JPH0768257B2 - シリル置換のシクロペンタジエン及びその製造法 - Google Patents
シリル置換のシクロペンタジエン及びその製造法Info
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- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 12
- -1 Silyl-substituted cyclopentadiene Chemical class 0.000 title claims description 15
- ZSWFCLXCOIISFI-UHFFFAOYSA-N cyclopentadiene Chemical class C1C=CC=C1 ZSWFCLXCOIISFI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 24
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims abstract description 5
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 30
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims description 19
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 15
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 claims description 6
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 claims description 5
- 239000011734 sodium Substances 0.000 claims description 4
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 claims description 3
- 125000004104 aryloxy group Chemical group 0.000 claims description 3
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 3
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 claims description 3
- 238000001816 cooling Methods 0.000 claims description 3
- 230000007935 neutral effect Effects 0.000 claims description 3
- 239000003495 polar organic solvent Substances 0.000 claims description 3
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 claims description 3
- 238000010992 reflux Methods 0.000 claims description 3
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 238000003756 stirring Methods 0.000 claims description 3
- 229910052794 bromium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 238000006467 substitution reaction Methods 0.000 claims description 2
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical group [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N bromine Chemical group BrBr GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 125000001309 chloro group Chemical group Cl* 0.000 claims 1
- PNDPGZBMCMUPRI-UHFFFAOYSA-N iodine Chemical group II PNDPGZBMCMUPRI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 239000000725 suspension Substances 0.000 claims 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 abstract description 4
- 150000002978 peroxides Chemical class 0.000 abstract 1
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 abstract 1
- 125000005353 silylalkyl group Chemical group 0.000 abstract 1
- 229920003051 synthetic elastomer Polymers 0.000 abstract 1
- 229920003002 synthetic resin Polymers 0.000 abstract 1
- 239000000057 synthetic resin Substances 0.000 abstract 1
- 239000005061 synthetic rubber Substances 0.000 abstract 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 11
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 description 11
- 229910000104 sodium hydride Inorganic materials 0.000 description 11
- 238000005194 fractionation Methods 0.000 description 10
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 description 7
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 5
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 4
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 3
- 239000000047 product Substances 0.000 description 3
- XTHFKEDIFFGKHM-UHFFFAOYSA-N Dimethoxyethane Chemical compound COCCOC XTHFKEDIFFGKHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M Sodium chloride Chemical compound [Na+].[Cl-] FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 230000029936 alkylation Effects 0.000 description 2
- 238000005804 alkylation reaction Methods 0.000 description 2
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000007906 compression Methods 0.000 description 2
- 230000006835 compression Effects 0.000 description 2
- 150000001993 dienes Chemical class 0.000 description 2
- USIUVYZYUHIAEV-UHFFFAOYSA-N diphenyl ether Chemical compound C=1C=CC=CC=1OC1=CC=CC=C1 USIUVYZYUHIAEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000004821 distillation Methods 0.000 description 2
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 2
- 239000000706 filtrate Substances 0.000 description 2
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 2
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 2
- 150000004756 silanes Chemical class 0.000 description 2
- 125000005369 trialkoxysilyl group Chemical group 0.000 description 2
- LCSWTRSVYFXOST-UHFFFAOYSA-N (3-chloro-3-phenylpropyl)-triethoxysilane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCC(Cl)C1=CC=CC=C1 LCSWTRSVYFXOST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DURPTKYDGMDSBL-UHFFFAOYSA-N 1-butoxybutane Chemical compound CCCCOCCCC DURPTKYDGMDSBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DKIUYAAMKFJPGB-UHFFFAOYSA-N 1-prop-2-enylcyclopenta-1,3-diene Chemical compound C=CCC1=CC=CC1 DKIUYAAMKFJPGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RZPAXISDLOEXPI-UHFFFAOYSA-N 1-propylcyclopenta-1,3-diene Chemical compound CCCC1=CC=CC1 RZPAXISDLOEXPI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HECLRDQVFMWTQS-RGOKHQFPSA-N 1755-01-7 Chemical compound C1[C@H]2[C@@H]3CC=C[C@@H]3[C@@H]1C=C2 HECLRDQVFMWTQS-RGOKHQFPSA-N 0.000 description 1
- IKBFHCBHLOZDKH-UHFFFAOYSA-N 2-chloroethyl(triethoxy)silane Chemical compound CCO[Si](CCCl)(OCC)OCC IKBFHCBHLOZDKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PZTIZDBYLCQIEI-UHFFFAOYSA-N 2-chloroethyl-diethoxy-methylsilane Chemical compound CCO[Si](C)(CCCl)OCC PZTIZDBYLCQIEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KSCAZPYHLGGNPZ-UHFFFAOYSA-N 3-chloropropyl(triethoxy)silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCCl KSCAZPYHLGGNPZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KEZMLECYELSZDC-UHFFFAOYSA-N 3-chloropropyl-diethoxy-methylsilane Chemical compound CCO[Si](C)(OCC)CCCCl KEZMLECYELSZDC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WPFKMOXZMAGIOP-UHFFFAOYSA-N 3-cyclopenta-1,3-dien-1-ylpropyl(triethyl)silane Chemical compound CC[Si](CC)(CC)CCCC1=CC=CC1 WPFKMOXZMAGIOP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AVZCDBSGOSIHRC-UHFFFAOYSA-N 3-cyclopenta-2,4-dien-1-ylpropyl(triethoxy)silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCC1C=CC=C1 AVZCDBSGOSIHRC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002943 EPDM rubber Polymers 0.000 description 1
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 1
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005662 Paraffin oil Substances 0.000 description 1
- ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N Potassium Chemical compound [K] ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical group [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KEAYESYHFKHZAL-UHFFFAOYSA-N Sodium Chemical compound [Na] KEAYESYHFKHZAL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KURZCZMGELAPSV-UHFFFAOYSA-N [Br].[I] Chemical class [Br].[I] KURZCZMGELAPSV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000001133 acceleration Effects 0.000 description 1
- 150000001338 aliphatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 229910001508 alkali metal halide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000008045 alkali metal halides Chemical class 0.000 description 1
- 150000001348 alkyl chlorides Chemical class 0.000 description 1
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- KCXMKQUNVWSEMD-UHFFFAOYSA-N benzyl chloride Chemical compound ClCC1=CC=CC=C1 KCXMKQUNVWSEMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940073608 benzyl chloride Drugs 0.000 description 1
- RDHPKYGYEGBMSE-UHFFFAOYSA-N bromoethane Chemical compound CCBr RDHPKYGYEGBMSE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001805 chlorine compounds Chemical class 0.000 description 1
- FPOSCXQHGOVVPD-UHFFFAOYSA-N chloromethyl(trimethoxy)silane Chemical compound CO[Si](CCl)(OC)OC FPOSCXQHGOVVPD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XGLLBUISUZEUMW-UHFFFAOYSA-N chloromethyl-diethoxy-methylsilane Chemical compound CCO[Si](C)(CCl)OCC XGLLBUISUZEUMW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 125000000753 cycloalkyl group Chemical group 0.000 description 1
- NUUNDIOOYFEMQN-UHFFFAOYSA-N cyclopenta-1,3-diene;sodium Chemical compound [Na].C1C=CC=C1 NUUNDIOOYFEMQN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000058 cyclopentadienyl group Chemical group C1(=CC=CC1)* 0.000 description 1
- PFMKUUJQLUQKHT-UHFFFAOYSA-N dichloro(ethyl)silicon Chemical compound CC[Si](Cl)Cl PFMKUUJQLUQKHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ADRPNYIQPWPODD-UHFFFAOYSA-N diethoxymethyl-(2-propylcyclopenta-1,4-dien-1-yl)silane Chemical compound CCCC1=C([SiH2]C(OCC)OCC)C=CC1 ADRPNYIQPWPODD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SBZXBUIDTXKZTM-UHFFFAOYSA-N diglyme Chemical compound COCCOCCOC SBZXBUIDTXKZTM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 239000000945 filler Substances 0.000 description 1
- 238000011049 filling Methods 0.000 description 1
- 238000009472 formulation Methods 0.000 description 1
- 238000004508 fractional distillation Methods 0.000 description 1
- 238000007429 general method Methods 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 150000004820 halides Chemical class 0.000 description 1
- 150000002366 halogen compounds Chemical class 0.000 description 1
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 description 1
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 description 1
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 description 1
- 230000001771 impaired effect Effects 0.000 description 1
- 229910052740 iodine Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011630 iodine Substances 0.000 description 1
- 125000002346 iodo group Chemical group I* 0.000 description 1
- 125000000956 methoxy group Chemical group [H]C([H])([H])O* 0.000 description 1
- NFWSQSCIDYBUOU-UHFFFAOYSA-N methylcyclopentadiene Chemical compound CC1=CC=CC1 NFWSQSCIDYBUOU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001570 methylene group Chemical group [H]C([H])([*:1])[*:2] 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 1
- 238000012856 packing Methods 0.000 description 1
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011591 potassium Substances 0.000 description 1
- IZWIPIIVPHXLTN-UHFFFAOYSA-N potassium;cyclopenta-1,3-diene Chemical compound [K+].C1C=CC=[C-]1 IZWIPIIVPHXLTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
- 230000035484 reaction time Effects 0.000 description 1
- 125000005624 silicic acid group Chemical group 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 1
- 239000011780 sodium chloride Substances 0.000 description 1
- 150000003388 sodium compounds Chemical class 0.000 description 1
- 239000012312 sodium hydride Substances 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 1
- ZDHXKXAHOVTTAH-UHFFFAOYSA-N trichlorosilane Chemical compound Cl[SiH](Cl)Cl ZDHXKXAHOVTTAH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005052 trichlorosilane Substances 0.000 description 1
- QFIGMEFDONJICZ-UHFFFAOYSA-N triethoxy-[3-[1-(3-triethoxysilylpropyl)cyclopenta-2,4-dien-1-yl]propyl]silane Chemical compound C(C)O[Si](OCC)(OCC)CCCC1(C=CC=C1)CCC[Si](OCC)(OCC)OCC QFIGMEFDONJICZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IUGHZZHTWKRNDI-UHFFFAOYSA-N triethoxy-[[1-(triethoxysilylmethyl)cyclopenta-2,4-dien-1-yl]methyl]silane Chemical compound C(C)O[Si](OCC)(OCC)CC1(C=CC=C1)C[Si](OCC)(OCC)OCC IUGHZZHTWKRNDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NZFIWUWOKFOFAD-UHFFFAOYSA-N trimethoxy-(2-methylcyclopenta-1,4-dien-1-yl)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)C1=C(C)CC=C1 NZFIWUWOKFOFAD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JBPJVKFKYHRVNI-UHFFFAOYSA-N trimethoxy-(2-propylcyclopenta-1,4-dien-1-yl)silane Chemical compound CCCC1=C([Si](OC)(OC)OC)C=CC1 JBPJVKFKYHRVNI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OXKSNUOONABCBJ-UHFFFAOYSA-N trimethoxy-[3-[1-(3-trimethoxysilylpropyl)cyclopenta-2,4-dien-1-yl]propyl]silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCC1(C=CC=C1)CCC[Si](OC)(OC)OC OXKSNUOONABCBJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VVGKVSSAYJIRKW-UHFFFAOYSA-N trimethoxy-[[1-(trimethoxysilylmethyl)cyclopenta-2,4-dien-1-yl]methyl]silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CC1(C=CC=C1)C[Si](OC)(OC)OC VVGKVSSAYJIRKW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
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Description
【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は、シシル置換のシクロペンタジエン及びその製
造法に関する。
造法に関する。
従来の技術 シクロペンタジエニルトリアルコキシシラン及びシクロ
ペンタジエニルアルキルトリアルキルシランは、既に公
知である。アルコキシシランは、屡々加水分解による表
面被膜に使用する。ドイツ特許第1097988号明細書によ
れば、シクロペンタジエニルトリアルコキシシランは、
相応するハロゲン化合物とアルコールとの反応によつて
得られる。
ペンタジエニルアルキルトリアルキルシランは、既に公
知である。アルコキシシランは、屡々加水分解による表
面被膜に使用する。ドイツ特許第1097988号明細書によ
れば、シクロペンタジエニルトリアルコキシシランは、
相応するハロゲン化合物とアルコールとの反応によつて
得られる。
原料は、予めトリクロルシランとシクロペンタジエンと
から50％以下の収率で製造される（米国特許第2951057
号明細書）。
から50％以下の収率で製造される（米国特許第2951057
号明細書）。
シクロペンタジエニルトリアルコキシシランを、シクロ
ペンタジエンと塩化トリアルコキシシリルとからの直接
反応によつて得ることも公知である（米国特許第295790
1号明細書）。
ペンタジエンと塩化トリアルコキシシリルとからの直接
反応によつて得ることも公知である（米国特許第295790
1号明細書）。
しかしながら、２回の蒸溜によつて比較的純粋の生成物
が得られるのに過ぎない。
が得られるのに過ぎない。
ズルナール・オブシキ・キミイ〔（Zhurnal Obshchei K
himii）1974年、44巻（10）〕（C.A.82:578069（1975
年））には、２工程で３−（トリエチルシリル）プロピ
ルシクロペンタジエンを、アリルシクロペンタジエンを
エチルジクロルシランでヒドロシリル化し、続いて中間
生成物をグリニヤール法で臭化エチルと反応させて製造
することが記載されている。
himii）1974年、44巻（10）〕（C.A.82:578069（1975
年））には、２工程で３−（トリエチルシリル）プロピ
ルシクロペンタジエンを、アリルシクロペンタジエンを
エチルジクロルシランでヒドロシリル化し、続いて中間
生成物をグリニヤール法で臭化エチルと反応させて製造
することが記載されている。
この方法によつて得られた化合物は、メチレン基の連鎖
によつてシクロペンタジエン環で行われる反応の珪素原
子からの独立が得られるが、同時に珪酸原子にもはや加
水分解する基は存在しない。
によつてシクロペンタジエン環で行われる反応の珪素原
子からの独立が得られるが、同時に珪酸原子にもはや加
水分解する基は存在しない。
本発明の課題は、式（Ｉ）： 〔式中Ａは を表わし、Ｒ及びＲ′は同一か又は異なつており、C1〜
C6−アルキル、C5−及びC6−シクロアルキル、ベンジ
ル、フエニルであり、ｎは１〜３であり、ｍは０又は１
であり、ｐは２であり、この場合はＡは同一か又は異な
るものを表わし、アルコキシ基又はアリールオキシ基の
Ｃ原子の総数は36を、好ましくは32を越えないものと
し、ｒは０又は１である〕の新規シリル置換のシクロペ
ンタジエンである。
C6−アルキル、C5−及びC6−シクロアルキル、ベンジ
ル、フエニルであり、ｎは１〜３であり、ｍは０又は１
であり、ｐは２であり、この場合はＡは同一か又は異な
るものを表わし、アルコキシ基又はアリールオキシ基の
Ｃ原子の総数は36を、好ましくは32を越えないものと
し、ｒは０又は１である〕の新規シリル置換のシクロペ
ンタジエンである。
ｐ＝１の場合には、式（Ｉ）による化合物は、シクロペ
ンタジエニル−アルカリを中性極性有機溶剤にとかした
溶液を、式： 〔式中Ｒ及びＲ′は同一か又は異なつており、C1〜C6−
アルキル、C5−及びC6−シクロアルキル、ベンジル、フ
エニル、置換されているフエニルを表わし、ｎは１〜３
であり、ｍは０又は１であり、ｒは０又は１であり、Ｘ
はCl、Br又はＪを表わす〕の等モル量のシランと反応さ
せて製造する。
ンタジエニル−アルカリを中性極性有機溶剤にとかした
溶液を、式： 〔式中Ｒ及びＲ′は同一か又は異なつており、C1〜C6−
アルキル、C5−及びC6−シクロアルキル、ベンジル、フ
エニル、置換されているフエニルを表わし、ｎは１〜３
であり、ｍは０又は１であり、ｒは０又は１であり、Ｘ
はCl、Br又はＪを表わす〕の等モル量のシランと反応さ
せて製造する。
シクロペンタジエンのナトリウム化合物は、公知技術に
よればジエンを水素化ナトリウムと反応させて得ること
ができる。
よればジエンを水素化ナトリウムと反応させて得ること
ができる。
シクロペンタジエニルカリウムは、ベンゾール又はキシ
ロールにとかしたシクロペンタジエンと金属カリウムと
から得られる。好ましくはナトリウムシクロペンタジエ
ンをテトラヒドロフラン（THF）にとかした溶液を使用
する。溶剤としては、エーテル、例えばジエチルエーテ
ル、ジブチルエーテル、ジフエニルエーテル、エチレン
グリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジ
メチルエーテル並びに前記エーテルと脂肪族又は芳香族
炭化水素との混合物も適当である。
ロールにとかしたシクロペンタジエンと金属カリウムと
から得られる。好ましくはナトリウムシクロペンタジエ
ンをテトラヒドロフラン（THF）にとかした溶液を使用
する。溶剤としては、エーテル、例えばジエチルエーテ
ル、ジブチルエーテル、ジフエニルエーテル、エチレン
グリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジ
メチルエーテル並びに前記エーテルと脂肪族又は芳香族
炭化水素との混合物も適当である。
前記反応は、水が存在しないで保護ガス下に行なう。シ
ランを、シクロペンタジエニルアルカリ（好ましくはア
ルカリとしてナトリウムを有する）をTHFにとかした溶
液中に混合する間、温度を35℃を越えないように調節す
る。それというのもさもなければ加速的にシクロペンタ
ジエン環の数個所の置換が生じるからである。
ランを、シクロペンタジエニルアルカリ（好ましくはア
ルカリとしてナトリウムを有する）をTHFにとかした溶
液中に混合する間、温度を35℃を越えないように調節す
る。それというのもさもなければ加速的にシクロペンタ
ジエン環の数個所の置換が生じるからである。
続いて反応溶液を、20〜65℃、好ましくは室温で反応が
完了するまで撹拌する。
完了するまで撹拌する。
脱離すべきハロゲン原子によつて、式（II）のクロルア
ルキルシランを使用する場合には、完全な反応には７日
間まで、好ましくは４日間必要である。相応するヨード
化合物は迅速に反応する。
ルキルシランを使用する場合には、完全な反応には７日
間まで、好ましくは４日間必要である。相応するヨード
化合物は迅速に反応する。
続いて沈殿物を、生じたアルカリ金属ハロゲン化物から
フイルターによつて分離し、反応溶液から蒸溜によつて
使用した溶剤を除去し、最後に所望の生成物を、例えば
ビクロー塔によつて分留する。
フイルターによつて分離し、反応溶液から蒸溜によつて
使用した溶剤を除去し、最後に所望の生成物を、例えば
ビクロー塔によつて分留する。
本発明の新規化合物は、前述のようにして製造したモノ
−シリル置換のシクロペンタジエンを、置換されている
シクロペンタジエンに対して少くとも等モル量、好まし
くは1.2倍までの過剰量のNaHを含有する中性極性有機溶
剤、好ましくはTHF中に温度50〜55℃で添加することに
よって製造することができる。
−シリル置換のシクロペンタジエンを、置換されている
シクロペンタジエンに対して少くとも等モル量、好まし
くは1.2倍までの過剰量のNaHを含有する中性極性有機溶
剤、好ましくはTHF中に温度50〜55℃で添加することに
よって製造することができる。
この場合添加速度は、H2の発生によつて調節する。添加
の終了後に、なお還流下に1.0〜４時間撹拌する。場合
により過剰量のNaHを、冷却後に分離する。
の終了後に、なお還流下に1.0〜４時間撹拌する。場合
により過剰量のNaHを、冷却後に分離する。
このようにして予め製造した反応溶液に、ジ置換のシク
ロペンタジエンを製造するために０〜150℃、好ましく
は室温で式（II）のハロゲンアルキルシランを加え、完
全に反応するまで撹拌する。
ロペンタジエンを製造するために０〜150℃、好ましく
は室温で式（II）のハロゲンアルキルシランを加え、完
全に反応するまで撹拌する。
沈殿したハロゲン化ナトリウムを濾別し、濾液を、溶剤
の除去後に分別蒸溜する。
の除去後に分別蒸溜する。
所望の生成物は、異性体のビス−シリル置換のシクロペ
ンタジエンである。好ましくは式（II）によるシランと
しては、次のものを使用する：クロルメチルトリメトキ
シシラン、クロルメチル−メチル−ジエトキシシラン、
２−クロルエチルトリエトキシシラン、２−クロル−エ
チル−メチル−ジエトキシシラン、３−クロルプロピル
トリエトキシシラン、３−クロルプロピル−メチル−ジ
エトキシシラン、（２−トリエトキシシリル−エチル）
ベンジルクロリド、（２−メチル−ジエトキシシリルエ
チル）ベンジルクロリド、塩素化合物と同じようにメト
キシ同族体としても適当である同族体の臭素−及び沃素
化合物。
ンタジエンである。好ましくは式（II）によるシランと
しては、次のものを使用する：クロルメチルトリメトキ
シシラン、クロルメチル−メチル−ジエトキシシラン、
２−クロルエチルトリエトキシシラン、２−クロル−エ
チル−メチル−ジエトキシシラン、３−クロルプロピル
トリエトキシシラン、３−クロルプロピル−メチル−ジ
エトキシシラン、（２−トリエトキシシリル−エチル）
ベンジルクロリド、（２−メチル−ジエトキシシリルエ
チル）ベンジルクロリド、塩素化合物と同じようにメト
キシ同族体としても適当である同族体の臭素−及び沃素
化合物。
実施例 化合物の製造。
費用をわずかに維持するために、極めて簡単な保護ガス
の技術（アルゴンでの洗浄及びガラス装置にアルゴンを
充填）を使用し、これによつて反応の収率は若干損なわ
れる。
の技術（アルゴンでの洗浄及びガラス装置にアルゴンを
充填）を使用し、これによつて反応の収率は若干損なわ
れる。
−ジシクロペンタジエンを、反応直前に蒸溜によつてモ
ノマー（Kp＝42℃）に変換する。
ノマー（Kp＝42℃）に変換する。
−NaH（残渣：パラフイン油）を使用する。
−NaCpを、記載のようにしてTHFにとかしたシクロペン
タジエン（CpH）及びNaHから製造する。
タジエン（CpH）及びNaHから製造する。
シラン１〜７を製造するための一般的方法。
NaCpをTHFにとかした赤色〜紫色に着色した溶液を過剰
量のNaHからデカンテーシヨンし、30分間に例えば塩化
（トリアルコキシシリル）アルキルの等モル量を加え
る。この場合温度は35℃を越えてはならない。それとい
うのもさもなければ加速的にアルキル化が生じるからで
ある。反応溶液を室温で４日間撹拌し、形成した沈殿物
をNaClから分離する。反応溶液からTHFを蒸溜して除去
し、最後に真空中でビグロー塔によつて分留する。
量のNaHからデカンテーシヨンし、30分間に例えば塩化
（トリアルコキシシリル）アルキルの等モル量を加え
る。この場合温度は35℃を越えてはならない。それとい
うのもさもなければ加速的にアルキル化が生じるからで
ある。反応溶液を室温で４日間撹拌し、形成した沈殿物
をNaClから分離する。反応溶液からTHFを蒸溜して除去
し、最後に真空中でビグロー塔によつて分留する。
参考例１ （トリメトキシシリル）メチルシクロペンタジエン、
１。
１。
THF500mlにとかしたCpH120ml（1.44モル）、NaH55g（1.
8モル、過剰量）及びClCH2Si（OCH3）3220g（1.3モル）
からの製造。
8モル、過剰量）及びClCH2Si（OCH3）3220g（1.3モル）
からの製造。
沈殿量：（理論量の91％）68.8g 分留:ClCH2Si（OCH3）330g（Kp＝50−60℃）、１195.7g 収率:75％ 無色の液体、Kp0.5＝51℃； C9H16O3Si（200.311） Ｃ Ｈ Si 計算値： 53.97 8.05 14.02 実測値： 53.33 8.34 14.00 参考例２ （トリメトキシシリル）プロピルシクロペンタジエン、
２。
２。
THF500mlにとかしたCpH90ml（1.1モル）、NaH40g（1.3
モル、過剰量）及び３−Cl−C3H6−Si（OCH3）3198.6g
（１モル）からの製造。与えられた方法からかたよつ
て、反応溶液をCl−C3H6−Si（OCH3）３の添加後に２時
間還流させた。これによつて著しいいアルキル化が生じ
た。
モル、過剰量）及び３−Cl−C3H6−Si（OCH3）3198.6g
（１モル）からの製造。与えられた方法からかたよつ
て、反応溶液をCl−C3H6−Si（OCH3）３の添加後に２時
間還流させた。これによつて著しいいアルキル化が生じ
た。
沈殿量：（理論量の86％）50g 分留:Cl−C3H6−Si（OCH3）362g（Kp0.5＝55℃）２111
4,5g 収率:50％ 無色の液体、Kp0.5＝85℃； C11H20O3Si（228.365） Ｃ Ｈ Si 計算値： 57.89 8.77 12.31 実測値： 57.51 8.96 12.51 参考例３ （トリエトキシシリル）メチルシクロペンタジエン、
３。
4,5g 収率:50％ 無色の液体、Kp0.5＝85℃； C11H20O3Si（228.365） Ｃ Ｈ Si 計算値： 57.89 8.77 12.31 実測値： 57.51 8.96 12.51 参考例３ （トリエトキシシリル）メチルシクロペンタジエン、
３。
THF500mlにとかしたCpH124ml（1.5モル）、NaH55g（1.8
モル、過剰量）及びCl−CH2−Si（OC2H5）3319g（1.5モ
ル）からの製造。
モル、過剰量）及びCl−CH2−Si（OC2H5）3319g（1.5モ
ル）からの製造。
沈殿量：（論理量の67％）58.5g 分留:Cl−CH2−Si（OC2H5）310.54g（Kp3＝65℃）、３2
02.2g 収率:56％ 無色の液体、Kp10 -2＝52℃ C12H22O3Si（242.392） Ｃ Ｈ Si 計算値： 59.46 9.15 11.59 実測値： 59.18 9.45 11.09 参考例４ （トリエトキシシリル）プロピルシクロペンタジエン、
４。
02.2g 収率:56％ 無色の液体、Kp10 -2＝52℃ C12H22O3Si（242.392） Ｃ Ｈ Si 計算値： 59.46 9.15 11.59 実測値： 59.18 9.45 11.09 参考例４ （トリエトキシシリル）プロピルシクロペンタジエン、
４。
THF500mlにとかしたCpH100ml（1.2モル）、NaH39g（1.3
モル、過剰量）及び３−Cl−C3H6−SI（OC2H5）2290g
（1.2モル）からの製造。
モル、過剰量）及び３−Cl−C3H6−SI（OC2H5）2290g
（1.2モル）からの製造。
沈殿：（論理量の80％）55.8g 分留:Cl−C3H6−SI（OC2H5）351.5g（Kp0.05＝67℃）、
４ 188.3g 収率:58％ 無色の液体、Kp0.05＝88℃ C14H26O3Si（270.446） Ｃ Ｈ Si 計算値： 62.18 9.69 10.38 実測値： 62.10 9.71 10.60 参考例５ （トリ−ｎ−ブトキシシリル）プロピルシクロペンタジ
エン、５。
４ 188.3g 収率:58％ 無色の液体、Kp0.05＝88℃ C14H26O3Si（270.446） Ｃ Ｈ Si 計算値： 62.18 9.69 10.38 実測値： 62.10 9.71 10.60 参考例５ （トリ−ｎ−ブトキシシリル）プロピルシクロペンタジ
エン、５。
THF250mlにとかしたCpH41.7ml（0.5モル）NaH13.2g（0.
55モル、過剰量）及び３−Cl−C3H6−Si（OC4H9）316.2
5g（0.5モル）からの製造。
55モル、過剰量）及び３−Cl−C3H6−Si（OC4H9）316.2
5g（0.5モル）からの製造。
沈殿量：（理論量の97％）28.4g 分留:Cl−C3H6−Si（OC4H9）36.2g（Kp0.04＝99℃）、
５ 83.3g 収率:47％ 無色の液体、Kp0.04＝140℃ C20H38O3Si（354.609） Ｃ Ｈ 計算値： 67.74 10.80 実測値： 68.30 11.42 参考例６ （ジエトキシメチルシリル）プロピルシクロペンタジエ
ン、６。
５ 83.3g 収率:47％ 無色の液体、Kp0.04＝140℃ C20H38O3Si（354.609） Ｃ Ｈ 計算値： 67.74 10.80 実測値： 68.30 11.42 参考例６ （ジエトキシメチルシリル）プロピルシクロペンタジエ
ン、６。
TMF250mlにとかしたCpH41.7ml（0.5モル）、NaH13.2g
（0.55モル、過剰量）及び３−Cl−C3H6−Si（CH3）−
（OC2H5）2105.4g（0.5モル）からの製造。
（0.55モル、過剰量）及び３−Cl−C3H6−Si（CH3）−
（OC2H5）2105.4g（0.5モル）からの製造。
沈殿量：（論理量の90％）25.2g 分留:Cl−C3H6−Si（CH3）（OC2H5）28.4g（Kp0.1＝40
℃）、６ 75.7g 収率:63％ 無色の液体、Kp0.05＝68℃ C13H24O2Si（240.420） Ｃ Ｈ 計算値： 64.95 10.06 実測値： 65.14 11.11 参考例７ （トリメトキシシリル）エチルベンジルシクロペンタジ
エン、７。
℃）、６ 75.7g 収率:63％ 無色の液体、Kp0.05＝68℃ C13H24O2Si（240.420） Ｃ Ｈ 計算値： 64.95 10.06 実測値： 65.14 11.11 参考例７ （トリメトキシシリル）エチルベンジルシクロペンタジ
エン、７。
TMF150mlにとかしたCpH25ml（0.3モル）、NaH7.9g（0.3
3モル、過剰量）及びCl−CH2−C6H4−C2H4−Si（OCH3）
382.5g（0.3モル）からの製造。
3モル、過剰量）及びCl−CH2−C6H4−C2H4−Si（OCH3）
382.5g（0.3モル）からの製造。
沈殿量：（論理量の95％）16.7g 分留:Cl−CH2−C6H4−C2H4−Si（OCH3）33.5g（Kp0.05
＝105℃）７ 33.1g 収率:36.0％ 無色の液体、Kp0.01＝125℃； CHO3Si（304.464） Ｃ Ｈ 計算値： 67.06 7.95 実測値： 68.08 8.74 シラン８〜12を製造するための一般的方法： 1.2倍過剰量のNaHを、THFに添加する。これに50〜55℃
で等モル量の（トリアルコキシシリル）アルキルシクロ
ペンダジエン１〜４を滴加し、その場合滴加速度をH2の
発生に関して調節する。
＝105℃）７ 33.1g 収率:36.0％ 無色の液体、Kp0.01＝125℃； CHO3Si（304.464） Ｃ Ｈ 計算値： 67.06 7.95 実測値： 68.08 8.74 シラン８〜12を製造するための一般的方法： 1.2倍過剰量のNaHを、THFに添加する。これに50〜55℃
で等モル量の（トリアルコキシシリル）アルキルシクロ
ペンダジエン１〜４を滴加し、その場合滴加速度をH2の
発生に関して調節する。
シランの添加終了後に、なお還流下に１時間撹拌する。
冷却後に、過剰量のNaHをデカンテーションする。最後
に、反応溶液に室温で相応するハロゲンアルキルトリア
ルコキシシランを滴加し、撹拌する。反応時間は塩素ア
ルキルシランには約４日間であるが、沃素アルキルシラ
ンに対しては最高１日間である。沈殿するハロゲン化Na
を濾別し、濾液を、溶剤を除去した後に分別蒸溜する。
冷却後に、過剰量のNaHをデカンテーションする。最後
に、反応溶液に室温で相応するハロゲンアルキルトリア
ルコキシシランを滴加し、撹拌する。反応時間は塩素ア
ルキルシランには約４日間であるが、沃素アルキルシラ
ンに対しては最高１日間である。沈殿するハロゲン化Na
を濾別し、濾液を、溶剤を除去した後に分別蒸溜する。
例１ ビス〔（トリメトキシシリル）メチル〕シクロペンタジ
エン、８。
エン、８。
THF60mlにとかしたNaH8g（0.26モル、過剰量）、１45g
（0.22モル）及びＪ−OH2−Si（OCH3）558g（0.22モ
ル）からの製造。
（0.22モル）及びＪ−OH2−Si（OCH3）558g（0.22モ
ル）からの製造。
沈殿量：（理論量の71％）23.5g 分留:J−CH2−Si（OCH3）３＋１ 21.3g（Kp4＝35−70
℃）、８ 42.8g 収率:58％ 無色の液体、Kp10−３＝95℃ C13H26O6Si2（334.518） Ｃ Ｈ 計算値： 44.68 7.83 実測値： 45.64 7.82 例２ ビス−〔（トリメトキシシリル）プロピル〕シクロペン
タジエン、９。
℃）、８ 42.8g 収率:58％ 無色の液体、Kp10−３＝95℃ C13H26O6Si2（334.518） Ｃ Ｈ 計算値： 44.68 7.83 実測値： 45.64 7.82 例２ ビス−〔（トリメトキシシリル）プロピル〕シクロペン
タジエン、９。
THF300mlにとかしたNaH12.3g（0.4モル、過剰量）、２
79.9g（0.35モル）及び３−Cl−C3H6−Si（OCH3）36
9.3g（0.35モル）からの製造。
79.9g（0.35モル）及び３−Cl−C3H6−Si（OCH3）36
9.3g（0.35モル）からの製造。
沈殿量：（理論量の78％）16g 分留:Cl−C3H6−Si（OCH3）312.1g（Kp0.5＝45℃）２
3.6g（Kp0.5＝85℃）９ 87.4g 収率:64％ 無色の液体、Kp0.01＝145℃ C17H34＝6Si2（390.127）： Ｃ Ｈ Si 計算値： 52.27 8.77 14.38 実測値： 52.28 9.26 13.40 例３ ビス〔（トリエトキシシリル）メチル〕シクロペンタジ
エン、10。
3.6g（Kp0.5＝85℃）９ 87.4g 収率:64％ 無色の液体、Kp0.01＝145℃ C17H34＝6Si2（390.127）： Ｃ Ｈ Si 計算値： 52.27 8.77 14.38 実測値： 52.28 9.26 13.40 例３ ビス〔（トリエトキシシリル）メチル〕シクロペンタジ
エン、10。
THF200mlにとかしたNaH25g（0.8モル、過剰量）、３ 1
53g（0.63モル）及びCl−CH2−Si（OC2H5）3108.3g（0.
5モル）からの別法Ａによる製造。
53g（0.63モル）及びCl−CH2−Si（OC2H5）3108.3g（0.
5モル）からの別法Ａによる製造。
沈殿量：（理論量の87％）25.5g 分留:Cl−CH2−Si（OC2H5）313.6g（Kpl＝43℃）、３
23.6g（Kpl＝50−90℃）、10 121.8g 収率:58％ 無色の液体、Kp10−３＝120℃ C19H38O6Si2（18.681） Ｃ Ｈ 計算値： 54.51 9.15 実測値： 55.00 9.25 例４ ビス〔（トリエトキシシリル）プロピル〕シクロペンタ
ジエン、11。
23.6g（Kpl＝50−90℃）、10 121.8g 収率:58％ 無色の液体、Kp10−３＝120℃ C19H38O6Si2（18.681） Ｃ Ｈ 計算値： 54.51 9.15 実測値： 55.00 9.25 例４ ビス〔（トリエトキシシリル）プロピル〕シクロペンタ
ジエン、11。
NaH12.3g（0.4モル、過剰量）、４ 94g（0.35モル）及
び３−Cl−C3H6−Si（OC2H5）384.2g（0.35モル）から
の製造。
び３−Cl−C3H6−Si（OC2H5）384.2g（0.35モル）から
の製造。
沈殿量：（論理量の85％）17.3g 分留:Cl−C3H6−Si（OC2H5）310.4g（Kp0.1＝60℃）、
４ 5.4g（Kp0.1＝98℃）、11 108.7g 収率:65％ 無色の液体、Kp10-3＝162℃ C23H46O6Si2（474.789） Ｃ Ｈ Si 計算値： 58.19 9.77 11.83 実測値： 58.09 9.86 12.09 引裂抵抗、張力及び磨耗は、本発明によるシランの添加
によつて著しく改良される。殊にパッキングに極めて重
要な圧縮永久歪は、シクロペンタジエニルプロピルトリ
エトキシシランの添加によつて低下する。
４ 5.4g（Kp0.1＝98℃）、11 108.7g 収率:65％ 無色の液体、Kp10-3＝162℃ C23H46O6Si2（474.789） Ｃ Ｈ Si 計算値： 58.19 9.77 11.83 実測値： 58.09 9.86 12.09 引裂抵抗、張力及び磨耗は、本発明によるシランの添加
によつて著しく改良される。殊にパッキングに極めて重
要な圧縮永久歪は、シクロペンタジエニルプロピルトリ
エトキシシランの添加によつて低下する。
例15 他の試験で、更に式（Ｉ）による他の３種のシランの作
用を、EPDMを基質とする標準処方物で試験する。使用し
た填料は、微細な活性沈殿珪酸（BET＝40m2/g）であ
る。
用を、EPDMを基質とする標準処方物で試験する。使用し
た填料は、微細な活性沈殿珪酸（BET＝40m2/g）であ
る。
本発明により等モル量のシランを添加して、加硫物の性
質、殊に引裂抵抗、張力、磨耗及び圧縮永久歪が著しく
改良される。
質、殊に引裂抵抗、張力、磨耗及び圧縮永久歪が著しく
改良される。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 ジークフリード・ヴオルフ ドイツ連邦共和国ボルンハイム‐メルテ ン・ヴアイアーシユトラーセ 28 (72)発明者 エーヴエ‐ホン・タン ドイツ連邦共和国ヴエセリング・レンブラ ントシユトラーセ 22 (56)参考文献 Ｊ．Ｏｒｇａｎｏｍｅｔａｌ，Ｃｈｅ ｍ．，315〔２〕（1986），143−156 （“Ｓｉｌｙｌａｔｅｄ Ｓｕｒｆａｃｅ ｓ”，Ｇｏｄｅｎ ａｎｄ Ｂｒｅａｃｈ Ｓｃｉｅｎｃｅ Ｐｕｂｌｉｓｈｅｒ ｓ，（1980），Ｐ．333．)
Claims (3)
- 【請求項１】式（Ｉ）： ［式中Ａは を表わし、Ｒ及びＲ′は同一か又は異なっており、C1〜
C6−アルキル、C5−及びC6−シクロアルキル、ベンジ
ル、フェニルであり、ｎは１〜３であり、ｍは０又は１
であり、ｐは２であり、この場合にはＡは同一か又は異
なるものを表わし、アルコキシ基又はアリールオキシ基
のＣ原子の総数は36を越えないものとし、ｒは０又は１
である］のビスーシリル置換のシクロペンタジエン。 - 【請求項２】式（Ｉ）： ［式中Ａは を表わし、Ｒ及びＲ′は同一か又は異なっており、C1〜
C6−アルキル、C5−及びC6−シクロアルキル、ベンジ
ル、フェニルであり、ｎは１〜３であり、ｍは０又は１
であり、ｐは２であり、この場合にはＡは同一か又は異
なるものを表わし、アルコキシ基又はアリールオキシ基
のＣ原子の総数は36を越えないものとし、ｒは０又は１
である］のビスーシリル置換のシクロペンタジエンを製
造する方法において、保護ガス下にNaHを中性極性有機
溶剤にとかした懸濁液を装入し、50〜55℃で等モル量の
モノ−シリル置換のシクロペンタジエンを滴加し、続い
て還流下に1.0〜４時間撹拌し、場合により冷却後に過
剰量のNaHを分離し、反応溶液に０〜150℃で式（II）： ［式中Ｘは塩素、臭素又は沃素を表わし、Ｒ及びＲ′は
同一か又は異なっており、C1〜C6−アルキル、C5−及び
C6−シクロアルキル、ベンジル、フェニルを表わし、ｎ
は１〜３であり、ｍは０又は１であり、ｒは０又は１で
ある］のハロゲン−アルキルシランを滴加し、反応終了
後に沈殿したハロゲン化ナトリウムを分離し、所望の生
成物を蒸溜して分離することを特徴とする、ビス−シリ
ル置換のシクロペンタジエンの製造法。 - 【請求項３】有機溶剤としてテトラヒドロフラン（TH
F）を使用する、特許請求の範囲第２項記載の方法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE19843427922 DE3427922A1 (de) | 1984-07-28 | 1984-07-28 | Silyl-substituierte cyclopentadiene, verfahren zur herstellung und sie enthaltende kunststoff- und kautschukmischungen |
| DE3427922.9 | 1984-07-28 |
Related Child Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6287863A Division JP2541787B2 (ja) | 1984-07-28 | 1994-11-22 | シリル置換のシクロペンタジエンを含有するゴム−及びプラスチック混合物及び該混合物を製造する方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6147493A JPS6147493A (ja) | 1986-03-07 |
| JPH0768257B2 true JPH0768257B2 (ja) | 1995-07-26 |
Family
ID=6241842
Family Applications (2)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60166046A Expired - Lifetime JPH0768257B2 (ja) | 1984-07-28 | 1985-07-29 | シリル置換のシクロペンタジエン及びその製造法 |
| JP6287863A Expired - Lifetime JP2541787B2 (ja) | 1984-07-28 | 1994-11-22 | シリル置換のシクロペンタジエンを含有するゴム−及びプラスチック混合物及び該混合物を製造する方法 |
Family Applications After (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6287863A Expired - Lifetime JP2541787B2 (ja) | 1984-07-28 | 1994-11-22 | シリル置換のシクロペンタジエンを含有するゴム−及びプラスチック混合物及び該混合物を製造する方法 |
Country Status (8)
| Country | Link |
|---|---|
| US (2) | US4645850A (ja) |
| EP (1) | EP0170011B1 (ja) |
| JP (2) | JPH0768257B2 (ja) |
| AT (1) | ATE38231T1 (ja) |
| CS (1) | CS274567B2 (ja) |
| DD (3) | DD254203A5 (ja) |
| DE (2) | DE3427922A1 (ja) |
| PL (3) | PL148445B1 (ja) |
Families Citing this family (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE3837418A1 (de) * | 1988-11-04 | 1990-05-10 | Degussa | Organosiloxanamin-copolykondensate, verfahren zu ihrer herstellung und verwendung (i) |
| FR2654731B1 (fr) * | 1989-11-21 | 1992-03-13 | Rhone Poulenc Chimie | Silane et organopolysiloxane a reste cyclopentenyle pouvant etre obtenu par reaction de michael. |
| FR2676064B1 (fr) * | 1991-04-30 | 1994-07-29 | Rhone Poulenc Chimie | Polyorganosiloxanes a groupements cyclopentadienyles et/ou cyclopentadienylenes et/ou dicyclopentadienylenes, leurs preparations et leur utilisation dans des compositions reticulables en elastomeres. |
| DE4409140A1 (de) * | 1994-03-17 | 1995-09-21 | Degussa | Wäßrige Lösungen von Organopolysiloxan-Ammoniumverbindungen, ihre Herstellung und Verwendung |
| NZ303624A (en) * | 1995-03-08 | 1999-01-28 | Du Pont | Reactive organosilicons as coatings, adhesives, and sealants |
| CN103483370B (zh) * | 2013-09-16 | 2016-06-15 | 厦门诺恩斯科技有限公司 | 一种异丁基三乙氧基硅烷的制备方法 |
| US11028208B2 (en) * | 2016-04-21 | 2021-06-08 | Bridgestone Corporation | Terminal-functionalized polymer, rubber composition containing same and related processes |
Family Cites Families (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| NL94478C (ja) * | 1953-07-13 | 1900-01-01 | ||
| US2957901A (en) * | 1954-04-20 | 1960-10-25 | Pittsburgh Plate Glass Co | Cyclopentadienyltrialkoxysilanes and derivatives thereof |
| US2974157A (en) * | 1954-08-04 | 1961-03-07 | Union Carbide Corp | Cyclopentadienyl vinyl silanes and process for making same |
| JPS5483089A (en) * | 1977-12-15 | 1979-07-02 | Sekisui Chem Co Ltd | Preparation of silane-modified ethylene resin |
| JPS57153004A (en) * | 1981-03-19 | 1982-09-21 | Nippon Oil Co Ltd | Production of silane-crosslinked polyolefin |
| US4593072A (en) * | 1983-09-23 | 1986-06-03 | Union Carbide Corporation | Relatively water-stable compositions based on thermoplastic polymers containing pendant silane moieties |
-
1984
- 1984-07-28 DE DE19843427922 patent/DE3427922A1/de not_active Withdrawn
-
1985
- 1985-06-11 CS CS417985A patent/CS274567B2/cs unknown
- 1985-06-11 DE DE8585107167T patent/DE3565835D1/de not_active Expired
- 1985-06-11 EP EP85107167A patent/EP0170011B1/de not_active Expired
- 1985-06-11 AT AT85107167T patent/ATE38231T1/de not_active IP Right Cessation
- 1985-07-17 US US06/756,088 patent/US4645850A/en not_active Expired - Lifetime
- 1985-07-25 PL PL1985254679A patent/PL148445B1/pl unknown
- 1985-07-25 PL PL1985260397A patent/PL145078B1/pl unknown
- 1985-07-25 PL PL1985260398A patent/PL145061B1/pl unknown
- 1985-07-26 DD DD85279025A patent/DD254203A5/de not_active IP Right Cessation
- 1985-07-26 DD DD85297141A patent/DD252610A5/de not_active IP Right Cessation
- 1985-07-26 DD DD85313162A patent/DD270915A5/de not_active IP Right Cessation
- 1985-07-29 JP JP60166046A patent/JPH0768257B2/ja not_active Expired - Lifetime
-
1986
- 1986-11-21 US US06/933,136 patent/US4704428A/en not_active Expired - Lifetime
-
1994
- 1994-11-22 JP JP6287863A patent/JP2541787B2/ja not_active Expired - Lifetime
Non-Patent Citations (1)
| Title |
|---|
| Ｊ．Ｏｒｇａｎｏｍｅｔａｌ，Ｃｈｅｍ．，３１５〔２〕（１９８６），１４３−１５６（"ＳｉｌｙｌａｔｅｄＳｕｒｆａｃｅｓ"，ＧｏｄｅｎａｎｄＢｒｅａｃｈＳｃｉｅｎｃｅＰｕｂｌｉｓｈｅｒｓ，（１９８０），Ｐ．３３３．） |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| DE3427922A1 (de) | 1986-01-30 |
| PL148445B1 (en) | 1989-10-31 |
| JP2541787B2 (ja) | 1996-10-09 |
| US4704428A (en) | 1987-11-03 |
| JPS6147493A (ja) | 1986-03-07 |
| PL254679A1 (en) | 1986-11-04 |
| EP0170011A2 (de) | 1986-02-05 |
| JPH07173326A (ja) | 1995-07-11 |
| DD252610A5 (de) | 1987-12-23 |
| DD254203A5 (de) | 1988-02-17 |
| US4645850A (en) | 1987-02-24 |
| PL145061B1 (en) | 1988-08-31 |
| DE3565835D1 (en) | 1988-12-01 |
| EP0170011A3 (en) | 1986-07-23 |
| PL143325B1 (en) | 1988-02-29 |
| DD270915A5 (de) | 1989-08-16 |
| EP0170011B1 (de) | 1988-10-26 |
| ATE38231T1 (de) | 1988-11-15 |
| CS417985A2 (en) | 1990-09-12 |
| PL145078B1 (en) | 1988-08-31 |
| CS274567B2 (en) | 1991-08-13 |
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