JPH0768526B2 - 発生炉ガスと高炉ガス用の冷却ガスを製造する方法及びその方法を実施する装置 - Google Patents

発生炉ガスと高炉ガス用の冷却ガスを製造する方法及びその方法を実施する装置

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JPH0768526B2 JP61152823A JP15282386A JPH0768526B2 JP H0768526 B2 JPH0768526 B2 JP H0768526B2 JP 61152823 A JP61152823 A JP 61152823A JP 15282386 A JP15282386 A JP 15282386A JP H0768526 B2 JPH0768526 B2 JP H0768526B2
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Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は溶融気化器で発生した発生炉ガス及び該発生炉
ガスの少なくとも一部を冷却及び浄化することによって
適当な方法に使用できる余剰ガスと鉄鉱石還元装置の高
炉ガス用の冷却ガスを製造する方法及びその方法を実施
する装置に関する。
〔従来の技術と問題点〕
西ドイツ特許第3034539号公報は溶融銑鉄を塊状鉄鉱石
から直接製造する方法、すなわち鉄鉱石が還元ガスによ
って直接還元シャフト炉で海綿鉄に還元され次に石炭と
酸素含有ガスで溶融気化器（melt-down gasifier）内で
溶融され、同時に鉄鉱石を還元するために用いる発生炉
ガスが製造される。これは冷却されダストが除去され次
にその最初の部分流が直接還元シャフト炉の還元域に吹
き込まれる。第２の部分流は冷却され発生炉ガス用の冷
却ガスを製造するために再び洗浄される。直接還元シャ
フト炉で得られた高炉ガスは上部端で除かれ適当な用途
に供給され、通常発生炉ガス循環から独立した冷却及び
浄化装置内で用いられる。これらの装置は発生炉ガスと
高炉ガス用にも広く種々の作業条件に使用する。通常作
業では、溶融気化器で発生したほとんどの発生炉ガスは
還元ガスとして用いられ冷却ガス量は非常に少なく、作
業目的に不要でしかも発生炉ガスから放出する余剰ガス
はほとんどない。周知原理に係る装置操業を開始する際
種々の作業故障中にもほとんどの発生炉ガスは冷却ガス
用の冷却及び浄化装置を介して案内されるが高炉ガス量
は非常に少ない。このように特定の洗浄器を通過したガ
ス量について約1:20迄の変動が生じる。しかしながら使
用される洗浄器の制御範囲は約1:4迄の量の比を超え
る。この比を超える量の変動の場合装置の作動とガスダ
スト量を保持することはできない。約1:20への量の変革
の制御は、もしも各洗浄装置に２つの調節可能なベンチ
ュリー洗浄器又はスクラバー及び液滴分離器が設けられ
ているならば可能である。しかしながらこれらは他の問
題特にガス内で運搬されるかなりのダスト量による詰ま
りを招く。
従って本発明の問題は溶融気化器で発生した発生炉ガス
用の冷却ガス及び該発生炉ガス及び鉄鉱石還元装置の高
炉ガスの少なくとも一部を冷却、洗浄することにより適
当な方法で使用し得る余剰ガスを発生させる周知方法を
改良することである。冷却ガスは該冷却及び洗浄装置に
供給されたかなりのガス量の変動についてダスト量を例
えば５ないし10mg/Nm3の好ましい値に常に落すことがで
きるように、発生炉ガスから主に得て、一方そのエネル
ギー消耗は比較的小さい。
〔問題点を解決するための手段〕
上記問題点は本発明によれば溶融気化器で発生した発生
炉ガス及び該発生炉ガスの少なくとも一部を冷却及び浄
化することによって適当な方法に使用できる余剰ガスと
鉄鉱石還元装置の高炉ガス用の冷却ガスを製造する方法
において、独立した冷却及び浄化装置が前記冷却及び余
剰ガスを製造するために用いられ且つ実質的に安定した
ガス量が該冷却ガス用の冷却及び浄化ガスの少なくとも
仕上段階を、前記ガス量を超す被冷却、浄化発生炉ガス
が該余剰ガス用の冷却及び浄化装置内に入るように通過
せしめられることを特徴とする方法によって解決され
る。
本発明の方法によれば浄化を各々の冷却及び浄化装置内
で２工程で行ない、且つ余剰ガスを製造するために用い
られる該発生炉ガスの一部が該冷却ガス用の冷却及び浄
化装置の第１冷却工程を通過し、次に余剰ガス用の冷却
及び浄化装置の第２浄化工程を通過する。
溶融気化器と還元装置を含む装置に不用な溶融気化器内
で発生したガス量の一部が該余剰ガス用の冷却及び浄化
装置を介して主に除去されることが好ましく溶融気化器
と還元装置を含む装置において冷却及び供給ガスとして
必要なガス量のみが冷却ガス用の冷却及び浄化装置を通
過する。
溶融気化器と還元装置を含む装置で冷却及び供給ガスと
して不用な冷却ガス用の冷却及び浄化装置から除去され
るガスの一部が還元装置の入口に戻されそれによって浄
化装置を通過したガス量は実質的に一定で冷却ガス必要
性から独立している。
本発明の方法を実施する装置は各冷却及び浄化装置がパ
ッキング洗浄器（3,6）とそれに続く調節可能なベンチ
ュリー洗浄器（5,8）を有する。
本発明の好ましい装置は一定流量で供給又は搬送手段が
接続ライン（13）の分岐の後方で冷却ガス用冷却及び浄
化装置内及び冷却及び浄化装置後方に配置される。
〔実施例〕
以下本発明を図面に示した実施例で詳細に説明する。図
では直接還元装置と溶融気化器を含む装置の発生炉ガス
と高炉ガス用の冷却及び浄化装置を概略的に示す。
ライン１を介して直接還元シャフト炉から高炉ガスを、
そしてライン２を介して該直接還元シャフト炉の還元域
に直接吹き込まれない溶融気化器で製造された一部の発
生炉ガスを冷却及び浄化装置に供給する。加圧ガスがラ
イン１からパッキング洗浄器３内に通過する。該洗浄器
３では加圧高炉ガスを所定の温度に冷却し初期洗浄を行
なう。
このように調整されたガスをライン４を介して調節可能
なベンチュリー洗浄器５内に通す。
ライン２を通して流れる発生炉ガスはパッキング洗浄器
６に入り、その中で該ガスを冷却し、初期洗浄を行な
う。このように調整されたガスをライン７を介して調節
可能なベンチュリー洗浄器８に通し再び浄化し、不可欠
な浄化ガスダストとなる。次にそのガスを液滴分離器９
で脱水する。ライン10を介してブロア11に入りそれによ
って、発生炉ガス温度を主に調節するために冷却ガスと
してライン12で作用するように必要な圧力にする。
ブロア11は一定の装置圧力で同じガス量を常に搬送する
体積コンベアである。ライン２を介して供給されたガス
量はブロア11によって必要とされるガス量に対応しない
のでパッキング洗浄器６の出口ラインをライン７及びラ
イン７に入らずベンチュリー洗浄器５の入口に通じるラ
イン13に分岐させる。パッキング洗浄器３で調整された
高炉ガスをライン４がベンチュリー洗浄器５へそしてパ
ッキング洗浄器６で調整された発生炉ガスをライン13を
介して該洗浄器５へ供給する。
これら２つのガス量の総計は異常作業状態の場合実質的
に一定である。ベンチュリー洗浄器の次に浄化ガスを脱
水するために液滴分離器14が続く。ライン15は浄化さ
れ、冷却された本設備の余剰ガスを適当な消費装置に供
給する。
ライン２の冷却ガスが溶融気化器と直接還元シャフト炉
を含む装置に不用な量だけ分岐ライン16を介してパッキ
ング洗浄器６の入口にそのガスを供給する。これは還元
設備の冷却ガスの他の需要を保証しほぼ一定のガス量が
異常にベンチュリー洗浄器８を介して流れる。
２つのパッキング洗浄器3,6は通過するガス量のかなり
の変化に比較的動じない。ガス中のダストをガスから除
きベンチュリー洗浄器5,8で浄化したダスト量は比較的
小さく詰まりの危険はない。ベンチュリー洗浄器出口で
のかなり低い浄化ガスダスト量5mg/Nm3のガスを受ける
ことが可能である。
ベンチュリー洗浄器作業は通過したガス量に依存してい
る。以上説明した装置、特に一定のガス体積を分配する
ブロア11と、パッキング洗浄器６の出口とベンチュリー
５の出口間のライン13の結果として実質的に一定のガス
量がベンチュリー洗浄器5,8を通して流れることが保証
される。このようにして最適析出高さが一方で、ベンチ
ュリー洗浄器５に対して溶融気化器で製造され気化器と
直接還元シャフト炉を含む装置に不要なガス量を余剰ガ
スとしてベンチュリー洗浄器を介して主に除去し、他方
でベンチュリー洗浄器８に対して、溶融気化器と直接還
元シャフト炉を含む装置内で冷却及び供給ガスとして必
要なガス量が該洗浄器に通されることにおいて、達成さ
れない。これは全ての作業条件下で浄化ガスダスト量が
所定値を超さないことを保証する。ベンチュリー洗浄器
がガスの仕上げ浄化を行なうので過剰ダスト量で詰まる
ことを畏れる必要はない。このように、本装置は優れた
作業結果をもたらすのみならず実質的に保修や故障のな
い方法で作動する。
【図面の簡単な説明】
図は本発明の一実施例を説明するための模式図である。 1,2,4,7,10,12,13,15,16……ライン、3,6……パッキン
グ洗浄器、5,8……ベンチュリー洗浄器、9,14……液滴
分離器、11……ブロア。

Claims (12)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】溶融気化器で発生した発生炉ガス、及び該
    発生炉ガスの少なくとも一部を冷却及び浄化することに
    よって適当な方法に使用できる余剰ガスと鉄鉱石還元装
    置の高炉ガス用の冷却ガスを製造する方法において、 独立した冷却及び浄化装置が前記冷却及び余剰ガスを製
    造するために用いられ且つ実質的に安定したガス量が該
    冷却ガス用の冷却及び浄化ガスの少なくとも仕上段階
    を、前記ガス量を超す被冷却、浄化発生炉ガスが該余剰
    ガス用の冷却及び浄化装置内に入るように通過せしめら
    れることを特徴とする発生炉ガスと高炉ガス用の冷却ガ
    スを製造する方法。
  2. 【請求項２】前記浄化を前記各々の冷却及び浄化装置内
    で２工程で行ない、且つ前記余剰ガスを製造するために
    用いられる該発生炉ガスが該冷却ガス用の冷却及び浄化
    装置の第１冷却工程を通過し、次に前記余剰ガス用の冷
    却及び浄化装置の第２浄化工程を通過することを特徴と
    する特許請求の範囲第１項記載の方法。
  3. 【請求項３】前記溶融気化器と還元装置を含む装置に不
    要な溶融気化器内で発生した前記ガス量の一部が該余剰
    ガス用の冷却及び浄化装置を介して主に除去されること
    を特徴とする特許請求の範囲第１項又は第２項記載の方
    法。
  4. 【請求項４】前記溶融気化器と還元装置を含む装置にお
    いて冷却及び供給ガスとして必要なガス量のみが前記冷
    却ガス用の冷却及び浄化装置を通過することを特徴とす
    る特許請求の範囲第１項から第３項までのいずれか１項
    に記載の方法。
  5. 【請求項５】前記溶融気化器と還元装置を含む装置で冷
    却及び供給ガスとして不用な冷却ガス用の冷却及び浄化
    装置から除去されるガスの一部が前記還元装置の入口に
    戻されることを特徴とする特許請求の範囲第１項から第
    ４項までのいずれか１項に記載の方法。
  6. 【請求項６】前記通過したガスの脱水が該冷却及び浄化
    装置で行なわれることを特徴とする特許請求の範囲第１
    項から第５項までのいずれか１項に記載の方法。
  7. 【請求項７】溶融気化器で発生した発生炉ガス、及び該
    発生炉ガスの少なくとも一部を冷却及び浄化することに
    よって適当な方法に使用できる余剰ガスと鉄鉱石還元装
    置の高炉ガス用の冷却ガスを製造する方法を実施する装
    置において、各冷却及び浄化装置がパッキング洗浄器
    （3,6）及びそれに続く調節可能なベンチュリー洗浄器
    （5,8）を有することを特徴とする発生炉ガス及び高炉
    ガス用の冷却ガスを製造する方法を実施する装置。
  8. 【請求項８】前記冷却ガス用冷却及び浄化装置の前記パ
    ッキング洗浄器の出口から前記余剰ガス用冷却及び浄化
    装置の前記ベンチュリー洗浄器（５）の入口への接続ラ
    イン（13）があることを特徴とする特許請求の範囲第７
    項記載の装置。
  9. 【請求項９】液滴分離器（14,9）が各ベンチュリー洗浄
    器（5,8）の出口に接続されることを特徴とする特許請
    求の範囲第７項又は第８項記載の装置。
  10. 【請求項１０】一定流量での供給又は搬送手段（11）が
    前記接続ライン（13）の分岐の後方で冷却ガス用冷却及
    び浄化装置内及び前記冷却及び浄化装置後方に配置され
    ることを特徴とする特許請求の範囲第７項から第９項ま
    でのいずれか１項に記載の装置。
  11. 【請求項１１】ブロア（11）が前記冷却ガス用冷却及び
    浄化装置の出口に接続されることを特徴とする特許請求
    の範囲第10項記載の装置。
  12. 【請求項１２】前記冷却ガス用冷却及び浄化装置の液滴
    分離器（９）が前記パッキング洗浄器（６）の入口へブ
    ロア（11）を介して接続されることを特徴とする特許請
    求の範囲第11項記載の装置。
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AU (1) AU595532B2 (ja)
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