JPH0765320A - 薄膜磁気ヘッド及びその製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 記録媒体対向面における相対向する一対の磁
極の配置誤差を極小にして良好な記録特性を得ることが
でき、かつスロートハイトを精度よく出し、バラツキの
少ない特性をもつことができる薄膜磁気ヘッド及びその
製造方法を提供する。 【構成】 互いに磁気的に結合されかつ間に駆動用コイ
ル14を挟持する、磁性薄膜からなる下部、上部主磁極3
0，31と、磁性薄膜からなる第１、第２のポールチップ3
5，36の間に磁気ギャップ12を形成させて構成した補助
磁極ブロック34とを有し、下部、上部主磁極30，31の端
部間に形成される空間部33に補助磁極ブロック34を、下
部、上部主磁極30，31のそれぞれと第１、第２のポール
チップ35，36のそれぞれとを磁気的に結合させて介装し
た。補助磁極ブロック34を一体にブロック化して構成し
ているので、磁気ギャップ12近傍部分を正確にトラック
幅になるように加工することができる。第１、第２のポ
ールチップ35，36にずれは生ずることがないので、良好
な記録再生特性を確保できる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、記録媒体への情報記録
等に用いられる薄膜磁気ヘッド及びその製造方法に関す
るものである。

【０００２】

【従来の技術】従来の薄膜磁気ヘッド製造方法の一例を
図７ないし図10に基づいて説明する。まず、下地として
の非磁性材料の基板１上にFeNi膜のシード層（パーマロ
イ磁極をメッキするための陰極）２を蒸着またはスパッ
ターにより作成する（ステップS1）。シード層２の上に
フォトレジスト層３を形成する（ステップS2）。次に、
目合せマーク（図示省略）を有するフォトマスク４をフ
ォトレジスト層３上に配置し（フォトマスク４の上に
は、磁極作成用パターン５及び目合せマーク作成用パタ
ーン６が配置されている。）フォトマスク４を通してフ
ォトレジスト層３を紫外線８の照射により露光する（ス
テップS3）。

【０００３】続いて、フォトレジスト（フォトレジスト
層３）を現像して紫外線８の照射部分を溶解する（ステ
ップS4）。次に、シード層２を陰極にしてパーマロイ
（FeNi）膜９を電着すると、シード層２露出部分のみパ
ーマロイ（パーマロイ膜９）が成長する（ステップS
5）。この後、フォトレジスト（フォトレジスト層３）
を除去し（ステップS6）、不要なシード層２を除去する
と（ステップS7）、下部磁極10及び目合せ用パターン11
が完成する。

【０００４】次に、磁気ギャップ12形成用非磁性膜13、
駆動用コイル14の作成及びコイル絶縁体15を兼ねるフォ
トレジスト16の作成を行う（ステップS8）。ステップS8
に続いて、フォトレジスト16の軟化点まで温度を上げ、
フォトレジスト16の段差をなくして平坦化する（ステッ
プS9）。次に、上部磁極17用シード層18及びフォトレジ
スト19を形成する（ステップS10 ）。

【０００５】続いて、上部磁極17露光用フォトマスク20
による目合せ（位置合せ）を行う（上部磁極17露光用フ
ォトマスク20の目合せマーク21を通し、すでに作成され
た目合せ用パターン11を見て合うところを捜す）（ステ
ップS11 ）。次に、上部磁極17露光用フォトマスク20を
固定しフォトレジスト19を露光する（紫外線８を照射す
る）（ステップS12 ）。

【０００６】次に、フォトレジスト19を現像する（ステ
ップS13 ）。続いて、上部磁極17用シード層18を陰極に
して上部磁極17となるパーマロイ膜22を電着により形成
する（フォトレジスト19で覆われている部分にはパーマ
ロイ膜22がつかない）（ステップS14 ）。フォトレジス
ト19及び上部磁極17用シード層18を除去して（ステップ
S15 ）薄膜磁気ヘッドを完成する。

【０００７】上述した製造方法に基づいて得た薄膜磁気
ヘッドの一例を図11ないし図13に示す。図において、下
部、上部磁極10，17は略矩形の下部側、上部側基端部10
a ，17a 、下部側、上部側連接部10b ，17b および略矩
形の下部側、上部側ギャップ形成部10c ，17c より構成
されている。上部側基端部17a の中央部には下方に突出
する凸部23が形成されており、凸部23が下部側基端部10
a に当接して下部、上部磁極10，17が、磁気的に結合さ
れている。上部側連接部17b は下側に向けて凹部が形成
されており、この凹部の位置で下部、上部磁極10，17は
駆動用コイル14を挟持している。下部側、上部側ギャッ
プ形成部10c ，17c には磁気ギャップ12が形成されてい
る。下部側、上部側ギャップ形成部10c ，17c に臨んで
記録媒体（図示省略）が対向することになる。下部側、
上部側ギャップ形成部10c ，17cの記録媒体に対する対
向面を、以下、記録媒体対向面25という。

【０００８】駆動用コイル14を挟み込む下部側、上部側
連接部10b ，17b は幅広で、記録媒体対向面25になるに
従って上述したように幅が狭くなって（絞り込まれて）
おり、磁気ヘッド効率を高めたものになっている。下部
側、上部側ギャップ形成部10c ，17c の記録媒体対向面
25における幅寸法は、トラック幅Ｗ_T に等しい寸法に設
定されている。前記下部、上部磁極10，17は光学露光技
術で形成され、両者は目合せ露光により重ね合わせられ
ている。

【０００９】

【発明が解決しようとする課題】ところで、良好な特性
を確保する等のために下部側、上部側ギャップ形成部の
それぞれの幅寸法を可能な限り同等に設定し、かつ磁気
ギャップを挟んで重合せを完全に一致させることが望ま
れる。しかしながら、上述した薄膜磁気ヘッドでは、下
部、上部磁極10，17を光学露光技術で形成し、両者を目
合せ露光により重ね合わすようにしているため、下部
側、上部側ギャップ形成部10c ，17c のそれぞれの幅を
等しくギャップ幅Ｗ_T に合わせることが難しく、また仮
に下部側、上部側ギャップ形成部10c ，17c のそれぞれ
の幅寸法を同等に設定できたとしても、目合せ誤差によ
り両者がずれて適切な重合せを図ることが困難であり、
前記要望に応えられなかった。

【００１０】この問題点に対して、図13に示すように上
部側ギャップ形成部17c をその幅が可能な限りトラック
幅Ｗ_T に等しくなるように加工する一方、下部側ギャッ
プ形成部10c を重合せ誤差をカバーできる範囲でトラッ
ク幅Ｗ_T に比して幅広に作製し、下部側、上部側ギャッ
プ形成部10c ，17c が互いに外れないように構成してい
る。

【００１１】しかし、この場合、下部、上部磁極10，17
の幅が食い違い、かつ重合せのアンバランスにより磁気
ヘッドからの書き込み磁界が不均一なものとなる。ま
た、下部、上部磁極10，17のうち一方のトラック幅Ｗ_T
に比して他方のものがトラック幅より広い幅を有するこ
とにより記録媒体からの読み出し時に隣接トラックの干
渉を受け、記録再生特性やオフトラック特性の劣化を招
いてしまう。この問題はトラック幅Ｗ_T が狭い程顕著な
ものになる。

【００１２】上述した下部、上部磁極10，17の重合せの
誤差をなくし、かつこの下部側、上部側ギャップ形成部
10c ，17c の幅をトラック幅Ｗ_T に合せるために、下部
側、上部側ギャップ形成部10c ，17c 近傍の幅をあらか
じめ十分大きく設定しておき、この後、トラック幅Ｗ_T
寸法になるように下部側、上部側ギャップ形成部10c，1
7c 近傍を同時にエッチングする加工方法が取られてい
る。この方法では、下部側、上部側ギャップ形成部10c
，17c の重合せのずれは解消できる。しかしながら、
エッチング工程を新たに導入することとなってその分だ
け製造工程が複雑になってしまう。また、下部、上部磁
極10，17は厚いため、エッチング時間がかかり、これに
伴ってトラック幅Ｗ_T を精度高いものにすることが困難
であった。

【００１３】さらに、図11ないし図13に示す薄膜磁気ヘ
ッドでは、下部、上部磁極10，17は下部側、上部側基端
部10a ，17a では互いに接しており、下部側、上部側連
接部10b ，17b ではコイル17を挟持するため間隙が広が
り、ギャップ部12においては再びギャップ寸法にまで間
隙が狭まっている。この間隙の変化は可能な限りスムー
ズに行う必要がある。もし不連続な間隙の変化がある
と、不連続部分で磁極が発生し磁気ヘッドの効率を低下
させる虞がある。この問題を避けるためにコイル絶縁体
15に有機材料を用いている。そして、加熱処理で有機材
料15の表面および端部をなだらかなものにし、磁気ギャ
ップ12に向かっての間隙変化をスムーズなものにしてい
る。しかを、有機材料の形成、加熱条件によって流動性
が異なり、スロートハイトＨ_T （上部磁極17と下部磁極
10の磁気ギャップにおけるつき合せ高さ）を一定に保つ
ことが難しく、これにより特性のバラツキが増加し、歩
留りを低下せる原因にもなっていた。

【００１４】本発明は、上記事情に鑑みてなされたもの
で、記録媒体対向面における相対向する一対の磁極の配
置誤差を極小にして良好な記録特性を得ることができ、
かつスロートハイトを精度よく出し、バラツキの少ない
特性をもつことができる薄膜磁気ヘッド及びその製造方
法を提供することを目的とする。

【００１５】

【課題を解決するための手段】本発明の薄膜磁気ヘッド
は、上記目的を達成するために、一端が互いに磁気的に
結合されかつ間に駆動用コイルを挟持する、磁性薄膜か
らなる第１、第２の主磁極と、磁性薄膜からなる第１、
第２のポールチップの間に磁気ギャップを形成させて構
成した補助磁極ブロックとを有し、第１、第２の主磁極
の他端部間に形成される空間部に前記補助磁極ブロック
を、第１、第２の主磁極のそれぞれと第１、第２のポー
ルチップのそれぞれとを磁気的に結合させて介装したこ
とを特徴とする。

【００１６】本発明の薄膜磁気ヘッド製造方法は、上記
目的を達成するために、基板上の第１の主磁極及び該第
１の主磁極の中央側に位置させた駆動コイルを形成した
後、上面側に磁性薄膜、非磁性膜及び磁性薄膜を積層
し、エッチング加工又はリフトオフ処理を行なって不用
部分を取り除き前記磁性薄膜、非磁性膜及び磁性薄膜か
ら第１のポールチップ、磁気ギャップ及び第２のポール
チップを得て補助磁極ブロックを第１の主磁極の一端側
に形成することを特徴とする。

【００１７】

【作用】本発明装置の構成によれば、第１、第２の主磁
極の端部間に介装する補助磁極ブロックを、第１、第２
のポールチップ及び磁気ギャップから一体にブロック化
して構成しているので、書き込み、読み出しに重要な働
きをする磁気ギャップ近傍部分を正確にトラック幅にな
るように加工することができる。更に、磁気ギャップを
挟んだ第１、第２のポールチップにずれは皆無になり、
良好な記録再生特性を確保できる。

【００１８】また、補助磁極ブロックの第１、第２のポ
ールチップとなる軟磁性体薄膜の飽和磁束密度及び透磁
率を主磁極の軟磁性体薄膜のそれよりも大きく設定する
ことが可能となり、このように設定することにより磁気
ギャップ近傍の磁界強度変化を急峻にし、また主磁極と
第１、第２のポールチップとの幅の差による磁界の乱れ
を減少させ、特性の改善を図ることができる。

【００１９】

【実施例】以下、本発明の第１実施例を図１ないし図３
に基づいて説明する。図において、30，31は、軟磁性体
薄膜からなる下部、上部主磁極（第１、第２の主磁極）
であり、下部主磁極30は基板１上に形成されている。

【００２０】下部、上部主磁極30，31の一端部には略矩
形の下部側、上部側基端部30a ，31a が形成されてい
る。下部側、上部側基端部30a ，31a に連接して、下
部、上部主磁極30，31には幅寸法が逓減する下部側、上
部側連接部30b ，31b が形成されている。この下部側、
上部側連接部30b ，31b に連接して略矩形の下部側、上
部側ギャップ形成部30c ，31c が設けられている。上部
側基端部31a と下部側基端部30a との間には軟磁性体薄
膜32が設けられており、下部、上部主磁極30，31を磁気
的に結合している。下部、上部主磁極30，31には、その
中央側部分に位置して薄膜導体によりスパイラル状に形
成される駆動用コイル14が挟持されている。

【００２１】上部主磁極31の他端部と下部主磁極30の他
端部との間に形成される空間部33には、補助磁極ブロッ
ク34が介装されている。補助磁極ブロック34は、磁性薄
膜35A ，36A からなる第１、第２のポールチップ35，36
と、第１、第２のポールチップ35，36の間に形成された
空隙部に挿入されて磁気ギャップ12を形成する非磁性薄
膜12A とから構成され、第１、第２のポールチップ35，
36をそれぞれ下部、上部主磁極30，31に磁気的に結合し
たものになっている。この場合、補助磁極ブロック34
は、第１のポールチップ35を構成する磁性薄膜35A 、磁
気ギャップ12を形成する非磁性薄膜12A 、第２のポール
チップ36を構成する磁性薄膜36A をスパッター等の技術
により逐次、積層して作製され、一体にブロック化され
たものになっている。

【００２２】このように一体ブロック化して補助磁極ブ
ロック34を構成することにより、書き込み、読み出しに
重要な働きをする磁気ギャップ12近傍部分（補助磁極ブ
ロック34に相当する部分）を正確にトラック幅Ｗ_T にな
るように加工することができる。更に、一体ブロック化
して補助磁極ブロック34を構成することにより、磁気ギ
ャップ12を挟んだ第１、第２のポールチップ35，36にず
れは生ずることがない。このため、良好な記録再生特性
を確保できる。また、これに伴い従来の薄膜磁気ヘッド
で行われていた上下の磁極の別々の作成及び目合せ露光
での重合せが不要となる。

【００２３】磁気ヘッド全体の閉磁路が、一体にブロッ
ク化された補助磁極ブロック34を下部、上部主磁極30，
31で挟み、この下部、上部主磁極30，31をリアギャップ
部に設ける軟磁性体薄膜32により結合させて形成されて
いる。このような構成の磁気ヘッドにおいては、図３に
示すように下部、上部主磁極30，31は、記録媒体対抗面
では補助磁極ブロック34と同一面上に露出しているが、
書き込み、読み出しに重要な働きをする磁気ギャップ12
より離れた部分に位置されている。このため、下部、上
部主磁極30，31それぞれの幅寸法が多少異なっていた
り、あるいは互いの位置がずれていても記録再生特性は
その影響をほとんど受けることがない。

【００２４】さらに、互いの位置がずれていても記録再
生特性はその影響をほとんど受けることがないので、補
助磁極ブロック34を包含するように下部、上部主磁極3
0，31の幅及び下部、上部主磁極30，31の目合せ精度を
選べばよいことになる。このため、従来の目合せ露光技
術で十分作成できることになる。

【００２５】以上説明したように本発明における薄膜磁
気ヘッドの特徴は、一体ブロック化して補助磁極ブロッ
ク34を構成することにある。これにより書き込み、読み
出しに重要な働きをする磁気ギャップ12近傍部分（補助
磁極ブロック34に相当する部分）を正確にトラック幅Ｗ
_T になるように加工することができる。第１、第２のポ
ールチップ35，36の幅を同等に設定でき、かつその配置
誤差を極小にできるので、良好な記録特性を得ることが
できる。

【００２６】次に、本発明の製法例を図４及び図５に基
づいて説明する。図４において、基板１の表面には、下
部主磁極30と同一形状の凹部40がイオンエッチング等の
技術により形成されている。この凹部40に下部主磁極30
が埋め込まれている。主磁極の先端部分（記録媒体に対
向する部分）のパターン幅Ｗ_P は補助磁極ブロック34形
成の位置精度をカバーできる範囲でトラック幅Ｗ_T より
わずかに広く取っておく（図４（ａ１），（ａ２））。

【００２７】下部主磁極30を形成した後、駆動用コイル
14を形成する。駆動用コイル14を形成した後、全体をフ
ォトレジスト41で覆う。フォトレジスト41に対して露
光、現像を行うことによりフォトレジスト41における補
助磁極ブロック34形成部分及びリアギャップ部分に下部
主磁極30に達する孔42，43を形成する（図４（ｂ１），
（ｂ２））。

【００２８】補助磁極ブロック34形成部分の孔42の幅
は、正確にトラック幅Ｗ_T に合わせる。孔42，43は、下
部主磁極30の先端部分の幅に比して短いものになってい
る。また、同孔42の右端は、図左より一点鎖線Ｂ（図４
（ｅ１））まで研磨し、最終段階でスロートハイトＨ_T
を出す時に、所定のスロートハイトＨ_T が得られる位置
とする。

【００２９】レジストパターン（フォトレジスト41）形
成後、第１のポールチップ35になる軟磁性体薄膜35B 、
磁気ギャップ12を形成する非磁性体膜12A 、第２のポー
ルチップ36になる軟磁性体薄膜36B を逐次積層する（図
４（ｃ））。積層後、フォトレジスト41を除去すればフ
ォトレジスト41上部に積層された各積層は剥離され（い
わゆる、リフトオフ技術）、第１，第２のポールチップ
35，36及び磁気ギャップ12からなる補助磁極ブロック34
が形成される（図４（ｄ））。

【００３０】この製造方法で明らかな如く、磁気ギャッ
プ12及びこの磁気ギャップ12を挟む第１、第２のポール
チップ35，36は同一のレジストパターンで形成される。
従ってそれぞれの位置ずれは皆無となる。またトラック
幅Ｗ_T はレジストパターンの精度で決まり、従来の方法
に比べて大きな精度向上を図ることができる。

【００３１】補助磁極ブロック34を形成した後、平坦化
処理を行い、この上に上部主磁極31を形成する（図４
（ｅ１），（ｅ２））。目合せ位置は、補助磁極ブロッ
ク34が上部磁極17の先端幅内に収まればよく、従来の目
合せ露光技術により容易に達成できる。逆に、目合せ露
光技術で重合せができる程度に上部主磁極31の先端幅を
広く設定すればよい。

【００３２】各層の形成後、最終の薄膜磁気ヘッドの形
にするために、図４（ｅ１），（ｅ２）において一点鎖
線Ｂまで研磨される。Ｂ点は研磨量検出マークを目処に
研磨されるが研磨量検出マークすなわち点Ｂとスロート
ハイトを規定する点Ａは、研磨量検出マークを補助磁極
ブロックを作るときに用いられる同一マスクで作れば正
確に相互の位置を規定することができる。このためスロ
ートハイトＨ_T を正確に出すことができる。

【００３３】第１、第２のポールチップ35，36の軟磁性
体薄膜35B ，36B と下部、上部主磁極30，31の軟磁性体
薄膜は同一の磁気特性を有するものであってもよい。し
かし、本発明においては異なった磁気特性の軟磁性体薄
膜とすることもできる。特に補助磁極ブロック34の第
１、第２のポールチップ35，36となる軟磁性体薄膜35
B，36B の飽和磁束密度及び透磁率を下部、上部主磁極3
0，31の軟磁性体薄膜のそれよりも大きくすることによ
り、磁気ギャップ12近傍の磁界強度変化を急峻にし、ま
た下部、上部主磁極30，31と第１、第２のポールチップ
35，36との幅の差による磁界の乱れを減少させ、特性の
改善を図ることができる。

【００３４】従来の薄膜磁気ヘッドでは、例えば図11な
いし図13に示すように、記録媒体対向面25の磁極（下
部、上部磁極10，17）は磁気ギャップ12を挟んでそれぞ
れ一体で作られている。一方、本発明では、従来の記録
媒体対向面25側の下部磁極10に対応するものが下部主磁
極30及び第１のポールチップ35で構成され、従来の記録
媒体対向面25側の上部磁極17に対応するものが上部主磁
極31及び第２のポールチップ36で構成され、記録媒体対
向面25に露出している。２種類の軟磁性体薄膜間に磁気
的に不連続が生じた場合、この境界は疑似ギャップとな
りノイズを発生する。ノイズの発生を防ぐため、製造時
に極力非磁性層の発生を防ぎ、磁気的コンタクトを良好
にする必要がある。同時にこの部分を、たとえばイオン
エッチング等によりスライダー面よりわずかに下げるこ
とで疑似ギャップの影響を取り除くことができる。な
お、上記実施例では駆動用コイル14形成後、補助磁極ブ
ロック34を作成するようにした場合を例にしたが、第
１、第２のポールチップ35，36作成後、駆動用コイル14
を作成することも可能である。

【００３５】上述した実施例では、補助磁極ブロック34
作成にリフトオフ技術を用いているが、これに代えて、
図６に示すように始めに第１、第２のポールチップ35，
36を構成する軟磁性体薄膜35B ，36B とギャップ用非磁
性体薄膜12A を全面に形成し（図６（ａ））、第１、第
２のポールチップ35，36部分のみフォトレジスト50で覆
い（図６（ｂ））、他の部分をエッチングで除去して
（図６（ｃ））補助磁極ブロック34を作成する（図６
（ｄ））こともできる。

【００３６】さらに、従来の薄膜磁気ヘッドでは、下部
側、上部側連接部10b ，17b の絞り込みを可能な限りス
ムーズなものに設定するため、駆動用コイル14の絶縁膜
に有機材料を用いているが、有機材料の形成、加熱条件
によっては、流動性が異なり、スロートハイトＨ_T を決
める点Ａ（図11参照）は常に一定に保つことが難しく、
これにより特性のばらつきが増加し歩留りを下げる原因
になっていた。これに対して本発明は、上述したように
研磨量検出マークとを規定する点Ａは正確に相互の位置
を規定することができるので、スロートハイトＨ_T を正
確に出すことができる。

【００３７】

【発明の効果】本発明装置は、以上説明したように構成
された薄膜磁気ヘッドであるから、第１、第２の主磁極
の端部間に介装する補助磁極ブロックを、第１、第２の
ポールチップ及び磁気ギャップから一体にブロック化し
て構成しているので、書き込み、読み出しに重要な働き
をする磁気ギャップ近傍部分を正確にトラック幅になる
ように加工することができる。更に、磁気ギャップを挟
んだ第１、第２のポールチップにずれは皆無になるの
で、良好な記録再生特性を確保できる。

【００３８】また、補助磁極ブロックの第１、第２のポ
ールチップとなる軟磁性体薄膜の飽和磁束密度及び透磁
率を主磁極の軟磁性体薄膜のそれよりも大きく設定する
ことが可能となり、このように設定することにより磁気
ギャップ近傍の磁界強度変化を急峻にし、また主磁極と
第１、第２のポールチップとの幅の差による磁界の乱れ
を減少させ、特性の改善を図ることができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の第１実施例の薄膜磁気ヘッドを示す断
面図である。

【図２】同薄膜磁気ヘッドを示す平面図である。

【図３】同薄膜磁気ヘッドを示す正面図である。

【図４】本発明の第２実施例の薄膜磁気ヘッドの製造方
法を示す工程図である。

【図５】同製造方法に基づいて得られる薄膜磁気ヘッド
の磁気ギャップ部分を示す斜視図である。

【図６】本発明の他の実施例の薄膜磁気ヘッドの製造方
法を示す工程図である。

【図７】従来の薄膜磁気ヘッド製造方法のシード層作成
から電着処理までの工程を示す図である。

【図８】図７に続くステップS5ないしステップS10 の工
程を示す図である。

【図９】図８に続くステップS11 ないしステップS12 の
工程を示す図である。

【図１０】図９に続くステップS13 ないしステップS15
の工程を示す図である。

【図１１】従来の薄膜磁気ヘッドの一例を示す断面図で
ある。

【図１２】同薄膜磁気ヘッドを示す平面図である。

【図１３】同薄膜磁気ヘッドの磁気ギャップ部分を示す
斜視図である。

【符号の説明】

12 磁気ギャップ 14 駆動用コイル 30 下部主磁極 31 上部主磁極 33 空間部 34 補助磁極ブロック

Claims (3)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 一端が互いに磁気的に結合されかつ間に
   駆動用コイルを挟持する、磁性薄膜からなる第１、第２
   の主磁極と、磁性薄膜からなる第１、第２のポールチッ
   プの間に磁気ギャップを形成させて構成した補助磁極ブ
   ロックとを有し、第１、第２の主磁極の他端部間に形成
   される空間部に前記補助磁極ブロックを、第１、第２の
   主磁極のそれぞれと第１、第２のポールチップのそれぞ
   れとを磁気的に結合させて介装したことを特徴とする薄
   膜磁気ヘッド。
2. 【請求項２】 請求項１記載の薄膜磁気ヘッドにおい
   て、第１、第２のポールチップを構成する磁性薄膜の磁
   気特性と第１、第２の主磁極を構成する磁性薄膜の磁気
   特性を異なるものにした薄膜磁気ヘッド。
3. 【請求項３】 請求項１記載の薄膜磁気ヘッドにおい
   て、第１のポールチップとなる磁性薄膜、磁気ギャップ
   となる非磁性薄膜および第２のポールチップとなる磁性
   薄膜を逐次積層したのち一括してリフトオフまたはエッ
   チング加工により補助磁極ブロックを作成することを特
   徴とする薄膜磁気ヘッドの製造方法。