JPH0754691B2 - 質量分析装置用イオン源 - Google Patents
質量分析装置用イオン源Info
- Publication number
- JPH0754691B2 JPH0754691B2 JP62296490A JP29649087A JPH0754691B2 JP H0754691 B2 JPH0754691 B2 JP H0754691B2 JP 62296490 A JP62296490 A JP 62296490A JP 29649087 A JP29649087 A JP 29649087A JP H0754691 B2 JPH0754691 B2 JP H0754691B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- porous member
- opening
- ion source
- primary beam
- mass spectrometer
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Landscapes
- Electron Tubes For Measurement (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は、一次ビームを照射し、その衝撃でイオン化す
る方式の質量分析装置用イオン源に関し、特に液体クロ
マトグラフからの試料液をイオン化室内に直接導入して
イオン化する場合に使用して好適なイオン源に関する。
る方式の質量分析装置用イオン源に関し、特に液体クロ
マトグラフからの試料液をイオン化室内に直接導入して
イオン化する場合に使用して好適なイオン源に関する。
[従来技術] 液体クロマトグラフで分離した試料液を質量分析装置に
直接導入する方式のイオン源として、第3図に示す構造
のものが実開昭61-116065号に記載されている。
直接導入する方式のイオン源として、第3図に示す構造
のものが実開昭61-116065号に記載されている。
第3図において、1は質量分析装置の質量分析部、2は
イオン源、3はイオン化室、4はイオン化室内で生成さ
れたイオンの加速と集束を行なう電極群、5は一次粒子
ビーム発生器、6は液体クロマトグラフ、7は液体クロ
マトグラフ6で分離された試料液をイオン化室3内へ導
入するたの導入管である。この導入管としてはフューズ
ドシリカ管が用いられる。また、イオン化室内に挿入さ
れた導入管7の先端部には、拡大断面図を第4図に示す
ようにステンレス管8が被せられ、さらに、その外側に
ガラス管(ステンレス等の金属でも良い)9が被せられ
ている。そして、導入管の開口部を塞ぐように円板状の
多孔性部材10が取付けられている。この多孔性部材とし
ては、例えばステンレスの粉末を焼結して作成したフィ
ルタ(フリット)が使用される。なお、前記ステンレス
管8にはリペラ電源11から適宜な電圧が印加される。
イオン源、3はイオン化室、4はイオン化室内で生成さ
れたイオンの加速と集束を行なう電極群、5は一次粒子
ビーム発生器、6は液体クロマトグラフ、7は液体クロ
マトグラフ6で分離された試料液をイオン化室3内へ導
入するたの導入管である。この導入管としてはフューズ
ドシリカ管が用いられる。また、イオン化室内に挿入さ
れた導入管7の先端部には、拡大断面図を第4図に示す
ようにステンレス管8が被せられ、さらに、その外側に
ガラス管(ステンレス等の金属でも良い)9が被せられ
ている。そして、導入管の開口部を塞ぐように円板状の
多孔性部材10が取付けられている。この多孔性部材とし
ては、例えばステンレスの粉末を焼結して作成したフィ
ルタ(フリット)が使用される。なお、前記ステンレス
管8にはリペラ電源11から適宜な電圧が印加される。
かかる構成において、液体クロマトグラフ6で分離され
た試料液は導入管7を介して順次イオン化室3内に導入
され、導入管先端に取付けられている多孔性部材10の中
を通って表面へ滲出する。表面に滲出した試料液は、粒
子ビーム発生器5からの一次粒子ビームBの衝撃を受け
てイオン化され、生成されたイオンIは質量分析部1へ
導入され質量分析される。
た試料液は導入管7を介して順次イオン化室3内に導入
され、導入管先端に取付けられている多孔性部材10の中
を通って表面へ滲出する。表面に滲出した試料液は、粒
子ビーム発生器5からの一次粒子ビームBの衝撃を受け
てイオン化され、生成されたイオンIは質量分析部1へ
導入され質量分析される。
このような装置では、多孔性部材に送られる試料液が順
次完全にイオン化されて多孔性部材表面に残らないよう
な送液速度で試料液を多孔性部材へ供給する必要がある
が、上記構成の装置ではこの適正な送液量が現在の技術
レベルでは正確な制御が困難なほどわずかであるため、
適正な送液速度を越えて多量の試料液が多孔性部材へ送
られてしまうことは避けられない。そうすると、先に送
られた試料成分がイオン化されずに残り、後に送られた
試料成分と一緒にイオン化される所謂メモリ現象が発生
してしまい、分析に悪影響が出てしまう。
次完全にイオン化されて多孔性部材表面に残らないよう
な送液速度で試料液を多孔性部材へ供給する必要がある
が、上記構成の装置ではこの適正な送液量が現在の技術
レベルでは正確な制御が困難なほどわずかであるため、
適正な送液速度を越えて多量の試料液が多孔性部材へ送
られてしまうことは避けられない。そうすると、先に送
られた試料成分がイオン化されずに残り、後に送られた
試料成分と一緒にイオン化される所謂メモリ現象が発生
してしまい、分析に悪影響が出てしまう。
そこで、かかる問題を解決するために、第5図に示すよ
うなイオン源が最近提案されている。
うなイオン源が最近提案されている。
このイオン源においては、多孔性部材10の表面における
試料液の滲出領域を規定する開口12を有する包囲体(キ
ャップ)13をこの多孔性部材に密接して被せ、この開口
部に滲出した試料液を一次ビーム照射によりイオン化す
るようにしている。14は導入管7をキャップ13内に固定
する位置決め部材である。
試料液の滲出領域を規定する開口12を有する包囲体(キ
ャップ)13をこの多孔性部材に密接して被せ、この開口
部に滲出した試料液を一次ビーム照射によりイオン化す
るようにしている。14は導入管7をキャップ13内に固定
する位置決め部材である。
このようにすれば、多孔性部材に送られた試料液は開口
部とそれ以外の部分とに分れて滲出し、開口部以外の面
から滲出する試料液はキャップ内部に取出される。その
ため、多量の試料液を多孔性部材に送っても一次ビーム
Bが照射される開口部の領域に滲出する試料量を抑える
ことができ、メモリ現象の発生を防止することができ
る。
部とそれ以外の部分とに分れて滲出し、開口部以外の面
から滲出する試料液はキャップ内部に取出される。その
ため、多量の試料液を多孔性部材に送っても一次ビーム
Bが照射される開口部の領域に滲出する試料量を抑える
ことができ、メモリ現象の発生を防止することができ
る。
[発明が解決しようとする問題点] ところが、このような提案方式を採用してもメモリ現象
を完全に防止することができなかった。これはキャップ
13の開口12縁部分と多孔性部材10の一次ビーム照射面と
が密接していることに原因があることを究明した。つま
り開口部の中央部に滲出した試料液は表面を伝わって放
射状に周辺へ広がり、一旦開口の周縁部分に溜まった
後、再び多孔性部材内部に流入してキャップ内部に排出
されることになるため、前記開口の周縁部分Aに溜まっ
た試料液に一次ビームが照射され、それによってメモリ
現象が発生するわけである。
を完全に防止することができなかった。これはキャップ
13の開口12縁部分と多孔性部材10の一次ビーム照射面と
が密接していることに原因があることを究明した。つま
り開口部の中央部に滲出した試料液は表面を伝わって放
射状に周辺へ広がり、一旦開口の周縁部分に溜まった
後、再び多孔性部材内部に流入してキャップ内部に排出
されることになるため、前記開口の周縁部分Aに溜まっ
た試料液に一次ビームが照射され、それによってメモリ
現象が発生するわけである。
そこで、本発明はかかる点に鑑みてなされたものであ
り、簡単な構成によりキャップの開口周縁部分に試料液
が溜まるのを防止することのできるイオン源を提供する
ことを目的とするものである。
り、簡単な構成によりキャップの開口周縁部分に試料液
が溜まるのを防止することのできるイオン源を提供する
ことを目的とするものである。
[問題点を解決するための手段] 上記目的を達成するため、本発明のイオン源は外部から
イオン化室内に試料液を導入するための導入管と、該導
入管の先端に取付けられた多孔性部材と、該多孔性部材
を通りその表面に滲出した試料液に照射する一次ビーム
を発生する手段と、前記多孔性部材に被せられ、かつ多
孔性部材の一次ビーム照射面上における一次ビームの照
射領域を規定する開口を有する包囲体と、該包囲体の開
口縁部分と前記多孔性部材表面との間に介在され、かつ
前記開口の大きさよりも大きな内径を有するリング状の
スペーサとを備え、前記多孔性部材表面に滲出した試料
液を前記包囲体の内部に逃すための切欠部を前記スペー
サあるいは多孔性部材に形成したことを特徴とするもの
である。
イオン化室内に試料液を導入するための導入管と、該導
入管の先端に取付けられた多孔性部材と、該多孔性部材
を通りその表面に滲出した試料液に照射する一次ビーム
を発生する手段と、前記多孔性部材に被せられ、かつ多
孔性部材の一次ビーム照射面上における一次ビームの照
射領域を規定する開口を有する包囲体と、該包囲体の開
口縁部分と前記多孔性部材表面との間に介在され、かつ
前記開口の大きさよりも大きな内径を有するリング状の
スペーサとを備え、前記多孔性部材表面に滲出した試料
液を前記包囲体の内部に逃すための切欠部を前記スペー
サあるいは多孔性部材に形成したことを特徴とするもの
である。
以下、本発明の実施例を図面に基づいて詳説する。
[実施例] 第1図は本発明の一実施例の構成を示す部分断面図であ
り、第5図と同一符号は同一構成要素を示すものであ
る。
り、第5図と同一符号は同一構成要素を示すものであ
る。
第1図において、15はキャップ13の開口12縁部分と多孔
性部材10の一次ビームB照射面とを密接させないで隙間
Gを形成するためのスペーサで、このスペーサはキャッ
プに固定されている。また、このスペーサは第2図に示
すように前記開口12の大きさよりも大きな内径を有する
リング状に形成されており、さらに、このスペーサの内
側には4個の切欠部16a.6b,16c,16dが設けてある。この
各切欠部はその底部が多孔性部材10の外周よりもはみだ
すように形成されている。尚、キャップ13は多孔性部材
10を交換し易いように部材14に螺合されている。
性部材10の一次ビームB照射面とを密接させないで隙間
Gを形成するためのスペーサで、このスペーサはキャッ
プに固定されている。また、このスペーサは第2図に示
すように前記開口12の大きさよりも大きな内径を有する
リング状に形成されており、さらに、このスペーサの内
側には4個の切欠部16a.6b,16c,16dが設けてある。この
各切欠部はその底部が多孔性部材10の外周よりもはみだ
すように形成されている。尚、キャップ13は多孔性部材
10を交換し易いように部材14に螺合されている。
このようにすれば、多孔性部材10の中央部から滲出して
周辺部へ拡散した試料液はスペーサ15の各切欠部16a乃
至16dを通ってキャップ13内側に排出される。そのた
め、試料液が従来のように開口12の周縁部分に溜まるこ
とがなくなるので、メモリ現象を完全に防止することが
できる。ここで、スペーサ15の内側C部分に試料液が溜
まるが、この部分は開口12の縁部分より奥の方に位置す
るため、一次ビームBはキャップ13により遮られて照射
されない。
周辺部へ拡散した試料液はスペーサ15の各切欠部16a乃
至16dを通ってキャップ13内側に排出される。そのた
め、試料液が従来のように開口12の周縁部分に溜まるこ
とがなくなるので、メモリ現象を完全に防止することが
できる。ここで、スペーサ15の内側C部分に試料液が溜
まるが、この部分は開口12の縁部分より奥の方に位置す
るため、一次ビームBはキャップ13により遮られて照射
されない。
尚、前述の説明は本発明の一例であり、実施にあたって
は幾多の変形が考えられる。例えばスペーサに形成する
切欠部は4個に限定されることなく、1個あるいは2個
以上形成しても良い。
は幾多の変形が考えられる。例えばスペーサに形成する
切欠部は4個に限定されることなく、1個あるいは2個
以上形成しても良い。
また、上記実施例では多孔性部材表面に滲出した試料液
をスペーサに形成した切欠部を介してキャップの内側に
逃すようにしたが、これに限定されることなく、例えば
第6図に示すように切欠部17a、17b,17c,17dを多孔性部
材10に形成しても同様な効果を得ることができる。この
場合、切欠部の底部をスペーサの内径よりも内側にはみ
だすように形成することは言うまでもない。
をスペーサに形成した切欠部を介してキャップの内側に
逃すようにしたが、これに限定されることなく、例えば
第6図に示すように切欠部17a、17b,17c,17dを多孔性部
材10に形成しても同様な効果を得ることができる。この
場合、切欠部の底部をスペーサの内径よりも内側にはみ
だすように形成することは言うまでもない。
[効果] 以上詳述したように本発明によれば、メモリ現象を完全
に防止することのできる質量分析装置用イオン源が実現
される。
に防止することのできる質量分析装置用イオン源が実現
される。
第1図は本発明の一実施例の構成を示す部分断面図、第
2図及び第6図は本発明に使用されるスペーサを示す
図、第3図乃至第5図は従来例を説明するための図であ
る。 1:質量分析部、2:イオン源 3:イオン化室 5:一次粒子ビーム発生器 6:液体クロマトグラフ 7:導入管、10:多孔性部材 12:開口、13:キャップ 15:スペーサ 16a,16b,16c,16d:切欠部
2図及び第6図は本発明に使用されるスペーサを示す
図、第3図乃至第5図は従来例を説明するための図であ
る。 1:質量分析部、2:イオン源 3:イオン化室 5:一次粒子ビーム発生器 6:液体クロマトグラフ 7:導入管、10:多孔性部材 12:開口、13:キャップ 15:スペーサ 16a,16b,16c,16d:切欠部
Claims (1)
- 【請求項1】外部からイオン化室内に試料液を導入する
ための導入管と、該導入管の先端に取付けられた多孔性
部材と、該多孔性部材を通りその表面に滲出した試料液
に照射する一次ビームを発生する手段と、前記多孔性部
材に被せられ、かつ多孔性部材の一次ビーム照射面上に
おける一次ビームの照射領域を規定する開口を有する包
囲体と、該包囲体の開口縁部分と前記多孔性部材表面と
の間に介在され、かつ前記開口の大きさよりも大きな内
径を有するリング状のスペーサとを備え、前記多孔性部
材表面に滲出した試料液を前記包囲体の内部に逃すため
の切欠部を前記スペーサあるいは多孔性部材に形成した
ことを特徴とする質量分析装置用イオン源。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62296490A JPH0754691B2 (ja) | 1987-11-25 | 1987-11-25 | 質量分析装置用イオン源 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62296490A JPH0754691B2 (ja) | 1987-11-25 | 1987-11-25 | 質量分析装置用イオン源 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01137552A JPH01137552A (ja) | 1989-05-30 |
| JPH0754691B2 true JPH0754691B2 (ja) | 1995-06-07 |
Family
ID=17834229
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP62296490A Expired - Fee Related JPH0754691B2 (ja) | 1987-11-25 | 1987-11-25 | 質量分析装置用イオン源 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0754691B2 (ja) |
-
1987
- 1987-11-25 JP JP62296490A patent/JPH0754691B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH01137552A (ja) | 1989-05-30 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JPS5935347A (ja) | イオン生成装置 | |
| GB1473054A (en) | Detection of ions by mass spectrometry | |
| SU1022236A1 (ru) | Источник м гкого рентгеновского излучени | |
| GB853916A (en) | Method and apparatus for trapping ions in a magnetic field | |
| RU2117939C1 (ru) | Спектрометр ионной подвижности | |
| US2772363A (en) | Method and apparatus for ionization of solids | |
| JPH0968473A (ja) | 熱陰極型真空計 | |
| JPH0626108B2 (ja) | 質量分析装置用イオン源 | |
| RU2130667C1 (ru) | Способ разделения заряженных частиц по удельному заряду и устройство для его осуществления | |
| JPH09127060A (ja) | 溶液の質量分析に関する方法と装置 | |
| JP3303587B2 (ja) | 質量分析装置及びイオン源 | |
| JPH01137552A (ja) | 質量分析装置用イオン源 | |
| US4123655A (en) | Arrangement for preventing the alteration of the primary beam by unwanted particles, such as sputter products, charged ions and electrons and their secondary processes | |
| JPH0460299B2 (ja) | ||
| JPH0422056A (ja) | 質量分析装置用イオン源 | |
| JPS63168958A (ja) | 質量分析装置用イオン源 | |
| JPH0432148A (ja) | 質量分析装置用イオン源 | |
| US4818863A (en) | Ion source for use in a mass spectrometer | |
| JPH0748372B2 (ja) | 質量分析装置用イオン源 | |
| JPH0145068Y2 (ja) | ||
| GB1222578A (en) | Ion cyclotron resonance apparatus and method | |
| JP2519709B2 (ja) | ホロ−カソ−ド型イオン源 | |
| JPH01186745A (ja) | 質量分析装置用イオン源 | |
| JP2675064B2 (ja) | 質量分析装置用イオン源 | |
| SU695295A1 (ru) | Способ масс-спектрометрического анализа твердых тел и устройство дл его осуществлени |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |