JPH0757532B2 - 三次元形状の形成方法 - Google Patents

三次元形状の形成方法

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JPH0757532B2
JPH0757532B2 JP63263781A JP26378188A JPH0757532B2 JP H0757532 B2 JPH0757532 B2 JP H0757532B2 JP 63263781 A JP63263781 A JP 63263781A JP 26378188 A JP26378188 A JP 26378188A JP H0757532 B2 JPH0757532 B2 JP H0757532B2
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Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 この発明は、光硬化形成方法および装置に関し、光の照
射によって硬化する光硬化性樹脂を用いて、立体的な三
次元形状を有する物品を成形製造する方法に関するもの
である。
〔従来の技術〕
光硬化性樹脂を用いて三次元形状を形成する方法は、複
雑な三次元形状を、成形型や特別な加工工具等を用いる
ことなく、簡単かつ正確に形成することができる方法と
して、各種の製品モデルや立体模型の製造等に利用する
ことが考えられており、例えば、特開昭62−35966号公
報等に開示されている。
第7図は、従来の一般的な、光硬化性樹脂を用いた三次
元形状の形成方法の一例を示しており、光硬化性樹脂液
2を収容した樹脂液槽1に昇降自在な成形台5が設けら
れ、樹脂液槽1の上方にはレンズ30等の光学系等からな
る光ビーム照射機構が設けられている。光硬化性樹脂液
2の液面に光ビーム3を照射すると、光ビーム3の焦点
位置近傍の液面から一定厚みまでの光硬化性樹脂液2が
硬化して光硬化層40が形成される。光硬化層40は成形台
5に載せられた状態になっているので、成形台5を下降
させれば、光硬化層40は液面下に沈み、光硬化層40の上
が未硬化の光硬化性樹脂液2で覆われる。その後、前記
同様に光硬化性樹脂液2の液面に光ビーム3を照射する
と、第2層の光硬化層4が形成される。このような、光
ビーム3の照射による光硬化層40の形成、および、成形
台5の下降による光硬化層40の上への新たな光硬化性樹
脂液2の供給とを繰り返すことによって、複数層の光硬
化層40が積層された三次元形状を有する成形品4が成形
される。
上記のような光硬化性樹脂を用いた三次元形状の形成方
法において、三次元形状を有する成形品の形状精度を高
めるには、光硬化層を形成するための光ビームの浸透深
さや移動範囲等を、コンピュータ等を用いて正確に制御
するようにしている。
〔発明が解決しようとする課題〕
ところが、上記のように光ビームの照射を精密に制御し
ても、光ビームによって光硬化される光硬化性樹脂が硬
化時に収縮変形を起こすと、形成される光硬化層の形状
精度が悪くなり、この光硬化層を積み重ねて形成される
三次元形状を有する成形品の形状精度も悪くなるという
問題があった。また、硬化時の収縮応力が残留応力とし
て光硬化層に残っていると、硬化後に徐々に残留応力が
解放されて、光硬化層もしくは成形品の経時的な変形を
起こす問題もある。
従来の三次元形状の形成方法では、作業能率を高めるた
めに、硬化作用の強い光ビームを迅速に移動させながら
光硬化性樹脂に照射して、光硬化性樹脂を急速に硬化さ
せていたが、このように硬化作用の強い光ビームで急速
に硬化を行うと、硬化収縮量が大きくなり残留応力も発
生し易くなる。すなわち、硬化をゆっくり行った場合に
は、光ビームの照射中、硬化収縮量を補うように周囲の
樹脂液が供給されながら硬化が進行するので、全体とし
ての硬化収縮は少なく、また、硬化の進行中に収縮応力
が解放されるので、残留応力の発生も少なくなる。とこ
ろが、硬化が急速であると、硬化収縮量を補う樹脂液の
供給が間に合わず、大きな硬化収縮が残り、また、収縮
応力が解放される前に硬化が完了するので、残留応力が
発生することになるのである。さらに、光ビームの照射
位置を移動させながら光硬化層を形成すると、先に硬化
した部分と後で硬化する部分との硬化収縮のずれによっ
て、局部的な変形や残留応力の偏在が生じ、結果とし
て、形成された成形品に局部的に大きな歪みや残留応力
の不均一が生じる可能性が高くなる。
そこで、この発明の課題は、上記のような光硬化性樹脂
を用いる三次元形状の形成方法において、形状精度に優
れ、残留応力による経時的な変形や強度低下のない、高
品質の成形品を得ることができ、しかも、作業能率も高
い方法を提供することにある。
〔課題を解決するための手段〕
上記課題を解決する、この発明のうち、請求項1記載の
三次元形状の形成方法は、光硬化性樹脂に光を照射して
光硬化層を形成し、この光硬化層を複数層積み重ねて、
所望の三次元形状を形成する方法において、三次元形状
を構成する複数層の光硬化層に、最終段階まで硬化させ
た本硬化部と途中段階まで硬化させた半硬化部とを分割
形成した後、三次元形状全体の半硬化部を最終段階まで
硬化させるようにしている。
請求項2記載の三次元形状の形成方法は、請求項1記載
の方法の実施に際し、光硬化性樹脂に照射する光とし
て、複数の光ビームを用い、、光硬化層のうち、三次元
形状の外表面になる部分には最終段階まで硬化させる本
硬化用光ビームを照射して本硬化部を形成し、三次元形
状の内方になる部分には途中段階まで硬化させる半硬化
用光ビームを照射して半硬化部を形成するようにしてい
る。
請求項3記載の三次元形状の形成方法は、光硬化性樹脂
に光を照射して光硬化層を形成し、この光硬化層を複数
層積み重ねて、所望の三次元形状を形成する方法におい
て、光硬化性樹脂を途中段階まで硬化させて半硬化部を
形成する半硬化用光ビームと最終段階まで硬化させる本
硬化用光ビームとを、順次照射しながら光硬化層を形成
するようにしている。
〔作用〕
請求項1記載の発明によれば、光硬化性樹脂を途中段階
まで硬化させた半硬化部は、半硬化部を構成する樹脂の
移動は抑制されるが、ある程度の変形は可能であるの
で、本硬化部の硬化収縮による変形および収縮応力を吸
収することができる。したがって、まず、三次元形状の
骨格もしくは外殻となる部分に本硬化部を形成しておけ
ば、三次元形状を正確に形成できるとともに、この部分
的な本硬化部による硬化収縮量や収縮応力は比較的小さ
く、前記したように、半硬化部によって収縮することが
できる。その後、半硬化部を最終段階まで硬化させると
きの硬化収縮は、光硬化性樹脂を一度に最終段階まで硬
化させるのに比べればはるかに小さく、また、既に硬化
完了した本硬化部に影響を与えることはないので、最終
的に形成された三次元形状は、形状精度が高く残留応力
による経時的な変形や強度低下の心配もない。すなわ
ち、三次元形状全体を、一度に本硬化させるのでなく、
1部は半硬化の状態を経させた後、半硬化部の全体を本
硬化させることによって、硬化収縮を抑えるとともに収
縮応力を解放することができることになる。
請求項2記載の発明によれば、三次元形状の外表面を最
終段階まで硬化させた本硬化部とすることによって、三
次元形状の外形を正確に形成することができるととも
に、三次元形状の内方を半硬化部とすることによって、
硬化収縮および収縮応力を抑制することができる。その
後、内方の半硬化部を最終段階まで硬化させるときに
は、半硬化状態からの硬化なので硬化収縮が少ないとと
もに、外表面が既に硬化完了した本硬化部によって規制
されているので硬化収縮が抑えられる。
請求項3記載の発明によれば、光ビームを移動しながら
照射するときに、まず、半硬化用光ビームによって半硬
化部が形成されると、その部分の光硬化性樹脂の移動が
抑制され、ついで、本硬化用光ビームによって移動が抑
制された半硬化部を最終段階まで硬化させるので、半硬
化部がそれ以上の硬化収縮を起こすことはなく、残留応
力が残る心配もなくなる。このように、半硬化状態を経
て本硬化状態まで硬化され、硬化収縮や残留応力のない
硬化部分を、光ビームの移動とともに、順次拡げていっ
て光硬化層を形成するので、光硬化層全体に硬化収縮や
残留応力が残らない。特に、光ビームの移動範囲の初め
の部分と後の部分で、硬化収縮や収縮応力に差が出るこ
とがなくなるので、光硬化層全体に不均一な収縮変形ま
たは残留応力による変形が生じない。
〔実 施 例〕
ついで、この発明を、実施例を示す図面を参照しなが
ら、以下に詳しく説明する。
第1図は、この発明で用いる三次元形状形成装置の概略
構造を示しており、前記した従来例と同様に、光硬化性
樹脂液2を蓄える樹脂液槽1、形成された光硬化層40を
載せる成形台5を備えており、成形台5は昇降アーム50
に支持されて、上下に昇降自在に設けられている。樹脂
液槽1の上方には、光ビーム3を発生する紫外線レーザ
ー等の発生装置(図示せず)や集光レンズ30等からなる
光照射機構が設けられており、樹脂液槽1の光硬化性樹
脂液2の液面付近に焦点を結ぶように光ビーム3が照射
される。これらの基本的な構造については、光硬化性樹
脂を用いる通常の三次元形状の形成装置と同様である。
上記のような装置を用いる、この発明にかかる三次元形
状の形成方法も、基本的には従来の方法と同様であり、
成形台5と液面との間に光ビーム3を照射して光硬化性
樹脂液3を硬化させ、光ビーム3を移動させることによ
って所定パターンの光硬化層40を形成した後、成形台5
と光硬化層40を降下させ、再び光硬化層40と液面の間の
光硬化性樹脂液2を硬化させて、次層の光硬化層40を形
成するという工程を繰り返し、複数層の光硬化層40が積
み重ねられた三次元形状を有する成形品4を成形するも
のである。
但し、従来の三次元形状の形成方法では、光硬化性樹脂
液2に光ビーム3を照射したときに、最終段階まで硬化
完了させるようにしていたが、この発明にかかる方法で
は、第2図および第3図に示すように、従来と同様に最
終段階まで硬化させる本硬化部4aと、途中段階まで硬化
させる半硬化部4bとを分割形成する。本硬化部4aと半硬
化部4aとの違いは、照射された光ビーム3の硬化作用を
変えることによって生じる。光ビーム3の硬化作用を変
えるには、例えば、レーザー発生装置で発生するレーザ
ー光の強度、集光レンズ30による集光径の大きさ、照射
時間、照射する光の波長成分等を調整すればよい。最も
簡単には、光ビーム3の移動速度を調整すれば、移動速
度が速ければ、硬化作用が少なくて半硬化部4bが形成さ
れ、移動速度を遅くすれば、硬化作用が十分に行われて
本硬化部4aが形成される。なお、同じ光ビーム3で、上
記のような照射条件を変えることによって、本硬化部4a
と半硬化部4bの何れにも対応させるほか、照射条件すな
わち硬化作用の異なる複数種の光ビーム3を別々に照射
して、本硬化部4aと半硬化部4bとを形成することもでき
る。
第2図および第3図は、本硬化部4aと半硬化部4bとの分
割パターンを示しており、そのうち第2図は光硬化層40
の垂直断面の分割パターンを示している。第2図(a)
は、1層の光硬化層40を、水平方向で本硬化部4aと半硬
化部4bとに分割して形成した場合であり、第2図(b)
は、1層の光硬化層40を、垂直方向で本硬化部4aと半硬
化部4bとに分割して形成した場合である。つぎに、第3
図は、光硬化層40の水平方向における分割パターンを示
している。第3図(a)は、光硬化層40の外表面部分と
中心部分に帯状の本硬化部4aを設け、その間を半硬化部
4bにしている。第3図(b)は、本硬化化部4aを格子状
に設け、その間を半硬化部4bにしている。第3図(c)
は、本硬化部4aの中にスポット状の半硬化部4bを並べて
いる。
このような、本硬化部4aと半硬化部4bとの分割パターン
は、前記したように硬化作用の異なる光ビーム3を分割
パターンにしたがって走査すればよい。例えば、第2図
(b)に示す分割パターンの場合、硬化作用の弱い半硬
化用の光ビーム3で層状の半硬化部4bを形成した後、そ
の上に、硬化作用の強い本硬化用の光ビーム3で、同じ
く層状の本硬化部4aを重ねて形成すればよい。また、第
3図(c)に示す分割パターンの場合、光硬化層40の外
表面部分に通常の光ビーム3で帯状の本硬化部4aを形成
した後、その内方部分では、中心が比較的弱く外周が強
い硬化作用を示すドーナツ状のエネルギー分布を有する
光ビーム3で、中心には半硬化部4bを外周には本硬化部
4aを形成し、この光ビーム3をパルス的に照射しながら
移動させることによって、本硬化部4aの中にスポット状
の半硬化部4bを形成している。なお、本硬化部4aと半硬
化部4bの分割パターンは、図示した実施例以外にも任意
の分割パターンで実施することができる。但し、三次元
形状を正確に形成するとともに硬化収縮や残留応力の発
生を抑えるには、三次元形状の外表面になる部分や、三
次元形状の骨格となる部分を比較的狭い幅で本硬化部4a
に形成し、その間を半硬化部4bで埋めるようにしておく
のが好ましい。
上記のようにして、本硬化部4aと半硬化部4bとが分割形
成された複数層の光硬化層40からなる三次元形状を有す
る成形品4は、樹脂液槽1から取り出した後、成形品4
の全体を、光硬化性樹脂に対して光硬化作用のある紫外
線を出すキセノンランプ等で光を照射して、半硬化部4b
全体を本硬化部4aと同じ最終段階まで硬化させれば、成
形品4全体が硬化して三次元形状の形成が完了する。
つぎに、第4図および第5図は、本硬化部4aと半硬化部
4bの形成方法の別の実施例を示している。三次元形状の
形成装置は、前記した第1図の実施例とほぼ同じもので
あるが、光ビーム3の照射機構として、He−Cdレーザー
等の光を照射するとともに、比較的集光径が小さく精密
な硬化形状が得られる本硬化用の光ビーム3aと、比較的
集光径が大きく硬化能率の高い半硬化用の光ビーム3b
を、選択して照射できるようにしている。この光ビーム
3aと3bとの違いは、集光径の相違とともに、光の強度や
光ビームの移動速度等の照射条件によっても設定でき
る。
第5図に示すように、精密本硬化用の光ビーム3aで、光
硬化層40のうち三次元形状の外表面になる部分を帯状に
照射して本硬化部4aを形成し、半硬化用の光ビーム3b
を、本硬化部4aの内方を縦横に走査しながら照射して半
硬化部4bを形成している。このようにして、本硬化部4a
と半硬化部4bが分割形成された三次元形状を有する成形
品4を形成した後、半硬化部4bの全体を最終段階まで硬
化する工程は、前記実施例と同様である。
上記した実施例では、精密本硬化用光ビーム3aは、集光
径を小さく移動速度も遅くして、三次元形状の外表面を
正確かつ十分な硬化度まで硬化して本硬化部4aを形成す
るとともに、半硬化用光ビーム3bは集光径を大きく移動
速度も速くして、三次元形状の内方を効率良く迅速に硬
化して半硬化部4bを形成することができる。図示した実
施例では、光ビーム3aと3bを、同じ集光レンズ30すなわ
ち光照射機構から照射しているが、別々の光照射機構を
用いたり、光ビーム3aと3bで違うレーザー光を用いるこ
ともできる。
つぎに、第6図に示す実施例は、上記第4図に示した実
施例と同様の装置を用い、少し異なる方法で三次元形状
を形成する。この実施例でも、本硬化用光ビーム3aと半
硬化用光ビーム3bを用いるが、本硬化部と半硬化部とを
分割形成するのでなく、同じ個所に、半硬化用光ビーム
3bと本硬化用光ビーム3aとを順次照射するようにしてい
る。本硬化用光ビーム3aとしては、通常のHe−Cdレーザ
ー等が用いられ、半硬化用光ビーム3bとしては、光硬化
性樹脂2に対して加熱硬化作用のあるYAGレーザーやCO2
レーザー等が用いられる。
上記のような2種の光ビーム3aと3bを順次照射すると、
その部分の光硬化性樹脂2は、まず、半硬化用光ビーム
3bによって、樹脂2の移動を抑制できる程度に硬化され
て半硬化部4bが形成された後、本硬化用光ビーム3aによ
って最終段階まで硬化される。本硬化用光ビーム3aを半
硬化部4bに確実に照射するためには、本硬化用光ビーム
3aの集光径は、半硬化用光ビーム3bよりも少し小さめに
設定するのが好ましい。この場合、本硬化用光ビーム3a
の外側で硬化されずに残る半硬化部4bは、三次元形状が
形成された後、溶解除去すればよい。図示した実施例で
は、両光ビーム3aと3bが同心状に照射されるので、半硬
化用ビーム3bの照射と本硬化用ビーム3aの照射タイミン
グを時間的にずらすことによって、半硬化用ビーム3bが
照射された後に、本硬化用光ビーム3aが照射されるよう
にすればよい。半硬化用光ビーム3bと本硬化用光ビーム
3aの照射位置を、走査方向の前後にずらせて設定してお
けば、光ビーム3a,3bの移動に伴って、順次半硬化用光
ビーム3bおよび本硬化用光ビーム3aが照射できる。
上記実施例では、半硬化用光ビーム3bで、光硬化性樹脂
2の移動を抑制できる程度に半硬化させた状態では、硬
化収縮や残留応力はない。この状態で本硬化用光ビーム
3aで最終段階まで硬化させれば、移動を抑制された半硬
化状態からの硬化であるので、あまり硬化収縮を起こさ
ず、残留応力が残ることもない。また、本硬化用光ビー
ム3aの照射範囲そのままの正確な形状を有する三次元形
状を有する成形品4が形成できる。成形品4全体に本硬
化用光ビーム3aが照射されるので、前記実施例のよう
に、半硬化部全体を別工程で硬化させる必要はない。
〔発明の効果〕
以上に説明した、この発明のうち、請求項1記載の三次
元形状の形成方法によれば、三次元形状に、本硬化部と
半硬化部とを分割形成した後、全体の半硬化部を最終段
階まで硬化させるので、本硬化部と半硬化部とが分割形
成された段階では、本硬化部に生じる硬化収縮や収縮応
力を半硬化部で吸収することができる。その後、半硬化
部を硬化させれば、半硬化部から最終段階までの硬化に
よって発生する硬化収縮や収縮応力は小さいとともに、
既に硬化された本硬化部によって、半硬化部の硬化収縮
が抑えられるので、三次元形状全体の硬化収縮はほとん
どなくなり、予め設定した形状通りの正確な形状精度を
有する三次元形状が得られるとともに、形成された三次
元形状に残留応力が残る心配もなく、経時的に変形を生
じたり強度低下を起こすことはない。
また、半硬化部の形成は、最終段階までの硬化を行うよ
りも短い時間で行えるとともに、その後に半硬化部全体
をまとめて最終段階まで硬化するので、全体の硬化時間
が短縮され、作業の能率化を図ることができる。
請求項2記載の三次元形状の形成方法によれば、請求項
1記載の上記効果に加え、正確な形状を必要とする三次
元形状の外表面を精密本硬化用光ビームで照射して本硬
化部を形成するとともに、それ以外の内方部分は半硬化
用光ビームで照射して能率的に半硬化部を形成するの
で、形状精度と作業時間の短縮化とを、より向上させる
ことができる。
請求項3記載の三次元形状の形成方法によれば、光硬化
性樹脂を半硬化用光ビームで半硬化した後、本硬化用光
ビームで最終段階まで硬化させるので、従来のように最
終段階まで一気に急速に硬化させる方法に比べ、半硬化
段階を経ることによって硬化収縮が少なくなり、収縮応
力を良好に解放することができる。すなわち、光硬化性
樹脂が半硬化した段階では、硬化収縮はほとんどないと
ともに、半硬化部はある程度の変形ができるので収縮応
力は容易に解放される。半硬化状態から最終段階まで硬
化させたときには、樹脂の移動が抑制された半硬化状態
から硬化するので、硬化収縮を起こし難く、また、半硬
化からの硬化であるので、硬化収縮を起こしたとして
も、その硬化収縮量は極めて小さいとともに、残留応力
として残る可能性が少なくなるのである。
【図面の簡単な説明】
第1図はこの発明の実施例を示す三次元形状の形成装置
の全体構成図、第2図は本硬化部と半硬化部の分割パタ
ーンを示す縦断面図、第3図は別の分割パターンを示す
横断面図、第4図は別の実施例を示す三次元形状の形成
装置の全体構成図、第5図は光ビームの照射状態を示す
平面図、第6図はさらに別の実施例を示す要部拡大断面
図、第7図は従来例を示す概略構成図である。 1……樹脂液槽、2……光硬化性樹脂液、3……光ビー
ム、3a……本硬化用光ビーム、3b……半硬化用光ビー
ム、4……成形品、40……光硬化層、4a……本硬化部、
4b……半硬化部
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 B29K 105:24

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】光硬化性樹脂に光を照射して光硬化層を形
    成し、この光硬化層を複数層積み重ねて、所望の三次元
    形状を形成する方法において、三次元形状を構成する複
    数層の光硬化層に、光硬化性樹脂を最終段階まで硬化さ
    せた本硬化部と途中段階まで硬化させた半硬化部とを分
    割形成した後、三次元形状全体の半硬化部を最終段階ま
    で硬化させることを特徴とする三次元形状の形成方法。
  2. 【請求項2】光硬化性樹脂に照射する光として、複数の
    光ビームを用い、光硬化層のうち、三次元形状の外表面
    になる部分には最終段階まで硬化させる本硬化用光ビー
    ムを照射して本硬化部を形成し、三次元形状の内方にな
    る部分には途中段階まで硬化させる半硬化用光ビームを
    照射して半硬化部を形成する請求項1記載の三次元形状
    の形成方法。
  3. 【請求項3】光硬化性樹脂に光を照射して光硬化層を形
    成し、この光硬化層を複数層積み重ねて、所望の三次元
    形状を形成する方法において、光硬化性樹脂を途中段階
    まで硬化させて半硬化部を形成する半硬化用光ビームと
    最終段階まで硬化させる本硬化用光ビームとを、順次照
    射しながら光硬化層を形成することを特徴とする三次元
    形状の形成方法。
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