JPH0867897A - 改良された溶剤組成物 - Google Patents
改良された溶剤組成物Info
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Abstract
(57)【要約】
【目的】従来の1,1,2−トリクロロ−1,2,2−
トリフルオロエタンが有する優れた特性を保持しながら
成層圏オゾン層へほとんど影響を与えない溶剤組成物を
提供する。 【構成】1,2−ジクロロエタン、1,3−ジクロロ−
1,1,2,2,3−ペンタフルオロプロパンおよびc
is−1,2−ジクロロエチレン等のハロゲン化炭化水
素類および1H−ペルフルオロヘキサンを含む溶剤組成
物。
トリフルオロエタンが有する優れた特性を保持しながら
成層圏オゾン層へほとんど影響を与えない溶剤組成物を
提供する。 【構成】1,2−ジクロロエタン、1,3−ジクロロ−
1,1,2,2,3−ペンタフルオロプロパンおよびc
is−1,2−ジクロロエチレン等のハロゲン化炭化水
素類および1H−ペルフルオロヘキサンを含む溶剤組成
物。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、プリント基板、IC等
の電子部品、精密機械部品、ガラス基板等の脱脂洗浄や
フラックス洗浄等に用いられる溶剤組成物に関する。
の電子部品、精密機械部品、ガラス基板等の脱脂洗浄や
フラックス洗浄等に用いられる溶剤組成物に関する。
【0002】
【従来の技術】各種油脂、フラックス等の洗浄には、不
燃性、低毒性、安定性に優れる1,1,2−トリクロロ
−1,2,2−トリフルオロエタン( 以下、R113と
いう。) またはこのR113とこれに可溶な溶剤との混
合溶剤組成物が広く使用されている。R113は、金
属、プラスチック、エラストマー等の基材を侵さず、各
種の汚れを選択的に溶解する等の特徴を有するため、各
種精密機械部品や金属、プラスチック、エラストマー等
からなる各種電子部品、またこれらの電子部品を実装し
たプリント基板、精密機械部品、光学部品等の洗浄には
最適であった。
燃性、低毒性、安定性に優れる1,1,2−トリクロロ
−1,2,2−トリフルオロエタン( 以下、R113と
いう。) またはこのR113とこれに可溶な溶剤との混
合溶剤組成物が広く使用されている。R113は、金
属、プラスチック、エラストマー等の基材を侵さず、各
種の汚れを選択的に溶解する等の特徴を有するため、各
種精密機械部品や金属、プラスチック、エラストマー等
からなる各種電子部品、またこれらの電子部品を実装し
たプリント基板、精密機械部品、光学部品等の洗浄には
最適であった。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】従来使用されていたR
113は、種々の利点を有するにもかかわらず、化学的
にきわめて安定なため、対流圏内での寿命が長く、拡散
して成層圏に達し、ここで紫外線により分解して塩素ラ
ジカルを発生し、この塩素ラジカルが成層圏オゾンと連
鎖反応を起こし、オゾン層を破壊するとのことから、そ
の使用規制が実施されている。
113は、種々の利点を有するにもかかわらず、化学的
にきわめて安定なため、対流圏内での寿命が長く、拡散
して成層圏に達し、ここで紫外線により分解して塩素ラ
ジカルを発生し、この塩素ラジカルが成層圏オゾンと連
鎖反応を起こし、オゾン層を破壊するとのことから、そ
の使用規制が実施されている。
【0004】このため、従来のR113に替わり、オゾ
ン層を破壊しにくい代替溶剤の探索が活発に行われてい
る。
ン層を破壊しにくい代替溶剤の探索が活発に行われてい
る。
【0005】本発明は、従来のR113が有している優
れた特性を満足しながらオゾン層への影響がきわめて少
ない代替溶剤として使用できる新規なフッ素化炭化水素
系溶剤組成物を提供することを目的とするものである。
れた特性を満足しながらオゾン層への影響がきわめて少
ない代替溶剤として使用できる新規なフッ素化炭化水素
系溶剤組成物を提供することを目的とするものである。
【0006】
【課題を解決するための手段】本発明は前述の目的を達
成すべくなされたものであり、ハロゲン化炭化水素類お
よび1H−ペルフルオロヘキサン[H(CF2 )6 F]
(以下、R52−13pという) を含む溶剤組成物、
1,2−ジクロロエタンとR52−13pからなる擬共
沸または共沸溶剤組成物、1,3−ジクロロ−1,1,
2,2,3−ペンタフルオロプロパン(以下、R225
cbという) とR52−13pからなる擬共沸または共
沸溶剤組成物およびcis−1,2−ジクロロエチレン
とR52−13pからなる擬共沸溶剤組成物である。
成すべくなされたものであり、ハロゲン化炭化水素類お
よび1H−ペルフルオロヘキサン[H(CF2 )6 F]
(以下、R52−13pという) を含む溶剤組成物、
1,2−ジクロロエタンとR52−13pからなる擬共
沸または共沸溶剤組成物、1,3−ジクロロ−1,1,
2,2,3−ペンタフルオロプロパン(以下、R225
cbという) とR52−13pからなる擬共沸または共
沸溶剤組成物およびcis−1,2−ジクロロエチレン
とR52−13pからなる擬共沸溶剤組成物である。
【0007】本発明の組成物に用いられる1,2−ジク
ロロエタン、R225cbおよびcis−1,2−ジク
ロロエチレン以外のハロゲン化炭化水素類としては、ジ
クロロメタン、trans−1,2−ジクロロエチレ
ン、1,1,2−トリクロロエタン、トリクロロエチレ
ン、テトラクロロエチレン等の塩素化炭化水素類、2,
2−ジクロロ−1,1,1−トリフルオロエタン、1,
1−ジクロロ−1−フルオロエタン、3,3−ジクロロ
−1,1,1,2,2−ペンタフルオロプロパン、1,
1−ジクロロ−1,2,2,3,3−ペンタフルオロプ
ロパン、1,2−ジクロロ−1,1,3,3,3−ペン
タフルオロプロパン、1,2−ジクロロ−1,1,2,
3,3−ペンタフルオロプロパン、2,3−ジクロロ−
1,1,1,2,3−ペンタフルオロプロパン、2,2
−ジクロロ−1,1,1,3,3−ペンタフルオロプロ
パン等の塩素化フッ素化炭化水素類およびこれらの混合
物を挙げることができるが、これに限定されるものでは
ない。
ロロエタン、R225cbおよびcis−1,2−ジク
ロロエチレン以外のハロゲン化炭化水素類としては、ジ
クロロメタン、trans−1,2−ジクロロエチレ
ン、1,1,2−トリクロロエタン、トリクロロエチレ
ン、テトラクロロエチレン等の塩素化炭化水素類、2,
2−ジクロロ−1,1,1−トリフルオロエタン、1,
1−ジクロロ−1−フルオロエタン、3,3−ジクロロ
−1,1,1,2,2−ペンタフルオロプロパン、1,
1−ジクロロ−1,2,2,3,3−ペンタフルオロプ
ロパン、1,2−ジクロロ−1,1,3,3,3−ペン
タフルオロプロパン、1,2−ジクロロ−1,1,2,
3,3−ペンタフルオロプロパン、2,3−ジクロロ−
1,1,1,2,3−ペンタフルオロプロパン、2,2
−ジクロロ−1,1,1,3,3−ペンタフルオロプロ
パン等の塩素化フッ素化炭化水素類およびこれらの混合
物を挙げることができるが、これに限定されるものでは
ない。
【0008】本発明のハロゲン化炭化水素類を含むR5
2−13pからなる溶剤組成物の混合組成比は特に限定
されることはなく、ハロゲン化炭化水素類/R52−1
3p=1〜99重量%/1〜99重量%の広い範囲で使
用できる。
2−13pからなる溶剤組成物の混合組成比は特に限定
されることはなく、ハロゲン化炭化水素類/R52−1
3p=1〜99重量%/1〜99重量%の広い範囲で使
用できる。
【0009】1,2−ジクロロエタン1〜20重量%と
R52−13p80〜99重量%は擬共沸組成を作り、
さらに1,2−ジクロロエタン3重量%とR52−13
p97重量%は共沸組成を作るので、この範囲で使用す
れば組成変化がほとんど無いか、または全く無く使用で
きるので好ましい。
R52−13p80〜99重量%は擬共沸組成を作り、
さらに1,2−ジクロロエタン3重量%とR52−13
p97重量%は共沸組成を作るので、この範囲で使用す
れば組成変化がほとんど無いか、または全く無く使用で
きるので好ましい。
【0010】R225cb70〜99重量%とR52−
13p1〜30重量%は擬共沸組成を作り、さらにR2
25cb80重量%とR52−13p20重量%は共沸
組成を作るので、この範囲で使用すれば組成変化がほと
んど無いか、または全く無く使用できるので好ましい。
13p1〜30重量%は擬共沸組成を作り、さらにR2
25cb80重量%とR52−13p20重量%は共沸
組成を作るので、この範囲で使用すれば組成変化がほと
んど無いか、または全く無く使用できるので好ましい。
【0011】cis−1,2−ジクロロエチレン1〜1
5重量%とR52−13p85〜99重量%は擬共沸組
成を作るので、この範囲で使用すれば組成変化がほとん
ど無く使用できるので好ましい。
5重量%とR52−13p85〜99重量%は擬共沸組
成を作るので、この範囲で使用すれば組成変化がほとん
ど無く使用できるので好ましい。
【0012】溶解性を高めるために、例えば以下に挙げ
る化合物の一種または二種以上を1〜50重量%、好ま
しくは1〜30重量%、さらに好ましくは1〜20重量
%の範囲で本発明の組成物中へ混合することができる。
る化合物の一種または二種以上を1〜50重量%、好ま
しくは1〜30重量%、さらに好ましくは1〜20重量
%の範囲で本発明の組成物中へ混合することができる。
【0013】n−ペンタン、2−メチルブタン、2,2
−ジメチルプロパン、n−ヘキサン、3−メチルペンタ
ン、2,2−ジメチルブタン、2,3−ジメチルブタ
ン、n−ヘプタン、2−メチルヘキサン、3−メチルヘ
キサン、2,3−ジメチルペンタン、2,4−ジメチル
ペンタン、n−オクタン、2,2,3−トリメチルペン
タン、2,2,4−トリメチルペンタン、シクロペンタ
ン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン、エチルシ
クロヘキサン等の炭化水素類。
−ジメチルプロパン、n−ヘキサン、3−メチルペンタ
ン、2,2−ジメチルブタン、2,3−ジメチルブタ
ン、n−ヘプタン、2−メチルヘキサン、3−メチルヘ
キサン、2,3−ジメチルペンタン、2,4−ジメチル
ペンタン、n−オクタン、2,2,3−トリメチルペン
タン、2,2,4−トリメチルペンタン、シクロペンタ
ン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン、エチルシ
クロヘキサン等の炭化水素類。
【0014】メタノール、エタノール、1−プロパノー
ル、2−プロパノール、1−ブタノール、2−ブタノー
ル、イソブタノール、t−ブタノール等のアルコール
類。
ル、2−プロパノール、1−ブタノール、2−ブタノー
ル、イソブタノール、t−ブタノール等のアルコール
類。
【0015】アセトン、メチルエチルケトン、メチルブ
チルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン類。
チルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン類。
【0016】ジエチルエーテル、メチルセロソルブ、テ
トラヒドロフラン、1,4−ジオキサン等のエーテル
類。
トラヒドロフラン、1,4−ジオキサン等のエーテル
類。
【0017】酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、
酢酸ブチル等のエステル類。
酢酸ブチル等のエステル類。
【0018】主として安定性を高めるために、例えば以
下に挙げる化合物の一種または二種以上を0.001〜
10重量%、好ましくは0.01〜5重量%の範囲で本
発明の組成物中へ混合することができる。
下に挙げる化合物の一種または二種以上を0.001〜
10重量%、好ましくは0.01〜5重量%の範囲で本
発明の組成物中へ混合することができる。
【0019】ニトロメタン、ニトロエタン、ニトロプロ
パン、ニトロベンゼン等のニトロ化合物類。
パン、ニトロベンゼン等のニトロ化合物類。
【0020】ジエチルアミン、トリエチルアミン、i−
プロピルアミン、ブチルアミン、i−ブチルアミン等の
アミン類。
プロピルアミン、ブチルアミン、i−ブチルアミン等の
アミン類。
【0021】フェノール、o−クレゾール、m−クレゾ
ール、p−クレゾール、チモール、p−t−ブチルフェ
ノール、t−ブチルカテコール、カテコール、イソオイ
ゲノール、o−メトキシフェノール、4,4’−ジヒド
ロキシジフェニル−2,2−プロパン、サリチル酸イソ
アミル、サリチル酸ベンジル、サリチル酸メチル、2,
6−ジ−t−ブチル−p−クレゾール等のフェノール
類。
ール、p−クレゾール、チモール、p−t−ブチルフェ
ノール、t−ブチルカテコール、カテコール、イソオイ
ゲノール、o−メトキシフェノール、4,4’−ジヒド
ロキシジフェニル−2,2−プロパン、サリチル酸イソ
アミル、サリチル酸ベンジル、サリチル酸メチル、2,
6−ジ−t−ブチル−p−クレゾール等のフェノール
類。
【0022】2−(2’−ヒドロキシ−5’−メチル−
フェニル) ベンゾトリアゾール、2−(2’−ヒドロキ
シ−3’−t−ブチル−5’−メチルフェニル)−5−
クロロベンゾトリアゾール、1,2,3−ベンゾトリア
ゾール、1−[(N,N−ビス−2−エチルヘキシル)
アミノメチル] ベンゾトリアゾールのトリアゾール類。
フェニル) ベンゾトリアゾール、2−(2’−ヒドロキ
シ−3’−t−ブチル−5’−メチルフェニル)−5−
クロロベンゾトリアゾール、1,2,3−ベンゾトリア
ゾール、1−[(N,N−ビス−2−エチルヘキシル)
アミノメチル] ベンゾトリアゾールのトリアゾール類。
【0023】本発明の溶剤組成物は、従来のR113系
と同程度の溶解力を有し、組成変化がきわめて少ないか
全くない、擬共沸ないしは共沸組成物を形成し、各種用
途に好適に使用できる。かかる具体的な用途としては、
フラックス、グリース、油、ワックス、インキ等の除去
剤、塗料用溶剤、抽出剤、ガラス、セラミックス、プラ
スチック、ゴム、金属製各種物品、特にIC部品、電気
機器、精密機械、光学レンズ等の洗浄剤等を挙げられ
る。
と同程度の溶解力を有し、組成変化がきわめて少ないか
全くない、擬共沸ないしは共沸組成物を形成し、各種用
途に好適に使用できる。かかる具体的な用途としては、
フラックス、グリース、油、ワックス、インキ等の除去
剤、塗料用溶剤、抽出剤、ガラス、セラミックス、プラ
スチック、ゴム、金属製各種物品、特にIC部品、電気
機器、精密機械、光学レンズ等の洗浄剤等を挙げられ
る。
【0024】洗浄方法としては、手拭き、浸漬、スプレ
ー、揺動、超音波洗浄、蒸気洗浄またはこれらを組み合
わせた方法等を採用すればよい。
ー、揺動、超音波洗浄、蒸気洗浄またはこれらを組み合
わせた方法等を採用すればよい。
【0025】
[例1]種々の組成からなる1,2−ジクロロエタンと
R52−13pの溶剤組成物250ccをオスマー型気
液平衡蒸留装置に入れ、加熱して平衡状態に達した後、
気相と液相とを採取しガスクロマトグラフで分析する。
その結果を表1に示す。共沸組成はR52−13p/
1,2−ジクロロエタン=97重量%/3重量%であ
る。
R52−13pの溶剤組成物250ccをオスマー型気
液平衡蒸留装置に入れ、加熱して平衡状態に達した後、
気相と液相とを採取しガスクロマトグラフで分析する。
その結果を表1に示す。共沸組成はR52−13p/
1,2−ジクロロエタン=97重量%/3重量%であ
る。
【0026】[例2]共沸組成を確認するため、R52
−13p/1,2−ジクロロエタン=97重量%/3重
量%からなる溶剤組成物1000gを蒸留フラスコに入
れ、理論段数5段の精留塔に取り付ける。次にその組成
物を加熱して2時間全還流し、平衡状態に達した後、経
時的に留分を採取しガスクロマトグラフで分析する。そ
の結果を表2に示す。
−13p/1,2−ジクロロエタン=97重量%/3重
量%からなる溶剤組成物1000gを蒸留フラスコに入
れ、理論段数5段の精留塔に取り付ける。次にその組成
物を加熱して2時間全還流し、平衡状態に達した後、経
時的に留分を採取しガスクロマトグラフで分析する。そ
の結果を表2に示す。
【0027】[例3]R52−13p/1,2−ジクロ
ロエタン=99重量%/1重量%からなる溶剤組成物2
0kgを小型単槽式洗浄機に入れ、1日あたり6時間で
3日間運転する。経時的に洗浄槽・水分離器各々からサ
ンプリングし、ガスクロマトグラフでの分析結果を表3
に示す。
ロエタン=99重量%/1重量%からなる溶剤組成物2
0kgを小型単槽式洗浄機に入れ、1日あたり6時間で
3日間運転する。経時的に洗浄槽・水分離器各々からサ
ンプリングし、ガスクロマトグラフでの分析結果を表3
に示す。
【0028】[例4]R52−13p/1,2−ジクロ
ロエタン=80重量%/20重量%からなる溶剤組成物
20kgを用いた他は例3と同様に行う。その結果を表
4に示す。
ロエタン=80重量%/20重量%からなる溶剤組成物
20kgを用いた他は例3と同様に行う。その結果を表
4に示す。
【0029】[例5]種々の組成からなるR52−13
pとR225cbの混合溶剤組成物250ccを用いた
他は例1と同様に行う。その結果を表5に示す。共沸組
成はR52−13p/R225cb=20重量%/80
重量%である。
pとR225cbの混合溶剤組成物250ccを用いた
他は例1と同様に行う。その結果を表5に示す。共沸組
成はR52−13p/R225cb=20重量%/80
重量%である。
【0030】[例6]共沸組成を確認するため、R52
−13p/R225cb=20重量%/80重量%から
なる溶剤組成物1000gを用いた他は例2と同様に行
う。その結果を表6に示す。
−13p/R225cb=20重量%/80重量%から
なる溶剤組成物1000gを用いた他は例2と同様に行
う。その結果を表6に示す。
【0031】[例7]R52−13p/R225cb=
30重量%/70重量%からなる溶剤組成物20kgを
用いた他は例3と同様に行う。その結果を表7に示す。
30重量%/70重量%からなる溶剤組成物20kgを
用いた他は例3と同様に行う。その結果を表7に示す。
【0032】[例8]R52−13p/R225cb=
1重量%/99重量%からなる溶剤組成物20kgを用
いた他は例3と同様に行う。その結果を表8に示す。
1重量%/99重量%からなる溶剤組成物20kgを用
いた他は例3と同様に行う。その結果を表8に示す。
【0033】[例9]R52−13p/cis−1,2
−ジクロロエチレン=85重量%/15重量%からなる
溶剤組成物20kgを用いた他は例3と同様に行う。そ
の結果を表9に示す。
−ジクロロエチレン=85重量%/15重量%からなる
溶剤組成物20kgを用いた他は例3と同様に行う。そ
の結果を表9に示す。
【0034】[例10]R52−13p/cis−1,
2−ジクロロエチレン=99重量%/1重量%からなる
溶剤組成物20kgを用いた他は例3と同様に行う。そ
の結果を表10に示す。
2−ジクロロエチレン=99重量%/1重量%からなる
溶剤組成物20kgを用いた他は例3と同様に行う。そ
の結果を表10に示す。
【0035】[例11〜24]表11に示す溶剤組成物
を用いて機械油の洗浄試験を行う。すなわち、SUS−
304のテストピース(25mm×30mm×2mm)
を機械油(日本石油製CQ−30)中に浸漬した後、表
11に示す本発明の溶剤組成物中に5分浸漬する。機械
油の除去度(◎: 良好に除去可、△: 微量残存、×: か
なり残存)を判定し、その結果を表11に示す。
を用いて機械油の洗浄試験を行う。すなわち、SUS−
304のテストピース(25mm×30mm×2mm)
を機械油(日本石油製CQ−30)中に浸漬した後、表
11に示す本発明の溶剤組成物中に5分浸漬する。機械
油の除去度(◎: 良好に除去可、△: 微量残存、×: か
なり残存)を判定し、その結果を表11に示す。
【0036】[例25〜32]表12に示す溶剤用組成
物を用いてフラックスの洗浄試験を行う。すなわち、ガ
ラスエポキシ製のプリント基板(50mm×100mm
×1.6mm)全面にフラックス(スピーディフラック
スAGF−J−I:アサヒ化学研究所製)を塗布し、2
60℃の半田温度でウエーブソルダー機を用いて半田付
け後、表12に示す本発明の溶剤用組成物に3分間浸漬
し洗浄を行う。フラックスの除去度(◎: 良好に除去
可、△: 微量残存、×: かなり残存)を判定し、その結
果を表12のB欄に示す。
物を用いてフラックスの洗浄試験を行う。すなわち、ガ
ラスエポキシ製のプリント基板(50mm×100mm
×1.6mm)全面にフラックス(スピーディフラック
スAGF−J−I:アサヒ化学研究所製)を塗布し、2
60℃の半田温度でウエーブソルダー機を用いて半田付
け後、表12に示す本発明の溶剤用組成物に3分間浸漬
し洗浄を行う。フラックスの除去度(◎: 良好に除去
可、△: 微量残存、×: かなり残存)を判定し、その結
果を表12のB欄に示す。
【0037】同様に表12に示す溶剤用組成物を用いて
付着水の除去試験を行う。すなわち、30mm×18m
m×5mmのガラス板を純水に浸漬後、表12に示す本
発明の溶剤用組成物中に20秒浸漬して水切りを行い、
取り出したガラス板を無水メタノール中に浸漬してその
水分増加量から付着水の除去状況を判定する。付着水の
除去度(◎: 良好に除去可、△: 微量残存、×: かなり
残存)を判定し、その結果を表12のC欄に示す。
付着水の除去試験を行う。すなわち、30mm×18m
m×5mmのガラス板を純水に浸漬後、表12に示す本
発明の溶剤用組成物中に20秒浸漬して水切りを行い、
取り出したガラス板を無水メタノール中に浸漬してその
水分増加量から付着水の除去状況を判定する。付着水の
除去度(◎: 良好に除去可、△: 微量残存、×: かなり
残存)を判定し、その結果を表12のC欄に示す。
【0038】
【表1】
【0039】
【表2】
【0040】
【表3】
【0041】
【表4】
【0042】
【表5】
【0043】
【表6】
【0044】
【表7】
【0045】
【表8】
【0046】
【表9】
【0047】
【表10】
【0048】
【表11】
【0049】
【表12】
【0050】
【発明の効果】本発明のハロゲン化炭化水素類およびR
52−13pを含む溶剤組成物は、従来のR113が有
している優れた特性を満足し、成層圏オゾン層へほとん
ど影響を与えない等の利点がある。
52−13pを含む溶剤組成物は、従来のR113が有
している優れた特性を満足し、成層圏オゾン層へほとん
ど影響を与えない等の利点がある。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 C09D 7/12 PSL C11D 7/30 C23G 5/028 H01L 21/304 341 L H05K 3/26 7511−4E (72)発明者 津崎 真彰 千葉県市原市五井海岸10番地 旭硝子株式 会社千葉工場内 (72)発明者 大春 一也 神奈川県横浜市神奈川区羽沢町1150番地 旭硝子株式会社中央研究所内
Claims (8)
- 【請求項1】ハロゲン化炭化水素類および1H−ペルフ
ルオロヘキサンを含む溶剤組成物。 - 【請求項2】ハロゲン化炭化水素類と1H−ペルフルオ
ロヘキサンの混合割合がハロゲン化炭化水素類/1H−
ペルフルオロヘキサン=1〜99重量%/1〜99重量
%である請求項1の溶剤組成物。 - 【請求項3】ハロゲン化炭化水素類が1,2−ジクロロ
エタン、1,3−ジクロロ−1,1,2,2,3−ペン
タフルオロプロパンまたはcis−1,2−ジクロロエ
チレンである請求項1または2の溶剤組成物。 - 【請求項4】1,2−ジクロロエタン1〜20重量%と
1H−ペルフルオロヘキサン80〜99重量%からなる
擬共沸溶剤組成物。 - 【請求項5】1,2−ジクロロエタン3重量%と1H−
ペルフルオロヘキサン97重量%からなる共沸溶剤組成
物。 - 【請求項6】1,3−ジクロロ−1,1,2,2,3−
ペンタフルオロプロパン70〜99重量%と1H−ペル
フルオロヘキサン1〜30重量%からなる擬共沸溶剤組
成物。 - 【請求項7】1,3−ジクロロ−1,1,2,2,3−
ペンタフルオロプロパン80重量%と1H−ペルフルオ
ロヘキサン20重量%からなる共沸溶剤組成物。 - 【請求項8】cis−1,2−ジクロロエチレン1〜1
5重量%と1H−ペルフルオロヘキサン85〜99重量
%からなる擬共沸溶剤組成物。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6205662A JPH0867897A (ja) | 1994-08-30 | 1994-08-30 | 改良された溶剤組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6205662A JPH0867897A (ja) | 1994-08-30 | 1994-08-30 | 改良された溶剤組成物 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0867897A true JPH0867897A (ja) | 1996-03-12 |
Family
ID=16510615
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6205662A Pending JPH0867897A (ja) | 1994-08-30 | 1994-08-30 | 改良された溶剤組成物 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0867897A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2003044148A1 (fr) * | 2001-11-22 | 2003-05-30 | Asahi Glass Company, Limited | Composition de solvants |
| WO2004020568A1 (ja) * | 2002-08-29 | 2004-03-11 | Asahi Glass Company, Limited | 溶剤組成物 |
| JP2021020870A (ja) * | 2019-07-26 | 2021-02-18 | 関東電化工業株式会社 | 1,1,2−トリクロロ−2−フルオロエテン(tcfe)の製造方法及び用途 |
-
1994
- 1994-08-30 JP JP6205662A patent/JPH0867897A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2003044148A1 (fr) * | 2001-11-22 | 2003-05-30 | Asahi Glass Company, Limited | Composition de solvants |
| WO2004020568A1 (ja) * | 2002-08-29 | 2004-03-11 | Asahi Glass Company, Limited | 溶剤組成物 |
| US7163646B2 (en) | 2002-08-29 | 2007-01-16 | Asahi Glass Company, Limited | Solvent compositions |
| JP2021020870A (ja) * | 2019-07-26 | 2021-02-18 | 関東電化工業株式会社 | 1,1,2−トリクロロ−2−フルオロエテン(tcfe)の製造方法及び用途 |
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