JPH075678A - 露光用マスクの製造方法及びその装置 - Google Patents

露光用マスクの製造方法及びその装置

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JPH075678A
JPH075678A JP32224691A JP32224691A JPH075678A JP H075678 A JPH075678 A JP H075678A JP 32224691 A JP32224691 A JP 32224691A JP 32224691 A JP32224691 A JP 32224691A JP H075678 A JPH075678 A JP H075678A
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Takashi Hiraoka
隆 平岡
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 本考案は、露光用マスク本体に防塵用の薄膜
体を貼着刷る際に、マスク本体のパターン層における異
物の検査においては、検査中に異物がパターン層に付着
するのを防止するとともに、薄膜体をマスク本体に取り
付ける際に、パターン層に異物が付着するのを防止で
き、しかも異物の混入のため一旦付着した薄膜体を剥が
す必要がなく作業が容易で、且つ迅速に行うことがで
き、しかも経済的な露光用マスクの製造方法及びその装
置を提供することを目的とする。 【構成】そして、その構成上の要旨は、マスク本体2を
支持し、その後に薄膜体7をその貼着部がマスク本体2
と隙間を有するように保持し、その状態でマスク本体2
の上面の異物の有無の検査を行い、異物が無い場合に、
薄膜体7をマスク本体2に貼着することにある。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、例えば液晶・半導体等
用の露光用マスク製造方法及びその装置に関する。
【0002】
【従来の技術】従来、パターン層の形成されたマスク本
体に防塵用の薄膜体を貼着する際には、先ずパターン層
が上方に向くようにマスク本体を支持した後にパターン
層全面を開口した状態でその一端側より順次検査し、塵
埃等の異物がマスク本体の上面に付着していればエアー
の噴射等で洗浄して取り除き、その後薄膜体を作業者に
よりマスク本体に貼着して取り付けられていた。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】上記従来の露光マスク
の製造において、薄膜体をマスク本体に貼着する前に行
う異物の有無の検査は、マスク本体の上方を開放した状
態でパターン層の一方より順次検査するので検査中にす
でに検査済の部分に塵埃等の異物が付着したり、また薄
膜体を作業者がマスク本体に貼着する際にパターン層に
異物が付着するおそれがあり、これらの異物が薄膜体を
貼着した後に行う検査において発見された場合には、一
度貼着した薄膜を剥がして取り除き、パターン層を洗浄
し、その後再度薄膜を貼着しなければならない等の作業
が必要となり、作業が煩雑で作業能率の低下を招く等の
問題があった。
【0004】また、上記のように異物が薄膜体を貼着し
た後に発見された場合には、薄膜体を剥がして、異物を
除去しなければならないことから、薄膜体の使用量が多
くなり不経済であるという問題点があった。
【0005】本発明は上記問題点に鑑みて発明されたも
ので、パターン層における異物の検査においては、検査
中に異物がパターン層に付着するのを防止するととも
に、薄膜体をマスク本体に取り付ける際に、パターン層
に異物が付着するのを防止でき、しかも異物の混入のた
め一旦貼着した薄膜体を剥がす必要がなく作業が容易
で、且つ迅速に行うことができ、しかも経済的な露光用
マスクの製造方法及びその装置を提供することを課題と
する。
【0006】
【課題を解決するための手段】本発明は、上記課題を解
決するために露光用マスクの製造方法及びその装置とし
てなされるもので露光用マスクの製造方法としての特徴
は、リソグラフィ工程等によりパターン層2aをマスク
本体2に形成した後に、パターン層2aを塵埃等の異物
より保護するための薄膜体7をマスク本体2のパターン
層2a側に貼着する露光用マスクの製造方法において、
前記マスク本体2を支持し、その後に薄膜体7をその貼
着部がマスク本体2と隙間を有するように保持し、その
状態でマスク本体2の上面の異物の有無の検査を行い、
異物の無い場合に、薄膜体7をマスク本体2に貼着こと
にある。
【0007】また、露光用マスク製造装置としての特徴
は、リソグラフィ工程等によりパターン層2aの形成さ
れたマスク本体2を支持可能な支持部本体4と、該支持
部本体4のパターン層2a側に保護用の薄膜体7を貼着
すべく該薄膜体7を移動自在で且つその貼着部がマスク
本体2と隙間を有する対向位置で保持可能な保持体6と
を備えてなることにある。
【0008】
【作用】すなわち、本発明の露光用マスクの製造方法及
びその装置において、マスク本体2を支持装置4で支持
し、薄膜体7をその貼着部と前記マスク本体2の貼着部
とが隙間を有する状態で保持体6により保持する。この
ように薄膜体7をマスク本体2の近傍でお互いに対向す
る状態に保持した状態でマスク本体2の上面を検査す
る。このとき、マスク本体2の上面は薄膜体7で被覆さ
れているため、異物がパターン層2a等に付着するおそ
れはない。また、仮にこの検査時に異物が発見された時
には薄膜体7を移動してマスク本体2を洗浄する。異物
の発見されない時には、薄膜体7を移動させて薄膜体7
をマスク本体2に貼着する。
【0009】
【実施例】以下、本発明の一実施例について図面に従っ
て説明する。図1において、1は露光マスク製造装置を
示し、略矩形で内部にマスク本体2を収納可能な収納凹
部3を有する支持部本体4と、該支持部本体4の両側面
5に設けられた移動手段10と、該移動手段10の上端
に取り付けられ、フレーム8に薄膜体7を保持可能な略
矩形の保持体6とで構成されている。
【0010】前記支持部本体4は図2に示すように、そ
の収納凹部3の底面の四隅には、軟質のラバー体13が
敷設され、上面にはバネ11aにより突出方向に付勢さ
れた支持体11がそれぞれ出退自在に設けられている。
【0011】前記移動手段10は、一対の板体を支軸1
0aを中心にして交差して形成され、その下端が支持部
本体4に、上端を保持体6にそれぞれ回動自在に軸着さ
れている。支持部本体4の両側画5には、図3及び図4
に示すように、前記保持体6を上方位置で保持すべく移
動手段10に係脱自在に係止する阻止体12が、出退自
在に設けられている。尚、12aは阻止体12と突出方
向に付着するバネである。
【0012】前記保持体6は、略矩形状の枠体よりな
り、その側面には図5に示すように一対の係止体14が
挿通され、該係止体14の先端部14bをフレーム8の
側面の中央に周設された凹部8aに嵌入させることでフ
レーム8を保持可能に形成されている。また、この係止
体14はバネ14cにより突出方向に付勢されている。
【0013】次に、上記構成からなる装置を使用して露
光マスクを製造する場合について説明する。先ず、リソ
グラフィ工程により製造されたマスク本体2のパターン
層2aを、エアーの噴射により洗浄し、その後前記パタ
ーン層2aに異物の有無を検査する。そして、異物の付
着していないマスク本体2をパターン層2aが上向とな
るように前記支持部本体4の収納凹部3に嵌入する。
【0014】一方、パターン層2aに異物が付着してい
れば、再度エアーの噴射によりパターン層を洗浄する。
【0015】次に、薄膜体7のフレーム8を保持体6に
位置し且つフレーム8の外周凹部8aに係止体14の先
端部14bを挿入する。 このとき保持体6は上方位置
にある(図2参照)。次に、保持体6を下方に押すと移
動手段10が支軸10aを中心にして回動することによ
り、保持体6は下降し支持体11の上端に当接する(図
6参照)。この際に、薄膜体7は、接着剤の塗布された
フレーム8の下端がマスク本体2の上面の貼着部と隙間
を有するように保持される。
【0016】異物が無い場合は更に保持体6を支持体1
1の弾性に抗して押圧することでフレーム8の下面がマ
スク本体2の上面に当接し、これにより薄膜体7は接着
剤を介してマスク本体2に貼着される(図7参照)。
【0017】一方、異物が検出された場合には、支持体
11で支持された保持体6を押しあげマスク本体2を支
持部本体4より取り外し、エアー等の噴射で洗浄して異
物を取り除き、再度支持部本体4に嵌入して、さらに異
物の有無の検査を行う。
【0018】このように、薄膜体7をマスク本体2の近
傍で対向状に設置して、薄膜7の上方より異物の検査を
行うことができるので、異物の付着を発見した場合で
も、貼着された薄膜体7をフレーム8から取り外す必要
がなく、このため高価な薄膜体7を無駄に使用すること
がないと言う利点がある。
【0019】尚、上記実施例では移動手段10として2
本の板体を用いて上下動可能にしたが、同様な上下動を
するもので有れば特にその形状は限定するものでなく、
例えば図8に示すように、案内棒20を介して上下動自
在に取り付けられたフレーム6のアーム部21をシリン
ダー22のロット22aに連結することもできる。
【0020】又、上記実施例ではマスク本体2をそのパ
ターン層2aが上向きに位置するように支持したが、パ
ターン層2aの向きは上向きに限定するものでなく、例
えば下向きに支持することで同様な効果を得ることがで
きる。
【0021】尚、本考案は上記実施例に限定されるもの
でなく支持部本体4と保持体6の形状は特に問うもので
はなく、薄膜体7の形状に応じて適時に決定自在であ
る。
【発明の効果】叙上の様に、本発明は、マスク本体を支
持し、その後に薄膜体をその貼着部がマスク本体と隙間
を有するように保持し、その状態でマスク本体の上面の
異物の有無の検査を行い、異物の無い場合に、薄膜体を
マスク本体に貼着するので、マスク本体の上面を薄膜体
で覆うことができ、これによりパターン層の異物の検査
においては検査中に異物がパターン層に付着するのを容
易に防止するができ、且マスク本体に薄膜体を取り付け
る際にもパターン層に異物が付着するのを防止でき、し
かも従来のように異物混入のために一旦付着した薄膜体
を剥がすことがないので、作業が容易で且つ迅速に行う
ことができる。しかも何度も薄膜体を張り替える必要が
ないので、経済的であるという特別顕著な利点がある。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の露光用マスク製造装置を示す斜視図。
【図2】本発明の露光用マスク製造装置を示す断面図。
【図3】本発明の移動装置を示す正面図。
【図4】本発明の移動装置を示す基部側拡大断面図。
【図5】本発明の保持体の係止体を示す拡大断面図。
【図6】本発明の使用状態を示す断面図。
【図7】本発明の使用状態を示す断面図。
【図8】他実施例を示す断面図。
【符号の説明】
1・・収納装置 2・・マスク本体 2a・・パターン層 4・・支持部本体 6・・保持体 7・・薄膜体 8・・フレーム 10・・移動装置

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 リソグラフィ工程等によりパターン層2
    aをマスク本体2に形成した後に、パターン層2aを塵
    埃等の異物より保護するための薄膜体7をマスク本体2
    のパターン層2a側に貼着する露光用マスクの製造方法
    において、前記マスク本体2を支持し、その後に薄膜体
    7をその貼着部がマスク本体2と隙間を有するように保
    持し、その状態でマスク本体2の上面の異物の有無の検
    査を行い、異物の無い場合に、薄膜体7をマスク本体2
    に貼着することを特徴とする露光用マスクの製造方法。
  2. 【請求項2】リソグラフィ工程等によりパターン層2a
    の形成されたマスク本体2を支持可能な支持部本体4
    と、該支持部本体4のパターン層2a側に保護用の薄膜
    体7を貼着すべく該薄膜体7を移動自在で、且つその貼
    着部がマスク本体2と隙間を有する対向位置で保持可能
    な保持体6とを備えてなることを特徴とする露光用マス
    クの製造装置。
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006030947A (ja) * 2004-07-16 2006-02-02 Toppan Chunghwa Electronics Co Ltd 半導体部品の洗浄方法及びその装置
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