JPH0762392A - 溶剤組成物 - Google Patents

溶剤組成物

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JPH0762392A
JPH0762392A JP23565693A JP23565693A JPH0762392A JP H0762392 A JPH0762392 A JP H0762392A JP 23565693 A JP23565693 A JP 23565693A JP 23565693 A JP23565693 A JP 23565693A JP H0762392 A JPH0762392 A JP H0762392A
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JP
Japan
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weight
solvent
solvent composition
composition
compsn
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JP23565693A
Other languages
English (en)
Inventor
Tateo Kitamura
健郎 北村
Michinori Ikehata
通乃 池畑
Kazuo Kato
一雄 加藤
Masaaki Tsuzaki
真彰 津崎
Yoko Usami
陽子 宇佐見
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AGC Inc
Original Assignee
Asahi Glass Co Ltd
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Publication date
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  • Cleaning And De-Greasing Of Metallic Materials By Chemical Methods (AREA)
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Abstract

(57)【要約】 【構成】1,1,1,2,3,4, 5,5,5−ノナフ
ルオロ−2−トリフルオロメチルペンタン(R53−1
2myee)と、ハロゲン炭化水素類とを配合してなる
溶剤組成物。R53−12myeeと1,2−ジクロロ
エタンの共沸(様)組成物。R53−12myeeと
1,3−ジクロロ−1,1,2,2,3−ペンタフルオ
ロプロパンの共沸(様)組成物。 【効果】従来のトリクロロトリフルオロエタンが有する
優れた特性を保持しながら成層圏オゾン層へほとんど影
響を与えない等の利点がある。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、プリント基板、IC等
の電子部品、精密機械部品、ガラス基板等の脱脂洗浄や
フラックス洗浄等に用いられる溶剤組成物に関する。
【0002】
【従来の技術】各種油脂、フラックス等の洗浄には、不
燃性、低毒性、安定性に優れる1,1,2−トリクロロ
−1,2,2−トリフルオロエタン( 以下、R113と
いう)又はこのR113とこれに可溶な溶剤との混合溶
剤組成物が広く使用されている。R113は、金属、プ
ラスチック、エラストマー等の基材を侵さず、各種の汚
れを選択的に溶解する等の特徴を有するため、各種精密
機械部品や金属、プラスチック、エラストマー等からな
る各種電子部品、またこれらの電子部品を実装したプリ
ント基板、精密機械部品、光学部品等の洗浄には最適で
あった。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】従来使用されていたR
113は、種々の利点を有するにもかかわらず、化学的
に極めて安定なため、対流圏内での寿命が長く、拡散し
て成層圏に達し、ここで紫外線により分解して塩素ラジ
カルを発生し、この塩素ラジカルが成層圏オゾンと連鎖
反応を起こし、オゾン層を破壊するとのことから、その
使用規制が実施されている。
【0004】このため、従来のR113に替わり、オゾ
ン層を破壊しにくい代替溶剤の探索が活発に行われてい
る。本発明は、従来のR113が有している優れた特性
を満足しながらオゾン層への影響が極めて小さい代替溶
剤として使用できる新規なフッ素化炭化水素系溶剤組成
物を提供することを目的とする。
【0005】
【課題を解決するための手段】本発明は前述の目的を達
成すべくなされたものであり、第一に1,1,1,2,
3,4,5,5,5−ノナフルオロ−2−トリフルオロ
メチルペンタン( 以下、R53−12myeeという)
を主成分とするフッ素化炭化水素と、ハロゲン化炭化水
素類とからなる溶剤組成物を提供する。さらに本発明
は、第二にR53−12myeeを主成分とするフッ素
化炭化水素と、1,2−ジクロロエタンとからなる溶剤
組成物を提供する。さらに本発明は、第三にR53−1
2myeeを主成分とするフッ素化炭化水素と、1,3
−ジクロロ−1,1,2,2,3−ペンタフルオロプロ
パン( 以下、R225という) とからなる溶剤組成物を
提供する。
【0006】本発明の組成物に用いられる1,2−ジク
ロロエタンとR225cb以外のハロゲン化炭化水素類
としては、ジクロロメタン、cis−1,2−ジクロロ
エチレン、trans−1,2−ジクロロエチレン、
1,1,1−トリクロロエタン、1,1,2−トリクロ
ロエタン、トリクロロエチレン、テトラクロロエチレン
等の塩素化炭化水素類、2,2−ジクロロ−1,1,1
−トリフルオロエタン、1,1−ジクロロ−1−フルオ
ロエタン、3,3−ジクロロ−1,1,1,2,2−ペ
ンタフルオロプロパン、1,1−ジクロロ−1,2,
2,3,3−ペンタフルオロプロパン、1,2−ジクロ
ロ−1,1,3,3,3−ペンタフルオロプロパン、
1,2−ジクロロ−1,1,2,3,3−ペンタフルオ
ロプロパン、2,3−ジクロロ−1,1,1,2,3−
ペンタフルオロプロパン、2,2−ジクロロ−1,1,
1,3,3−ペンタフルオロプロパン等の塩素化フッ素
化炭化水素類およびこれらの混合物が挙げられるが、こ
れに限定されない。
【0007】本発明の溶剤組成物の混合組成比は特に限
定されないが、好ましくは、R53−12myeeを主
成分とするフッ素化炭化水素50〜99重量%、ハロゲ
ン化炭化水素類1〜50重量%である。
【0008】また、R53−12myeeと1,2−ジ
クロロエタンはR53−12myee80〜99重量
%、1,2−ジクロロエタン1〜20重量%にわたり擬
共沸溶剤組成物を作り、さらにR53−12myee9
6重量%、1,2−ジクロロエタン4重量%で共沸組成
を作るので、この範囲で使用すれば組成変化がほとんど
無いか、又は全く無く使用できるので好ましい。
【0009】また、R53−12myeeとR225c
bはR53−12myee10〜50重量%、R225
cb50〜90重量%にわたり擬共沸溶剤組成物を作
り、さらにR53−12myee17重量%、R225
cb83重量%で共沸組成を作るので、この範囲で使用
すれば組成変化がほとんど無いか、又は全く無く使用で
きるので好ましい。
【0010】さらにこのR53−12myeeを主成分
とするフッ素化炭化水素に含有することができるフッ素
化炭化水素としては、1,1,1,3,4,4,5,
5,5−ノナフルオロ−2−トリフルオロメチルペンタ
ン等のC6212や、C6311、C6410
6 HF13、C659 等がある。
【0011】本発明におけるR53−12myeeを主
成分とするフッ素化炭化水素中のR53−12myee
の含有量は、50重量%以上であり、好ましくは60重
量%以上、さらに好ましくは70重量%以上である。
【0012】本発明の組成物においては、必要に応じて
その他の成分の少なくとも1種を溶剤組成物中に1〜9
0重量%、好ましく5〜50重量%の範囲で更に添加混
合することができる。例えば、次のものを適宜添加でき
る。
【0013】n−ペンタン、2−メチルブタン、2,2
−ジメチルプロパン、n−ヘキサン、2−メチルペンタ
ン、3−メチルペンタン、2,2−ジメチルブタン、
2,3−ジメチルブタン、n−ヘプタン、2−メチルヘ
キサン、3−メチルヘキサン、2,3−ジメチルペンタ
ン、2,4−ジメチルペンタン、n−オクタン、2,
2,3−トリメチルペンタン、2,2,4−トリメチル
ペンタン、シクロペンタン、シクロヘキサン、メチルシ
クロヘキサン、エチルシクロヘキサン等の炭化水素類。
【0014】メタノール、エタノール、i−プロパノー
ル、n−プロパノール、n−ブタノール、i−ブタノー
ル、s−ブタノール、t−ブタノール等のアルコール
類、アセトン、メチルエチルケトン、メチルブチルケト
ン、メチルイソブチルケトン等のケトン類、ジエチルエ
ーテル、メチルセロソルブ、テトラヒドロフラン、1,
4−ジオキサン等のエーテル類、ニトロメタン、ニトロ
エタン、ニトロプロパン、ニトロベンゼン等のニトロ化
合物類、ジエチルアミン、トリエチルアミン、i−プロ
ピルアミン、ブチルアミン、i−ブチルアミン等のアミ
ン類、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル等のエス
テル類。
【0015】フェノール、o−クレゾール、m−クレゾ
ール、p−クレゾール、チモール、p−t−ブチルフェ
ノール、t−ブチルカテコール、カテコール、イソオイ
ゲノール、o−メトキシフェノール、4,4’−ジヒド
ロキシジフェニル−2,2−プロパン、サリチル酸イソ
アミル、サリチル酸ベンジル、サリチル酸メチル、2,
6−ジ−t−ブチル−p−クレゾール等のフェノール
類、2−(2’−ヒドロキシ−5’−メチル−フェニ
ル) ベンゾトリアゾール、2−(2’−ヒドロキシ−
3’−t−ブチル−5’−メチルフェニル) −5−クロ
ロベンゾトリアゾール、1,2,3−ベンゾトリアゾー
ル、1−[(N,N−ビス−2−エチルヘキシル) アミ
ノメチル] ベンゾトリアゾール等のトリアゾール類等。
【0016】本発明の溶剤組成物は、従来のR113系
と同程度の溶解力を有し、組成変化が極めて少ないか全
く無い、擬共沸ないしは共沸組成物を形成し、各種用途
に好適に使用できる。かかる具体的な用途としては、フ
ラックス、グリース、油、ワックス、インキ等の除去
剤、塗料用溶剤、付着水除去溶剤、抽出剤、ガラス、セ
ラミックス、プラスチック、ゴム、金属製各種物品、特
にIC部品、電気機器、精密機械、光学レンズ等の洗浄
剤等が挙げられる。
【0017】洗浄方法としては、手拭き、浸漬、スプレ
ー、揺動、超音波洗浄、蒸気洗浄又はこれらを組み合わ
せた方法等を採用すればよい。
【0018】
【実施例】
[実施例1]表1の組成からなる溶剤組成物1000g
を蒸留フラスコに入れ、理論段数5段の精留塔に取り付
けた。
【0019】
【表1】
【0020】次にその組成物を加熱して2時間全還流
し、平衡状態に達した後、経時的に留分を採取しガスク
ロマトグラフで分析した。その結果を表2に示す。
【0021】
【表2】
【0022】[実施例2]53−12myee99重量
%と1,2−ジクロルエタン1重量%からなる溶剤組成
物20kgを小型単槽式洗浄機に入れ、1日あたり6時
間で3日間運転した。経時的に洗浄槽・水分離器各々か
らサンプリングし、ガスクロマトグラフで分析した結果
を表3に示す。
【0023】
【表3】
【0024】[実施例3]53−12myee80重量
%と1,2−ジクロルエタン20重量%からなる溶剤組
成物20kgを小型単槽式洗浄機に入れ、1日あたり6
時間で3日間運転した。経時的に洗浄槽・水分離器各々
からサンプリングし、ガスクロマトグラフで分析した結
果を表4に示す。
【0025】
【表4】
【0026】[実施例4]表5の組成からなる溶剤組成
物1000gを蒸留フラスコに入れ、理論段数5段の精
留塔に取り付けた。
【0027】
【表5】
【0028】次にその組成物を加熱して2時間全還流
し、平衡状態に達した後、経時的に留分を採取しガスク
ロマトグラフで分析した。その結果を表6に示す。
【0029】
【表6】
【0030】[実施例5]R53−12myee50重
量%とR225cb50重量%からなる溶剤組成物20
kgを小型単槽式洗浄機に入れ、1日あたり6時間で3
日間運転した。経時的に洗浄槽・水分離器各々からサン
プリングし、ガスクロマトグラフで分析した結果を表7
に示す。
【0031】
【表7】
【0032】[実施例6]53−12myee10重量
%とR225cb90重量%からなる溶剤組成物20k
gを小型単槽式洗浄機に入れ、1日あたり6時間で3日
間運転した。経時的に洗浄槽・水分離器各々からサンプ
リングし、ガスクロマトグラフで分析した結果を表8に
示す。
【0033】
【表8】
【0034】[実施例7〜18]表9〜10に示す洗浄
溶剤組成物を用いて機械油の洗浄試験を行った。すなわ
ち、SUS−304のテストピース(25mm×30m
m×2mm) を機械油(日本石油製CQ−30)中に浸
漬後、表9〜10に示す本発明の洗浄溶剤組成物中に5
分浸漬した。機械油の除去の度合を判定し、その結果を
除去度として表9〜10に示す。
【0035】
【表9】
【0036】
【表10】
【0037】[実施例19〜24]表11に示す溶剤組
成物を用いてフラックスの洗浄試験を行った。すなわ
ち、ガラスエポキシ製のプリント基板(50mm×10
0mm×1.6mm)全面にフラックス(スピーディフ
ラックスAGF−J−I:アサヒ化学研究所製)を塗布
し、260℃の半田温度でウエーブソルダー機を用いて
半田付け後、表11に示す本発明の溶剤組成物に3分間
浸漬し洗浄を行った。フラックスの除去の度合を判定
し、その結果を除去度として表11に示す。
【0038】
【表11】
【0039】[実施例25〜30]表12に示す溶剤組
成物を用いて付着水の除去試験を行った。すなわち、3
0mm×18mm×5mmのガラス板を純水に浸漬後、
表12に示す本発明の溶剤組成物中に20秒浸漬して水
切りを行い、取り出したガラス板を無水メタノール中に
浸漬してその水分増加量から付着水の除去状況を判定し
た。付着水の除去の度合を除去度として表12に示す。
【0040】
【表12】
【0041】
【発明の効果】本発明の1,1,1,2,3,4,5,
5,5−ノナフルオロ−2−トリフルオロメチルペンタ
ンと、ハロゲン化炭化水素類とからなる溶剤組成物は、
従来のR113が有している優れた特性を満足し、成層
圏オゾン層へほとんど影響を与えない等の利点がある。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 H05K 3/26 7511−4E (72)発明者 津崎 真彰 千葉県市原市五井海岸10番地 旭硝子株式 会社千葉工場内 (72)発明者 宇佐見 陽子 神奈川県横浜市神奈川区羽沢町松原1160番 地 エイ・ジー・テクノロジー株式会社内

Claims (6)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】1,1,1,2,3,4,5,5,5−ノ
    ナフルオロ−2−トリフルオロメチルペンタンを主成分
    とするフッ素化炭化水素とハロゲン化炭化水素類とから
    なる溶剤組成物。
  2. 【請求項2】1,1,1,2,3,4,5,5,5−ノ
    ナフルオロ−2−トリフルオロメチルペンタンを主成分
    とするフッ素化炭化水素50〜99重量%とハロゲン化
    炭化水素類1〜50重量%とからなる請求項1の溶剤組
    成物。
  3. 【請求項3】1,1,1,2,3,4,5,5,5−ノ
    ナフルオロ−2−トリフルオロメチルペンタンを主成分
    とするフッ素化炭化水素80〜99重量%と1,2−ジ
    クロロエタン1〜20重量%とからなる擬共沸溶剤組成
    物。
  4. 【請求項4】1,1,1,2,3,4,5,5,5−ノ
    ナフルオロ−2−トリフルオロメチルペンタン96重量
    %と1,2−ジクロロエタン4重量%とからなる共沸溶
    剤組成物。
  5. 【請求項5】1,1,1,2,3,4,5,5,5−ノ
    ナフルオロ−2−トリフルオロメチルペンタンを主成分
    とするフッ素化炭化水素10〜50量%と1,3−ジク
    ロロ−1,1,2,2,3−ペンタフルオロプロパン5
    0〜90重量%とからなる擬共沸溶剤組成物。
  6. 【請求項6】1,1,1,2,3,4,5,5,5−ノ
    ナフルオロ−2−トリフルオロメチルペンタン17重量
    %と1,3−ジクロロ−1,1,2,2,3−ペンタフ
    ルオロプロパン83重量%とからなる共沸溶剤組成物。
JP23565693A 1993-08-27 1993-08-27 溶剤組成物 Pending JPH0762392A (ja)

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