JPS63113926A - 磁気記録媒体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】

〔産業上の利用分野〕 本発明は耐久性、耐環境性に優れた磁気記録媒体、特に
高密１度記録用の薄膜堆積型磁気記録媒体に関する。 〔従来の技術〕 従来より、通常はポリエステル等のプラスチックフィル
ムからなる非磁性支持体の上に、強磁性微粒子を高分子
結合剤中に均一に分散せしめた磁性層を有する塗布型磁
気記録媒体が広く用いられ、また近年は金属等の薄膜を
蒸着・スパッタリング等の方法で非磁性支持体上に形成
せしめた、強磁性薄膜型磁気記録媒体の開発が進められ
ており、−部実用化しているものもある。こうした強磁
性薄膜型磁気記録媒体は、塗布型磁気記録媒体に比べ記
録密度を飛躍的に向上することが可能であることから高
密度記録媒体として脚光を浴びている。 しかしながら、強磁性金属薄膜層がＣｏ−Ｎｉ合金やＣ
ｏ−Ｃｒ合金等に代表される従来からの強磁性金属型磁
気記録媒体は、耐食性及び耐摩耗性の点で実用上問題が
あった。すなわち、Ｃｏ−Ｎｉ等の強磁性金属膜はそれ
自体に耐食性がなく、また高密度化の要請から強磁性金
属膜表面を平坦化することに伴い、耐摩耗性が劣化する
という問題があった。こうした問題を解決するために、
合金膜表面を酸化処理するもの（例えば、特開昭５３−
８５４０３号）、窒化物の保護層を設けるもの（例えば
、特開昭５７−１６７１３４号）、各種有機材料を表面
被覆するもの（例えば、特開昭５７−１２３５３６号）
などが検討されている。 しかし、強磁性金属膜上に上記滑剤を被覆したＶＴＲテ
ープは、繰り返し走行の初期の段階で再生画像が短い時
間ちらつ（、すなわちヘッド目づまりが起こっており、
耐久性が十分といえない。 また耐食性向上についても上記表面被覆などの改善方法
は高湿度中の長時間放置やその他結露しやすい状態にな
った一時、十分な耐食性が保証されなかった。 〔発明が解決しようとする問題点〕 本発明は、上述した従来の磁気記録媒体の欠点を克服し
、優れた記録再生特性を有するとともに、耐食性、繰り
返し走行耐久性、耐環境性についても実用的に十分な性
能を有する磁気記録媒体を提供することを目的とする。 〔問題点を解決するための手段〕 本発明は、非磁性基体に積層された強磁性金属薄膜上に
、パーフロロアルキル基を含有するアクリルエステル化
合物重合体で、５０％以上が分子量４０００以上である
有機化合物を有することを特徴とする磁気記録媒体であ
る。 以下、図面を参照して本発明の磁気記録媒体を説明する
。以下の記載において、量比は特に断らない限り重量基
準とする。 第１図は、本発明の磁気記録媒体の一例を示す模式図で
、非磁性基体ｌ上に強磁性金属薄膜２が形成され、更に
強磁性金属薄膜２上にパーフロロアルキル基を含有する
アクリルエステル化合物重合体によるトップコート３が
形成されている。第２図は本発明の磁気記録媒体の別の
例を示す図で、強磁性金属薄膜２とトップコート３の間
に中間層４が形成されている。 本発明の磁気記録媒体の非磁性基体１としては、ガラス
、アルミニウム、表面酸化処理アルミニウム等の外に、
高分子支持基材としてポリエステル、セルロース、アク
リル、ポリアミド、ポリイミド、ポリアミドイミド、ポ
リオレフィン、ポリフロロオレフィン、ピリ塩化ビニル
、ポリ酢酸ビニル、塩化ビニル／酢酸ビニルコポリマー
、ポリ塩化ビニリデン、ポリカーボネート、フェノール
樹脂、ポリエーテルサルフオン、ポリエーテルエーテル
ケトン、ポリアセクール、ポリフェニレンオキサイド、
ポリフェニレンサルファイド等が挙げられる。 非磁性基体ｌの厚みとしては５〜１００μｍが好ましい
。 非磁性基体１上に積層する強磁性金属薄膜２としてはＦ
ｅ、　Ｎｉ、　Ｃｏ、　Ｆｅ−Ｃｏ、　Ｃｏ−Ｎｉ、　
Ｃｏ−Ｃｒ。 Ｃｏ−Ｐ、　　Ｆｅ−Ｃｏ−Ｂ、　　Ｃｏ−Ｎ１−Ｐ、
　　Ｃｏ−Ｖ。 Ｃｏ−Ｒｅ、　Ｃｏ−Ｐｔ等が挙げられる。さらに強磁
性金属薄膜と非磁性基体との間に特性向上のためのＦｅ
−Ｎｉ系や非晶質透磁率材料であるＣｏ−Ｚｒ系、Ｆｅ
−Ｐ−Ｃ系、Ｃｏ−３ｉ−Ｂ系等やＡｆ、　　Ｃｒ。 Ｔｉ、　　Ｇｅ等の非磁性金属薄膜等の中間膜を設けて
もよい。強磁性金属薄膜の厚さは０．０５〜１．０μｍ
が好ましい。非磁性基体上に強磁性金属薄膜を形成する
には例えばスパッタリング法、電子ビーム蒸着法などの
公知の方法を挙げることができる。 高密度記録が可能であるという観点からは、強磁性金属
薄膜層２の材料としてはＣｏ−Ｃｒ合金、中でもＣｒが
１５〜２３ｗｔ％のＣｏ−Ｃｒ合金が優れている。この
理由は前記組織のＣｏ−Ｃｒ合金は膜面垂直方向に磁化
容易軸を有する垂直磁化膜となり、面内記録方式欠点で
ある反磁界の影響がなく、木質的に高密度記録が可能で
ある点である。Ｃｏ−Ｃｒ合金を強磁性金属薄膜に使用
する場合、大きな保磁力を得るために高温で膜作製をす
る必要があり、非磁性基体には耐熱性が要求される。こ
の場合、非磁性基体としては、耐熱性の優れているポリ
イミドが良く、中でもパラフェニレンジアミン（ＰＰＤ
）あるいはＰＰＤとジアミノジフェニルエーテル（Ｄ　
Ａ’　Ｄ　Ｅ　）のジアミン成分と、ビフェニルテトラ
カルボン酸二無水物（ＢＰＤＡ）およびピロメリット酸
二無水物（ＰＮＤＡ）からなるテトラカルホン酸成分と
の共重合ポリイミドが優れている。この共重合ポリイミ
ドフィルムは、耐熱性および引張り強度が高く弾性率も
３００〜９００　ｋ　ｇ　／　ｍ　ｍ２と磁気記録媒体
用ベースフィルムとして適度な値を有する。さらにこの
共重合ポリイミドフィルムは、熱膨張係数が１〜３　Ｘ
　１０−’、ｃｍ　／　ｃｍ　／　℃の範囲で調節可能
であり、強磁性金属薄膜との熱膨張差や成膜時に発生す
る内部応力により生ずる媒体カールを防止することがで
きる。 ポリイミド製非磁性基体１の機械的及び熱的性質などを
上述の磁気記録媒体にとって好適にするためには、芳香
族ポリアミック酸を生成するために使用されているジア
ミン成分は、全ジアミン成分に対して約４０〜９５モル
％、特に４５〜９０モル％範囲の使用量割合のＰＰｌ７
と、全ジアミン成分に対して約５〜６０モル％、特に１
０〜５５モル％の使用量割合のＤＡＤＥとの２成分から
なることが好ましい。また、芳香族ポリアミック酸を生
成するためのテトラカルボン酸成分は、全テトラカルボ
ン酸成分に対して約１０〜９０モル％、特に１５〜８５
モル％の使用量割合のＢＰＤＡと、全テトラカルボン酸
成分に対して約１０〜９０モル％、特に、１５〜８５モ
ル％の使用量割合のＰＭＤＡとからなることが好ましい
。 中間層４としては、酸化物、窒化物、ホウ化物、炭化物
、硫化物、リン化物、フッ化物、金属膜、カーボン膜な
ど公知のものが用いられる。その製法としては、スパッ
タリング法、真空蒸着法、もしくはイオンブレーティン
グ法等の物理堆積法やＣＶＤなどの化学的堆積法、プラ
ズマ処理あるいはイオン注入等によ°り強磁性金属薄膜
表面を改質させた層を形成する方法などが挙げられる。 中間層４の厚みとしては３０〜１０００人が好ましく、
更に好ましくは５０〜３００Ａである。厚みを厚くすれ
ば、保護耐久機能は向上するがスペーシングロスも太き
（なり、再生信号出力が低下し好ましくない。薄すぎる
と保護機能が低下し、耐久性も減る場合もあり好ましく
ない。 ＣｏＣｒ合金強磁性金属薄膜上に成膜する中間層４の材
料としては、酸化コバルトが中でも好適である。 酸化コバルトの中間層４は、所定圧の酸素を含む不活性
ガス中でのスパッタリング法、希薄酸素下での真空蒸着
法、もしくはイオンブレーティング法等の物理蒸着法、
あるいはＣｏ合金強磁性金属薄膜表面のプラズマ酸化処
理によって、強磁性金属薄膜の表面に直接堆積形成ある
いは酸化層形成をしている。酸化コバルト層は磁気記録
層とヘッドとの凝着を防ぎ、耐摩耗性の向上に極めて有
効である。 酸化コバルトの中間層４は、磁気記録層２の保護に大き
な役割を果たすものであり、さらに、金属ヘッド、フェ
ライトヘッド等とのなじみにも良（、表面の摩擦係数も
低下する。殊に酸化コバルト層の最表部がＣｏ３Ｏ４で
ある時、その効果が著しい。 本発明でトップコート３に使用するパーフロロアルキル
基を含有するアクリルエステル化合物とは、パーフロロ
アルキル基を含有するアクリル酸又はメタクリル酸のエ
ステルおよびその誘導体のオリゴマー、ポリマー誘導体
である。 例を挙げると、 （ｉ）　　ＣＨ２＝ＣＨＣｏＯ（ＣＨ２）ｎＲ１（ｉｉ
）　　ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ，）Ｃｏｏ　　（ＣＨ２）。Ｒ

【（ｉｉｉ）ＣＨ２＝Ｃ（ＣＦ３）Ｃｏｏ　　（ＣＨ２
）　　ｎ（ｉｖ）ＣＨ２＝Ｃ（Ｃ１’Ｔ３）ＣｏＯ（Ｃ
Ｈ２）ｎＲ＋等のモノマーを重合させたポリマー、オリ
ゴマー、ポリマーである。但し、上記（ｉ）〜（ｉｖ）
のｎは１〜１０が好ましい。Ｒｒはパーフルオロアルキ
ル基を示す。Ｒｒの炭素数は２〜１５が好ましい。この
うち（ＣＨ２）。は、ｎ−（ノルマル）型の直鎖型、ｉ
ｓ。 −型、ｔｅｒｔ−型の分鎖型であってもよい。また、（
ＣＨ２）ｎの一部にヒドロキシ基、カルボキシル基、ア
ミノ基、アミド基、スルホン酸基、リン酸基などを有し
ていてもよい。磁気記録媒体のトップコート３としては
、パーフロロアルキル基含有アクリルエステル化合物重
合体のうち分子量の大きいものが多（含まれることが好
ましく、特に４０００以上の分子量の成分を多く含む場
合有効である。すなわち、パーフロロアルキル基含有ア
クリルエステル化合物重合体の半分以上（５０％以上）
が分子量４０００以上、更には８０００以上の分子で占
められていることが好ましい。 分子ｉ　４０００以上の分子が５０％以上のアクリルエ
ステル化合物重合体とは、分子量分布の中心が４０００
以上である場合、あるいは４０００以上の高分子量成分
と、４０００以下の低分子量成分の混合物で、４０００
以上の成分比率の大きい場合のものがある。 分子量が４０００以下のアクリルエステル化合物重合体
を主成分とする場合は、ヘッド目づまりを生じやすく耐
久性が劣る。尚、分子量の測定法としては、常法で測定
される超遠心法、粘度法、光散乱法及び浸透圧測定法な
どがある。 またパーフロロアルキル基の含有率は、分子全体に対す
る分子量比率で、２５％以上の範囲が好適である。２５
％よりも低いと耐久性が劣化し、撥水性の低下から耐食
性も悪くなる。強磁性金属薄膜上への被着量としては、
０．１〜５０ｍｇ、／ｒｒ？が好ましく、さらには０．
２〜２０ｍｇ／ｒｒｒが好ましい。被着量が０．１ｍｇ
／ｒｒｒよりも少ないと、有効な耐久性、出力均一性が
得にく（なり、また５０ｍｇ／ｒｒ？よりも多いと、ト
ップコートの厚みが厚くなると共に、トップコードがヘ
ッド摺動によりヘッド上へ移着するため、スペーシング
ロスが発生し、高域出力に低下が認められる。 強磁性金属薄膜２上にトップコート３を被着する方法と
しては、リバースロール法やバーコーティング法等に代
表される常法で塗布する方法や、抵抗加熱法などで真空
蒸着により形成する方法、あるいはモノマーを被着させ
た状態で電子線や紫外線重合をする方法が適用しつる。 パーフロロアルキル基を含有するアクリルエステル化合
物重合体よりなるトップコートの被着状態としては、必
ずしも均一な連続膜である必要はなく、斑点状等の様に
不連続であっても良い。また、この重合体に公知の各種
有機滑剤を併用することも可能である。 さらに基体１が非磁性基体フィルムの場合、保護。 滑性、補強、その他の目的で各種のバックコート層が付
加された構成も有効である。 〔実施例〕 以下実施例により本発明を説明する。分子１は、超遠心
法により測定した。分子量を超遠心法により測定した場
合、求められる分子量は量平均分子量となる。 なお、以下の実施例における評価方法を次に示す。 〈テープの評価方法〉 出力の周波数特性： ４　、５　Ｍ　Ｈｚ　、　７　、５　Ｍ　Ｈｚの単一信
号を記録し、再生出力を測定。基準は市販のメタル塗布
型テープでこれをＯｄＢとする。 パス耐久テスト： ２０°Ｃ９６５％ＲＨおよび一５°Ｃでの繰り返し走行
耐久テストに於いて初期の出力レベルから３ｄＢ以上の
出力低下が発生するまでの走行回数。 耐食テスト： ５０℃、８０％ＲＨ放置試験後の媒体表面の錆の有無。 くディスクの評価方法〉 出力の周波数特性： １　、３　Ｍ　Ｈｚ　、　７　、０　Ｍ　Ｈｚの単一信
号を記録し、再生出力を測定。 耐久性： ２０°Ｃ２８５％ＲＨの環境下でスチル再生出力の時間
変化を測定。５０時間経過後出力低下が３ｄＢ以内を○
とする。 実施例１ ジアミン成分としてＰＰＤを７０モルとＤＡＤＥを３０
モル及びテトラカルボン酸成分としてＢＰＤＡを２０モ
ル及びＰ　Ｍ　Ｄ　Ａを８０モルを共重合して製造した
厚み１０μｍのポリイミドフィルムを非磁性基体として
用い、この非磁性基体上に電子ビームが加熱装置を有し
た磁気テープの連結成膜装置によりＣｏ７８ｗｔ％−Ｃ
ｒ２２ｗｔ％の垂直磁化膜を、前記ポリイミドフィルム
を２３０°Ｃに加熱しつつ、０．１μｍ　／　ｓ　ｅ　
ｃの成膜速度で約０．４μｍ厚形成して強磁性金属薄膜
とした。使用したポリイミドフィルムの熱膨張係数は１
　、６　Ｘ　１０−５ｃ　ｍ　／　ｃ　ｍ　／　０Ｃ、
引張り弾性定数は４９０　ｋ　ｇ　／　ｍ　ｍ２であっ
た。 Ｃｏ　−Ｃｒ垂直磁化膜上部に酸素１０％を含むアルゴ
ンガス中でＣｏをスパッタし、酸化コバルト薄膜を保護
層として１００Ａ厚形成した。さらにからなるパーフロ
ロアルキル基を含有するアクリルエステル化合物（分子
量５万、分子量４０００以上の成分１００％）をトルエ
ン：メチルイソブチルケトン＝１：ｌの溶媒に溶かしリ
バースロール法により酸化コバルト層上に５ｍｇ／ｒｒ
ｒ塗布乾燥した。 このようにして得られた磁気シートを８　、Ｏｍ　ｍ幅
にスリットした。このテープのカールは、□＜０．ｌｍ
ｍ−’と小さく、実用上問題のない量であった。このテ
ープを８ミリＶＴＲテープ用カセツトに装着し、８ミリ
ビデオデツキにて出力の周波数特性、スチル耐久性、パ
ス耐久テスト、耐食性テスト等を行った。評価結果を第
１表に示したが優れた録再特性、良好なパス耐久性、耐
食性を有することがわかる。 実施例２ 実施例１におけるアクリルエステル化合物を、？１・ で分子［８０００（分子量４０００以上の成分約９５％
）のものに変え、トルエンに溶かしリバースロール法で
１５　ｍ　ｇ　／　ｒｄ塗布乾燥した以外は実施例１と
同条件で磁気テープを作製し評価した。評価結果を第１
表に示したが、実施例１と同様良好な結果であることが
わかる。 実施例３ 実施例１におけるアクリルエステル化合物を、千ＣＨ２
−ＣＨヂ。 ＣｏＯＣＨ２ＣＨ２−ｎ　Ｃ３Ｆ７ で分子ｆｉ１万（分子量４０００以上の成分約９７％に
）変え、トルエン：メチルエチルケトンに溶かし、バー
コーター法で２　ｍ　ｇ　／　ｒｄ塗布乾燥した以外は
、実施例１と同条件で磁気テープを作製し評価した。評
価結果を第１表に示す。実施例１と同様に良好な結果で
あることがわかる。 実施例４ １１．５μｍ厚のポリエステルフィルム上にＣｏ８０ｗ
ｔ％−Ｎｉ２０ｗｔ％合金を微量酸素雰囲気中で連続斜
め蒸着し、０．１５μｍ厚の強磁性金属薄を得た。 この上に、 千ＣＨ２−ＣＨ″＋。 Ｃ００ＣＨ２ＣＨ２−ｎ　ＣＢ　Ｆ＋７からなるアクリ
ルエステル化合物（分子量５万、分子量４０００以上の
成分１００％）をトルエン：メチルイソブチルケトン１
＝１の溶媒に溶かし、バーコーター法で８ｍｇ／ｎｆ塗
布乾燥して磁気テープを作製し評価した。評価結果を第
１表に示す。強磁性金属薄膜が変わっても、実施例１と
同様良好な結果であった。 実施例５〜８ 実施例１におけるアクリルエステル化合物の分子量を、
４０００　（実施例５）、８０００　（実施例６）、１
ｏｏｏ。 （実施例７）、１０００．００　（実施例８）のものに
変えた以外は、実施例１と同様に磁気テープを作製し評
価した。 分子量４０００以上の成分の割合は、実施例５から順に
約５２％、約９２％、約９５％および１００％であった
。評価結果を第１表に示した。 実施例９，１０ 実施例１で用いたアクリルエステル化合物と同じアクリ
ルエステル化合物で、分子量１０００のものと６０００
のものとをｌ：ｌの割合で混合して、分子量４０００以
上の成分割合を約５５％としたこと（実施例９）、分子
１１１０００のものと１００００のものとをｌ：ｌの割
合で混合して、分子量４０００以上の成分割合を約６２
％としたこと（実施例１．０　）以外は、実施例１と同
様に磁気テープを作製し評価した。評価結果を第１表に
示す。分子ｉ　４０００以上の成分が５０％以上含まれ
るものが良好であることがわかる。 実施例１１．　１２ 実施例１で用いたアクリルエステル化合物と同じアクリ
ルエステル化合物で、分子量５００のものと６０００の
ものとを１；２の割合で混合して、分子量４０００以上
の成分割合を約７０％としたこと（実施例１１）、分子
ｆｉ５００のものと１００００のものとを１：２の割合
で混合して、分子１４０００以上の成分割合を約７２％
としたこと（実施例１２）以外は、実施例１と同様に磁
気テープを作製し評価した。評価結果を第１表に示す。 比較例１ 実施例１におけるアクリルエステル化合物を、分＋ｆｌ
１２０００　（分子１４０００以上の成分約３％）のも
のに変えた以外は実施例１と同様に磁気テープを作製し
評価した。評価結果を第１表に示す。 比較例２ 実施例１におけるアクリルエステル化合物で、分子量が
１０００のものと４０００のものを】：１の割合で混合
して、分子１４０００以上の成分割合を約２７％とした
こと以外は、実施例１と同様に磁気テープを作製し、評
価した。評価結果を第１表に示す。 比較例３ 実施例１で用いたアクリルエステル化合物と同じアクリ
ルエステル化合物で、分子量５００のものと２０００の
ものを１：２の割合で混合して、分子１４０００以上の
成分割合を約２％としたこと以外は、実施例１と同様に
磁気テープを作製し評価した。評価結果は第、１表に示
す。 比較例４ アクリルエステル化合物のトップコートを施さずに実施
例４と同様にして作製した磁気テープを実施例１と同様
にして評価した。評価結果を第１表に示す。 実施例１３ ジアミン成分としてＰＰＤを５０モル及びＤＡＤＥを５
０モルと、テトラカルボン酸成分トシテＢＰＤＡを４０
モル及びＰＭＤＡを６０モルを共重合して製造した厚み
４０μｍのポリイミドフィルム上に、スパッタリング装
置にてＣｏ８０ｗｔ％−Ｃｒ　２０　Ｗ　ｔ％の垂直磁
化膜を、ポリイミドフィルムを１５０°Ｃに昇温し０．
５μｍ形成した。使用したポリイミドフィルムの熱膨張
係数は、２．６Ｘ１０−’ｃｍ／ａｍ／’Ｃ，引張弾性
定数は４００ｋｇ／ｍｒ＋（であった。 前記Ｃｏ−Ｃｒ膜の上部に酸素１２％を含むアルゴンガ
ス中でＣｏをスパッタし、酸化コバルト薄膜を１００Ａ
厚形成した。 パーフロロアルキル基を含有するアクリルエステル化合
物（分子１３万、分子量４０００以上の成分約９９％）
をトルエン：メチルエチルケトン＝ｌ：１の溶媒に溶か
し、バーコーター法で酸化コバルト層上に１８ｍｇ／ｒ
ｎ’塗布した。こうして得られたサンプルを直径４７φ
のディスクに打ち抜き加工し、スチルビデオデツキ（試
験機）を用いて評価した。評価結果は第２表に示す。再
生出力を損なわず、耐久性は良好であることがわかる。 実施例１４ 実施例１３におけるアクリルエステル化合物をモＣＨ２
−ＣＩ）−、。 □ Ｃ００ＣＨ２ＣＨ２−ｎＣＢ　Ｆ１７ 分子量５万（分子ｉ　４０００以上の成分１００％）に
変え、このアクリルエステル化合物をトルエンに溶かし
、バーコーター法で２０　ｍ　ｇ　／　ｒｒ？塗布乾燥
した他は、実施例１３と同様にしてディスクを作製し評
価した。評価結果は第２表に示したが、実施例１３と同
様に再生出力を損なわず、耐久性が良好であった。 実施例１５ 実施例１３で用いたアクリルエステル化合物と同じアク
リルエステル化合物で、分子ｆｉｌｏｏｏｏのものと３
０００のものをｌ　：　ｌ　）：混合したものを用いて
、実施例１３と同様にして磁気ディスクを作製し評価し
た。このとき分子量が４０００以上の成分は約７７％で
あった。評価結果を第２表に示す。再生出力を損なわず
、耐久性が良好であることがわかる。 比較例５ 実施例１３におけるアクリルエステル化合物の分子量を
２０００とした以外は実施例１３と同様にして磁気デス
クを作製し評価した。このとき、分子２４０００以上の
成分は約５％であった。評価結果を第２表に示す。 〔発明の効果〕 以上説明したように本発明による磁気記録媒体は非磁性
基体に積層された強磁性金属膜層上にパーフロロアルキ
ル基を含有するとともに５０％以上が分子ｆｉ４０００
以上のアクリルエステル化合物重合体を被着せしめたこ
とにより優れた記録再生特性であるとともにの耐食性、
繰り返し走行耐久性に於いても実用的に十分な性能を優
する磁気記録媒体の実現をならしめるものである。 また、−５°Ｃにおけるパス耐久テストでもわかるよう
に、本発明の磁気記録媒体は、低温での耐久性について
も優れている。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の磁気記録媒体の一例を示す側面図、第
２図は本発明の磁気記録媒体の他の例を示す側面図であ
る。 １・・・非磁性基体 ２・・・強磁性金属薄膜層 ３・・・パーフロロ基を含有アクリルエステル化合物層
４・・・中間層 第２図

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １）非磁性基体上に強磁性金属薄膜が積層された磁気記
   録媒体において、前記強磁性金属薄膜の上にパーフロロ
   アルキル基を含有するアクリルエステル化合物重合体で
   ５０％以上が分子量４０００以上である有機化合物を有
   することを特徴とする磁気記録媒体。 ２）前記強磁性金属薄膜と前記有機化合物の間に、中間
   層が形成されている特許請求の範囲第１項記載の磁気記
   録媒体。 ３）前記非磁性基体がポリイミドフィルムであり、前記
   強磁性金属薄膜がＣｏ−Ｃｒ合金であり、更に前記中間
   層がＣｏを主成分とする酸化物からなる特許請求の範囲
   第２項記載の磁気記録媒体。