岐
のアルキル基としては、メチル、エチル、n−プロピ
ル、n−ブチル、n−ペンチル、n−ヘキシル、n−ヘ
プチル、n−オクチル、n−ノニル、n−デシル、n−
ウンデシル、n−ドデシル、n−トリデシル、n−テト
ラデシル、n−ペンタデシル、n−ヘキサデシル、n−
ヘプタデシル、n−オクタデシル、n−ノナデシル、n
−エイコシル、n−ヘンエイコシル、n−ドコシル、n
−トリコシル、n−テトラコシル、n−ペンタコシル、
n−ヘキサコシルなどの直鎖飽和1級アルキル基;2−
エチルヘキシル、2−ブチルデシル、2−エチルドデシ
ル、2−ブチルドデジル、2−エチルテトラデシル、2
−ヘキシルデシル、2−ブチルテトラデシル、2−エチ
ルヘキサデシル、2−ヘキシルドデシル、2−ブチルヘ
キサデシル、2−エチルオクタデシル、2−ヘキシルテ
トラデシル、2−オクチルドデシル、2−ブチルオクタ
デシル、2−エチルエイコシル、2−ヘキシルヘキサデ
シル、2−オクチルテトラデシル、2−ブチルエイコシ
ル、2−エチルドコシル、2−ヘキシルオクタデシル、
2−オクチルヘキサデシル、2−ブチルドコシル、2−
エチルテトラコシル、2−ヘキシルエイコシル、2−オ
クチルオクタデシル、2−ヘプチルウンデシル、2−
(1,3,3−トリメチルブチル)オクチル、2−デシ
ルテトラデシル、2−ドデシルヘキサデシル、2−テト
ラデシルオクタデシル、5,7,7−トリメチル−2−
(1,3,3−トリメチルブチル)オクチル、及び次の
(式中、mは4〜10の整数を、nは5〜11の整数を
示し、m+nが11〜17を示し、かつm=7,n=8
を頂点とする分布を有する)で示されるメチル分岐イソ
ステアリル等の分岐鎖1級飽和アルキル意;2−プロピ
ル、sec−ブチル、sec−ペンチル、sec−ヘキシル、sec
−ヘプチル、sec−オクチル、sec−ノニル、sec−デシ
ル、sec−ウンデシル、sec−ドデシル等の2級飽和アル
キル基が挙げられる。また、アリール基としてはフエニ
ル、2−メチルフエニル、3−メチルフエニル、4−メ
チルフエニル、2,3−ジメチルフエニル、2,4−ジ
メチルフエニル、2,5−ジメチルフエニル、2,6−
ジメチルフエニル、3,4−ジメチルフエニル、3,5
−ジメチルフエニル等が挙げられる。
本発明を反応式で示せば次の通りである。
(式中、Rは前記と同じ) 上記反応式中、グリシジルエーテル(II)からベンジルエ
ーテル(III)を得る反応は、末端オレフイン由来のエポ
キサイドへのアルコール付加反応である。酸触媒を使用
した場合、エポキサイドがプロトン化され、それによつ
て生じたカルボニウムイオンにアルコールが攻撃するた
め副反応を起し易い。しかし本発明においては、塩基存
在下で反応を行うので反応はSN2で進行し、生成した
2級アルコールは立体障害が大きく、副反応を起こさな
い。
使用される塩基としては、アルカリ金属(Li、Na、
Kなど)、アルカリ金属水素化物(LiH、NaH、K
Hなど)、アルカリ金属水酸化物(LiOH、NaO
H、KOHなど)、アルカリ金属アルコラート(NaO
Me、NaOEt、KOt−Buなど)、あるいは3級
アミン類(トリエチルアミン、トリブチルアミン、テト
ラメチルエチレンジアミン、テトラメチル−1,3−ジ
アミノプロパン、テトラメチル−1,6−ジアミノヘキ
サン、トリエチレンジアミン、ピリジン、ジメチルアニ
リン、キノリンなど)等が挙げられる。
この反応は、一般にグリシジルエーテル(II)1モルに対
し、ペンジルアルコールを1〜20モル、好ましくは2
〜10モル使用し、塩基を0.001〜0.5モル、好
ましくは0.01〜0.25モル添加し、20〜150
℃好ましくは40〜100℃の温度条件下に反応させる
ことによつて進行する。
このようにして得られたベンジルエーテル誘導体(III)
は余剰のベンジルアルコール留去後、蒸留などの手段で
簡単に精製でき、その収率は常に85%以上、ほとんど
の場合定量的である。
ベンジルエーテル誘導体(III)からグリセリルエーテル
(I)を得る反応は、無溶媒若しくは溶媒中で金属触媒の
存在下に水素を添加することにより行なわれる。
金属触媒としては、パラジウム−炭素、パラジウム黒、
ラネイニツケル、ロジウム−炭素、ルテニウム−炭素、
レニウム−炭素などが使用できるが、5%パラジウム炭
素、10%パラジウム−炭素、パラジウム黒が好まし
い。この反応で用いられる溶媒としては、ベンジルエー
テル誘導体(III)を溶解するすべての溶剤が挙げられる
が、好ましくはメタノール、エタノール、イソプロパノ
ールなどのアルコール系溶剤である。
この反応は、ベンジルエーテル誘導体(III)に、これに
対して0.0001〜10重量%、好ましくは0.00
1〜5重量%の金属触媒を加え、水素圧1〜150気
圧、好ましくは50〜120気圧、反応温度20〜20
0℃、好ましくは80〜120℃で2〜24時間、好ま
しくは5〜15時間反応させることによりグリセリルエ
ーテル(I)が定量的に得られる。
なお、この反応系中に、ベンジルエーテル誘導体(III)
に対し0.01〜1重量%、好ましくは0.1〜0.7
5重量%の鉱酸を添加することで一層反応が容易にな
る。添加する鉱酸としては、塩酸、硫酸、過塩素産など
が挙げられるが、塩酸を用いるのが好ましい。
このようにして得られたグリセリルエーテル(I)は、ほ
とんどの場合金属触媒を別後溶媒留去するだけで純品
として単離される。また、酸を添加した場合は、スチー
ミング、活性炭処理などの簡単な精製で純品のグリセリ
ルエーテル(I)を得ることができる。別した金属触媒
は再使用可能である。
本反応は、従来の脱ベンジル化反応が、 1)高価な金属触媒を多量に使用しなければならないた
め、製品価格が上昇が避けられないこと、2)一般に水
素圧1気圧で反応を行なつているため進行の遅い場合が
あること、3)副生成物の少ない反応であるにもかかわ
らず脱ベンジル体の単離精製が必要となるのに対し、
1)金属触媒を極めて少量しか用いないこと、2)反応
時間2〜24時間で確実に反応が完結すること、3)文
字通り定量的反応で、脱ベンジル体の単離精製は多くの
場合不要であり、もし必要な場合でもスチーミング、活
性炭処理などの簡便な手段で充分なこと、などの諸点に
おいてすぐれ、工業的実施が可能である等の利点を有す
る。
〔作用及び発明の効果〕
叙上の如く、本発明によつてグリセリルエーテル(I)を
高収率、高純度かつ簡便に製造することが可能となつ
た。
〔実施例〕
次に実施例を挙げて本発明を説明する。
実施例1 (i) テトラデシルグリシジルエーテル(II)(R=C14
29)の製造 還流冷却器、温度計、滴下漏斗及び撹拌装置を備えた5
四ツ口フラスコにテトラデシルアルコール857.6
g(4.0モル)、n−ヘキサン600g、50%硫酸
水素テトラブチルアンモニウム水溶液135.8g
(0.2モル)、エピクロロヒドリン740.0g
(8.0モル)をこの順に加え、冷却槽にフラスコ内を
20〜30℃に保ち、撹拌速度400r.p.mでかきまぜ
た。ここに48%水酸化ナトリウム水溶液1100g
(12.0モル)を、反応温度25〜30℃に保ちつ
つ、2時間かけて滴下し、滴下終了後、同じく25〜3
0℃で3.5時間撹拌した。反応終了後常法により後処
理し、減圧蒸留してテトラデシルグリシジルエーテル7
39.g(収率68.4%)を得た。
沸点:130〜135℃/0.15Torr IR(液膜cm-1): 3050、2925、2860、1460、1107 NMR(CDCl3、δ): 0.85(3H,t,J=5.4Hz)、1.25(24H,br
s)、2.4〜3.9(7H,m) (ii) 1−O−テトラデシル−3−O−ベンジルグリセ
リン(III)(R=C1429)の製造 還流冷却器、温度計、導入管、滴下漏斗及び撹拌装置を
備えた2四ツ口フラスコにベンジルアルコール108
1.4g(10.0モル)を仕込み、窒素を吹き込みな
がらナトリウム2.3g(0.1モル)を加え室温下に
ナトリウムが完全に溶解するまで撹拌する。ここに(i)
で得られたテトラデシルグリシジルエーテル270.5
g(1.0モル)を1時間かけて滴下する。滴下終了後
90℃で4.5時間反応させ、ガスクロマトグラフイー
で原料の消失を確認する。放冷後エーテル1500mlを
加え、エーテル層を水洗、分液乾燥し、エーテルならび
にベンジルアルコール留去後、残渣を減圧蒸留し、1−
O−テトラデシル−3−O−ベンジルグリセリン35
9.3g(収率94.9%)を得た。
沸点:199℃/0.06Torr〜220℃/0.08To
rr IR(液膜、cm-1): 3440br、3030、2910、2850、1460sh、1
450、1100、730、696、685 NMR(CDCl3、δ): 0.87(3H,t)、1.25(24H,br
s)、 2.75(1H,d,J=4.0Hz)、3.3〜3.6 (4H,m)、3.90(1H,m)、4.48(2
H,s)、 7.25(5H,s) (iii) α−モノテトラデシルグリセリルエーテル(I)
(R=C1429)の製造 1のオートクレーブに(ii)で得られた1−O−テトラ
デシル−3−O−ペジルグリセリン50.0g(0.1
32モル)、メタノール100g、5%パラジウム炭素
2.5g、濃塩酸0.25gを仕込み、水素圧100気
圧をかけて封じたのち、100℃で10時間加熱撹拌す
る。放冷後、5%パラジウム炭素を濾別し、溶媒を留去
する。残渣を50%スチーミング後メタノール/n−ヘ
キサン=1:1の混合溶媒80ml、活性炭3.6gを加
え室温下1時間撹拌する。活性炭を濾別し、溶媒を留去
すると無色結晶のα−モノテトラデシルグリセリルエー
テル35.9g(収率94.2%)を得た。
元素分析 C17363として(計算値) C:71.01(70.78)H:12.41(12.
58) IR(液膜、cm-1): 3385br、2935、2860、1480、133
6、1130、1108、1068、940、724、
690 NMR(CDCl2、δ): 0.87(3H,t)、1.23(24H,br
s)、 2.75(1H,br)、3.00(1H,br)、 3.3〜3.9(7H,m) IR、NMRは標品と完全に一致した。
実施例2 (i) 1−O−メチル分岐イソステアリル−3−O−ベ
ンジルグリセリン(III)(R=iso-C18H37)の製造 還流冷却器、温度計、導入管、滴下漏斗及び撹拌装置を
備えた2四ツ口フラスコにベンジルアルコール54
0.7g(5.0モル)を仕込み、窒素を吹き込みなが
らナトリウム1.15g(0.05モル)を加え室温下
にナトリウムが完全に溶解するまで撹拌する。ここに実
施例1(i)にならつて得られたメチル分岐イソステアリ
ルグリシジルエーテル163.3g(0.5モル)を6
0℃で0.5時間かけて滴下する。滴下終了後80℃で
7.5時間反応させガスクロマトグラフイーで原料の消
失を確認する。放冷後ペンジルアルコールを留去し、減
圧蒸留することによつて、1−O−メチル分岐イソステ
アリル−3−O−ベンジルグリセリン185.7g(収
率85.4%)を得た。
沸点:200〜235℃/0.05Toor IR(液膜、cm-1): 3430br、3030、2900、2850、 1455sh、1448、1360、1100、72
5、695sh、683 NMR(CDCl3、δ): 0.75〜2.00(35H)、2.64(1H,d,
J=4.0Hz)、3.3〜3.7(6H,m)、3.90
(1H,m)、4.50(2H,s)、7.23(5
H,s) (ii) α−モノメチル分岐イソステアリルグリセリルエ
ーテル(I)(R=iso-C18H37)の製造 1のオートクレーブに実施例2(i)で得られた1−O
−メチル分岐イソステアリル−3−O−ベンジルグリセ
リン100g(0.23モル)、メタノール200g、
パラジウム黒0.25gを仕込み水素圧100気圧をか
けて封じたのち、100℃で10時間加熱撹拌する。放
冷後パラジウム黒を濾別し、溶媒を留去すると無色油状
物のα−モノメチル分岐イソステアリルグリセリルエー
テル79.3g(収率100%)を得た。
元素分析 C21443として(計算値) C:73.23(73.20)H:12.79(12.
87) IR(液膜、cm-1): 3400br、2925、2860、1470、138
0、1122、1050 NMR(CDCl3、δ): 0.75〜1.7(35H)、3.2〜4.2(9H,br
m)、 IR、NMRは標品と完全に一致した。
実施例3 (i) 1−O−ヘキシル−3−O−ペンジルグリセリン
(III)(R=C613)の製造 還流冷却器、温度計、導入管、滴下漏斗及び撹拌装置を
備えた200ml四ツ口フラスコにベンジルアルコール1
08.14g(1.0モル)を仕込み窒素を吹き込みな
がらナトリウム0.23g(0.01モル)加え室温下
に撹拌、溶解する。ここにヘキシルグリシジルエーテル
15.82g(0.1モル)を0.5時間かけて滴下す
る。滴下終了後60℃で8時間反応させ、放冷後中和し
ベンジルアルコールを留去し、シリカゲルシヨートカラ
ムにかける。n−ヘキサン/酢酸エチル=5/1で溶解
し、溶媒を留去すると1−O−ヘキシル−3−O−ベン
ジルグリセリン24.8g(収率93.1%)を得た。
IR(液膜、cm-1): 3430br、3030、2900、2850、 1460sh、1450、1100、730、695、
685 NMR(CDCl3、δ): 0.87(3H,t)、1.25(8H、br m)、 2.75(1H,d,J=4.0Hz)、3.3〜3.6 (4H,m)、3.90(1H,m)、4.50(2
H,s)、7.27(5H,s) (ii) α−モノヘキシルグリセリルエーテル(I)(R=
613)の製造 100mlのオートクレーブに実施例3(i)で得られた1
−O−ヘキシル−3−O−ベンジルグリセリン23.7
g(0.089モル)、メタノール23.7g、パラジ
ウム黒0.06gを仕込み水素圧100気圧をかけて封
じたのち、100℃で5時間加熱撹拌する。放冷後パラ
ジウム黒を濾別し、溶媒を留去すると無色液体のα−モ
ノヘキシルグリセリルエーテル15.69g(収率10
0%)を得た。
元素分析 C9203として(計算値) C:61.45(61.33)H:11.33(11.
44) IR(液膜、cm-1): 3380br、2940、2850、1480、134
0、1125、1110、1070、940、725、
690 NMR(CDCl3、δ): 0.87(3H,t)、1.24(8H,br m)、
2.74(1H,br)、3.00(1H,br)、3.
3〜3.9(7H,m) IR、NMRは標品と完全に一致した。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】一般式(II) (式中、Rは炭素数1〜26の直鎖若しくは分岐のアル
    キル基又はアリール基を示す) で表わされるグリシジルエーテルに、塩基存在下ベンジ
    ルアルコールを反応させ、次いで得られる成績体を金属
    触媒存在下で水素化分解することを特徴とする一般式
    (I) (式中、Rは前記と同じ) で表わされるグリセリルエーエルの製造法。
JP60224096A 1985-10-08 1985-10-08 グリセリルエ−テルの製造法 Expired - Lifetime JPH0621087B2 (ja)

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