JPH0766523B2 - 磁気記録媒体 - Google Patents
磁気記録媒体Info
- Publication number
- JPH0766523B2 JPH0766523B2 JP62021996A JP2199687A JPH0766523B2 JP H0766523 B2 JPH0766523 B2 JP H0766523B2 JP 62021996 A JP62021996 A JP 62021996A JP 2199687 A JP2199687 A JP 2199687A JP H0766523 B2 JPH0766523 B2 JP H0766523B2
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- magnetic recording
- inorganic particles
- film
- recording medium
- layer
- Prior art date
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- Magnetic Record Carriers (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ 本発明は、ポリイミドフィルムをベースフィルムに使用
した磁気記録媒体に関する。
した磁気記録媒体に関する。
［従来の技術］ 従来、磁気記録媒体としては、真空蒸着法、スパッタリ
ング法、あるいはメッキ法等の薄膜堆積法を用いた薄膜
型磁気記録媒体と、磁性粉塗布型磁気記録媒体が知られ
ている。特に薄膜型磁気記録媒体は、現在汎用されてい
る磁性粉塗布型記録媒体に比べ、記録密度の向上が可能
であり、次世代の記録媒体として有望視されている。
ング法、あるいはメッキ法等の薄膜堆積法を用いた薄膜
型磁気記録媒体と、磁性粉塗布型磁気記録媒体が知られ
ている。特に薄膜型磁気記録媒体は、現在汎用されてい
る磁性粉塗布型記録媒体に比べ、記録密度の向上が可能
であり、次世代の記録媒体として有望視されている。
一方、この薄膜型磁気記録媒体の製造に際しては、蒸発
源からの輻射熱や入射粒子エネルギーによる基体フィル
ムの熱負けがある。また、垂直磁気記録媒体のCo−Cr合
金のように、十分な磁気特性を得るためには高温での成
膜が必要な場合も有る。この様に、基体には耐熱性の良
い事が要求されるため、テープやフロッピーディスク用
のフレキシブルな基体には、一般のポリエステルよりさ
らに耐熱性の良い、例えばポリイミドフィルムが適する
とされている。
源からの輻射熱や入射粒子エネルギーによる基体フィル
ムの熱負けがある。また、垂直磁気記録媒体のCo−Cr合
金のように、十分な磁気特性を得るためには高温での成
膜が必要な場合も有る。この様に、基体には耐熱性の良
い事が要求されるため、テープやフロッピーディスク用
のフレキシブルな基体には、一般のポリエステルよりさ
らに耐熱性の良い、例えばポリイミドフィルムが適する
とされている。
［発明が解決しようとする問題点］ ところで、磁気記録媒体においては、記録層の性能を引
き出し、かつそれを長期間維持することが必要であるこ
とは言うまでもない。それ故、磁気記録層の特性以外に
も、媒体の表面性や保護あるいは潤滑性が重要である。
特に薄膜型磁気記録媒体の表面性は、基体の表面性が反
映され易いため、基体の表面凹凸の微細な制御が、磁気
記録媒体の出力向上、耐久性、走行性向上の点で極めて
重要である。
き出し、かつそれを長期間維持することが必要であるこ
とは言うまでもない。それ故、磁気記録層の特性以外に
も、媒体の表面性や保護あるいは潤滑性が重要である。
特に薄膜型磁気記録媒体の表面性は、基体の表面性が反
映され易いため、基体の表面凹凸の微細な制御が、磁気
記録媒体の出力向上、耐久性、走行性向上の点で極めて
重要である。
短波長信号の録再において高い出力を得るためには、磁
気記録層の表面は平坦である方が望ましい一方、基体あ
るいは製造途中や完成後の磁気記録媒体の表面平滑性が
良すぎると、巻きジワの発生、巻き締り、フィルム間の
吸着（ブロッキング）や、製造工程におけるフィルム搬
送での巾ずれや巻きムラあるいは録再機器内の走行不良
等を生じやすくなり、この相反する要求を満されなけれ
ばならない問題がある。
気記録層の表面は平坦である方が望ましい一方、基体あ
るいは製造途中や完成後の磁気記録媒体の表面平滑性が
良すぎると、巻きジワの発生、巻き締り、フィルム間の
吸着（ブロッキング）や、製造工程におけるフィルム搬
送での巾ずれや巻きムラあるいは録再機器内の走行不良
等を生じやすくなり、この相反する要求を満されなけれ
ばならない問題がある。
本発明は、上述の問題点を解決すべくなされたもので、
出力特性、耐久性及び走行性に優れるとともに、製造プ
ロセスの取扱いにも優れた磁気記録媒体を提供すること
を目的とする。
出力特性、耐久性及び走行性に優れるとともに、製造プ
ロセスの取扱いにも優れた磁気記録媒体を提供すること
を目的とする。
［問題点を解決するための手段］ 上記目的を達成するために本発明において講じられた手
段を、添付の図面を参照しつつ説明すると、本発明は、
片面に無機粒子２が分散されたポリイミドコーティング
層４を有するポリイミドフィルム３を他面に磁気記録層
６が形成されており、ポリイミドフィルム３には、ポリ
イミドコーティング層４に分散されている無機粒子２よ
り平均粒子径の小さな無機粒子１が分散されている磁気
記録媒体とするという手段を講じているものである。
段を、添付の図面を参照しつつ説明すると、本発明は、
片面に無機粒子２が分散されたポリイミドコーティング
層４を有するポリイミドフィルム３を他面に磁気記録層
６が形成されており、ポリイミドフィルム３には、ポリ
イミドコーティング層４に分散されている無機粒子２よ
り平均粒子径の小さな無機粒子１が分散されている磁気
記録媒体とするという手段を講じているものである。
上記本発明の磁気記録媒体は、芳香族ジアミンと芳香族
テトラカルボン酸を溶媒中で重合し、さらに無機粒子１
を分散させたポリアミック酸溶液を平面上に流延して脱
溶媒して作製したポリアミック酸フィルム上に、無機粒
子１よりも平均粒子径の大きい無機粒子２を分散したポ
リアミック酸溶液を塗布したのち脱溶媒およびイミド化
して得た、ポリイミドフィルム３の無機粒子２を含むポ
リイミドコーティング層４と反対面に磁気記録層６を形
成することによって製造することができる。得られた本
磁気記録媒体の磁気記録層６上には、保護層あるいは潤
滑層またはその両方を積層することもある。
テトラカルボン酸を溶媒中で重合し、さらに無機粒子１
を分散させたポリアミック酸溶液を平面上に流延して脱
溶媒して作製したポリアミック酸フィルム上に、無機粒
子１よりも平均粒子径の大きい無機粒子２を分散したポ
リアミック酸溶液を塗布したのち脱溶媒およびイミド化
して得た、ポリイミドフィルム３の無機粒子２を含むポ
リイミドコーティング層４と反対面に磁気記録層６を形
成することによって製造することができる。得られた本
磁気記録媒体の磁気記録層６上には、保護層あるいは潤
滑層またはその両方を積層することもある。
ポリイミドフィルム３は、通常、芳香族テトラカルボン
酸と芳香族ジアミンを重合したポリアミック酸溶液を平
面上に流延し、脱溶媒ののち高温でイミド化して作製さ
れる。芳香族テトラカルボン酸としては、例えばピロメ
リット酸二無水物、3,3′,4,4′−ビフェニルテトラカ
ルボン酸二無水物、ピリジン−2,3,5,6−テトラカルボ
ン酸二無水物、2,3,6,7−ナフタレンジカルボン酸二無
水物等、芳香族ジアミンとしては、例えばパラフェニレ
ンジアミン、ジアミノジフェニルエーテル、ジアミノジ
フェニルメタン、ジアミノジフェニルスルホン、ジアミ
ノナフタレン等があげられる。中でもテトラカルボン酸
として、ピロメリット酸二無水物（PMDA）あるいは3,
3′,4,4′−ビフェニルテトラカルボン酸（BPDA）、ジ
アミンとして、パラフェニレンジアミン（PPD）あるい
はジアミノジフェニルエーテル（DADE）を用いることが
好ましい。これらを単独ずつで重合しても良いが、さら
に前記４つの成分の３種あるいは４種を共重合させるこ
とにより、磁気記録媒体として所望の機械物性あるい
は、熱物性を有するポリイミドフィルムの製造が可能で
ある。
酸と芳香族ジアミンを重合したポリアミック酸溶液を平
面上に流延し、脱溶媒ののち高温でイミド化して作製さ
れる。芳香族テトラカルボン酸としては、例えばピロメ
リット酸二無水物、3,3′,4,4′−ビフェニルテトラカ
ルボン酸二無水物、ピリジン−2,3,5,6−テトラカルボ
ン酸二無水物、2,3,6,7−ナフタレンジカルボン酸二無
水物等、芳香族ジアミンとしては、例えばパラフェニレ
ンジアミン、ジアミノジフェニルエーテル、ジアミノジ
フェニルメタン、ジアミノジフェニルスルホン、ジアミ
ノナフタレン等があげられる。中でもテトラカルボン酸
として、ピロメリット酸二無水物（PMDA）あるいは3,
3′,4,4′−ビフェニルテトラカルボン酸（BPDA）、ジ
アミンとして、パラフェニレンジアミン（PPD）あるい
はジアミノジフェニルエーテル（DADE）を用いることが
好ましい。これらを単独ずつで重合しても良いが、さら
に前記４つの成分の３種あるいは４種を共重合させるこ
とにより、磁気記録媒体として所望の機械物性あるい
は、熱物性を有するポリイミドフィルムの製造が可能で
ある。
機械的及び熱的性質などを磁気記録媒体にとって好適に
するためには、芳香族ポリアミック酸を生成するために
使用されているジアミン成分は、全ジアミン成分に対し
て約40〜95モル％、特に45〜90モル％範囲の使用量割合
のPPDと、全ジアミン成分に対して約５〜60モル％、特
に10〜55モル％の使用量割合のDADEとの２成分からなる
ことが好ましい。また、芳香族ポリアミック酸を生成す
るためのテトラカルボン酸成分は、全テトラカルボン酸
成分に対して約10〜90モル％、特に15〜85モル％の使用
量割合のBPDAと、全テトラカルボン酸成分に対して約10
〜90モル％、特に15〜85モル％の使用量割合のPMDAとか
らなることが好ましいのである。
するためには、芳香族ポリアミック酸を生成するために
使用されているジアミン成分は、全ジアミン成分に対し
て約40〜95モル％、特に45〜90モル％範囲の使用量割合
のPPDと、全ジアミン成分に対して約５〜60モル％、特
に10〜55モル％の使用量割合のDADEとの２成分からなる
ことが好ましい。また、芳香族ポリアミック酸を生成す
るためのテトラカルボン酸成分は、全テトラカルボン酸
成分に対して約10〜90モル％、特に15〜85モル％の使用
量割合のBPDAと、全テトラカルボン酸成分に対して約10
〜90モル％、特に15〜85モル％の使用量割合のPMDAとか
らなることが好ましいのである。
本発明に使用する基体５のポリイミドフィルム３とポリ
イミドコーティング層４を構成する芳香族ジアミンと芳
香族カルボン酸は、それぞれ同一の材料を使用しても良
いし、また別の材料を使用しても本発明の目的を達成す
ることが可能である。
イミドコーティング層４を構成する芳香族ジアミンと芳
香族カルボン酸は、それぞれ同一の材料を使用しても良
いし、また別の材料を使用しても本発明の目的を達成す
ることが可能である。
ポリイミドフィルム３に含まれる無機粒子１は、SiO2,T
iO2,Al2O3,MgO等の酸化物微粒子やCaCO3,BaSO4あるいは
窒化物や炭化物の微粒子が使用可能であり、ポリイミド
フィルム３を形成するポリアミック酸溶液中に均一に分
散させられる。
iO2,Al2O3,MgO等の酸化物微粒子やCaCO3,BaSO4あるいは
窒化物や炭化物の微粒子が使用可能であり、ポリイミド
フィルム３を形成するポリアミック酸溶液中に均一に分
散させられる。
無機粒子１はポリイミドフィルム３表面に微細な凹凸を
形成し、フィルム単体あるいは磁気記録媒体となった時
の走行性や耐久性に寄与するものである。無機粒子１に
より作られる、微細な凹凸を有する表面上に磁気記録層
６が形成されるため、無機粒子１の平均粒径と添加量
は、磁気記録層６の出力と走行・耐久性両方を満足する
様に決められる。すなわち、無機粒子１により作られた
表面粗さの高さが大きすぎる場合、スペーシングロスに
よって短波長出力の低下を招き、小さすぎる場合におい
ては、走行性、耐久性向上の効果が小さい。また、凹凸
の突起密度が低いと、耐久性向上の効果が小さく、密度
を高くするために無機粒子１を多量に添加すると、無機
粒子１同士が凝集して粗大な粒子となり、密度が粗で高
い突起を発生させる。磁気記録媒体として好ましい表面
粗度は、十点平均粗さ（テーラーホブソン製，タリステ
ップにて測定）が100〜600Åでかつ突起密度が105〜108
個/mm2の範囲である。すなわち、無機粒子１の平均粒径
は200〜1000Åが好ましく、さらには300〜800Åである
ことが好ましい。
形成し、フィルム単体あるいは磁気記録媒体となった時
の走行性や耐久性に寄与するものである。無機粒子１に
より作られる、微細な凹凸を有する表面上に磁気記録層
６が形成されるため、無機粒子１の平均粒径と添加量
は、磁気記録層６の出力と走行・耐久性両方を満足する
様に決められる。すなわち、無機粒子１により作られた
表面粗さの高さが大きすぎる場合、スペーシングロスに
よって短波長出力の低下を招き、小さすぎる場合におい
ては、走行性、耐久性向上の効果が小さい。また、凹凸
の突起密度が低いと、耐久性向上の効果が小さく、密度
を高くするために無機粒子１を多量に添加すると、無機
粒子１同士が凝集して粗大な粒子となり、密度が粗で高
い突起を発生させる。磁気記録媒体として好ましい表面
粗度は、十点平均粗さ（テーラーホブソン製，タリステ
ップにて測定）が100〜600Åでかつ突起密度が105〜108
個/mm2の範囲である。すなわち、無機粒子１の平均粒径
は200〜1000Åが好ましく、さらには300〜800Åである
ことが好ましい。
上記無機粒子１を分散したポリアミック酸溶液を、通常
はステンレス製の平滑な面上に流延し、100〜150℃の温
度で脱溶媒してポリアミック酸フィルムを作製する。こ
のポリアミック酸フィルム上に、無機粒子１より平均粒
径の大きな無機粒子２を分散させたポリアミック酸溶液
をグラビアコート法、バーコート法等の塗布法により塗
布する。こうして得られた積層ポリアミック酸フィルム
をさらに高温でイミド化し、期待５が作製される。
はステンレス製の平滑な面上に流延し、100〜150℃の温
度で脱溶媒してポリアミック酸フィルムを作製する。こ
のポリアミック酸フィルム上に、無機粒子１より平均粒
径の大きな無機粒子２を分散させたポリアミック酸溶液
をグラビアコート法、バーコート法等の塗布法により塗
布する。こうして得られた積層ポリアミック酸フィルム
をさらに高温でイミド化し、期待５が作製される。
無機粒子２により形成される表面凹凸は、無機粒子１で
形成される表面凹凸よりも高くなるが、その高さは、十
点平均粗さで0.05〜0.5μｍが好ましいものであり、突
起密度は、104個/mm2以上が好ましい。また、無機粒子
２の材質は、無機粒子１と同じでも良い、前述の無機微
粒子１の材質として掲げたもの等から選ばれる他の材質
のものであってもその効果は変わらない。
形成される表面凹凸よりも高くなるが、その高さは、十
点平均粗さで0.05〜0.5μｍが好ましいものであり、突
起密度は、104個/mm2以上が好ましい。また、無機粒子
２の材質は、無機粒子１と同じでも良い、前述の無機微
粒子１の材質として掲げたもの等から選ばれる他の材質
のものであってもその効果は変わらない。
ポリイミドコーティング層４は、ポリアミック酸フィル
ムのどちらか一方の面に形成すれば良いのであるが、流
延支持体と接触する面に形成した方が望ましい。その理
由は、ステンレス製等の流延支持体は、平坦、平滑であ
るとはいえ、磁気記録層６の表面に要求される表面平滑
性に比べれば粗く、かつ、使用中に付いたキズ等によ
り、0.1μを超える粗大な突起もしばしば発生する。こ
うした粗大な突起はドロップアウトとなるため、磁気記
録層６は流延支持体接触面と反対面に形成することが望
ましい。またポリイミドコーティング層４となるポリア
ミック酸溶液を、イミド化を行う前のポリアミック酸フ
ィルム上に塗布することにより、ポリイミドコーティン
グ層４とポリイミドフィルム３との強い付着が得られ
る。
ムのどちらか一方の面に形成すれば良いのであるが、流
延支持体と接触する面に形成した方が望ましい。その理
由は、ステンレス製等の流延支持体は、平坦、平滑であ
るとはいえ、磁気記録層６の表面に要求される表面平滑
性に比べれば粗く、かつ、使用中に付いたキズ等によ
り、0.1μを超える粗大な突起もしばしば発生する。こ
うした粗大な突起はドロップアウトとなるため、磁気記
録層６は流延支持体接触面と反対面に形成することが望
ましい。またポリイミドコーティング層４となるポリア
ミック酸溶液を、イミド化を行う前のポリアミック酸フ
ィルム上に塗布することにより、ポリイミドコーティン
グ層４とポリイミドフィルム３との強い付着が得られ
る。
以上に説明した方法により、それぞれの表面に異なった
凹凸を有する基体５上に形成する磁気記録層６として
は、Fe,Ni,Co等を主成分とする強磁性合金あるいは強磁
性酸化物、強磁性窒化物薄膜が好ましい。すなわちFe,C
o,Co−Ni,Co−P,Co−Pt,Co−Cr,Co−Cr−Ta,Co−V,Co−
Rh,Co−O,Co−Ni−O,Co−N,Fe−Ｎ等を真空蒸着法、ス
パッタリング法、メッキ法で形成した保磁力が300 Oe以
上、膜厚0.05〜１μの強磁性薄膜である。中でも膜面に
垂直方向が容易軸方向の垂直磁気異方性を有するCo−C
r,Co−Cr−Ta,Co−V,Co−Rh,Co−Ｏ膜等は高密度記録特
性が良く、磁気記録媒体として有用である。磁気記録層
３は、単一層でも良いし、磁性あるいは比磁性層と積層
されている構成でももちろん良い。
凹凸を有する基体５上に形成する磁気記録層６として
は、Fe,Ni,Co等を主成分とする強磁性合金あるいは強磁
性酸化物、強磁性窒化物薄膜が好ましい。すなわちFe,C
o,Co−Ni,Co−P,Co−Pt,Co−Cr,Co−Cr−Ta,Co−V,Co−
Rh,Co−O,Co−Ni−O,Co−N,Fe−Ｎ等を真空蒸着法、ス
パッタリング法、メッキ法で形成した保磁力が300 Oe以
上、膜厚0.05〜１μの強磁性薄膜である。中でも膜面に
垂直方向が容易軸方向の垂直磁気異方性を有するCo−C
r,Co−Cr−Ta,Co−V,Co−Rh,Co−Ｏ膜等は高密度記録特
性が良く、磁気記録媒体として有用である。磁気記録層
３は、単一層でも良いし、磁性あるいは比磁性層と積層
されている構成でももちろん良い。
磁気記録層６の熱膨張係数αは、大略１〜2.0×10-5で
あり基体５のαも前記値に近いもの、具体的には0.7〜
2.5×10-5の範囲が好ましい。
あり基体５のαも前記値に近いもの、具体的には0.7〜
2.5×10-5の範囲が好ましい。
金属あるいは酸化物あるいは窒化物薄膜磁気記録層６は
それ自体では耐食性やヘッドもしくは記録再生機器部材
との摺動に対する耐摩耗性が十分とはいえない。そのた
め磁気記録層６上に金属酸化物、窒化物、炭化物、ホウ
化物あるいはカーボン膜や、高級脂肪酸、高級脂肪酸エ
ステル、フッ素オイル、パーフルオロカルボン酸、フッ
素樹脂等の保護層又は潤滑層を形成することが好まし
い。具体的には、SiO2,Al2O3,Co3O4,TiN,Si3N1,BN,SiC,
WC,ZrB2,HfB2,ステアリン酸，ステアリン酸金属塩，パ
ーフルオロアルキルポリエーテル,PTFE,FEP,アクリルエ
ステル化合物等の層を挙げることができる。保護層ある
いは潤滑層材料は単独で用いられることもあるが、複数
組み合わせて使用しても良い。
それ自体では耐食性やヘッドもしくは記録再生機器部材
との摺動に対する耐摩耗性が十分とはいえない。そのた
め磁気記録層６上に金属酸化物、窒化物、炭化物、ホウ
化物あるいはカーボン膜や、高級脂肪酸、高級脂肪酸エ
ステル、フッ素オイル、パーフルオロカルボン酸、フッ
素樹脂等の保護層又は潤滑層を形成することが好まし
い。具体的には、SiO2,Al2O3,Co3O4,TiN,Si3N1,BN,SiC,
WC,ZrB2,HfB2,ステアリン酸，ステアリン酸金属塩，パ
ーフルオロアルキルポリエーテル,PTFE,FEP,アクリルエ
ステル化合物等の層を挙げることができる。保護層ある
いは潤滑層材料は単独で用いられることもあるが、複数
組み合わせて使用しても良い。
また、磁気記録媒体の裏面となるポリイミドコーティン
グ層４の表面にフッ素樹脂、含フッ素化合物、脂肪酸、
脂肪酸金属塩、脂肪酸エステル等の潤滑性を有する材料
を塗布することによりさらに易滑性向上を図ることもで
きる。
グ層４の表面にフッ素樹脂、含フッ素化合物、脂肪酸、
脂肪酸金属塩、脂肪酸エステル等の潤滑性を有する材料
を塗布することによりさらに易滑性向上を図ることもで
きる。
［作 用］ 本発明によれば、ポリイミドフィルム３に含まれ無機粒
子１によって、ポリイミドフィルム３単体時の走行性
と、磁気記録層６を設けて磁気記録媒体とした後の磁気
記録層６の所望の出力特性並びに耐久性とが同時に満さ
れるよう調整される。また、ポリイミドコーティング層
４に含まれる無機粒子２によって、基体５及び磁気記録
媒体としての走行性が付与される。従って、本発明の磁
気記録媒体は、記録再生特性が優れているばかりでな
く、走行性や耐久性といった実用性能が優れており、し
かも磁気記録層、保護層、潤滑層の形成や後処理等の工
程中でのフィルム走行性の良く、またフィルム原反保存
中でのブロッキングも発生しにくい。さらに凹凸を付与
しているポリイミドコーティング層４も耐熱性が高く、
後工程での加熱に十分耐えうるものである。
子１によって、ポリイミドフィルム３単体時の走行性
と、磁気記録層６を設けて磁気記録媒体とした後の磁気
記録層６の所望の出力特性並びに耐久性とが同時に満さ
れるよう調整される。また、ポリイミドコーティング層
４に含まれる無機粒子２によって、基体５及び磁気記録
媒体としての走行性が付与される。従って、本発明の磁
気記録媒体は、記録再生特性が優れているばかりでな
く、走行性や耐久性といった実用性能が優れており、し
かも磁気記録層、保護層、潤滑層の形成や後処理等の工
程中でのフィルム走行性の良く、またフィルム原反保存
中でのブロッキングも発生しにくい。さらに凹凸を付与
しているポリイミドコーティング層４も耐熱性が高く、
後工程での加熱に十分耐えうるものである。
［実施例］ 以下、実施例にもとづき本発明を詳しく説明する。
実施例１ パラフェニレンジアミン30モル％、ジアミノジフェニー
ルエーテル70モル％、ビフェニルテトラカルボン酸二無
水物50モル％、ピロメリット酸二無水物50モル％をN,N
−ジメチルアセトアミドに溶解し、これに無機粒子１と
して平均粒径が200Å,400Å,600Å,800Å,1000ÅのSiO2
微粒子を分散したポリアミック酸溶液を平滑なステンレ
スベルトに流延し120℃で溶媒を除去し約15μ厚のポリ
アミック酸フィルムを作製した。このポリアミック酸フ
ィルムのステンレスベルト接触面側に無機粒子２として
平均粒径0.2μｍのTiO2微粒子を分散させた上記と同一
組成のポリアミック酸溶液をグラビアロールで塗布し12
0℃で溶媒を乾燥した。この積層ポリアミック酸フィル
ムを400℃の加熱炉中で完全にイミド化し全厚略９μｍ
のポリイミドフィルムを得た。このポリイミドコーティ
ング層面の表面粗さは十点平均粗さで0.14μｍで突起密
度は４×104ケ/mm2であった。
ルエーテル70モル％、ビフェニルテトラカルボン酸二無
水物50モル％、ピロメリット酸二無水物50モル％をN,N
−ジメチルアセトアミドに溶解し、これに無機粒子１と
して平均粒径が200Å,400Å,600Å,800Å,1000ÅのSiO2
微粒子を分散したポリアミック酸溶液を平滑なステンレ
スベルトに流延し120℃で溶媒を除去し約15μ厚のポリ
アミック酸フィルムを作製した。このポリアミック酸フ
ィルムのステンレスベルト接触面側に無機粒子２として
平均粒径0.2μｍのTiO2微粒子を分散させた上記と同一
組成のポリアミック酸溶液をグラビアロールで塗布し12
0℃で溶媒を乾燥した。この積層ポリアミック酸フィル
ムを400℃の加熱炉中で完全にイミド化し全厚略９μｍ
のポリイミドフィルムを得た。このポリイミドコーティ
ング層面の表面粗さは十点平均粗さで0.14μｍで突起密
度は４×104ケ/mm2であった。
このポリイミドコーティング層と反対面に、磁気記録層
として高周波スパッタ法により、Co−Cr20wt％膜を0.3
μｍ形成し、さにその上に保護層として主としてCo3O4
からなるCo酸化膜を120Å形成し、これを8mm金に裁断し
て8mmビデオテープを作製した。この試作テープについ
て磁気記録層と反対面について、4mmφSUS棒に対する摩
擦係数の測定と、8mmVTRで録再したときのRF出力値、ス
チル耐久性、ドロップアウト（−16dB,15μＳ）の測定
をした。その結果は、表に示す様に、摩擦係数は小さく
かつスチル耐久性も良く、またドロップアウトも少な
い。本試作テープはVTRでの走行が安定しているだけで
なく、テープ作製の各工程においても、ブロッキングや
走行ムラ、巻きムラがなく、取扱いが容易であった。
として高周波スパッタ法により、Co−Cr20wt％膜を0.3
μｍ形成し、さにその上に保護層として主としてCo3O4
からなるCo酸化膜を120Å形成し、これを8mm金に裁断し
て8mmビデオテープを作製した。この試作テープについ
て磁気記録層と反対面について、4mmφSUS棒に対する摩
擦係数の測定と、8mmVTRで録再したときのRF出力値、ス
チル耐久性、ドロップアウト（−16dB,15μＳ）の測定
をした。その結果は、表に示す様に、摩擦係数は小さく
かつスチル耐久性も良く、またドロップアウトも少な
い。本試作テープはVTRでの走行が安定しているだけで
なく、テープ作製の各工程においても、ブロッキングや
走行ムラ、巻きムラがなく、取扱いが容易であった。
比較例１ 実施例１において無機粒子１を平均粒径400ÅのSiO2と
し、無機粒子２の平均粒径を0.03μとした他は実施例１
と同一材料、同一工程で8mmビデオテープを作製した。
し、無機粒子２の平均粒径を0.03μとした他は実施例１
と同一材料、同一工程で8mmビデオテープを作製した。
実施例２ 実施例１において無機粒子１を平均粒径400ÅのSiO2と
し、無機粒子２の平均粒径を0.08,1.0μとした他は実施
例１と同一材料、同一工程で8mmビデオテープを２種類
作製した。
し、無機粒子２の平均粒径を0.08,1.0μとした他は実施
例１と同一材料、同一工程で8mmビデオテープを２種類
作製した。
比較例２ 実施例２と同一組成で無機粒子を分散させたポリイミド
コーティング層なしのポリイミドフィルムを基体に使用
し、実施例１と同一材料、同一工程で磁気記録層、保護
層を形成して8mmビデオテープを作製した。この比較例
テープは、テープ作製工程で巻きムラ、巻きジワを生
じ、良品テープ歩留りが極めて悪かった。また、表に示
した様に、摩擦係数が大きいために、デッキ内の走行性
が悪く、またカセットリールで巻きづれを起こしテープ
エッジが痛み、実用性に欠けるものであった。
コーティング層なしのポリイミドフィルムを基体に使用
し、実施例１と同一材料、同一工程で磁気記録層、保護
層を形成して8mmビデオテープを作製した。この比較例
テープは、テープ作製工程で巻きムラ、巻きジワを生
じ、良品テープ歩留りが極めて悪かった。また、表に示
した様に、摩擦係数が大きいために、デッキ内の走行性
が悪く、またカセットリールで巻きづれを起こしテープ
エッジが痛み、実用性に欠けるものであった。
実施例３ 芳香族ジアミンをパラフェニレンジアミンのみとし、芳
香族テトラカルボン酸としてビフェニルテトラカルボン
酸二無水物80モル％とピロメリット酸二無水物20モル％
とし、無機粒子１を平均粒径450ÅのTiO2微粒子とし、
無機粒子２を平均粒径0.2μｍのTiO2微粒とし、実施例
１と同一方法にて、全厚９μｍのポリイミドフィルムを
作製した。このポリイミドフィルムを基体として、ポリ
イミドコーティング層と反対面に電子ビーム連続蒸着装
置によりCo−Ni 20wt％を斜め蒸着し、厚み0.15μｍの
磁気記録層を形成した。その際、Co−Ni膜上層を堆積中
に酸素と反応させることにより、磁気記録層表面およそ
200ÅをCo−Ni酸化物層とした。さらに磁気記録層上
に、潤滑層とてFEPを、同じく真空蒸着法により平均厚
み15Å形成し、8mmビデオテープを作製した。
香族テトラカルボン酸としてビフェニルテトラカルボン
酸二無水物80モル％とピロメリット酸二無水物20モル％
とし、無機粒子１を平均粒径450ÅのTiO2微粒子とし、
無機粒子２を平均粒径0.2μｍのTiO2微粒とし、実施例
１と同一方法にて、全厚９μｍのポリイミドフィルムを
作製した。このポリイミドフィルムを基体として、ポリ
イミドコーティング層と反対面に電子ビーム連続蒸着装
置によりCo−Ni 20wt％を斜め蒸着し、厚み0.15μｍの
磁気記録層を形成した。その際、Co−Ni膜上層を堆積中
に酸素と反応させることにより、磁気記録層表面およそ
200ÅをCo−Ni酸化物層とした。さらに磁気記録層上
に、潤滑層とてFEPを、同じく真空蒸着法により平均厚
み15Å形成し、8mmビデオテープを作製した。
［発明の効果］ 以上説明した様に、無機粒子を分散したポリアミック酸
フィルムに前記無機粒子よりも大きな無機粒子を分散さ
せたポリアミック酸溶液をコーティングした後、脱溶媒
イミド化して得たポリイミドフィルムのコーティング面
と反対側に磁気記録層を形成した磁気記録媒体は、耐久
性に優れ、ブロッキングを起こしにくく、かつ再録機器
内の走行性が良いばかりでなく、製造工程内でのフィル
ム搬送を容易ならしめるものである。
フィルムに前記無機粒子よりも大きな無機粒子を分散さ
せたポリアミック酸溶液をコーティングした後、脱溶媒
イミド化して得たポリイミドフィルムのコーティング面
と反対側に磁気記録層を形成した磁気記録媒体は、耐久
性に優れ、ブロッキングを起こしにくく、かつ再録機器
内の走行性が良いばかりでなく、製造工程内でのフィル
ム搬送を容易ならしめるものである。
図は本発明の磁気記録媒体の断面概略図の一例である。 1,2……無機粒子、 ３……ポリイミドフィルム、 ４……ポリイミドコーティング層、 ５……基体、 ６……磁気記録層。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 鈴木 謙二 東京都大田区下丸子３丁目30番２号 キヤ ノン株式会社内 (56)参考文献 特開 昭60−261015（ＪＰ，Ａ)
Claims (1)
- 【請求項１】片面に無機粒子が分散されたポリイミドコ
ーティング層を有するポリイミドフィルムの他面に磁気
記録層が形成されており、ポリイミドフィルムには、ポ
リイミドコーティング層に分散されている無機粒子より
平均粒径の小さな無機粒子が分散されていることを特徴
とする磁気記録媒体。
Priority Applications (5)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62021996A JPH0766523B2 (ja) | 1987-02-02 | 1987-02-02 | 磁気記録媒体 |
| DE3888860T DE3888860T2 (de) | 1987-02-02 | 1988-01-29 | Magnetischer Aufzeichnungsträger. |
| EP19880300791 EP0277783B1 (en) | 1987-02-02 | 1988-01-29 | Magnetic recording medium |
| US07/151,310 US4910068A (en) | 1987-02-02 | 1988-02-01 | Magnetic recording medium |
| US07/789,791 US5139849A (en) | 1987-02-02 | 1991-11-12 | Magnetic recording medium |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62021996A JPH0766523B2 (ja) | 1987-02-02 | 1987-02-02 | 磁気記録媒体 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63188824A JPS63188824A (ja) | 1988-08-04 |
| JPH0766523B2 true JPH0766523B2 (ja) | 1995-07-19 |
Family
ID=12070633
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP62021996A Expired - Fee Related JPH0766523B2 (ja) | 1987-02-02 | 1987-02-02 | 磁気記録媒体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0766523B2 (ja) |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS60261015A (ja) * | 1984-06-06 | 1985-12-24 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 磁気記録媒体 |
-
1987
- 1987-02-02 JP JP62021996A patent/JPH0766523B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS63188824A (ja) | 1988-08-04 |
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Legal Events
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|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |