JPH0754192A - クロムめっき法 - Google Patents
クロムめっき法Info
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- JPH0754192A JPH0754192A JP21506293A JP21506293A JPH0754192A JP H0754192 A JPH0754192 A JP H0754192A JP 21506293 A JP21506293 A JP 21506293A JP 21506293 A JP21506293 A JP 21506293A JP H0754192 A JPH0754192 A JP H0754192A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 本発明の目的は、鉄系金属、プラスチックス
および亜鉛ダイカストに対するクロムめっきを、従来の
方法である予備めっき工程を簡略化し、そのうえ、クロ
ムめっき層のマイクロクラックの発生を阻止する新規な
クロムめっき法の提供。 【構成】 その金属表面には直接クロムめっきができな
いとされている金属表面に対して、振動撹拌下に直接ク
ロムめっきを行うことを特徴とするクロムめっき法。
および亜鉛ダイカストに対するクロムめっきを、従来の
方法である予備めっき工程を簡略化し、そのうえ、クロ
ムめっき層のマイクロクラックの発生を阻止する新規な
クロムめっき法の提供。 【構成】 その金属表面には直接クロムめっきができな
いとされている金属表面に対して、振動撹拌下に直接ク
ロムめっきを行うことを特徴とするクロムめっき法。
Description
【０００１】
【技術分野】本発明は、その金属表面には直接クロムめ
っきができないとされている金属表面に対して、振動撹
拌下に直接クロムめっきを行うクロムめっき方法に関す
る。
っきができないとされている金属表面に対して、振動撹
拌下に直接クロムめっきを行うクロムめっき方法に関す
る。
【０００２】
【従来技術】硬質クロムめっきにおいては、そのめっき
皮膜に微細なクラックが生ずることは避けられなてこと
であり、腐食環境ではこのクラックが腐食の発生点とな
り、クラックに沿って多発的、連鎖的に腐食が進行す
る。これらの腐食を少しでも抑制するため、従来から硬
質クロムめっきにおいては、銅、ニッケルなどの下めっ
き処理が不可欠であった。たとえば鉄系金属に対するク
ロムめっきは、防錆および装飾等の目的で多用されてい
るが、クロムめっきを直接鉄系金属上に行うとクラック
が発生し、防錆効果が少ないため、鉄系金属上にまず銅
めっきを、つづいてニッケルめっきをほどこした後、ク
ロムめっきを行っていた。鉄系金属表面の脱脂→水洗→
酸洗→水洗→銅ストライク→銅めっき→水洗→ニッケル
めっき→水洗→クロムめっき。それでもまだクラックの
発生を完全に回避することができずなかなか満足すべき
めっきが得られず、各社共秘術を尽くしているのが実情
である。プラスチックスに対するめっきは、主として装
飾の目的で行われており、化学めっき（通常、化学銅め
っきまたは化学ニッケルめっき）をしたうえに、銅めっ
き、つづいてニッケルめっきを施した後、クロムめっき
が行われている。プラスチックス表面の脱脂→プレエッ
チング→エッチング→キャタライジング→アクセラレイ
ティング→無電解銅めっき→水洗→銅めっき→水洗→ニ
ッケルめっき→水洗→クロムめっき。この場合も化学め
っき層上にいきなりクロムめっきをするとクラックが発
生する。また、亜鉛系金属へのめっきの場合も亜鉛系金
属上に銅めっき、つづいてニッケルめっきを施した後、
クロムめっきを行っている。亜鉛系金属表面の脱脂→水
洗→酸洗→水洗→銅ストライク→銅めっき→水洗→ニッ
ケルめっき→水洗→クロムめっき。Ａｌ、Ａｌ合金、Ｃ
ｕ、Ｃｕ合金等についても同様である。このように鉄系
金属、プラスチックスおよび亜鉛系金属、銅系金属、ア
ルミニウム系金属など、その金属表面には直接クロムめ
っきができないとされている金属表面に対して、直接ク
ロムめっきを行うことができれば、クロムめっきの前段
階として銅めっきやニッケルめっきの工程が必要ではな
くなり工業的意義は極めて大きい。また、クロムめっき
工程それ自体を今まで以上に高速化できれば、さらにす
ばらしいことである。
皮膜に微細なクラックが生ずることは避けられなてこと
であり、腐食環境ではこのクラックが腐食の発生点とな
り、クラックに沿って多発的、連鎖的に腐食が進行す
る。これらの腐食を少しでも抑制するため、従来から硬
質クロムめっきにおいては、銅、ニッケルなどの下めっ
き処理が不可欠であった。たとえば鉄系金属に対するク
ロムめっきは、防錆および装飾等の目的で多用されてい
るが、クロムめっきを直接鉄系金属上に行うとクラック
が発生し、防錆効果が少ないため、鉄系金属上にまず銅
めっきを、つづいてニッケルめっきをほどこした後、ク
ロムめっきを行っていた。鉄系金属表面の脱脂→水洗→
酸洗→水洗→銅ストライク→銅めっき→水洗→ニッケル
めっき→水洗→クロムめっき。それでもまだクラックの
発生を完全に回避することができずなかなか満足すべき
めっきが得られず、各社共秘術を尽くしているのが実情
である。プラスチックスに対するめっきは、主として装
飾の目的で行われており、化学めっき（通常、化学銅め
っきまたは化学ニッケルめっき）をしたうえに、銅めっ
き、つづいてニッケルめっきを施した後、クロムめっき
が行われている。プラスチックス表面の脱脂→プレエッ
チング→エッチング→キャタライジング→アクセラレイ
ティング→無電解銅めっき→水洗→銅めっき→水洗→ニ
ッケルめっき→水洗→クロムめっき。この場合も化学め
っき層上にいきなりクロムめっきをするとクラックが発
生する。また、亜鉛系金属へのめっきの場合も亜鉛系金
属上に銅めっき、つづいてニッケルめっきを施した後、
クロムめっきを行っている。亜鉛系金属表面の脱脂→水
洗→酸洗→水洗→銅ストライク→銅めっき→水洗→ニッ
ケルめっき→水洗→クロムめっき。Ａｌ、Ａｌ合金、Ｃ
ｕ、Ｃｕ合金等についても同様である。このように鉄系
金属、プラスチックスおよび亜鉛系金属、銅系金属、ア
ルミニウム系金属など、その金属表面には直接クロムめ
っきができないとされている金属表面に対して、直接ク
ロムめっきを行うことができれば、クロムめっきの前段
階として銅めっきやニッケルめっきの工程が必要ではな
くなり工業的意義は極めて大きい。また、クロムめっき
工程それ自体を今まで以上に高速化できれば、さらにす
ばらしいことである。
【０００３】
【目的】本発明は、鉄系金属、プラスチックス、亜鉛系
金属、銅系金属、アルミニウム系金属などの直接のクロ
ムめっきが不可能と考えられていた金属表面に対するク
ロムめっきを、従来の方法である予備めっき工程を省略
し、かつクロムめっき速度を高速化し、そのうえ、得ら
れたクロムめっき層のマイクロクラックの発生がない新
規なクロムめっき法を提供する点にある。
金属、銅系金属、アルミニウム系金属などの直接のクロ
ムめっきが不可能と考えられていた金属表面に対するク
ロムめっきを、従来の方法である予備めっき工程を省略
し、かつクロムめっき速度を高速化し、そのうえ、得ら
れたクロムめっき層のマイクロクラックの発生がない新
規なクロムめっき法を提供する点にある。
【０００４】
【構成】本発明の第一は、その金属表面には直接クロム
めっきができないとされている金属表面に対して、振動
撹拌下に直接クロムめっきを行うことを特徴とするクロ
ムめっき法に関する。本発明の第二は、鉄系金属表面に
クロムめっきを行うにあたり、銅めっき工程−ニッケル
めっき工程を経ることなく、振動撹拌下に直接クロムめ
っきを行うことを特徴とするクロムめっき法に関する。
本発明の第三は、プラスチックス表面にクロムめっきを
行うにあたり、無電解銅めっき層上に、銅めっき工程−
ニッケルめっき工程を経ることなく、振動撹拌下に直接
クロムめっきを行うことを特徴とするクロムめっき法に
関する。本発明の第四は、亜鉛系金属表面にクロムめっ
きを行うにあたり、銅めっき工程後のニッケルめっきを
経ることなく、銅めっき層上に振動撹拌下に直接クロム
めっきを行うことを特徴とするクロムめっき法に関す
る。本発明の第五は、銅系金属表面にクロムめっきを行
うにあたり、ニッケルめっきを経ることなく、振動撹拌
下に直接クロムめっきを行うことを特徴とするクロムめ
っき法に関する。本発明の第六は、アルミニウム系金属
表面にクロムめっきを行うにあたり、下地めっきを経る
ことなく、振動撹拌下に直接クロムめっきを行うことを
特徴とするクロムめっき法に関する。本発明は、いずれ
にしても今までその金属表面には直接クロムめっきがで
きないとされている金属表面に対して、振動撹拌下に直
接被めっき体に対してクロムめっきを行うことができる
ことを発見したことに基づくものであり、これにより今
まで必要とされていたクロムめっきのための前めっき工
程を省略することおよびクロムめっきの速度を大幅に向
上した点に大きな特徴を有する。
めっきができないとされている金属表面に対して、振動
撹拌下に直接クロムめっきを行うことを特徴とするクロ
ムめっき法に関する。本発明の第二は、鉄系金属表面に
クロムめっきを行うにあたり、銅めっき工程−ニッケル
めっき工程を経ることなく、振動撹拌下に直接クロムめ
っきを行うことを特徴とするクロムめっき法に関する。
本発明の第三は、プラスチックス表面にクロムめっきを
行うにあたり、無電解銅めっき層上に、銅めっき工程−
ニッケルめっき工程を経ることなく、振動撹拌下に直接
クロムめっきを行うことを特徴とするクロムめっき法に
関する。本発明の第四は、亜鉛系金属表面にクロムめっ
きを行うにあたり、銅めっき工程後のニッケルめっきを
経ることなく、銅めっき層上に振動撹拌下に直接クロム
めっきを行うことを特徴とするクロムめっき法に関す
る。本発明の第五は、銅系金属表面にクロムめっきを行
うにあたり、ニッケルめっきを経ることなく、振動撹拌
下に直接クロムめっきを行うことを特徴とするクロムめ
っき法に関する。本発明の第六は、アルミニウム系金属
表面にクロムめっきを行うにあたり、下地めっきを経る
ことなく、振動撹拌下に直接クロムめっきを行うことを
特徴とするクロムめっき法に関する。本発明は、いずれ
にしても今までその金属表面には直接クロムめっきがで
きないとされている金属表面に対して、振動撹拌下に直
接被めっき体に対してクロムめっきを行うことができる
ことを発見したことに基づくものであり、これにより今
まで必要とされていたクロムめっきのための前めっき工
程を省略することおよびクロムめっきの速度を大幅に向
上した点に大きな特徴を有する。
【０００５】本発明に用いる振動撹拌手段は、１５〜６
０Ｈｚ、好ましくは２０〜４０Ｈｚでの振動を発生させ
る、振動モータによる振動を液中の振動板に伝え、液体
にこの振動を伝えることにもとづく本発明者が開発した
新しい撹拌手段であり、その基本的考え方は特開平３−
２７５１３０号公報に開示したとおりであり、また、そ
の変形撹拌手段は特願平４−２８６５４４号として平成
４年９月１４日に出願している。さらに、振動撹拌に関
連する技術を特願平５−１１６５６６号、５−１３９０
２８号として出願している。この振動撹拌は、振動板に
よる振動が系全体に伝えられると、スクリューによる撹
拌に較べて系全体がすみやかに均一化されることは驚く
べきことである。なお、振動板の振幅はとくに制限はな
いが、通常２〜３０ｍｍ、好ましくは１０〜１５ｍｍで
ある。
０Ｈｚ、好ましくは２０〜４０Ｈｚでの振動を発生させ
る、振動モータによる振動を液中の振動板に伝え、液体
にこの振動を伝えることにもとづく本発明者が開発した
新しい撹拌手段であり、その基本的考え方は特開平３−
２７５１３０号公報に開示したとおりであり、また、そ
の変形撹拌手段は特願平４−２８６５４４号として平成
４年９月１４日に出願している。さらに、振動撹拌に関
連する技術を特願平５−１１６５６６号、５−１３９０
２８号として出願している。この振動撹拌は、振動板に
よる振動が系全体に伝えられると、スクリューによる撹
拌に較べて系全体がすみやかに均一化されることは驚く
べきことである。なお、振動板の振幅はとくに制限はな
いが、通常２〜３０ｍｍ、好ましくは１０〜１５ｍｍで
ある。
【０００６】本発明で使用する振動撹拌手段を設けため
っき装置を図１〜２に示す。図３、図４についてはめっ
き用電極を省略して図示されている。振動撹拌手段は、
振動モーター２６で発生した振動を振動枠２３、振動棒
２１を介して振動羽根群２２、２２……に伝える。振動
羽根群は図２、３に明示されているようにめっき槽２９
の両側に設置する。振動モーター２６よりの振動が槽２
９本体に影響しないようにするため、振動枠２３はスプ
リング２４と台座２５を介して架台に取付けられてい
る。また、２７は電極であり、２８は液温を保持するた
めの加熱用ヒーターである。振動羽根は、水平であって
もよいがやや傾斜をつけて取付けることが好ましい。傾
斜の程度は水平方向を基準にして０〜４５°、好ましく
は１０〜２０°の角度で取付けることが好ましい。本実
施例では１５°でセットした。振動羽根の幅は特に制限
はないが３０ｍｍ以上程度あれば充分その効力を発揮す
る。通常３０〜１００ｍｍ、好ましくは５０〜８０ｍｍ
程度である。撹拌羽根同士の間隔はとくに制限はないが
通常１０〜８０ｍｍ、好ましくは３０〜４０ｍｍであ
り、本実施例では３５ｍｍ間隔とした。また、左右の振
動羽根２２の位置は、同一の高さでもよいが、ややずら
せた位置に設けることもできる。最上位の振動羽根は液
面から約１００ｍｍ下の位置にすることが好ましい。こ
れより上に設けるとその振幅により多少異なるが、液が
飛び散るので好ましくない。最下位の振動羽根は底から
約５０ｍｍ上の位置とすることが好ましい。本発明の振
動羽根は幅８０ｍｍ、長さ４００ｍｍ、間隔３５ｍｍと
した。
っき装置を図１〜２に示す。図３、図４についてはめっ
き用電極を省略して図示されている。振動撹拌手段は、
振動モーター２６で発生した振動を振動枠２３、振動棒
２１を介して振動羽根群２２、２２……に伝える。振動
羽根群は図２、３に明示されているようにめっき槽２９
の両側に設置する。振動モーター２６よりの振動が槽２
９本体に影響しないようにするため、振動枠２３はスプ
リング２４と台座２５を介して架台に取付けられてい
る。また、２７は電極であり、２８は液温を保持するた
めの加熱用ヒーターである。振動羽根は、水平であって
もよいがやや傾斜をつけて取付けることが好ましい。傾
斜の程度は水平方向を基準にして０〜４５°、好ましく
は１０〜２０°の角度で取付けることが好ましい。本実
施例では１５°でセットした。振動羽根の幅は特に制限
はないが３０ｍｍ以上程度あれば充分その効力を発揮す
る。通常３０〜１００ｍｍ、好ましくは５０〜８０ｍｍ
程度である。撹拌羽根同士の間隔はとくに制限はないが
通常１０〜８０ｍｍ、好ましくは３０〜４０ｍｍであ
り、本実施例では３５ｍｍ間隔とした。また、左右の振
動羽根２２の位置は、同一の高さでもよいが、ややずら
せた位置に設けることもできる。最上位の振動羽根は液
面から約１００ｍｍ下の位置にすることが好ましい。こ
れより上に設けるとその振幅により多少異なるが、液が
飛び散るので好ましくない。最下位の振動羽根は底から
約５０ｍｍ上の位置とすることが好ましい。本発明の振
動羽根は幅８０ｍｍ、長さ４００ｍｍ、間隔３５ｍｍと
した。
【０００７】振動撹拌手段における振動板の設け方は、
大別すると３つのタイプに分けることができる。 （１）めっき槽の周辺部に周辺に沿って幅２〜１０ｃｍ
程度の振動板を上下に多数枚を設けるタイプ、（図１〜
３参照）（上下振動） （２）めっき槽の底部に槽のほぼ全面に１枚ないし２枚
の振動板を設けるタイプ、（図４参照）（上下振動） （３）めっき槽の底部に横方向に振動する振動板を設け
るタイプ(図５〜９参照) （４）めっき槽の中央部に、プロペラ撹拌翼のかわり
に、プロペラの長さと同程度またはそれ以下の大きさの
任意形状の振動板を上下に多数枚設けるタイプ、（特願
平４−２８６５４４号参照） があるが、とくに（１）のタイプのものが好ましい。め
っき電極の位置は、振動版の上方、あるいは振動版の内
側または外側であることができる。
大別すると３つのタイプに分けることができる。 （１）めっき槽の周辺部に周辺に沿って幅２〜１０ｃｍ
程度の振動板を上下に多数枚を設けるタイプ、（図１〜
３参照）（上下振動） （２）めっき槽の底部に槽のほぼ全面に１枚ないし２枚
の振動板を設けるタイプ、（図４参照）（上下振動） （３）めっき槽の底部に横方向に振動する振動板を設け
るタイプ(図５〜９参照) （４）めっき槽の中央部に、プロペラ撹拌翼のかわり
に、プロペラの長さと同程度またはそれ以下の大きさの
任意形状の振動板を上下に多数枚設けるタイプ、（特願
平４−２８６５４４号参照） があるが、とくに（１）のタイプのものが好ましい。め
っき電極の位置は、振動版の上方、あるいは振動版の内
側または外側であることができる。
【０００８】振動板の振動のさせ方は、前記公報や明細
書記載のように振動板を均一に振動させてもよいが、振
動板の１箇所または２箇所を振動軸に連結して振動させ
ることもできる。この場合、液槽が四角形のときは振動
板の一辺の両端部に振動軸を一本づつ二本設けてもよい
が、辺の中央に一本設けることもできる。また振動板の
一つの角部に一本の振動軸を設けてもよい。振動軸をと
りつけた辺の対角辺あるいは振動軸をとりつけた角部以
外の角部は固定軸により支持する。固定軸には弾性体、
たとえば、ゴム、スプリング、空気バネ等を介して振動
板を固定することが好ましいが、振動板自体の弾力にた
よることも可能である。図５にその一具体例を示す。振
動モーターに任意の手段で連結した振動伝達棒５を介し
て振動棒１，２を設け、この振動棒１，２にはゴム片
８，９を用いて振動板６を固定する一方、固定棒３，４
には、振動板６の振動を支持する支持用ゴム片１０，１
１を固定し、これに振動板６を連結する。振動板６は、
支持用ゴム片１０，１１を支点として振動伝達棒１，２
の上下軸にあわせて扇をあおぐように振動するのでこれ
を槽中におさえることにより、液体、粉体、粒体等の混
合撹拌を行うことができる。
書記載のように振動板を均一に振動させてもよいが、振
動板の１箇所または２箇所を振動軸に連結して振動させ
ることもできる。この場合、液槽が四角形のときは振動
板の一辺の両端部に振動軸を一本づつ二本設けてもよい
が、辺の中央に一本設けることもできる。また振動板の
一つの角部に一本の振動軸を設けてもよい。振動軸をと
りつけた辺の対角辺あるいは振動軸をとりつけた角部以
外の角部は固定軸により支持する。固定軸には弾性体、
たとえば、ゴム、スプリング、空気バネ等を介して振動
板を固定することが好ましいが、振動板自体の弾力にた
よることも可能である。図５にその一具体例を示す。振
動モーターに任意の手段で連結した振動伝達棒５を介し
て振動棒１，２を設け、この振動棒１，２にはゴム片
８，９を用いて振動板６を固定する一方、固定棒３，４
には、振動板６の振動を支持する支持用ゴム片１０，１
１を固定し、これに振動板６を連結する。振動板６は、
支持用ゴム片１０，１１を支点として振動伝達棒１，２
の上下軸にあわせて扇をあおぐように振動するのでこれ
を槽中におさえることにより、液体、粉体、粒体等の混
合撹拌を行うことができる。
【０００９】本発明で使用する横振動撹拌手段を設けた
めっき装置の概要を図６〜９に示す。図６は、本発明で
使用する横振動撹拌装置の上面図を示し、図７はその断
面図を示す。３１は、横方向に振動を発生する振動モー
タであり、３２はその振動を伝達するためのコの字状振
動伝達子であり、槽または任意の支持物に直接またはス
ライドベアリング１３などを介して取付けられている。
３３は、振動モーター３１で発生した振動が減衰しない
ようにするための支持体であり、３４は、振動羽根３６
をつけた振動子３５を吊り下げかつコの字状振動伝達子
の振動を振動子３５に伝達する役目をする垂直振動伝達
子である。振動羽根３６は振動モーター３１の振動によ
り振動撹拌作用を槽内の液体や粉体などに与える働きを
する。支持体３３の両側には例えばスプリングのような
弾性体３８，３８が設けられており、コの字状振動伝達
子３２の振動が減衰しないようにするとともに振動モー
ター３１の側の重量とほぼ同じ重量にして無用振動によ
り発生する音を最小限に抑えこむ。コの字形の振動伝達
子を介して該槽の一方の側に設置されている振動モータ
ーとその対向する側に設けられた弾性体とその保持機構
との両者間では重量的にほぼバランスが取れるよう調整
されていることが好ましい。
めっき装置の概要を図６〜９に示す。図６は、本発明で
使用する横振動撹拌装置の上面図を示し、図７はその断
面図を示す。３１は、横方向に振動を発生する振動モー
タであり、３２はその振動を伝達するためのコの字状振
動伝達子であり、槽または任意の支持物に直接またはス
ライドベアリング１３などを介して取付けられている。
３３は、振動モーター３１で発生した振動が減衰しない
ようにするための支持体であり、３４は、振動羽根３６
をつけた振動子３５を吊り下げかつコの字状振動伝達子
の振動を振動子３５に伝達する役目をする垂直振動伝達
子である。振動羽根３６は振動モーター３１の振動によ
り振動撹拌作用を槽内の液体や粉体などに与える働きを
する。支持体３３の両側には例えばスプリングのような
弾性体３８，３８が設けられており、コの字状振動伝達
子３２の振動が減衰しないようにするとともに振動モー
ター３１の側の重量とほぼ同じ重量にして無用振動によ
り発生する音を最小限に抑えこむ。コの字形の振動伝達
子を介して該槽の一方の側に設置されている振動モータ
ーとその対向する側に設けられた弾性体とその保持機構
との両者間では重量的にほぼバランスが取れるよう調整
されていることが好ましい。
【００１０】振動羽根は任意枚数を振動子に付設すれば
よい。振動羽根は振動子上に垂直にあるいは斜めに取り
付ける〔図１０の（ａ）〜（ｄ）参照〕。振動羽根の取
付け方は振動子に溶接することもできるし、着脱自在と
することもできる。とくに羽根を振動子に押込式にとり
つける方式を採用すれば、必要とする撹拌条件に応じて
振動羽根の大きさを変更したり、振動羽根の数を変更す
ることができるので、好ましい。また、羽根の取付角度
を変更できるようにすることもできる。槽の大きさが幅
８００ｍｍ、長さ１０００ｍｍ、深さ１１００ｍｍの場
合には、例えば、５０ｍｍ間隔で幅８０ｍｍ、長さ５０
０ｍｍ、厚さ０．１５ｍｍの振動羽根を取り付けること
により充分撹拌効果を挙げることができる。
よい。振動羽根は振動子上に垂直にあるいは斜めに取り
付ける〔図１０の（ａ）〜（ｄ）参照〕。振動羽根の取
付け方は振動子に溶接することもできるし、着脱自在と
することもできる。とくに羽根を振動子に押込式にとり
つける方式を採用すれば、必要とする撹拌条件に応じて
振動羽根の大きさを変更したり、振動羽根の数を変更す
ることができるので、好ましい。また、羽根の取付角度
を変更できるようにすることもできる。槽の大きさが幅
８００ｍｍ、長さ１０００ｍｍ、深さ１１００ｍｍの場
合には、例えば、５０ｍｍ間隔で幅８０ｍｍ、長さ５０
０ｍｍ、厚さ０．１５ｍｍの振動羽根を取り付けること
により充分撹拌効果を挙げることができる。
【００１１】コの字状の振動伝達子の両先端部を弾性体
を介して受け取めている支持体の存在は、振動モーター
により発生した横方向の振動が減衰しないようにするた
め、地盤と同じようにしっかりした構造体のものとする
ことが好ましい。例えば、地盤に基礎を打ち、それに垂
直に立ち上ったＨ型鋼材、あるいは鉄筋、鉄骨入りコン
クリート壁などを用いることができる。槽の壁が充分に
しっかりしているときは槽の壁をもって支持体とするこ
ともできる。
を介して受け取めている支持体の存在は、振動モーター
により発生した横方向の振動が減衰しないようにするた
め、地盤と同じようにしっかりした構造体のものとする
ことが好ましい。例えば、地盤に基礎を打ち、それに垂
直に立ち上ったＨ型鋼材、あるいは鉄筋、鉄骨入りコン
クリート壁などを用いることができる。槽の壁が充分に
しっかりしているときは槽の壁をもって支持体とするこ
ともできる。
【００１２】前記弾性体は、振動伝達子の振動をうけと
め、前記支持体からその振動をはねかえす役割を果すも
のであり、強いバネ力をもつものが好ましい。例えば、
図８に示すように、丸棒３７のまわりにバネ鋼により作
った直径３〜１０ｍｍのスプリング３８をはめこんだも
のを前記弾性体として使用することができる。前記弾性
体は前記支持体の振動モーター側とその反対側とに対照
的に設置することが好ましい。図８のものは、そのよう
な構造になっており、バネは止め板３９で固定されてい
る。
め、前記支持体からその振動をはねかえす役割を果すも
のであり、強いバネ力をもつものが好ましい。例えば、
図８に示すように、丸棒３７のまわりにバネ鋼により作
った直径３〜１０ｍｍのスプリング３８をはめこんだも
のを前記弾性体として使用することができる。前記弾性
体は前記支持体の振動モーター側とその反対側とに対照
的に設置することが好ましい。図８のものは、そのよう
な構造になっており、バネは止め板３９で固定されてい
る。
【００１３】本発明においては、振動撹拌手段に加えて
さらにエアレーション手段を付設することができる。
さらにエアレーション手段を付設することができる。
【００１４】本発明で用いるクロムめっき浴の組成は、
従来のクロムめっき浴の各種組成のものを使用すること
ができる。代表的処方としては、 （ａ）クロム酸（ＣｒＯ3） １００〜５００ｇ／ｌ 硫酸 ０．５〜７．７ｇ／ｌ （ｂ）クロム酸（ＣｒＯ3） ２００〜３００ｇ／ｌ 硫酸 ０．２５〜３ｇ／ｌ ケイフッ化ナトリウム（Ｎａ2ＳｉＦ6） ０．５〜２０
ｇ／ｌ
従来のクロムめっき浴の各種組成のものを使用すること
ができる。代表的処方としては、 （ａ）クロム酸（ＣｒＯ3） １００〜５００ｇ／ｌ 硫酸 ０．５〜７．７ｇ／ｌ （ｂ）クロム酸（ＣｒＯ3） ２００〜３００ｇ／ｌ 硫酸 ０．２５〜３ｇ／ｌ ケイフッ化ナトリウム（Ｎａ2ＳｉＦ6） ０．５〜２０
ｇ／ｌ
【００１５】本発明における鉄系金属とは鉄または鉄を
主成分とする合金であり、亜鉛系金属とは亜鉛または亜
鉛を主成分とする合金であり、銅系金属とは銅または銅
を主成分とする合金であり、アルミニウム系金属とはア
ルミニウム又はアルミニウムを主成分とする合金であ
る。プラスチックスは、ＡＢＳ、ポリエチレン、ポリプ
ロピレンなどいずれのプラスチックスも対照物とするこ
とができる。
主成分とする合金であり、亜鉛系金属とは亜鉛または亜
鉛を主成分とする合金であり、銅系金属とは銅または銅
を主成分とする合金であり、アルミニウム系金属とはア
ルミニウム又はアルミニウムを主成分とする合金であ
る。プラスチックスは、ＡＢＳ、ポリエチレン、ポリプ
ロピレンなどいずれのプラスチックスも対照物とするこ
とができる。
【００１６】
実施例１（鉄系金属へのめっき）（吊下げ式） 基本プロセス：脱脂→水洗→酸洗→水洗→クロムめっき 使用装置：図 に示す振動撹拌手段を有するＦＲＰ製め
っき槽（容量２００リットル）で、振動数は２７Ｈｚと
した。 陽極：チタン上に酸化インジウムをコーティングしたも
の 液温：６０℃ 被めっき体：鋼鉄製ディスク（直径５５ｍｍ） （厚さ５ｍｍ） めっき浴組成： ＣｒＯ3 ３００ｇ／ｌ Ｈ2ＳＯ4 ３ｇ／ｌ 以上の条件下で鋼鉄上に直接クロムめっきを行ったとこ
ろ、 電流密度 ８０Ａ／ｄｍ2 とすることができ、この状態で２０分間めっきを行っ
た。その結果、中心部７μｍ厚、外周部２０μｍ厚のク
ラックのないクロムめっき層を得ることができた。振動
撹拌を伴わない場合より高速でめっきができた。ＪＩＳ
の塩水噴霧試験は９６時間後も合格であった。また、振
動撹拌を伴わない場合、電流密度が４０Ａ／ｄｍ2に減
少し、同じ膜厚を得るためのクロムめっき工程の所要時
間は振動撹拌を行わない場合の１／２であった。
っき槽（容量２００リットル）で、振動数は２７Ｈｚと
した。 陽極：チタン上に酸化インジウムをコーティングしたも
の 液温：６０℃ 被めっき体：鋼鉄製ディスク（直径５５ｍｍ） （厚さ５ｍｍ） めっき浴組成： ＣｒＯ3 ３００ｇ／ｌ Ｈ2ＳＯ4 ３ｇ／ｌ 以上の条件下で鋼鉄上に直接クロムめっきを行ったとこ
ろ、 電流密度 ８０Ａ／ｄｍ2 とすることができ、この状態で２０分間めっきを行っ
た。その結果、中心部７μｍ厚、外周部２０μｍ厚のク
ラックのないクロムめっき層を得ることができた。振動
撹拌を伴わない場合より高速でめっきができた。ＪＩＳ
の塩水噴霧試験は９６時間後も合格であった。また、振
動撹拌を伴わない場合、電流密度が４０Ａ／ｄｍ2に減
少し、同じ膜厚を得るためのクロムめっき工程の所要時
間は振動撹拌を行わない場合の１／２であった。
【００１７】比較例１ 振動撹拌を行わない以外は、実施例１を繰り返した。そ
の結果、電流密度４０Ａ／ｄｍ2、膜厚１１μｍのクロ
ムめっき膜が得られたが、クラックが多くＪＩＳの塩水
噴霧試験は９６時間後では完全に不合格であった。
の結果、電流密度４０Ａ／ｄｍ2、膜厚１１μｍのクロ
ムめっき膜が得られたが、クラックが多くＪＩＳの塩水
噴霧試験は９６時間後では完全に不合格であった。
【００１８】実施例２（鉄系金属へのめっき）（吊下げ
式） 振動数を２８Ｈｚ、電流密度６０Ａ／ｄｍ2とし、被め
っき体を鉄製シャフト（直径１０ｍｍ、長さ１３５ｍ
ｍ）にクロムめっきを行った。クロムめっきの厚さは２
０〜２２μｍで、クラックの発生は認められなかった。
ＪＩＳの塩水噴霧試験は９６時間後でも合格であった。
式） 振動数を２８Ｈｚ、電流密度６０Ａ／ｄｍ2とし、被め
っき体を鉄製シャフト（直径１０ｍｍ、長さ１３５ｍ
ｍ）にクロムめっきを行った。クロムめっきの厚さは２
０〜２２μｍで、クラックの発生は認められなかった。
ＪＩＳの塩水噴霧試験は９６時間後でも合格であった。
【００１９】比較例２ 振動撹拌を行わない以外は、実施例２を繰り返した。そ
の結果、電流密度４０Ａ／ｄｍ2、膜厚１１μｍのクロ
ムめっき膜が得られたが、クラックが多くＪＩＳの塩水
噴霧試験は９６時間後では完全に不合格であった。
の結果、電流密度４０Ａ／ｄｍ2、膜厚１１μｍのクロ
ムめっき膜が得られたが、クラックが多くＪＩＳの塩水
噴霧試験は９６時間後では完全に不合格であった。
【００２０】比較例３（鉄系金属へのめっき）（吊下げ
式） 基本プロセス：脱脂→水洗→酸洗→水洗→銅ストライク
→銅めっき→水洗→ニッケルめっき→水洗→クロムめっ
き 実施例２の被めっき体を用い、通常どおり銅めっき−ニ
ッケルめっきを施したものに、クロムめっきを行った
（振動撹拌なし）。 硫酸銅めっき浴 硫酸銅 ２３０ｇ／ｌ 硫酸 ５０ｇ／ｌ 光沢剤 少量 液温 ２５℃ 陰極電流密度 ３Ａ／ｄｍ2 時間 ニッケルめっき浴 硫酸ニッケル ２４０ｇ／ｌ 塩化ニッケル ４５ｇ／ｌ ホウ酸 ３０ｇ／ｌ 光沢剤 少量 液温 ５０℃ 電流密度 ５Ａ／ｄｍ2 クロムめっき浴 ＣｒＯ3 ３００ｇ／ｌ Ｈ2ＳＯ4 ３ｇ／ｌ よりなるサージェント浴を用いた。 液温：６０℃ 電流密度：５０Ａ／ｄｍ2 めっき時間：３０分 その結果、２５μｍ厚のクロムめっき層が得られたが、
多数のマイクロクラックが認められた。ＪＩＳの塩水噴
霧試験のけっかは９６時間後不合格であった。
式） 基本プロセス：脱脂→水洗→酸洗→水洗→銅ストライク
→銅めっき→水洗→ニッケルめっき→水洗→クロムめっ
き 実施例２の被めっき体を用い、通常どおり銅めっき−ニ
ッケルめっきを施したものに、クロムめっきを行った
（振動撹拌なし）。 硫酸銅めっき浴 硫酸銅 ２３０ｇ／ｌ 硫酸 ５０ｇ／ｌ 光沢剤 少量 液温 ２５℃ 陰極電流密度 ３Ａ／ｄｍ2 時間 ニッケルめっき浴 硫酸ニッケル ２４０ｇ／ｌ 塩化ニッケル ４５ｇ／ｌ ホウ酸 ３０ｇ／ｌ 光沢剤 少量 液温 ５０℃ 電流密度 ５Ａ／ｄｍ2 クロムめっき浴 ＣｒＯ3 ３００ｇ／ｌ Ｈ2ＳＯ4 ３ｇ／ｌ よりなるサージェント浴を用いた。 液温：６０℃ 電流密度：５０Ａ／ｄｍ2 めっき時間：３０分 その結果、２５μｍ厚のクロムめっき層が得られたが、
多数のマイクロクラックが認められた。ＪＩＳの塩水噴
霧試験のけっかは９６時間後不合格であった。
【００２１】実施例３（鉄製品へのバレルめっき） 本実施例に用いるバレルめっき装置は、図１１（上面
図）、図１２（断面図）に示すものである。振動撹拌手
段は、振動モーター５６で発生した振動を振動枠５３、
振動棒５１を介して振動羽根群５２、５２……に伝え
る。振動羽根群は図６〜８に明示されているように循環
槽５９の両側に設置する。振動モーター５６よりの振動
が循環槽５９本体に影響しないようにするため、振動枠
５３はスプリング５４と台座５５を介して本体に取付け
られている。振動羽根の傾斜の程度は水平方向を基準に
して１５゜でセットした。振動羽根の幅８０ｍｍ、撹拌
羽根同士の間隔は３５ｍｍとした。図１２に示すとお
り、振動羽根部分は、バレル６３と電極５７の間に設け
られている。バレル６３は、穴径３ｍｍの多数の穴を有
する八角形筒体で約３リットルの容量の硬質塩化ビニル
樹脂よりなるものである。被めっき物品としては、直径
２０ｍｍ、長さ２０ｍｍの鉄製円柱体を用いた。このも
のは銅めっき、ニッケルめっきを施していないものであ
る。クロムめっき浴の組成はつぎのとおりとした。 無水クロム酸（ＣｒＯ3） ２５０ｇ／ｌ 硫酸（Ｈ2ＳＯ4） ２．５ｇ／ｌ 陰極電流密度２５Ａ／ｄｍ2、めっき温度６０℃、バレ
ル回転数６ｒ．ｐ．ｍ．で、１時間めっきした。なお、
被めっき物品はバレル容積の１／３になるように充填し
た。めっき終了後は、水洗、酸中和、水洗、乾燥を行っ
た。この結果、振動撹拌を行わない場合は電流密度が上
らず、クロムめっき膜がほとんど形成できないのに較
べ、本実施例３のものは、膜厚１０μｍのクロム膜が均
一に形成されており、この膜厚は吊り具を用いためっき
の場合とほゞ同様であった。
図）、図１２（断面図）に示すものである。振動撹拌手
段は、振動モーター５６で発生した振動を振動枠５３、
振動棒５１を介して振動羽根群５２、５２……に伝え
る。振動羽根群は図６〜８に明示されているように循環
槽５９の両側に設置する。振動モーター５６よりの振動
が循環槽５９本体に影響しないようにするため、振動枠
５３はスプリング５４と台座５５を介して本体に取付け
られている。振動羽根の傾斜の程度は水平方向を基準に
して１５゜でセットした。振動羽根の幅８０ｍｍ、撹拌
羽根同士の間隔は３５ｍｍとした。図１２に示すとお
り、振動羽根部分は、バレル６３と電極５７の間に設け
られている。バレル６３は、穴径３ｍｍの多数の穴を有
する八角形筒体で約３リットルの容量の硬質塩化ビニル
樹脂よりなるものである。被めっき物品としては、直径
２０ｍｍ、長さ２０ｍｍの鉄製円柱体を用いた。このも
のは銅めっき、ニッケルめっきを施していないものであ
る。クロムめっき浴の組成はつぎのとおりとした。 無水クロム酸（ＣｒＯ3） ２５０ｇ／ｌ 硫酸（Ｈ2ＳＯ4） ２．５ｇ／ｌ 陰極電流密度２５Ａ／ｄｍ2、めっき温度６０℃、バレ
ル回転数６ｒ．ｐ．ｍ．で、１時間めっきした。なお、
被めっき物品はバレル容積の１／３になるように充填し
た。めっき終了後は、水洗、酸中和、水洗、乾燥を行っ
た。この結果、振動撹拌を行わない場合は電流密度が上
らず、クロムめっき膜がほとんど形成できないのに較
べ、本実施例３のものは、膜厚１０μｍのクロム膜が均
一に形成されており、この膜厚は吊り具を用いためっき
の場合とほゞ同様であった。
【００２２】実施例４（鉄製品へのバレルめっき） クロムめっき浴として下記の組成のものを用い、陰極電
流密度５０Ａ／ｄｍ2、めっき温度５５℃としたほかは
実施例１を繰り返した。 無水クロム酸（ＣｒＯ3） ２６０ｇ／ｌ ケイフッ化カリウム（Ｋ2ＳｉＦ6） ４ｇ／ｌ 重クロム酸カリ（Ｋ2Ｃｒ2Ｏ7） ２５ｇ／ｌ 硫酸（Ｈ2ＳＯ4） １ｇ／ｌ この結果、実施例１に較べ約１．３倍の早さでクロムめ
っき層が形成された。
流密度５０Ａ／ｄｍ2、めっき温度５５℃としたほかは
実施例１を繰り返した。 無水クロム酸（ＣｒＯ3） ２６０ｇ／ｌ ケイフッ化カリウム（Ｋ2ＳｉＦ6） ４ｇ／ｌ 重クロム酸カリ（Ｋ2Ｃｒ2Ｏ7） ２５ｇ／ｌ 硫酸（Ｈ2ＳＯ4） １ｇ／ｌ この結果、実施例１に較べ約１．３倍の早さでクロムめ
っき層が形成された。
【００２３】実施例５（プラスチックスへのめっき） 基本プロセス：脱脂→プレエッチング→エッチング→キ
ャタライジング→アクセラレイティング→無電解銅めっ
き→クロムめっき ポリアセタールディスク（直径２０ｍｍ、厚さ２０ｍ
ｍ）に化学めっき（化学銅めっき）を施して表面を活性
化した後、これに直接振動撹拌下にクロムめっきを行っ
た。めっき条件は実施例１と同様に行い、めっき時間は
２０分とした。クロムめっき層の厚みは２０μｍであ
り、マイクロクラックの発生は認められなかった。ＪＩ
Ｓによる塩水噴霧試験の結果は、９６時間後も合格であ
った。
ャタライジング→アクセラレイティング→無電解銅めっ
き→クロムめっき ポリアセタールディスク（直径２０ｍｍ、厚さ２０ｍ
ｍ）に化学めっき（化学銅めっき）を施して表面を活性
化した後、これに直接振動撹拌下にクロムめっきを行っ
た。めっき条件は実施例１と同様に行い、めっき時間は
２０分とした。クロムめっき層の厚みは２０μｍであ
り、マイクロクラックの発生は認められなかった。ＪＩ
Ｓによる塩水噴霧試験の結果は、９６時間後も合格であ
った。
【００２４】比較例４（プラスチックスへのめっき） 基本プロセス：脱脂→プレエッチング→エッチング→キ
ャタライジング→アクセラレイティング→無電解銅めっ
き→銅めっき→ニッケルめっき→クロムめっき 実施例２と同一のポリアセタールディスクに、比較例１
と同様に銅めっき、ニッケルめっきを施した後、クロム
めっきを行った（振動撹拌なし）。２０分間めっき後、
クロムめっき層の厚みは１１μｍであり、マイクロクラ
ックの存在が認められた。ＪＩＳによる塩水噴霧試験の
結果は、９６時間後、不合格であった。
ャタライジング→アクセラレイティング→無電解銅めっ
き→銅めっき→ニッケルめっき→クロムめっき 実施例２と同一のポリアセタールディスクに、比較例１
と同様に銅めっき、ニッケルめっきを施した後、クロム
めっきを行った（振動撹拌なし）。２０分間めっき後、
クロムめっき層の厚みは１１μｍであり、マイクロクラ
ックの存在が認められた。ＪＩＳによる塩水噴霧試験の
結果は、９６時間後、不合格であった。
【００２５】実施例６（亜鉛系金属へのめっき）（吊下
げ方式） 基本プロセス：脱脂→水洗→酸洗→水洗→銅ストライク
→銅めっき→水洗→クロムめっき 銅めっきされた亜鉛系金属ディスク（直径２０ｍｍ、厚
さ２０ｍｍ）に、振動数を２８Ｈｚとした以外は、実施
例１と同様にして２０分間クロムめっきを行った。その
結果は、マイクロクラックの発生は認められず、ＪＩＳ
の塩水噴霧試験において９６時間後も合格であった。
げ方式） 基本プロセス：脱脂→水洗→酸洗→水洗→銅ストライク
→銅めっき→水洗→クロムめっき 銅めっきされた亜鉛系金属ディスク（直径２０ｍｍ、厚
さ２０ｍｍ）に、振動数を２８Ｈｚとした以外は、実施
例１と同様にして２０分間クロムめっきを行った。その
結果は、マイクロクラックの発生は認められず、ＪＩＳ
の塩水噴霧試験において９６時間後も合格であった。
【００２６】比較例５（亜鉛系金属へのめっき）（吊下
げ方式） 基本プロセス：脱脂→水洗→酸洗→水洗→銅ストライク
→銅めっき→水洗→ニッケルめっき→水洗→クロムめっ
き 銅ストライク処理された亜鉛系金属ディスク（直径２０
ｍｍ、厚さ２０ｍｍ）に、比較例１と同様の処方で通常
の基本プロセスにより、銅めっき→ニッケルめっき→ク
ロムめっきを行った。クロムめっきの時間は２０分とし
た。その結果は、クロムめっき層にマイクロクラックが
発生していた。
げ方式） 基本プロセス：脱脂→水洗→酸洗→水洗→銅ストライク
→銅めっき→水洗→ニッケルめっき→水洗→クロムめっ
き 銅ストライク処理された亜鉛系金属ディスク（直径２０
ｍｍ、厚さ２０ｍｍ）に、比較例１と同様の処方で通常
の基本プロセスにより、銅めっき→ニッケルめっき→ク
ロムめっきを行った。クロムめっきの時間は２０分とし
た。その結果は、クロムめっき層にマイクロクラックが
発生していた。
【００２７】実施例７（アルミ系金属へのめっき）（吊
下げ方式） クロムめっき浴として ＣｒＯ3 ３００ｇ／ｌ Ｈ2ＳＯ4 １ｇ／ｌ を用い、アルミダイキャスト製品（直径５５ｍｍ、厚さ
５ｍｍ）の試料に実施例１と同様に振動数２７Ｈｚ、液
温６０℃で電流密度８０Ａ／ｄｍ2、２０分間のめっき
を行った。膜厚平均１５μｍのクラックのないクロムめ
っき層を得ることができた。通常、中間処理として従来
から行われている亜鉛置換法や亜鉛合金置換法等の処理
層を設ける必要がなく、マイクロクラックの発生のない
防食性のめっき層を高速度で得ることができた。なお、
通常の脱脂、水洗、活性化処理は常法により行ってい
る。
下げ方式） クロムめっき浴として ＣｒＯ3 ３００ｇ／ｌ Ｈ2ＳＯ4 １ｇ／ｌ を用い、アルミダイキャスト製品（直径５５ｍｍ、厚さ
５ｍｍ）の試料に実施例１と同様に振動数２７Ｈｚ、液
温６０℃で電流密度８０Ａ／ｄｍ2、２０分間のめっき
を行った。膜厚平均１５μｍのクラックのないクロムめ
っき層を得ることができた。通常、中間処理として従来
から行われている亜鉛置換法や亜鉛合金置換法等の処理
層を設ける必要がなく、マイクロクラックの発生のない
防食性のめっき層を高速度で得ることができた。なお、
通常の脱脂、水洗、活性化処理は常法により行ってい
る。
【００２８】
（１）本発明は、振動撹拌を用いることにより、鉄系合
金、プラスチックスあるいは亜鉛系金属にクロムめっき
をするにあたり、今まで必要とされていた予備めっき工
程を簡略化することができた。この工程簡略化は、作業
効率の大巾な向上につながるとともに、予備めっき液も
不要となるから、廃水処理上のメリットも大きく、極め
て大きな効果である。 （２）本発明は、振動撹拌を用いることにより、従来法
におけるクロムめっきの速さに比較してほぼ２倍のめっ
き速度を得ることができる。このことは振動撹拌により
高い電流密度を達成できることと深い関係を有する。一
例を挙げれば、従来のクロムめっきでは、 電流密度４０Ａ／ｄｍ2、２０分でクロムめっき厚１１
μｍ であるのに対し、本発明のクロムめっきでは、 電流密度８０Ａ／ｄｍ2、２０分でクロムめっき厚２２
μｍ であるから、同一時間で２倍の厚みのクロムめっきをす
ることができる。いいかえれば、めっき速度は２倍にな
っていることが明らかである。 （３）得られたクロムめっき層は、従来品のようなマイ
クロクラックがなく、従来品に較べて耐久性が一層向上
した。
金、プラスチックスあるいは亜鉛系金属にクロムめっき
をするにあたり、今まで必要とされていた予備めっき工
程を簡略化することができた。この工程簡略化は、作業
効率の大巾な向上につながるとともに、予備めっき液も
不要となるから、廃水処理上のメリットも大きく、極め
て大きな効果である。 （２）本発明は、振動撹拌を用いることにより、従来法
におけるクロムめっきの速さに比較してほぼ２倍のめっ
き速度を得ることができる。このことは振動撹拌により
高い電流密度を達成できることと深い関係を有する。一
例を挙げれば、従来のクロムめっきでは、 電流密度４０Ａ／ｄｍ2、２０分でクロムめっき厚１１
μｍ であるのに対し、本発明のクロムめっきでは、 電流密度８０Ａ／ｄｍ2、２０分でクロムめっき厚２２
μｍ であるから、同一時間で２倍の厚みのクロムめっきをす
ることができる。いいかえれば、めっき速度は２倍にな
っていることが明らかである。 （３）得られたクロムめっき層は、従来品のようなマイ
クロクラックがなく、従来品に較べて耐久性が一層向上
した。
【図１】本発明の実施例に用いた振動撹拌装置の上面図
である。
である。
【図２】本発明の実施例に用いた振動撹拌装置の側面図
である。
である。
【図３】本発明の実施例に用いた振動撹拌装置のもう一
方の側からみた側面図である。
方の側からみた側面図である。
【図４】本発明の実施例に用いた振動撹拌装置の要部の
みの斜視図である。
みの斜視図である。
【図５】本発明のめっき方法に用いることのできる上下
振動撹拌手段の変形例を示す斜視図である。
振動撹拌手段の変形例を示す斜視図である。
【図６】本発明の実施例で用いる横方向振動撹拌装置の
上面図である。
上面図である。
【図７】図６の断面図である。
【図８】図６のＡ部分の拡大断面図である。
【図９】振動伝達機構と振動子の概略図である。
【図１０】振動羽根の振動子への取付け態様のいろいろ
を（ａ）から（ｄ）に示す。
を（ａ）から（ｄ）に示す。
【図１１】振動撹拌手段を備えたバレルめっき装置の上
面図である。
面図である。
【図１２】図１１の断面図である。
１ 振動棒 ２ 振動棒 ３ 固定棒 ４ 固定棒 ５ 振動伝達棒 ６ 振動板 ７ 槽底部 ８ 支持用ゴム片 ９ 支持用ゴム片 １０ 支持用ゴム片 １１ 支持用ゴム片 ２１ 振動棒 ２２ 振動羽根 ２３ 振動枠 ２４ スプリング ２５ 台座 ２６ 振動モーター ２７ 電極 ２８ 加熱用ヒーター ２９ めっき槽 ３１ 振動モーター ３２ コの字状振動伝達子 ３３ 支持体 ３４ 垂直振動伝達子 ３５ 振動子 ３６ 振動羽根 ３７ 丸棒 ３８ スプリング ３９ 止め板 ４０ ヒーター ４１ 電極 ４２ 槽 ４３ スライドベアリング ５１ 振動棒 ５２ 振動羽根 ５３ 振動枠 ５４ スプリング ５５ 台座 ５６ 振動モーター ５７ 電極 ５９ 槽 ６２ 回転軸 ６３ バレル
Claims (6)
- 【請求項１】 その金属表面には直接クロムめっきがで
きないとされている金属表面に対して、振動撹拌下に直
接クロムめっきを行うことを特徴とするクロムめっき
法。 - 【請求項２】 鉄系金属表面にクロムめっきを行うにあ
たり、銅めっき工程−ニッケルめっき工程を経ることな
く、振動撹拌下に直接クロムめっきを行うことを特徴と
するクロムめっき法。 - 【請求項３】 プラスチックス表面にクロムめっきを行
うにあたり、無電解銅めっき層上に、銅めっき工程−ニ
ッケルめっき工程を経ることなく、振動撹拌下に直接ク
ロムめっきを行うことを特徴とするクロムめっき法。 - 【請求項４】 亜鉛系金属表面にクロムめっきを行うに
あたり、銅めっき工程後のニッケルめっきを経ることな
く、銅めっき層上に振動撹拌下に直接クロムめっきを行
うことを特徴とするクロムめっき法。 - 【請求項５】 銅系金属表面にクロムめっきを行うにあ
たり、ニッケルめっきを経ることなく、振動撹拌下に直
接クロムめっきを行うことを特徴とするクロムめっき
法。 - 【請求項６】 アルミニウム系金属表面にクロムめっき
を行うにあたり、下地めっきを経ることなく、振動撹拌
下に直接クロムめっきを行うことを特徴とするクロムめ
っき法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5215062A JP2989440B2 (ja) | 1993-08-06 | 1993-08-06 | クロムめっき法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5215062A JP2989440B2 (ja) | 1993-08-06 | 1993-08-06 | クロムめっき法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0754192A true JPH0754192A (ja) | 1995-02-28 |
| JP2989440B2 JP2989440B2 (ja) | 1999-12-13 |
Family
ID=16666126
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5215062A Expired - Lifetime JP2989440B2 (ja) | 1993-08-06 | 1993-08-06 | クロムめっき法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2989440B2 (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7338586B2 (en) | 2001-06-25 | 2008-03-04 | Japan Techno Co., Ltd. | Vibratingly stirring apparatus, and device and method for processing using the stirring apparatus |
| US7459071B2 (en) | 2001-05-02 | 2008-12-02 | Japan Techno Co., Ltd. | Hydrogen-oxygen gas generator and method of generating hydrogen-oxygen gas using the generator |
| JP2010084224A (ja) * | 2008-10-02 | 2010-04-15 | Taiyo Manufacturing Co Ltd | ニッケルを使用しないめっき成形品の製造方法およびめっき成形品 |
| US7964104B2 (en) | 2003-05-02 | 2011-06-21 | Japan Techno Co., Ltd. | Active antiseptic water or active water-based fluid, and production method and apparatus for the same |
| KR102732669B1 (ko) * | 2024-03-14 | 2024-11-20 | 주식회사 티티엠기술연구소 | 2차전지용 원통형 소재인 전기 니켈 도금 강판의 수직형 가용성 전기 니켈 도금 설비 |
-
1993
- 1993-08-06 JP JP5215062A patent/JP2989440B2/ja not_active Expired - Lifetime
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|---|---|
| JP2989440B2 (ja) | 1999-12-13 |
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