JPH0754629Y2 - 高圧ガス供給装置 - Google Patents
高圧ガス供給装置Info
- Publication number
- JPH0754629Y2 JPH0754629Y2 JP1989117138U JP11713889U JPH0754629Y2 JP H0754629 Y2 JPH0754629 Y2 JP H0754629Y2 JP 1989117138 U JP1989117138 U JP 1989117138U JP 11713889 U JP11713889 U JP 11713889U JP H0754629 Y2 JPH0754629 Y2 JP H0754629Y2
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- Japan
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- small diameter
- chamber
- valve
- gas
- gas passage
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- 238000002347 injection Methods 0.000 claims description 19
- 239000007924 injection Substances 0.000 claims description 19
- 230000006835 compression Effects 0.000 description 4
- 238000007906 compression Methods 0.000 description 4
- 230000035939 shock Effects 0.000 description 4
- 230000004927 fusion Effects 0.000 description 1
- 239000008188 pellet Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02E—REDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
- Y02E30/00—Energy generation of nuclear origin
- Y02E30/10—Nuclear fusion reactors
Landscapes
- Compressors, Vaccum Pumps And Other Relevant Systems (AREA)
Description
【考案の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本考案は，核融合装置の燃料補給用ガス圧式ペレツト入
射装置の高圧ガス供給系等に適用する高圧ガス供給装置
に関するものである。
射装置の高圧ガス供給系等に適用する高圧ガス供給装置
に関するものである。
（従来の技術） 従来の高圧ガス供給装置を第4,5図に示した。先ず第４
図の高圧ガス供給装置を説明すると，（ａ）がコンプセ
ツサ，（ｂ）が高温・高圧ガス通路，（ｃ）が開閉弁
で，コンプレツサ（ａ）により高温・高圧ガスを製造
し，これを高温・高圧ガス通路（ｂ）と開閉弁（ｃ）と
を経て供給する。
図の高圧ガス供給装置を説明すると，（ａ）がコンプセ
ツサ，（ｂ）が高温・高圧ガス通路，（ｃ）が開閉弁
で，コンプレツサ（ａ）により高温・高圧ガスを製造
し，これを高温・高圧ガス通路（ｂ）と開閉弁（ｃ）と
を経て供給する。
次に第５図の高圧ガス供給装置を説明すると，（ｄ）が
高圧室，(e1)が第１隔膜，(e2)が第２隔膜，（ｆ）がピ
ストンチユーブ，（ｈ）が高温・高圧ガス通路で，高圧
ガスを高圧室（ｄ）へ供給して，第１隔膜(e1)を破り，
衝撃波を発生させて，ピストン（ｇ）を右方へ作動さ
せ，このピストン（ｇ）の作動により，ピストン（ｇ）
と第２隔膜(e2)との間のピストンチユーブ（ｆ）内のガ
スを瞬時に圧縮して，第２隔膜(e2)を破り，衝撃波を発
生させて，この衝撃波（高温・高圧ガス）を高温・高圧
ガス通路（ｈ）に伝達する。
高圧室，(e1)が第１隔膜，(e2)が第２隔膜，（ｆ）がピ
ストンチユーブ，（ｈ）が高温・高圧ガス通路で，高圧
ガスを高圧室（ｄ）へ供給して，第１隔膜(e1)を破り，
衝撃波を発生させて，ピストン（ｇ）を右方へ作動さ
せ，このピストン（ｇ）の作動により，ピストン（ｇ）
と第２隔膜(e2)との間のピストンチユーブ（ｆ）内のガ
スを瞬時に圧縮して，第２隔膜(e2)を破り，衝撃波を発
生させて，この衝撃波（高温・高圧ガス）を高温・高圧
ガス通路（ｈ）に伝達する。
（考案が解決しようとする課題） 前記第４図に示す従来の高圧ガス供給装置では，コンプ
レツサ（ａ）により高温・高圧ガスを製造し，これを高
温・高圧ガス通路（ｂ）と開閉弁（ｃ）とを経て供給す
るようにしており，コンプレツサ（ａ）からの高温・高
圧ガスを直接瞬時に供給することが困難であった。
レツサ（ａ）により高温・高圧ガスを製造し，これを高
温・高圧ガス通路（ｂ）と開閉弁（ｃ）とを経て供給す
るようにしており，コンプレツサ（ａ）からの高温・高
圧ガスを直接瞬時に供給することが困難であった。
また前記第５図に示す従来の高圧ガス供給装置では，高
圧ガスを高圧室（ｄ）へ供給して，第１隔膜(e1)を破
り，衝撃波を発生させて，ピストン（ｇ）を右方へ作動
させ，このピストン（ｇ）の作動により，ピストン
（ｇ）と第２隔膜(e2)との間のピストンチユーブ（ｆ）
内のガスを瞬時に圧縮して，第２隔膜(e2)を破り，衝撃
波を発生させて，これを高温・高圧ガス通路（ｈ）に伝
達するようにしており，第１隔膜(e1)及び第２隔膜(e2)
を１回毎に破るので,1回の射出毎に取り替える必要があ
って，取扱いが面倒であった。
圧ガスを高圧室（ｄ）へ供給して，第１隔膜(e1)を破
り，衝撃波を発生させて，ピストン（ｇ）を右方へ作動
させ，このピストン（ｇ）の作動により，ピストン
（ｇ）と第２隔膜(e2)との間のピストンチユーブ（ｆ）
内のガスを瞬時に圧縮して，第２隔膜(e2)を破り，衝撃
波を発生させて，これを高温・高圧ガス通路（ｈ）に伝
達するようにしており，第１隔膜(e1)及び第２隔膜(e2)
を１回毎に破るので,1回の射出毎に取り替える必要があ
って，取扱いが面倒であった。
本考案は前記の問題点に鑑み提案するものであり，その
目的とする処は，高圧ガスを直接瞬時に供給できる上
に，取扱いを簡略化できる高圧ガス供給装置を提供しよ
うとする点にある。
目的とする処は，高圧ガスを直接瞬時に供給できる上
に，取扱いを簡略化できる高圧ガス供給装置を提供しよ
うとする点にある。
（課題を解決するための手段） 上記の目的を達成するために，本考案の高圧ガス供給装
置は，大径部と小径部とを有する段付ピストンと，同段
付ピストンの大径部と小径部とを摺動自在に支持する大
径シリンダ室と小径シリンダ室とを有するシリンダ本体
と，同シリンダ本体内の大径シリンダ室に接続した開閉
弁を有する駆動用ガス通路と，上記シリンダ本体内の小
径シリンダ室に接続した開閉弁を有するガス通路と，上
記シリンダ本体内の小径シリンダ室に連通したガス噴射
室と，同ガス噴射室に接続した高圧ガス通路と，上記小
径シリンダ室と上記ガス噴射室との間を段付ピストンに
応動して開閉する電磁開閉弁とを具えている。
置は，大径部と小径部とを有する段付ピストンと，同段
付ピストンの大径部と小径部とを摺動自在に支持する大
径シリンダ室と小径シリンダ室とを有するシリンダ本体
と，同シリンダ本体内の大径シリンダ室に接続した開閉
弁を有する駆動用ガス通路と，上記シリンダ本体内の小
径シリンダ室に接続した開閉弁を有するガス通路と，上
記シリンダ本体内の小径シリンダ室に連通したガス噴射
室と，同ガス噴射室に接続した高圧ガス通路と，上記小
径シリンダ室と上記ガス噴射室との間を段付ピストンに
応動して開閉する電磁開閉弁とを具えている。
（作用） 本考案の高圧ガス供給装置は前記のように構成されてお
り，使用ガス通路の開閉弁を開き，使用ガスを使用ガス
通路→小径シリンダ室へ供給して，段付ピストンを加圧
室の方向へ移動させ，次いで使用ガス通路の開閉弁を閉
じて，小径シリンダ室を密閉し，次いで駆動ガス通路の
開閉弁を開いて，駆動用ガスを駆動用ガス通路→加圧室
へ供給し，段付ピストンをその大小径部の断面積差に基
づいて生じる力により小径シンリンダ室の方向へ移動さ
せて，小径シリンダ室内の使用ガスを断熱圧縮し，次い
で電磁開閉弁のコイルに通電し，その際生じる電磁力に
より電磁開閉弁の弁体をばねに抗して段付ピストンの方
向へ移動させて，同電磁開閉弁のシート部を弁座から離
し，小径シリンダ室内をガス噴射室に連通させて，小径
シリンダ室内の圧縮した使用ガスをガス噴射室→高圧ガ
ス通路を経て供給する。
り，使用ガス通路の開閉弁を開き，使用ガスを使用ガス
通路→小径シリンダ室へ供給して，段付ピストンを加圧
室の方向へ移動させ，次いで使用ガス通路の開閉弁を閉
じて，小径シリンダ室を密閉し，次いで駆動ガス通路の
開閉弁を開いて，駆動用ガスを駆動用ガス通路→加圧室
へ供給し，段付ピストンをその大小径部の断面積差に基
づいて生じる力により小径シンリンダ室の方向へ移動さ
せて，小径シリンダ室内の使用ガスを断熱圧縮し，次い
で電磁開閉弁のコイルに通電し，その際生じる電磁力に
より電磁開閉弁の弁体をばねに抗して段付ピストンの方
向へ移動させて，同電磁開閉弁のシート部を弁座から離
し，小径シリンダ室内をガス噴射室に連通させて，小径
シリンダ室内の圧縮した使用ガスをガス噴射室→高圧ガ
ス通路を経て供給する。
（実施例） 次に本考案の高圧ガス供給装置を第１図乃至第３図に示
す一実施例により説明すると，（１）が段付ピストン，
（1a）が同段付ピストン（１）の大径部，（1b）が同段
付ピストン（１）の小径部，（２）がシリンダ本体，
（2a）が同シリンダ本体（２）内に設けた大径シリンダ
室，（2b）が同シリンダ本体（２）内に設けた小径シリ
ンダ室，（３）が電磁開閉弁，（3a）が同電磁開閉弁
（３）の弁体，（3b）が同電磁開閉弁（３）のプランジ
ヤ部，（3c）が同電磁開閉弁（３）のシート部，（４）
（４）が同電磁開閉弁（３）のコイル，（５）がばね，
（６）が上記シリンダ本体（２）内に設けたガス噴射
室，（７）が駆動用ガス通路，（８）がガス排出通路，
（９）が高圧ガス通路，（10）が使用ガス通路で，段付
ピストン（１）の大径部（1a）がシリンダ本体（２）内
の大径シリンダ室（2a）に摺動自在に嵌挿され，段付ピ
ストン（１）の小径部（1b）がシリンダ本体２）内の小
径シリンダ室（2b）に摺動自在に嵌挿されて，大径シリ
ンダ室（2a）のピストン大径部（1a）側に加圧室(2a1)
が形成され，大径シリンダ室（2a）のピストン小径部
（1b）側に圧縮室(2a2)が形成されている。また電磁開
閉弁（３）のプランジヤ部（3b）がガス噴射室（６）内
に摺動自在に嵌挿され，同プランジヤ部（3b）とガス噴
射室（６）の段差部との間にばね（５）が介装されて，
電磁開閉弁（３）が右方に付勢されている。また駆動用
ガス通路（７）が上記加圧室(2a1)に連通し，ガス排出
通路（８）が上記圧縮室(2a2)に連通し，高圧ガス通路
（９）がガス噴射室（６）に連通し，使用ガス通路（1
0）が小径シリンダ室（2b）に連通している。また開閉
弁(V1)が駆動用ガス通路（７）に設けられ，開閉弁(V2)
が駆動用ガス通路（７）から分岐したガス通路（７′）
に設けられ，開閉弁(V3)がガス排出通路（８）に設けら
れ，開閉弁(V4)が使用ガス通路（10）に設けられてい
る。
す一実施例により説明すると，（１）が段付ピストン，
（1a）が同段付ピストン（１）の大径部，（1b）が同段
付ピストン（１）の小径部，（２）がシリンダ本体，
（2a）が同シリンダ本体（２）内に設けた大径シリンダ
室，（2b）が同シリンダ本体（２）内に設けた小径シリ
ンダ室，（３）が電磁開閉弁，（3a）が同電磁開閉弁
（３）の弁体，（3b）が同電磁開閉弁（３）のプランジ
ヤ部，（3c）が同電磁開閉弁（３）のシート部，（４）
（４）が同電磁開閉弁（３）のコイル，（５）がばね，
（６）が上記シリンダ本体（２）内に設けたガス噴射
室，（７）が駆動用ガス通路，（８）がガス排出通路，
（９）が高圧ガス通路，（10）が使用ガス通路で，段付
ピストン（１）の大径部（1a）がシリンダ本体（２）内
の大径シリンダ室（2a）に摺動自在に嵌挿され，段付ピ
ストン（１）の小径部（1b）がシリンダ本体２）内の小
径シリンダ室（2b）に摺動自在に嵌挿されて，大径シリ
ンダ室（2a）のピストン大径部（1a）側に加圧室(2a1)
が形成され，大径シリンダ室（2a）のピストン小径部
（1b）側に圧縮室(2a2)が形成されている。また電磁開
閉弁（３）のプランジヤ部（3b）がガス噴射室（６）内
に摺動自在に嵌挿され，同プランジヤ部（3b）とガス噴
射室（６）の段差部との間にばね（５）が介装されて，
電磁開閉弁（３）が右方に付勢されている。また駆動用
ガス通路（７）が上記加圧室(2a1)に連通し，ガス排出
通路（８）が上記圧縮室(2a2)に連通し，高圧ガス通路
（９）がガス噴射室（６）に連通し，使用ガス通路（1
0）が小径シリンダ室（2b）に連通している。また開閉
弁(V1)が駆動用ガス通路（７）に設けられ，開閉弁(V2)
が駆動用ガス通路（７）から分岐したガス通路（７′）
に設けられ，開閉弁(V3)がガス排出通路（８）に設けら
れ，開閉弁(V4)が使用ガス通路（10）に設けられてい
る。
次に前記第１図乃至第３図に示す高圧ガス供給装置の作
用を具体的に説明する。使用ガス通路（10）の開閉弁
(V4)を開き，使用ガスを使用ガス通路（10）→小径シリ
ンダ室（2b）へ供給して，段付ピストン（１）を左方へ
移動させ，次いで使用ガス通路（10）の開閉弁(V4)を
閉じて，小径シリンダ室（2b）を密閉し，次いで駆動ガ
ス通路（７）の開閉弁(V1)を開いて，駆動用ガスを駆動
用ガス通路（７）→加圧室(2a1)へ供給し，段付ピスト
ン（１）をその大小径部の断面積差に基づいて生じる力
により右方へ移動させて，小径シリンダ室（2b）内の使
用ガスを断熱圧縮する。この間，圧縮室(2a2)内のガス
をガス通路（８）→開閉弁(V3)を経て大気に排出する
か，真空引きして，段付ピストン（１）の右方への移動
に対して圧縮室(2a2)内のガスを抵抗にならないように
する。次いで電磁開閉弁（３）のコイル（４）（４）
に通電し，その際生じる電磁力により電磁開閉弁（３）
の弁体（3a）及びプランジヤ（3b）をばね（５）に抗し
て左方に移動させて（第２図の（ａ）参照），電磁開閉
弁（３）のシート部（3c）を弁座から離し（第３図の
（Ｇ）参照），小径シリンダ室（2b）内をガス噴射室
（６）に連通させて，小径シリンダ室（2b）内の圧縮し
た使用ガスをガス噴射室（６）→高圧ガス通路（９）を
経て供給する（第３図の（ｂ）参照）。
用を具体的に説明する。使用ガス通路（10）の開閉弁
(V4)を開き，使用ガスを使用ガス通路（10）→小径シリ
ンダ室（2b）へ供給して，段付ピストン（１）を左方へ
移動させ，次いで使用ガス通路（10）の開閉弁(V4)を
閉じて，小径シリンダ室（2b）を密閉し，次いで駆動ガ
ス通路（７）の開閉弁(V1)を開いて，駆動用ガスを駆動
用ガス通路（７）→加圧室(2a1)へ供給し，段付ピスト
ン（１）をその大小径部の断面積差に基づいて生じる力
により右方へ移動させて，小径シリンダ室（2b）内の使
用ガスを断熱圧縮する。この間，圧縮室(2a2)内のガス
をガス通路（８）→開閉弁(V3)を経て大気に排出する
か，真空引きして，段付ピストン（１）の右方への移動
に対して圧縮室(2a2)内のガスを抵抗にならないように
する。次いで電磁開閉弁（３）のコイル（４）（４）
に通電し，その際生じる電磁力により電磁開閉弁（３）
の弁体（3a）及びプランジヤ（3b）をばね（５）に抗し
て左方に移動させて（第２図の（ａ）参照），電磁開閉
弁（３）のシート部（3c）を弁座から離し（第３図の
（Ｇ）参照），小径シリンダ室（2b）内をガス噴射室
（６）に連通させて，小径シリンダ室（2b）内の圧縮し
た使用ガスをガス噴射室（６）→高圧ガス通路（９）を
経て供給する（第３図の（ｂ）参照）。
（考案の効果） 本考案の高圧ガス供給装置は前記のように使用ガス通路
の開閉弁を開き，使用ガスを使用ガス通路→小径シリン
ダ室へ供給して，段付ピストンを加圧室の方向へ移動さ
せ，次いで使用ガス通路の開閉弁を閉じて，小径シリン
ダ室を密閉し，次いで駆動ガス通路の開閉弁を開いて，
駆動用ガスを駆動用ガス通路→加圧室へ供給し，段付ピ
ストンをその大小径部の断面積差に基づいて生じる力に
より小径シリンダ室の方向へ移動させて，小径シリンダ
室内の使用ガスを断熱圧縮し，次いで電磁開閉弁のコイ
ルに通電し，その際生じる電磁力により電磁開閉弁の弁
体をばねに抗して段付ピストンの方向へ移動させて，同
電磁開閉弁のシート部を弁座から離し，小径シリンダ室
内をガス噴射室に連通させて，小径シリンダ室内の圧縮
した使用ガスをガス噴射室→高圧ガス通路を経て供給す
るので，前記従来のようにコンプレツサや隔膜が不要
で，高圧ガスを直接瞬時に供給できる上に，取扱いを簡
略化できる効果がある。
の開閉弁を開き，使用ガスを使用ガス通路→小径シリン
ダ室へ供給して，段付ピストンを加圧室の方向へ移動さ
せ，次いで使用ガス通路の開閉弁を閉じて，小径シリン
ダ室を密閉し，次いで駆動ガス通路の開閉弁を開いて，
駆動用ガスを駆動用ガス通路→加圧室へ供給し，段付ピ
ストンをその大小径部の断面積差に基づいて生じる力に
より小径シリンダ室の方向へ移動させて，小径シリンダ
室内の使用ガスを断熱圧縮し，次いで電磁開閉弁のコイ
ルに通電し，その際生じる電磁力により電磁開閉弁の弁
体をばねに抗して段付ピストンの方向へ移動させて，同
電磁開閉弁のシート部を弁座から離し，小径シリンダ室
内をガス噴射室に連通させて，小径シリンダ室内の圧縮
した使用ガスをガス噴射室→高圧ガス通路を経て供給す
るので，前記従来のようにコンプレツサや隔膜が不要
で，高圧ガスを直接瞬時に供給できる上に，取扱いを簡
略化できる効果がある。
第１図は本考案に係わる高圧ガス供給装置の一実施例を
示す縦断側面図，第2,3図はその作用説明図，第４図は
従来の高圧ガス供給装置の一例を示す説明図，第５図は
従来の高圧ガス供給装置の他の例を示す説明図である。 （１）……段付ピストン，（1a）……段付ピストン
（１）の大径部，（1b）……段付ピストン（１）の小径
部，（２）……シリンダ本体，（2a）……大径シリンダ
室，（2b）……小径シリンダ室，（３）……電磁開閉
弁，（3a）……電磁開閉弁（３）の弁体，（3b）……電
磁開閉弁（３）のプランジヤ部，（3c）……電磁開閉弁
（３）のシート部，（４）（４）……電磁開閉弁（３）
のコイル部，（５）……ばね，（６）……ガス噴射室，
（７）……駆動用ガス通路，（８）……ガス排出通路，
（９）……高圧ガス通路，（10）……使用ガス通路，(V
1)〜(V4)……開閉弁。
示す縦断側面図，第2,3図はその作用説明図，第４図は
従来の高圧ガス供給装置の一例を示す説明図，第５図は
従来の高圧ガス供給装置の他の例を示す説明図である。 （１）……段付ピストン，（1a）……段付ピストン
（１）の大径部，（1b）……段付ピストン（１）の小径
部，（２）……シリンダ本体，（2a）……大径シリンダ
室，（2b）……小径シリンダ室，（３）……電磁開閉
弁，（3a）……電磁開閉弁（３）の弁体，（3b）……電
磁開閉弁（３）のプランジヤ部，（3c）……電磁開閉弁
（３）のシート部，（４）（４）……電磁開閉弁（３）
のコイル部，（５）……ばね，（６）……ガス噴射室，
（７）……駆動用ガス通路，（８）……ガス排出通路，
（９）……高圧ガス通路，（10）……使用ガス通路，(V
1)〜(V4)……開閉弁。
Claims (1)
- 【請求項１】大径部と小径部とを有する段付ピストン
と，同段付ピストンの大径部と小径部とを摺動自在に支
持する大径シリンダ室と小径シリンダ室とを有するシリ
ンダ本体と，同シリンダ本体内の大径シリンダ室に接続
した開閉弁を有する駆動用ガス通路と，上記シリンダ本
体内の小径シリンダ室に接続した開閉弁を有するガス通
路と，上記シリンダ本体内の小径シリンダ室に連通した
ガス噴射室と，同ガス噴射室に接続した高圧ガス通路
と，上記小径シリンダ室と上記ガス噴射室との間を段付
ピストンに応動して開閉する電磁開閉弁とを具えている
ことを特徴とした高圧ガス供給装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1989117138U JPH0754629Y2 (ja) | 1989-10-06 | 1989-10-06 | 高圧ガス供給装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1989117138U JPH0754629Y2 (ja) | 1989-10-06 | 1989-10-06 | 高圧ガス供給装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0356888U JPH0356888U (ja) | 1991-05-31 |
| JPH0754629Y2 true JPH0754629Y2 (ja) | 1995-12-18 |
Family
ID=31665378
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1989117138U Expired - Lifetime JPH0754629Y2 (ja) | 1989-10-06 | 1989-10-06 | 高圧ガス供給装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0754629Y2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002349433A (ja) * | 2001-05-23 | 2002-12-04 | Asahi Eng Co Ltd | 圧縮機 |
-
1989
- 1989-10-06 JP JP1989117138U patent/JPH0754629Y2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0356888U (ja) | 1991-05-31 |
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