JPS61267728A - 高速作動に好適な投光用光学装置 - Google Patents

高速作動に好適な投光用光学装置

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Publication number
JPS61267728A
JPS61267728A JP10932985A JP10932985A JPS61267728A JP S61267728 A JPS61267728 A JP S61267728A JP 10932985 A JP10932985 A JP 10932985A JP 10932985 A JP10932985 A JP 10932985A JP S61267728 A JPS61267728 A JP S61267728A
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JP
Japan
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axis direction
vibrated
scanner
laser
lens
Prior art date
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Pending
Application number
JP10932985A
Other languages
English (en)
Inventor
Yasuo Hachikake
保夫 八掛
Noboru Kato
昇 加藤
Makoto Ito
誠 伊藤
Yoshiaki Ueno
上野 善旦
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hitachi High Tech Corp
Original Assignee
Hitachi Electronics Engineering Co Ltd
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Publication date
Application filed by Hitachi Electronics Engineering Co Ltd filed Critical Hitachi Electronics Engineering Co Ltd
Priority to JP10932985A priority Critical patent/JPS61267728A/ja
Publication of JPS61267728A publication Critical patent/JPS61267728A/ja
Pending legal-status Critical Current

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  • Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
  • Investigating Materials By The Use Of Optical Means Adapted For Particular Applications (AREA)
  • Mechanical Optical Scanning Systems (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の利用分野〕 本発明は、被検査面にレーザー光を投光して走査する装
置に関するものである。
〔発明の背景〕
被検査面にレーザー光を投光し、その反射光若しくは透
過光を検出して被検査物の欠陥の有無を検出する技術は
、例えば半導体ウェハやマスク基板を検査する場合に広
く用いられている。
第4図は前記のレーザー光走査におけるレーザースポッ
トSの径φ1と走査ピッチ寸法pとの関係の説明図であ
る。
被検査面に直交2軸X−X’、Y−Y’を設定する。た
だし、本発明においてX軸をY軸とは置換可能である。
レーザースポットSは矢印a、b、c、dの如く、X軸
方向に走査され、これと共に被検査物はY軸方向にピッ
チ寸法pで動かされ、被検査面の全面がレーザースポッ
トSでカバーされる。
上記のようにして被検査面を漏れなく検査するびφ、が
設定される。
ここにおいて、検査能率を上げようとすると走査ピッチ
寸法を拡大することが有効である。しかし、走査ピッチ
寸法を大きくしてスポット径を大きくすると検査精度が
悪くなる。
検査精度を上げるために第5図に示す如くレーザースポ
ットS′の径φ、をピッチ寸法pよりも小さくすると、
走査を受けない区域Vができる。
その上、レーザースポットの径を小さくするにはスキャ
ンレンズへの入射ビーム径を大きくしなければならず、
スキャナーの反射面が大きくなって走査周波数を高くす
ることが困難になるという問題もある。
以上のような理由により、従来技術においては検査精度
を上げるためにレーザースポット径を小さくすることと
、検査能率を上げるために被検査物の移動ピッチ(走査
ピッチPに相当する)を大きくすることとが両立しなか
った。
〔発明の目的〕
本発明の目的は、レーザースポットの径を小さくして検
査精度を上げることができ、しかも検査所要時間を短縮
して検査能率を向上せしめ得る、高速作動(被検査物の
ピッチ送りを高速ならしめる意)に好適な投光用の光学
装置を提供するにある。
〔発明の概要〕
上記の目的を達成するため、本発明の光学装置は、レー
ザービームをY軸方向に往復させながらX軸方向に移動
せしめるように構成し、Y軸方向の走査ピッチ寸法をレ
ーザービームのスポット径の1/2以上に設定しても被
検査面の少なくとも大部分を走査し得るようにしたこと
を特徴とする。
〔発明の実施例〕
第1図は本発明の一実施例を模式的に描いた斜視図であ
る。X−X’、Y−Y’は被検査面に設定した直交2軸
を表わしている。
レーザー発振器1から出たレーザービーム矢印eは微小
振動用スキャナ2によって微小振動を与えられる。この
振動はレンズ(A)3を通過した後。
焦点Fiで光軸と交差し、再び振動してミラー4で反射
され、レンズ(B)5に入射する。
上記のレンズ(A)3とレンズ(B)5とはビームエク
スパンダを構成していて、レンズ(B)5を通過したビ
ームは拡大される。そしてこのレンズ(B)5を通過し
たビームは前述のスキャナ2によってY軸方向の振動を
与えられている。そして、走査用スキャナ6によってX
軸方向に走査され、スキャンレンズ7を通ってミラー8
で反射され、被検査面に収束する。図示の寸法WはX軸
方向の走査幅である。
第2図は、径φ、のレーザースポットS′が前記の実施
例の装置(第1図)によって走査される軌跡を示す図表
である。
レーザースポットS′は矢印a′の如く、Y軸方向の往
復(即ち振動)を与えられつつX軸方向に走査される。
被検査物はピッチ寸法pでY軸方向にピッチ送りされる
第3図は、前記の1段目の走査矢印a′によってカバー
される区域に斑点を付して示しである。
斑点を付しである区域(走査された面)の隙間部分は第
2段目の走査矢印b′によってカバーされる。本第3図
から明らかなように、レーザースポットS′をY軸方向
に振幅Wで振動させると、Y設定しても被検査面のほぼ
全面が走査される。
〔発明の効果〕
以上詳述したように、本発明を適用すると、レーザース
ポットの径を小さくして検査精度を上げることと、被検
査物の送りピッチ寸法を大きくすることとが両立し、検
査精度の向上と検査能率の向上とが達成される。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の一実施例を模式的に描いた斜視図であ
る。第2図及び第3図は上記実施例の作用、効果の説明
図表である。第4図及び第5図は従来装置における技術
的困戴の説明図である。 1・・・レーザ発振器、2・・・微小振動用スキャナ。 3・・・レンズ(A)、4・・・ミラー、5・・・レン
ズ(B)、6・・・走査用スキャナ、7・・・スキャン
レンズ、8・・・ミラー、s、s’・・・レーザースポ
ット。 特許出願人 日立電子エンジニアリング株式会社代理人
弁理士 秋  本  正  実 第1図 第2図 Y′ 第 3 図

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 被検査面に投光するレーザービームをX軸方向に走査し
    つつ、被検査物をY軸方向に移動せしめる投光用光学装
    置において、前記のレーザービームをY軸方向に往復さ
    せながらX軸方向に移動せしめるように構成し、Y軸方
    向の走査ピッチ寸法をレーザービームのスポット径の1
    /2以上に設定しても被検査面の少なくとも大部分を走
    査し得るようにしたことを特徴とする、高速作動に好適
    な投光用光学装置。
JP10932985A 1985-05-23 1985-05-23 高速作動に好適な投光用光学装置 Pending JPS61267728A (ja)

Priority Applications (1)

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JP10932985A JPS61267728A (ja) 1985-05-23 1985-05-23 高速作動に好適な投光用光学装置

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JP10932985A JPS61267728A (ja) 1985-05-23 1985-05-23 高速作動に好適な投光用光学装置

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JPS61267728A true JPS61267728A (ja) 1986-11-27

Family

ID=14507463

Family Applications (1)

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JP10932985A Pending JPS61267728A (ja) 1985-05-23 1985-05-23 高速作動に好適な投光用光学装置

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JP (1) JPS61267728A (ja)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6428837A (en) * 1987-07-24 1989-01-31 Hitachi Ltd Defect inspection device
WO2005083492A1 (ja) * 2004-02-27 2005-09-09 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. 照明光源及びそれを用いた2次元画像表示装置
JP2011179891A (ja) * 2010-02-26 2011-09-15 Nikon Corp 計測装置および計測方法

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