JPH0770248A - 安定剤としてのヒンダードアミン−エポキシドのポリマー付加物 - Google Patents
安定剤としてのヒンダードアミン−エポキシドのポリマー付加物Info
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- C08F220/36—Esters containing nitrogen, e.g. N,N-dimethylaminoethyl (meth)acrylate containing oxygen in addition to the carboxy oxygen, e.g. 2-N-morpholinoethyl (meth)acrylate or 2-isocyanatoethyl (meth)acrylate
- C08F220/365—Esters containing nitrogen, e.g. N,N-dimethylaminoethyl (meth)acrylate containing oxygen in addition to the carboxy oxygen, e.g. 2-N-morpholinoethyl (meth)acrylate or 2-isocyanatoethyl (meth)acrylate containing further carboxylic moieties
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Abstract
(57)【要約】
【構成】式Vおよび/またはVIの化合物と50モル%
までの別のエチレン性不飽和化合物との重合により得ら
れるポリマー、その製法。該ポリマーを安定剤として含
む有機ポリマー組成物。 【化1】 〔m,n=0,1、A=メチレン基等、E=>CHR2
等、R2 ,R3 =アルコキシ、ベンゾキシ基等、R4 ,
R5 ,R6 =H,メチル基等、X=直接結合,フェニレ
ン基等〕 【効果】本発明のポリマーは光、酸素および/または熱
の有害作用を受けやすい有機ポリマー(特にポリオレフ
ィン,アクリル樹脂,写真材料等)に対して高い安定化
作用を示す。
までの別のエチレン性不飽和化合物との重合により得ら
れるポリマー、その製法。該ポリマーを安定剤として含
む有機ポリマー組成物。 【化1】 〔m,n=0,1、A=メチレン基等、E=>CHR2
等、R2 ,R3 =アルコキシ、ベンゾキシ基等、R4 ,
R5 ,R6 =H,メチル基等、X=直接結合,フェニレ
ン基等〕 【効果】本発明のポリマーは光、酸素および/または熱
の有害作用を受けやすい有機ポリマー(特にポリオレフ
ィン,アクリル樹脂,写真材料等)に対して高い安定化
作用を示す。
Description
【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、エチレン性不飽和3−
(2,2,6,6−テトラメチルピヘリジン−4−イル
オキシ)−もしくは3−(2,2,6,6−テトラメチ
ルピヘリジン−1−イル)−2−ヒドロキシプロピルカ
ルボキシレートまたは相当するビニルフェノールエーテ
ルのラジカル重合により製造され得る新規化合物、光、
酸素および/または熱の有害作用に対する有機材料のた
めの安定剤としての該化合物の使用、新規モノマー出発
物質、および相当する安定化された組成物に関する。
(2,2,6,6−テトラメチルピヘリジン−4−イル
オキシ)−もしくは3−(2,2,6,6−テトラメチ
ルピヘリジン−1−イル)−2−ヒドロキシプロピルカ
ルボキシレートまたは相当するビニルフェノールエーテ
ルのラジカル重合により製造され得る新規化合物、光、
酸素および/または熱の有害作用に対する有機材料のた
めの安定剤としての該化合物の使用、新規モノマー出発
物質、および相当する安定化された組成物に関する。
【0002】
【従来の技術】2,2,6,6−テトラメチル−4−
(2,3−エポキシプロポキシ)ピペリジンタイプのい
くつかの化合物の製造および有機ポリマーに対する安定
剤としてのそれらの使用は、例えばラストンおよびバス
(Luston snd Vass) によりMakromol. Chem. Macromol.
Symp. 27, 231 (1989)に記載されている。上記タイプの
反応性ポリアルキルピペリジンの遊離カルボキシル基含
有フルオロポリマーへの結合はEP−A−526399
号に記載されている。EP−A001835号はポリエ
ステルを得るための、エポキシ基含有ピペリジンとジカ
ルボン酸無水物とのその他の反応を教示している。
(2,3−エポキシプロポキシ)ピペリジンタイプのい
くつかの化合物の製造および有機ポリマーに対する安定
剤としてのそれらの使用は、例えばラストンおよびバス
(Luston snd Vass) によりMakromol. Chem. Macromol.
Symp. 27, 231 (1989)に記載されている。上記タイプの
反応性ポリアルキルピペリジンの遊離カルボキシル基含
有フルオロポリマーへの結合はEP−A−526399
号に記載されている。EP−A001835号はポリエ
ステルを得るための、エポキシ基含有ピペリジンとジカ
ルボン酸無水物とのその他の反応を教示している。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】改良された使用特性を
有し、そして側鎖としてテトラメチルピペリジン基を含
有する新規ポリマー光安定剤が引続き要求されている。
そして、本発明はこのような要求を満たす新規ポリマー
の提供を課題としてなさたものである。
有し、そして側鎖としてテトラメチルピペリジン基を含
有する新規ポリマー光安定剤が引続き要求されている。
そして、本発明はこのような要求を満たす新規ポリマー
の提供を課題としてなさたものである。
【0004】
【課題を解決するための手段】それ故に、本発明はまず
第一に、テトラメチルピペリジン側鎖を有し、そして次
式Iおよび/またはII:
第一に、テトラメチルピペリジン側鎖を有し、そして次
式Iおよび/またはII:
【化20】
【化21】 で表される構造単位50ないし100モル%からなるポ
リマーであって、ゲル透過クロマトグラフィーにより測
定されるホモポリマーまたはコポリマーの分子量Mnは
600ないし600000g/モルであり、そして上記
式中、下記のkは2または3の数を表し、mおよびnは
互いに独立して0または1を表し、Aは−CH2 −また
は−CO−を表し、Aがメチレン基を表す場合、Eは次
式:
リマーであって、ゲル透過クロマトグラフィーにより測
定されるホモポリマーまたはコポリマーの分子量Mnは
600ないし600000g/モルであり、そして上記
式中、下記のkは2または3の数を表し、mおよびnは
互いに独立して0または1を表し、Aは−CH2 −また
は−CO−を表し、Aがメチレン基を表す場合、Eは次
式:
【化22】 で表される基を表し、そしてAがカルボニル基を表す場
合、Eは次式:
合、Eは次式:
【化23】 で表される基を表し、R1 は水素原子を表し、R2 は水
素原子;−N(R13)R14;炭素原子数1ないし50の
アルコキシ基;−O−、−S−、−CO−N(R17)
−、−N(R17)−CO−または−NR11−により、お
よび/または炭素原子数5ないし8のシクロアルキレン
基またはフェニレン基により中断された、および/また
は1ないし3個の第三ヒドロキシル基を含む炭素原子数
2ないし50のアルコキシ基;炭素原子数5ないし12
のシクロアルコキシ基;1ないし4個の−R12基により
置換された炭素原子数5ないし12のシクロアルコキシ
基;フェノキシ基;1ないし4個の−R12基により置換
されたフェノキシ基;または炭素原子数7ないし20の
アルアルコキシ基を表すか、またはR1 およびR2 は一
緒になって、=O置換基を表すか;またはそれらが結合
されている炭素原子と一緒になって次式:
素原子;−N(R13)R14;炭素原子数1ないし50の
アルコキシ基;−O−、−S−、−CO−N(R17)
−、−N(R17)−CO−または−NR11−により、お
よび/または炭素原子数5ないし8のシクロアルキレン
基またはフェニレン基により中断された、および/また
は1ないし3個の第三ヒドロキシル基を含む炭素原子数
2ないし50のアルコキシ基;炭素原子数5ないし12
のシクロアルコキシ基;1ないし4個の−R12基により
置換された炭素原子数5ないし12のシクロアルコキシ
基;フェノキシ基;1ないし4個の−R12基により置換
されたフェノキシ基;または炭素原子数7ないし20の
アルアルコキシ基を表すか、またはR1 およびR2 は一
緒になって、=O置換基を表すか;またはそれらが結合
されている炭素原子と一緒になって次式:
【化24】 で表される5または6員環を表し、R3 は水素原子;各
々が非置換または炭素原子数5ないし8のシクロアルキ
ル基もしくは−CO−N(R17)2 により置換された、
または脂肪族部分において炭素原子数5ないし8のシク
ロアルキレン基、−CO−N(R17)−もしくは−N
(R17)−CO−または酸素原子もしくは硫黄原子によ
り中断された、または芳香族部分において1ないし3個
の炭素原子数1ないし4のアルキル基または炭素原子数
1ないし4のアルコキシ基により置換された、炭素原子
数1ないし36のアルキル基、炭素原子数1ないし36
のアルコキシ基、炭素原子数7ないし36のアルアルキ
ル基または炭素原子数7ないし36のアルアルコキシ
基;非置換または1ないし3個の炭素原子数1ないし4
のアルキル基もしくは炭素原子数1ないし4のアルコキ
シ基により置換された炭素原子数5ないし12のシクロ
アルキル基;非置換または1ないし3個の炭素原子数1
ないし4のアルキル基もしくは炭素原子数1ないし4の
アルコキシ基により置換された炭素原子数5ないし12
のシクロアルコキシ基;非置換または1ないし3個の炭
素原子数1ないし4のアルキル基もしくは炭素原子数1
ないし4のアルコキシ基により置換された炭素原子数6
ないし10のアリール基;非置換または1ないし3個の
炭素原子数1ないし4のアルキル基もしくは炭素原子数
1ないし4のアルコキシ基により置換された炭素原子数
6ないし10のアリールオキシ基;−CO−R11;また
は各々が炭素原子数1ないし4のアルキル基により置換
されたベンゾイル基またはナフトイル基を表し、R4 お
よびR5 は互いに独立して水素原子;炭素原子数1ない
し18のアルキル基;フェニル基;または炭素原子数7
ないし9のフェニルアルキル基を表すか、またはR4 ま
たはR5 の一方はさらに塩素原子を表し、R6 はR4 お
よびR5 に対して与えられた塩素原子以外の意味の一つ
を有するか;または基Xへの直接結合を表すか;または
次式:−X−(CO)m −Z4 または−X−(CO)n
−Z5 で表される基を表し、R11は炭素原子数1ないし
18のアルキル基;炭素原子数5ないし7のシクロアル
キル基;フェニル基;ナフチル基;炭素原子数7ないし
9のフェニルアルキル基;または炭素原子数11ないし
14のナフチルアルキル基を表し、R12は炭素原子数1
ないし18のアルキル基;炭素原子数5ないし7のシク
ロアルキル基;フェニル基またはベンジル基を表し、R
13およびR14は互いに独立して炭素原子数1ないし50
のアルキル基;または−O−、−S−、−CO−N(R
17)−、−N(R17)−CO−または−NR11−によ
り、および/または炭素原子数5ないし8のシクロアル
キレン基またはフェニレン基により中断された、および
/または1ないし3個の第三ヒドロキシル基を含む炭素
原子数2ないし50のアルキル基;または非置換または
1ないし4個の−R12基により置換された炭素原子数5
ないし12のシクロアルキル基;非置換または1ないし
4個の−R12基により置換されたフェニル基;または炭
素原子数7ないし20のアルアルキル基を表すか、また
はR13およびR14はそれらが結合されている窒素原子と
一緒になって次式:
々が非置換または炭素原子数5ないし8のシクロアルキ
ル基もしくは−CO−N(R17)2 により置換された、
または脂肪族部分において炭素原子数5ないし8のシク
ロアルキレン基、−CO−N(R17)−もしくは−N
(R17)−CO−または酸素原子もしくは硫黄原子によ
り中断された、または芳香族部分において1ないし3個
の炭素原子数1ないし4のアルキル基または炭素原子数
1ないし4のアルコキシ基により置換された、炭素原子
数1ないし36のアルキル基、炭素原子数1ないし36
のアルコキシ基、炭素原子数7ないし36のアルアルキ
ル基または炭素原子数7ないし36のアルアルコキシ
基;非置換または1ないし3個の炭素原子数1ないし4
のアルキル基もしくは炭素原子数1ないし4のアルコキ
シ基により置換された炭素原子数5ないし12のシクロ
アルキル基;非置換または1ないし3個の炭素原子数1
ないし4のアルキル基もしくは炭素原子数1ないし4の
アルコキシ基により置換された炭素原子数5ないし12
のシクロアルコキシ基;非置換または1ないし3個の炭
素原子数1ないし4のアルキル基もしくは炭素原子数1
ないし4のアルコキシ基により置換された炭素原子数6
ないし10のアリール基;非置換または1ないし3個の
炭素原子数1ないし4のアルキル基もしくは炭素原子数
1ないし4のアルコキシ基により置換された炭素原子数
6ないし10のアリールオキシ基;−CO−R11;また
は各々が炭素原子数1ないし4のアルキル基により置換
されたベンゾイル基またはナフトイル基を表し、R4 お
よびR5 は互いに独立して水素原子;炭素原子数1ない
し18のアルキル基;フェニル基;または炭素原子数7
ないし9のフェニルアルキル基を表すか、またはR4 ま
たはR5 の一方はさらに塩素原子を表し、R6 はR4 お
よびR5 に対して与えられた塩素原子以外の意味の一つ
を有するか;または基Xへの直接結合を表すか;または
次式:−X−(CO)m −Z4 または−X−(CO)n
−Z5 で表される基を表し、R11は炭素原子数1ないし
18のアルキル基;炭素原子数5ないし7のシクロアル
キル基;フェニル基;ナフチル基;炭素原子数7ないし
9のフェニルアルキル基;または炭素原子数11ないし
14のナフチルアルキル基を表し、R12は炭素原子数1
ないし18のアルキル基;炭素原子数5ないし7のシク
ロアルキル基;フェニル基またはベンジル基を表し、R
13およびR14は互いに独立して炭素原子数1ないし50
のアルキル基;または−O−、−S−、−CO−N(R
17)−、−N(R17)−CO−または−NR11−によ
り、および/または炭素原子数5ないし8のシクロアル
キレン基またはフェニレン基により中断された、および
/または1ないし3個の第三ヒドロキシル基を含む炭素
原子数2ないし50のアルキル基;または非置換または
1ないし4個の−R12基により置換された炭素原子数5
ないし12のシクロアルキル基;非置換または1ないし
4個の−R12基により置換されたフェニル基;または炭
素原子数7ないし20のアルアルキル基を表すか、また
はR13およびR14はそれらが結合されている窒素原子と
一緒になって次式:
【化25】 で表される、その環構造が4ないし6個の炭素原子を含
む環状イミド基を表し、R15およびR16は互いに独立し
てH;または炭素原子数1ないし12のアルキル基を表
すか、または一緒になって直鎖のα,ω−結合した炭素
原子数4ないし13のアルキレン基を表し、R17は水素
原子を表すか、またはR11の意味の一つを有し、R18は
炭素原子数2ないし18のアルキレン基を表し、Xは、
R6 が基Xへの直接結合である場合、次式:
む環状イミド基を表し、R15およびR16は互いに独立し
てH;または炭素原子数1ないし12のアルキル基を表
すか、または一緒になって直鎖のα,ω−結合した炭素
原子数4ないし13のアルキレン基を表し、R17は水素
原子を表すか、またはR11の意味の一つを有し、R18は
炭素原子数2ないし18のアルキレン基を表し、Xは、
R6 が基Xへの直接結合である場合、次式:
【化26】 (式中、2個のカルボニル基に局在する遊離原子価はポ
リマー鎖の隣接炭素原子に結合する)で表される3価の
基を表し、Xは、R6 が基Xへの直接結合でなく、m=
0またはn=0の場合、フェニレン基または−Z4 もし
くは−Z5 により置換されたフェニレン基を表し、そし
てXは、R6 が基Xへの直接結合でなく、m=1または
n=1の場合、直接結合;炭素原子数1ないし4のアル
キレン基;フェニレン基;または次式:−Z2 −Z3 −
(式中、Z2 はポリマー鎖の炭素原子に結合する)で表
される基を表し、Z1 はフェニレン基を表し、Z2 は−
O−またはフェニレン基を表し、Z3 は炭素原子数1な
いし8のアルキレン基を表し、Z4 は次式Ia:
リマー鎖の隣接炭素原子に結合する)で表される3価の
基を表し、Xは、R6 が基Xへの直接結合でなく、m=
0またはn=0の場合、フェニレン基または−Z4 もし
くは−Z5 により置換されたフェニレン基を表し、そし
てXは、R6 が基Xへの直接結合でなく、m=1または
n=1の場合、直接結合;炭素原子数1ないし4のアル
キレン基;フェニレン基;または次式:−Z2 −Z3 −
(式中、Z2 はポリマー鎖の炭素原子に結合する)で表
される基を表し、Z1 はフェニレン基を表し、Z2 は−
O−またはフェニレン基を表し、Z3 は炭素原子数1な
いし8のアルキレン基を表し、Z4 は次式Ia:
【化27】 で表される基を表し、そしてZ5 は次式IIa:
【化28】 で表される基を表す、上記ポリマーに関する。
【0005】第三ヒドロキシル基は第三級炭素原子上の
−OH型の置換基を意味すると理解される。これは、3
個の他の炭素原子に、その残りの3つの遊離原子価を介
して結合するという事実により区別される。得られる化
合物はまた第三アルコールとして知られている〔バイエ
ル/ウオルター,有機化学教本,第20版,第59およ
び111頁,エス.ヒルツェル・フェルラーク,シュツ
ットガルト 1984(Beyer/Walter, Lehrbuch der Or
ganischen Chemie, 20th Edition, pp.59 and111, S. H
irzel Verlag, Stuttgart 1984)参照〕。それ故に、第
三ヒドロキシル基を有する遊離基は少なくとも4個の炭
素原子を含む。アリール基は芳香族炭化水素残基、例え
ばフェニル基またはナフチル基を意味する。アルアルキ
ル基は芳香族炭化水素残基、例えば炭素原子数6ないし
10の炭化水素残基により置換されたアルキル基を意味
し、アルアルキル基の例はベンジル基およびα−メチル
ベンジル基を包含する。
−OH型の置換基を意味すると理解される。これは、3
個の他の炭素原子に、その残りの3つの遊離原子価を介
して結合するという事実により区別される。得られる化
合物はまた第三アルコールとして知られている〔バイエ
ル/ウオルター,有機化学教本,第20版,第59およ
び111頁,エス.ヒルツェル・フェルラーク,シュツ
ットガルト 1984(Beyer/Walter, Lehrbuch der Or
ganischen Chemie, 20th Edition, pp.59 and111, S. H
irzel Verlag, Stuttgart 1984)参照〕。それ故に、第
三ヒドロキシル基を有する遊離基は少なくとも4個の炭
素原子を含む。アリール基は芳香族炭化水素残基、例え
ばフェニル基またはナフチル基を意味する。アルアルキ
ル基は芳香族炭化水素残基、例えば炭素原子数6ないし
10の炭化水素残基により置換されたアルキル基を意味
し、アルアルキル基の例はベンジル基およびα−メチル
ベンジル基を包含する。
【0006】上記の定義内のR2 、R3 、R13またはR
14が−O−、−S−、−CO−N(R17)−、−N(R
17)−CO−または−NR11−により中断されたアルキ
ル基またはアルキレン基を含むならば、該アルキル基ま
たはアルキレン基は少なくとも2個の炭素原子、好まし
くは少なくとも4個の炭素原子を有し、そして1ないし
6個の−O−または−S−基により、特に1ないし6個
の−O−基により中断され、異原子またはカルボニル基
は好ましくは飽和炭素原子に結合し、そしてその他の異
原子またはカルボニル基には結合せず、そして一般には
バーオキソまたはヒドラジン構造が存在しない。これら
の基はその末端が炭素原子数1ないし8のアルキル基に
より飽和されたポリオキシエチレン鎖であることが特に
好ましい。
14が−O−、−S−、−CO−N(R17)−、−N(R
17)−CO−または−NR11−により中断されたアルキ
ル基またはアルキレン基を含むならば、該アルキル基ま
たはアルキレン基は少なくとも2個の炭素原子、好まし
くは少なくとも4個の炭素原子を有し、そして1ないし
6個の−O−または−S−基により、特に1ないし6個
の−O−基により中断され、異原子またはカルボニル基
は好ましくは飽和炭素原子に結合し、そしてその他の異
原子またはカルボニル基には結合せず、そして一般には
バーオキソまたはヒドラジン構造が存在しない。これら
の基はその末端が炭素原子数1ないし8のアルキル基に
より飽和されたポリオキシエチレン鎖であることが特に
好ましい。
【0007】R2 は特に好ましくは長鎖基または該基の
一部、例えば炭素原子数5ないし50、特に炭素原子数
8ないし30の基である。
一部、例えば炭素原子数5ないし50、特に炭素原子数
8ないし30の基である。
【0008】上記置換基の式、例えば式IaおよびII
aにおいて、遊離原子価はダッシュ記号(−)により表
示される。例えば、次式:
aにおいて、遊離原子価はダッシュ記号(−)により表
示される。例えば、次式:
【化29】 で表される基は置換基R2 の可能な意味の一つを示し、
そして水平なダッシュ記号は式IまたはIaのピペリジ
ン環内の4位にある炭素原子への結合を表し、次式:
そして水平なダッシュ記号は式IまたはIaのピペリジ
ン環内の4位にある炭素原子への結合を表し、次式:
【化30】 で表される基は基R1 およびR2 の可能な結合要素を示
し、式中、ダッシュ記号は式IまたはIaのピペリジン
環内での結合、より正確には該ピペリジン環内の3位と
4位にある炭素原子間および4位および5位にある炭素
原子間の結合を表す。
し、式中、ダッシュ記号は式IまたはIaのピペリジン
環内での結合、より正確には該ピペリジン環内の3位と
4位にある炭素原子間および4位および5位にある炭素
原子間の結合を表す。
【0009】同一式中の2つの同じ基は同一または異な
る意味を有し得、例えば次式:−CO−N(R17)2 で
表される基の2つのR17基の一方は水素原子であってよ
く、他方のR17はR11の意味の一つを有する。
る意味を有し得、例えば次式:−CO−N(R17)2 で
表される基の2つのR17基の一方は水素原子であってよ
く、他方のR17はR11の意味の一つを有する。
【0010】新規ポリマーは例えば以下の反復構造:
【化31】
【化32】 を含んでいてもよい。
【0011】前記ホモポリマーおよびコポリマーは光、
酸素および/または熱の有害作用に対する有機ポリマー
の安定化のために有利に使用され得る。
酸素および/または熱の有害作用に対する有機ポリマー
の安定化のために有利に使用され得る。
【0012】アルキル基R3 、R4 、R5 、R6 、
R11、R12、R13、R14、R15、R16およびR17ならび
に下記のR7 、R8 、R9 およびR10は与えられた定義
の範囲内で、分岐または非分岐アルキル基、例えばメチ
ル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、n−ブ
チル基、第二ブチル基、イソブチル基、第三ブチル基、
2−エチルブチル基、n−ペンチル基、イソペンチル
基、1−メチルペンチル基、1,3−ジメチルブチル
基、n−ヘキシル基、1−メチルヘキシル基、n−ヘプ
チル基、イソヘプチル基、1,1,3,3−テトラメチ
ルブチル基、1−メチルヘプチル基、3−メチルヘプチ
ル基、n−オクチル基、2−エチルヘキシル基、1,
1,3−トリメチルヘキシル基、1,1,3,3−テト
ラメチルペンチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル
基、1−メチルウンデシル基、ドデシル基、1,1,
3,3,5,5−ヘキサメチルヘキシル基、トリデシル
基、テトラデシル基、ペンタデシル基、ヘキサデシル
基、ヘプタデシル基、オクタデシル基、エイコシル基、
ドコシル基、ペンタコシル基またはトリアコシル基であ
ってよい。
R11、R12、R13、R14、R15、R16およびR17ならび
に下記のR7 、R8 、R9 およびR10は与えられた定義
の範囲内で、分岐または非分岐アルキル基、例えばメチ
ル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、n−ブ
チル基、第二ブチル基、イソブチル基、第三ブチル基、
2−エチルブチル基、n−ペンチル基、イソペンチル
基、1−メチルペンチル基、1,3−ジメチルブチル
基、n−ヘキシル基、1−メチルヘキシル基、n−ヘプ
チル基、イソヘプチル基、1,1,3,3−テトラメチ
ルブチル基、1−メチルヘプチル基、3−メチルヘプチ
ル基、n−オクチル基、2−エチルヘキシル基、1,
1,3−トリメチルヘキシル基、1,1,3,3−テト
ラメチルペンチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル
基、1−メチルウンデシル基、ドデシル基、1,1,
3,3,5,5−ヘキサメチルヘキシル基、トリデシル
基、テトラデシル基、ペンタデシル基、ヘキサデシル
基、ヘプタデシル基、オクタデシル基、エイコシル基、
ドコシル基、ペンタコシル基またはトリアコシル基であ
ってよい。
【0013】R3 の意味の例は以下のものを包含する:
分岐または非分岐の炭素原子数1ないし36のアルキル
基、例えばメチル基、エチル基、プロピル基、イソプロ
ピル基、n−ブチル基、第二ブチル基、イソブチル基、
第三ブチル基、2−エチルブチル基、n−ペンチル基、
イソペンチル基、1−メチルペンチル基、1,3−ジメ
チルブチル基、n−ヘキシル基、1−メチルヘキシル
基、n−ヘプチル基、イソヘプチル基、1,1,3,3
−テトラメチルブチル基、1−メチルヘプチル基、3−
メチルヘプチル基、n−オクチル基、2−エチルヘキシ
ル基、1,1,3−トリメチルヘキシル基、1,1,
3,3−テトラメチルペンチル基、ノニル基、デシル
基、ウンデシル基、1−メチルウンデシル基、ドデシル
基、1,1,3,3,5,5−ヘキサメチルヘキシル
基、トリデシル基、テトラデシル基、ペンタデシル基、
ヘキサデシル基、ヘプタデシル基、オクタデシル基、エ
イコシル基、ドコシル基、ペンタコシル基またはトリア
コシル基;好ましくは非分岐のアルキル基、特に非分岐
の炭素原子数1ないし18のアルキル基;分岐または非
分岐の炭素原子数1ないし36のアルコキシ基、特に炭
素原子数6ないし18のアルコキシ基、例えばヘキシル
オキシ基、ヘプチルオキシ基、オクチルオキシ基、ノニ
ルオキシ基、デシルオキシ基、ウンデシルオキシ基また
はドデシルオキシ基;炭素原子数5ないし8のシクロア
ルキル基で置換されたアルキル基またはアルコキシ基、
例えばシクロペンチルメチル基、シクロヘキシルメチル
基、シクロヘプチルメチル基、シクロオクチルメチル
基、シクロヘキシルエチル基、2−シクロヘキシル−n
−プロピル基、3−シクロヘキシル−n−プロピル基、
4−シクロヘキシル−n−ブチル基;炭素原子数5ない
し8のシクロアルキレン基または1ないし6個の−O−
基により中断されたアルキル基またはアルコキシ基、例
えば次式:
分岐または非分岐の炭素原子数1ないし36のアルキル
基、例えばメチル基、エチル基、プロピル基、イソプロ
ピル基、n−ブチル基、第二ブチル基、イソブチル基、
第三ブチル基、2−エチルブチル基、n−ペンチル基、
イソペンチル基、1−メチルペンチル基、1,3−ジメ
チルブチル基、n−ヘキシル基、1−メチルヘキシル
基、n−ヘプチル基、イソヘプチル基、1,1,3,3
−テトラメチルブチル基、1−メチルヘプチル基、3−
メチルヘプチル基、n−オクチル基、2−エチルヘキシ
ル基、1,1,3−トリメチルヘキシル基、1,1,
3,3−テトラメチルペンチル基、ノニル基、デシル
基、ウンデシル基、1−メチルウンデシル基、ドデシル
基、1,1,3,3,5,5−ヘキサメチルヘキシル
基、トリデシル基、テトラデシル基、ペンタデシル基、
ヘキサデシル基、ヘプタデシル基、オクタデシル基、エ
イコシル基、ドコシル基、ペンタコシル基またはトリア
コシル基;好ましくは非分岐のアルキル基、特に非分岐
の炭素原子数1ないし18のアルキル基;分岐または非
分岐の炭素原子数1ないし36のアルコキシ基、特に炭
素原子数6ないし18のアルコキシ基、例えばヘキシル
オキシ基、ヘプチルオキシ基、オクチルオキシ基、ノニ
ルオキシ基、デシルオキシ基、ウンデシルオキシ基また
はドデシルオキシ基;炭素原子数5ないし8のシクロア
ルキル基で置換されたアルキル基またはアルコキシ基、
例えばシクロペンチルメチル基、シクロヘキシルメチル
基、シクロヘプチルメチル基、シクロオクチルメチル
基、シクロヘキシルエチル基、2−シクロヘキシル−n
−プロピル基、3−シクロヘキシル−n−プロピル基、
4−シクロヘキシル−n−ブチル基;炭素原子数5ない
し8のシクロアルキレン基または1ないし6個の−O−
基により中断されたアルキル基またはアルコキシ基、例
えば次式:
【化33】 で表される基、−C2 H4 −O−C2 H4 −O−C12H
25、−(C2 H4 −O)4 −C4 H9 または−(C2 H
4 −O)6 −C4 H9 ;非置換またはアルキル基で置換
された炭素原子数5ないし8のシクロアルキル基または
炭素原子数5ないし8のシクロアルコキシ基、例えばシ
クロペンチル基、シクロペントキシ基、シクロヘキシル
基、シクロヘキシルオキシ基、シクロヘプチル基、シク
ロヘプチルオキシ基、シクロオクチル基、シクロオクチ
ルオキシ基、2−もしくは4−メチルシクロヘキシルオ
キシ基、ジメチルシクロヘキシルオキシ基、トリメチル
シクロヘキシル基、第三ブチルシクロヘキシル基、特に
シクロヘキシル基およびシクロヘキシルオキシ基;フェ
ニル基、フェノキシ基;炭素原子数1ないし4のアルキ
ル基で置換されたフェニル基またはフェノキシ基;炭素
原子数7ないし12のフェニルアルキル基または炭素原
子数7ないし12のフェニルアルコキシ基、例えばベン
ジル基、ベンゾキシ基、フェンエトキシ基、3−フェニ
ルプロポキシ基、α−メチルベンジル基、α−メチルベ
ンゾキシ基、α,α−ジメチルベンジル基またはα,α
−ジメチルベンゾキシ基。
25、−(C2 H4 −O)4 −C4 H9 または−(C2 H
4 −O)6 −C4 H9 ;非置換またはアルキル基で置換
された炭素原子数5ないし8のシクロアルキル基または
炭素原子数5ないし8のシクロアルコキシ基、例えばシ
クロペンチル基、シクロペントキシ基、シクロヘキシル
基、シクロヘキシルオキシ基、シクロヘプチル基、シク
ロヘプチルオキシ基、シクロオクチル基、シクロオクチ
ルオキシ基、2−もしくは4−メチルシクロヘキシルオ
キシ基、ジメチルシクロヘキシルオキシ基、トリメチル
シクロヘキシル基、第三ブチルシクロヘキシル基、特に
シクロヘキシル基およびシクロヘキシルオキシ基;フェ
ニル基、フェノキシ基;炭素原子数1ないし4のアルキ
ル基で置換されたフェニル基またはフェノキシ基;炭素
原子数7ないし12のフェニルアルキル基または炭素原
子数7ないし12のフェニルアルコキシ基、例えばベン
ジル基、ベンゾキシ基、フェンエトキシ基、3−フェニ
ルプロポキシ基、α−メチルベンジル基、α−メチルベ
ンゾキシ基、α,α−ジメチルベンジル基またはα,α
−ジメチルベンゾキシ基。
【0014】Aは好ましくはメチレン基であり、そして
Eは好ましくは次式:
Eは好ましくは次式:
【化34】 で表される基である。
【0015】本発明は、好ましくは、上記式Iおよび/
またはIIで表される構造単位50ないし100モル%
および次式III:
またはIIで表される構造単位50ないし100モル%
および次式III:
【化35】 で表される構造単位0ないし50モル%からなり、ゲル
透過クロマトグラフィーにより測定される分子量Mnが
1000ないし300000g/モルであり、そて上記
式中、R7 、R8 およびR9 は互いに独立して水素原
子;−Cl;炭素原子数1ないし18のアルキル基;フ
ェニル基;1ないし3個の−Cl、炭素原子数1ないし
4のアルキル基および/または炭素原子数1ないし4の
アルコキシ基により置換されたフェニル基;または炭素
原子数7ないし9のフェニルアルキル基を表し、R10は
R7 、R8 およびR9 に対して与えられた意味の一つを
有するか;または−CN;炭素原子数1ないし12のア
ルコキシカルボニル基;炭素原子数1ないし12のアル
カノイルオキシ基;炭素原子数1ないし12のアルコキ
シ基;または次式IVaまたはIVb:
透過クロマトグラフィーにより測定される分子量Mnが
1000ないし300000g/モルであり、そて上記
式中、R7 、R8 およびR9 は互いに独立して水素原
子;−Cl;炭素原子数1ないし18のアルキル基;フ
ェニル基;1ないし3個の−Cl、炭素原子数1ないし
4のアルキル基および/または炭素原子数1ないし4の
アルコキシ基により置換されたフェニル基;または炭素
原子数7ないし9のフェニルアルキル基を表し、R10は
R7 、R8 およびR9 に対して与えられた意味の一つを
有するか;または−CN;炭素原子数1ないし12のア
ルコキシカルボニル基;炭素原子数1ないし12のアル
カノイルオキシ基;炭素原子数1ないし12のアルコキ
シ基;または次式IVaまたはIVb:
【化36】
【化37】 〔式中、m”およびn”は各々0または1の数を表し、
Dは−O−または−NR11−を表し、R1 、R2 、R3
およびR11は上で定義されたものと同じ意味を表し、Z
6 は直接結合、炭素原子数1ないし8のアルキレン基ま
たは次式:−CH2−CH2 −(O−CH2 −CH2 )
h −(式中、hは1ないし30の範囲の整数を表す)で
表されるポリオキシエチレン基を表し、そしてZ7 は炭
素原子数1ないし8のアルキレン基または次式:−CH
2 −CH2 −(O−CH2 −CH2 )h −(式中、hは
1ないし30の範囲の整数を表す)で表されるポリオキ
シエチレン基を表す〕で表される基を表す、ホモポリマ
ーまたはコポリマーに関する。
Dは−O−または−NR11−を表し、R1 、R2 、R3
およびR11は上で定義されたものと同じ意味を表し、Z
6 は直接結合、炭素原子数1ないし8のアルキレン基ま
たは次式:−CH2−CH2 −(O−CH2 −CH2 )
h −(式中、hは1ないし30の範囲の整数を表す)で
表されるポリオキシエチレン基を表し、そしてZ7 は炭
素原子数1ないし8のアルキレン基または次式:−CH
2 −CH2 −(O−CH2 −CH2 )h −(式中、hは
1ないし30の範囲の整数を表す)で表されるポリオキ
シエチレン基を表す〕で表される基を表す、ホモポリマ
ーまたはコポリマーに関する。
【0016】これまで記載された、および以後記載され
る式I、IIおよびIIIで表される構造単位は一般に
構成上の反復単位である。コポリマーは例えばランダ
ム、交互またはブロックコポリマーであってよい。
る式I、IIおよびIIIで表される構造単位は一般に
構成上の反復単位である。コポリマーは例えばランダ
ム、交互またはブロックコポリマーであってよい。
【0017】式IまたはIIで表される反復単位からな
るポリマー、または式Iおよび/または式IIで表され
る反復単位50ないし100モル%からなる相当するコ
ポリマーが好ましい。式IまたはIIで表される反復単
位からなるポリマーはホモポリマーまたは式IまたはI
Iで表される2種またはそれ以上の異なる単位から構成
されるコポリマーである。ホモポリマーが特に好まし
い。
るポリマー、または式Iおよび/または式IIで表され
る反復単位50ないし100モル%からなる相当するコ
ポリマーが好ましい。式IまたはIIで表される反復単
位からなるポリマーはホモポリマーまたは式IまたはI
Iで表される2種またはそれ以上の異なる単位から構成
されるコポリマーである。ホモポリマーが特に好まし
い。
【0018】式Iおよび/または式IIで表される反復
単位50ないし100モル%からなる特に好ましいコポ
リマーはその他の構造単位が式IIIのものであり、特
に式IおよびIIIの単位から構成されるもの、または
式IIおよびIIIの単位から構成されるものである
(下の表1中A型およびB型)。
単位50ないし100モル%からなる特に好ましいコポ
リマーはその他の構造単位が式IIIのものであり、特
に式IおよびIIIの単位から構成されるもの、または
式IIおよびIIIの単位から構成されるものである
(下の表1中A型およびB型)。
【0019】式Iおよび/またはIIおよびIIIで表
される単位から構成される新規コポリマーのいくつかの
好ましい組成を下の表1に示す。
される単位から構成される新規コポリマーのいくつかの
好ましい組成を下の表1に示す。
【表1】 ────────────────────────────── 型 式I 式II 残りの単位 ────────────────────────────── A 50−95モル% なし 式III B なし 50−95モル% 式III C 1−30モル% 1−30モル% 式III D 10−60モル% 10−60モル% 式III E 40−80モル% 1−30モル% 式III F 1−30モル% 40−80モル% 式III ──────────────────────────────
【0020】上記式Iで表される構造単位からなるホモ
ポリマーの分子量Mnは好ましくは1000ないし30
0000g/モルであり、上記式IIで表される構造単
位からなるホモポリマーの分子量Mnは好ましくは10
00ないし50000g/モルであり、そしてコポリマ
ーの分子量Mnは好ましくは1000ないし10000
0g/モルである。
ポリマーの分子量Mnは好ましくは1000ないし30
0000g/モルであり、上記式IIで表される構造単
位からなるホモポリマーの分子量Mnは好ましくは10
00ないし50000g/モルであり、そしてコポリマ
ーの分子量Mnは好ましくは1000ないし10000
0g/モルである。
【0021】分子量Mnが10000ないし30000
00g/モルである上記式Iで表される構造単位からな
るホモポリマー、分子量Mnが1000ないし3000
0g/モル、とりわけ1000ないし10000g/モ
ルである上記式IIで表される構造単位からなるホモポ
リマーが特に好ましく、そしてコポリマーの分子量Mn
は1000ないし100000g/モルが特に好まし
い。
00g/モルである上記式Iで表される構造単位からな
るホモポリマー、分子量Mnが1000ないし3000
0g/モル、とりわけ1000ないし10000g/モ
ルである上記式IIで表される構造単位からなるホモポ
リマーが特に好ましく、そしてコポリマーの分子量Mn
は1000ないし100000g/モルが特に好まし
い。
【0022】上記式Iおよび/またはII中、Aがメチ
レン基を表し、そしてEが次式:
レン基を表し、そしてEが次式:
【化38】 で表される基を表し、R1 が水素原子を表し、R2 が水
素原子;−N(R13)R14;炭素原子数1ないし18の
アルコキシ基;−CO−N(R17)−または−N
(R17)−CO−により中断された炭素原子数4ないし
36のアルコキシ基;非置換または−R12により置換さ
れた炭素原子数5ないし8のシクロアルコキシ基;非置
換または1ないし4個の−R12基により置換されたフェ
ノキシ基;または炭素原子数7ないし12のアルアルコ
キシ基を表すか、またはR1 およびR2 が一緒になって
=O置換基を表すか;またはそれらが結合されている炭
素原子と一緒になって次式:
素原子;−N(R13)R14;炭素原子数1ないし18の
アルコキシ基;−CO−N(R17)−または−N
(R17)−CO−により中断された炭素原子数4ないし
36のアルコキシ基;非置換または−R12により置換さ
れた炭素原子数5ないし8のシクロアルコキシ基;非置
換または1ないし4個の−R12基により置換されたフェ
ノキシ基;または炭素原子数7ないし12のアルアルコ
キシ基を表すか、またはR1 およびR2 が一緒になって
=O置換基を表すか;またはそれらが結合されている炭
素原子と一緒になって次式:
【化39】 で表される5または6員環を表し、R3 が炭素原子数1
ないし36のアルキル基;炭素原子数1ないし36のア
ルコキシ基;非置換または1ないし3個の炭素原子数1
ないし4のアルキル基もしくは炭素原子数1ないし4の
アルコキシ基により置換された炭素原子数5ないし12
のシクロアルキル基;非置換または1ないし3個の炭素
原子数1ないし4のアルキル基もしくは炭素原子数1な
いし4のアルコキシ基により置換された炭素原子数5な
いし12のシクロアルコキシ基;非置換または1ないし
3個の炭素原子数1ないし4のアルキル基もしくは炭素
原子数1ないし4のアルコキシ基により置換されたフェ
ニル基;非置換または1ないし3個の炭素原子数1ない
し4のアルキル基もしくは炭素原子数1ないし4のアル
コキシ基により置換されたナフチル基;非置換または1
ないし3個の炭素原子数1ないし4のアルキル基もしく
は炭素原子数1ないし4のアルコキシ基により置換され
たフェノキシ基;非置換または1ないし3個の炭素原子
数1ないし4のアルキル基もしくは炭素原子数1ないし
4のアルコキシ基により置換されたナフトキシ基;非置
換またはフェニル環上で1ないし3個の炭素原子数1な
いし4のアルキル基もしくは炭素原子数1ないし4のア
ルコキシ基により置換された炭素原子数7ないし12の
フェニルアルキル基;非置換またはフェニル環上で1な
いし3個の炭素原子数1ないし4のアルキル基もしくは
炭素原子数1ないし4のアルコキシ基により置換された
炭素原子数7ないし12のフェニルアルコキシ基;−C
O−R11;または各々が炭素原子数1ないし4のアルキ
ル基により置換されたベンゾイル基またはナフトイル基
を表し、R4 、R5 およびR6 が互いに独立して水素原
子;炭素原子数1ないし18のアルキル基;フェニル
基;または炭素原子数7ないし9のフェニルアルキル基
を表すか、またはR4 またはR5 の一方はまた−Clで
あってよく、R11が炭素原子数1ないし18のアルキル
基;炭素原子数5ないし7のシクロアルキル基;フェニ
ル基;または炭素原子数7ないし9のフェニルアルキル
基を表し、R12が炭素原子数1ないし18のアルキル
基;炭素原子数5ないし7のシクロアルキル基;フェニ
ル基またはベンジル基を表し、R13およびR14が互いに
独立して炭素原子数1ないし18のアルキル基;−CO
−N(R17)−または−N(R17)−CO−により中断
された炭素原子数4ないし36のアルキル基;非置換ま
たは−R12により置換された炭素原子数5ないし8のシ
クロアルキル基;非置換または1ないし4個の−R12基
により置換されたフェニル基;または炭素原子数7ない
し12のアルアルキル基を表し、R15およびR16が互い
に独立してH;または炭素原子数1ないし12のアルキ
ル基を表すか、または一緒になって直鎖のα,ω−結合
した炭素原子数4ないし13のアルキレン基を表し、R
17が水素原子を表すか、またはR11の意味の一つを有
し、Xが、m=0またはn=0である場合、フェニレン
基または−Z4 もしくは−Z5 により5位で置換された
1,3−フェニレン基を表し、Xが、m=1またはn=
1の場合、直接結合;炭素原子数1ないし4のアルキレ
ン基;フェニレン基;または次式:−Z2 −Z3 −(式
中、Z2 はポリマー鎖の炭素原子に結合する)で表され
る基を表し、そしてZ2 ないしZ5 は上記の意味を表す
構造単位50ないし100モル%からなるホモポリマー
またはコポリマーが特に興味深い。
ないし36のアルキル基;炭素原子数1ないし36のア
ルコキシ基;非置換または1ないし3個の炭素原子数1
ないし4のアルキル基もしくは炭素原子数1ないし4の
アルコキシ基により置換された炭素原子数5ないし12
のシクロアルキル基;非置換または1ないし3個の炭素
原子数1ないし4のアルキル基もしくは炭素原子数1な
いし4のアルコキシ基により置換された炭素原子数5な
いし12のシクロアルコキシ基;非置換または1ないし
3個の炭素原子数1ないし4のアルキル基もしくは炭素
原子数1ないし4のアルコキシ基により置換されたフェ
ニル基;非置換または1ないし3個の炭素原子数1ない
し4のアルキル基もしくは炭素原子数1ないし4のアル
コキシ基により置換されたナフチル基;非置換または1
ないし3個の炭素原子数1ないし4のアルキル基もしく
は炭素原子数1ないし4のアルコキシ基により置換され
たフェノキシ基;非置換または1ないし3個の炭素原子
数1ないし4のアルキル基もしくは炭素原子数1ないし
4のアルコキシ基により置換されたナフトキシ基;非置
換またはフェニル環上で1ないし3個の炭素原子数1な
いし4のアルキル基もしくは炭素原子数1ないし4のア
ルコキシ基により置換された炭素原子数7ないし12の
フェニルアルキル基;非置換またはフェニル環上で1な
いし3個の炭素原子数1ないし4のアルキル基もしくは
炭素原子数1ないし4のアルコキシ基により置換された
炭素原子数7ないし12のフェニルアルコキシ基;−C
O−R11;または各々が炭素原子数1ないし4のアルキ
ル基により置換されたベンゾイル基またはナフトイル基
を表し、R4 、R5 およびR6 が互いに独立して水素原
子;炭素原子数1ないし18のアルキル基;フェニル
基;または炭素原子数7ないし9のフェニルアルキル基
を表すか、またはR4 またはR5 の一方はまた−Clで
あってよく、R11が炭素原子数1ないし18のアルキル
基;炭素原子数5ないし7のシクロアルキル基;フェニ
ル基;または炭素原子数7ないし9のフェニルアルキル
基を表し、R12が炭素原子数1ないし18のアルキル
基;炭素原子数5ないし7のシクロアルキル基;フェニ
ル基またはベンジル基を表し、R13およびR14が互いに
独立して炭素原子数1ないし18のアルキル基;−CO
−N(R17)−または−N(R17)−CO−により中断
された炭素原子数4ないし36のアルキル基;非置換ま
たは−R12により置換された炭素原子数5ないし8のシ
クロアルキル基;非置換または1ないし4個の−R12基
により置換されたフェニル基;または炭素原子数7ない
し12のアルアルキル基を表し、R15およびR16が互い
に独立してH;または炭素原子数1ないし12のアルキ
ル基を表すか、または一緒になって直鎖のα,ω−結合
した炭素原子数4ないし13のアルキレン基を表し、R
17が水素原子を表すか、またはR11の意味の一つを有
し、Xが、m=0またはn=0である場合、フェニレン
基または−Z4 もしくは−Z5 により5位で置換された
1,3−フェニレン基を表し、Xが、m=1またはn=
1の場合、直接結合;炭素原子数1ないし4のアルキレ
ン基;フェニレン基;または次式:−Z2 −Z3 −(式
中、Z2 はポリマー鎖の炭素原子に結合する)で表され
る基を表し、そしてZ2 ないしZ5 は上記の意味を表す
構造単位50ないし100モル%からなるホモポリマー
またはコポリマーが特に興味深い。
【0023】上記式Iおよび/またはII中、Aがメチ
レン基を表し、そしてEが次式:
レン基を表し、そしてEが次式:
【化40】 で表される基を表し、R2 が−N(R13)R14;炭素原
子数2ないし18のアルコキシ基;−CO−N(R17)
−または−N(R17)−CO−により中断された炭素原
子数4ないし36のアルコキシ基;または炭素原子数7
ないし12のアルアルコキシ基を表すか、またはR1 お
よびR2 が一緒になって=O置換基を表し、R3 が炭素
原子数1ないし12のアルキル基;炭素原子数4ないし
18のアルコキシ基;炭素原子数5ないし8のシクロア
ルキル基;炭素原子数5ないし8のシクロアルコキシ
基;炭素原子数7ないし12のフェニルアルキル基;炭
素原子数7ないし12のフェニルアルコキシ基;または
−CO−R11を表し、基R4 、R5 およびR6 の二つが
水素原子を表し、そして一つが水素原子;炭素原子数1
ないし4のアルキル基;フェニル基;または炭素原子数
7ないし9のフェニルアルキル基を表し、R11が炭素原
子数1ないし18のアルキル基;シクロヘキシル基;フ
ェニル基;または炭素原子数7ないし9のフェニルアル
キル基を表し、R13およびR14が互いに独立して炭素原
子数2ないし18のアルキル基;−CO−N(R17)−
または−N(R17)−CO−により中断された炭素原子
数4ないし36のアルキル基;または炭素原子数7ない
し12のアルアルキル基を表し、R17が水素原子を表す
か、またはR11の意味の一つを有し、Xが、m=0また
はn=0である場合、フェニレン基を表し、そしてX
が、m=1またはn=1の場合、直接結合;炭素原子数
1ないし4のアルキレン基またはフェニレン基を表す構
造単位50ないし100モル%からなるホモポリマーま
たはコポリマーが特に好ましい。
子数2ないし18のアルコキシ基;−CO−N(R17)
−または−N(R17)−CO−により中断された炭素原
子数4ないし36のアルコキシ基;または炭素原子数7
ないし12のアルアルコキシ基を表すか、またはR1 お
よびR2 が一緒になって=O置換基を表し、R3 が炭素
原子数1ないし12のアルキル基;炭素原子数4ないし
18のアルコキシ基;炭素原子数5ないし8のシクロア
ルキル基;炭素原子数5ないし8のシクロアルコキシ
基;炭素原子数7ないし12のフェニルアルキル基;炭
素原子数7ないし12のフェニルアルコキシ基;または
−CO−R11を表し、基R4 、R5 およびR6 の二つが
水素原子を表し、そして一つが水素原子;炭素原子数1
ないし4のアルキル基;フェニル基;または炭素原子数
7ないし9のフェニルアルキル基を表し、R11が炭素原
子数1ないし18のアルキル基;シクロヘキシル基;フ
ェニル基;または炭素原子数7ないし9のフェニルアル
キル基を表し、R13およびR14が互いに独立して炭素原
子数2ないし18のアルキル基;−CO−N(R17)−
または−N(R17)−CO−により中断された炭素原子
数4ないし36のアルキル基;または炭素原子数7ない
し12のアルアルキル基を表し、R17が水素原子を表す
か、またはR11の意味の一つを有し、Xが、m=0また
はn=0である場合、フェニレン基を表し、そしてX
が、m=1またはn=1の場合、直接結合;炭素原子数
1ないし4のアルキレン基またはフェニレン基を表す構
造単位50ないし100モル%からなるホモポリマーま
たはコポリマーが特に好ましい。
【0024】上記式Iおよび/またはII中、Aがメチ
レン基を表し、そしてEが次式:
レン基を表し、そしてEが次式:
【化41】 で表される基を表し、R2 が炭素原子数4ないし18の
アルコキシ基;−CO−N(R17)−または−N
(R17)−CO−により中断された炭素原子数4ないし
36のアルコキシ基;または炭素原子数7ないし12の
アルアルコキシ基;または−N(R13)R14を表すか、
またはR1 およびR2 が一緒になって=O置換基を表
し、R3 が炭素原子数1ないし6のアルキル基;炭素原
子数4ないし12のアルコキシ基;シクロヘキシル基;
シクロヘキシルオキシ基;ベンジル基;ベンゾキシ基;
またはベンゾイル基を表し、基R4 、R5 およびR6 の
二つが水素原子を表し、そして一つが水素原子;メチル
基;またはフェニル基を表し、R13およびR14が互いに
独立して炭素原子数2ないし12のアルキル基を表し、
Xが、m=0またはn=0である場合、フェニレン基を
表し、そしてXが、m=1またはn=1の場合、直接結
合;またはフェニレン基を表す構造単位50ないし10
0モル%からなるホモポリマーまたはコポリマーが、と
りわけ相当するホモポリマーが特に強調されるべきであ
る。
アルコキシ基;−CO−N(R17)−または−N
(R17)−CO−により中断された炭素原子数4ないし
36のアルコキシ基;または炭素原子数7ないし12の
アルアルコキシ基;または−N(R13)R14を表すか、
またはR1 およびR2 が一緒になって=O置換基を表
し、R3 が炭素原子数1ないし6のアルキル基;炭素原
子数4ないし12のアルコキシ基;シクロヘキシル基;
シクロヘキシルオキシ基;ベンジル基;ベンゾキシ基;
またはベンゾイル基を表し、基R4 、R5 およびR6 の
二つが水素原子を表し、そして一つが水素原子;メチル
基;またはフェニル基を表し、R13およびR14が互いに
独立して炭素原子数2ないし12のアルキル基を表し、
Xが、m=0またはn=0である場合、フェニレン基を
表し、そしてXが、m=1またはn=1の場合、直接結
合;またはフェニレン基を表す構造単位50ないし10
0モル%からなるホモポリマーまたはコポリマーが、と
りわけ相当するホモポリマーが特に強調されるべきであ
る。
【0025】前記ホモポリマーまたはコポリマーは、次
式V:
式V:
【化42】 化合物または次式VI:
【化43】 (式中、A、E、R1 、R2 、R3 、R4 、R5 、
R6 、m、nおよびXは上で定義されたものと同じ意味
を表す)で表される化合物;または式Vで表される化合
物と式VIで表される化合物との混合物;または式Vお
よびVIで表される化合物の1種もしくはそれ以上と5
0モル%までの別のラジカル重合性化合物、特に次式V
III:
R6 、m、nおよびXは上で定義されたものと同じ意味
を表す)で表される化合物;または式Vで表される化合
物と式VIで表される化合物との混合物;または式Vお
よびVIで表される化合物の1種もしくはそれ以上と5
0モル%までの別のラジカル重合性化合物、特に次式V
III:
【化44】 (式中、R7 、R8 、R9 およびR10は上で定義された
ものと同じ意味を表す)で表される化合物とを、ラジカ
ル重合にそれ自体公知の方法で供することにより好都合
に製造される。
ものと同じ意味を表す)で表される化合物とを、ラジカ
ル重合にそれ自体公知の方法で供することにより好都合
に製造される。
【0026】ラジカル重合(遊離基重合, free-radical
polymerization )は種々の方法で実施され得る。これ
らは例えばエス.サンドラーおよびダブリュ.カロ(S.
Sandler and W. Karo)によるポリマー合成,第1−3
巻,アカデミックプレス,ニューヨーク 1968(Pol
ymer Synthesis, Vol. 1-3, Academic Press, New York
1968)に記載されている。慣用の重合方法の例は塊状重
合、溶媒重合、乳化重合、懸濁重合および沈澱重合であ
る。
polymerization )は種々の方法で実施され得る。これ
らは例えばエス.サンドラーおよびダブリュ.カロ(S.
Sandler and W. Karo)によるポリマー合成,第1−3
巻,アカデミックプレス,ニューヨーク 1968(Pol
ymer Synthesis, Vol. 1-3, Academic Press, New York
1968)に記載されている。慣用の重合方法の例は塊状重
合、溶媒重合、乳化重合、懸濁重合および沈澱重合であ
る。
【0027】重合は一般にラジカル重合には慣用の開始
剤の1種により開始される。これらは熱開始剤、例えば
アゾ化合物、例としてアゾイソブチロニトリル(AIB
N)、または過酸化物、例として過酸化ベンゾイル、ま
たはレドックス開始剤系、例として鉄(III)アセチ
ルアセトネート、ベンゾインおよび過酸化ベンゾイルの
混合物、または光化学フリーラジカル(遊離基)形成
剤、例としてベンゾインまたはベンジルメチルケタール
を包含する。
剤の1種により開始される。これらは熱開始剤、例えば
アゾ化合物、例としてアゾイソブチロニトリル(AIB
N)、または過酸化物、例として過酸化ベンゾイル、ま
たはレドックス開始剤系、例として鉄(III)アセチ
ルアセトネート、ベンゾインおよび過酸化ベンゾイルの
混合物、または光化学フリーラジカル(遊離基)形成
剤、例としてベンゾインまたはベンジルメチルケタール
を包含する。
【0028】開始剤は反応溶液にエチレン性不飽和モノ
マーの量を規準として0.1ないし5モル%、好ましく
は0.5ないし3モル%の量で好都合に添加される。
マーの量を規準として0.1ないし5モル%、好ましく
は0.5ないし3モル%の量で好都合に添加される。
【0029】分子量を制御するために、連鎖移動剤が例
えば5ないし20モル%の量で添加され得る。連鎖移動
剤の例はジスルフィド、メルカプタン、ハライド、ブチ
ルメルカプタン、ジブチルスルフィド、テトラクロロメ
タン等である。
えば5ないし20モル%の量で添加され得る。連鎖移動
剤の例はジスルフィド、メルカプタン、ハライド、ブチ
ルメルカプタン、ジブチルスルフィド、テトラクロロメ
タン等である。
【0030】重合は好ましくは溶液中で行われる。反応
温度は一般には10ないし200℃、好ましくは30な
いし150℃、特に40ないし100℃の範囲である。
温度は一般には10ないし200℃、好ましくは30な
いし150℃、特に40ないし100℃の範囲である。
【0031】使用されるあらゆる溶媒は反応条件で不活
性でなければならない。適当な溶媒は芳香族炭化水素、
ケトンおよびエーテルを包含する。それらの例はベンゼ
ン、トルエン、キシレン、エチルベンゼン、イソプロピ
ルベンゼン、メチルエチルケトン、アセトン、シクロヘ
キサノン、ジエチルエーテル、ジブチルエーテル、テト
ラヒドロフランおよびジオキサンである。トルエンおよ
びキシレンが特に好ましい。
性でなければならない。適当な溶媒は芳香族炭化水素、
ケトンおよびエーテルを包含する。それらの例はベンゼ
ン、トルエン、キシレン、エチルベンゼン、イソプロピ
ルベンゼン、メチルエチルケトン、アセトン、シクロヘ
キサノン、ジエチルエーテル、ジブチルエーテル、テト
ラヒドロフランおよびジオキサンである。トルエンおよ
びキシレンが特に好ましい。
【0032】重合は酸素を排除しながら、例えばアルゴ
ンまたは窒素雰囲気下で好都合に行われる。
ンまたは窒素雰囲気下で好都合に行われる。
【0033】式Vで表される出発化合物は本発明の主題
を同様に形成する新規化合物である。式Vで表される出
発化合物はまた、光、酸素および/または熱による損傷
に対する保護のための有機ポリマーには既に有効な安定
剤である。同様のことが式VIで表される出発化合物に
も当てはまる。
を同様に形成する新規化合物である。式Vで表される出
発化合物はまた、光、酸素および/または熱による損傷
に対する保護のための有機ポリマーには既に有効な安定
剤である。同様のことが式VIで表される出発化合物に
も当てはまる。
【0034】式VおよびVI中、mまたはnが1を表す
場合の出発化合物は、例えば以下の酸:オレイン酸、ア
クリル酸、メタクリル酸、マレイン酸、フマル酸、イタ
コン酸、グルタコン酸、メサコン酸、ドデセイルスクシ
ン酸、ケイ皮酸、ビニル安息香酸、アリル安息香酸、ア
レイミド安息香酸、スチルベン−4,4’−ジカルボン
酸およびビニルフェニル酢酸のエステルである。
場合の出発化合物は、例えば以下の酸:オレイン酸、ア
クリル酸、メタクリル酸、マレイン酸、フマル酸、イタ
コン酸、グルタコン酸、メサコン酸、ドデセイルスクシ
ン酸、ケイ皮酸、ビニル安息香酸、アリル安息香酸、ア
レイミド安息香酸、スチルベン−4,4’−ジカルボン
酸およびビニルフェニル酢酸のエステルである。
【0035】mまたはnが0である場合において、式V
およびVIで表される出発化合物は例えば以下のフェノ
ール:2−、3−または4−ビニルフェノール;アリル
フェノール、4,4’−ジヒドロキシスチルベン;ビニ
ルレゾルシノールから誘導されるフェノールエーテルで
ある。
およびVIで表される出発化合物は例えば以下のフェノ
ール:2−、3−または4−ビニルフェノール;アリル
フェノール、4,4’−ジヒドロキシスチルベン;ビニ
ルレゾルシノールから誘導されるフェノールエーテルで
ある。
【0036】式VおよびVIで表される出発化合物は重
合性安定剤であるから、ポリマーの安定化はまた、式V
およびVIで表される化合物の一方または両方を用いる
ラジカル共重合またはグラフト共重合により達成され得
る。それ故に、本発明は、式Iおよび/またはIIで表
される構造単位を0.01ないし5モル%含有する、
光、酸素および/または熱の有害作用に対して保護され
たポリマーに関する。
合性安定剤であるから、ポリマーの安定化はまた、式V
およびVIで表される化合物の一方または両方を用いる
ラジカル共重合またはグラフト共重合により達成され得
る。それ故に、本発明は、式Iおよび/またはIIで表
される構造単位を0.01ないし5モル%含有する、
光、酸素および/または熱の有害作用に対して保護され
たポリマーに関する。
【0037】式Vで表される化合物の製造方法は、次式
Va:
Va:
【化45】 で表されるピペリジン化合物から出発し、式VIで表さ
れる化合物の製造方法は、次式VIa:
れる化合物の製造方法は、次式VIa:
【化46】 で表されるピペリジン化合物から出発する。
【0038】このタイプのヒペリジン化合物は一般的な
用語において公知であり、いくつかは市販のものが利用
可能である。それらの製造方法は公知であるか、または
公知方法と同様にして製造され得る。
用語において公知であり、いくつかは市販のものが利用
可能である。それらの製造方法は公知であるか、または
公知方法と同様にして製造され得る。
【0039】式VまたはVIで表される化合物の製造の
ために、相当するピペリジン化合物を最初にエピクロロ
ヒドリンとそれ自体公知の方法で反応させて、HClを
脱離させ、それぞれ次式Vb:
ために、相当するピペリジン化合物を最初にエピクロロ
ヒドリンとそれ自体公知の方法で反応させて、HClを
脱離させ、それぞれ次式Vb:
【化47】 で表される中間体または次式VIb:
【化48】 で表される中間体を得る。
【0040】これは引続き、次式:
【化49】 で表されるエチレン性不飽和一塩基性もしくは二塩基積
カルボン酸またはエチレン性不飽和一価もしくは二価フ
ェノールと反応させて、式VまたはVIで表される化合
物を形成してもよい。記号m、R1 、R2 、R3 、
R4 、R5 およびR6は上で定義したものと同じ意味を
表す。
カルボン酸またはエチレン性不飽和一価もしくは二価フ
ェノールと反応させて、式VまたはVIで表される化合
物を形成してもよい。記号m、R1 、R2 、R3 、
R4 、R5 およびR6は上で定義したものと同じ意味を
表す。
【0041】式VbまたはVIbで表されるエポキシ化
中間体はEP−A001835号またはラストンおよび
バスによりMakromol. Chem. Macromol. Symp. 27, 231
(1989)に記載された方法の一つに従って、またはその記
載の方法に類似の方法で製造され得る。式VaまたはV
Iaで表されるピペリジン化合物は、強塩基、例えばア
ルカリ金属水酸化物の濃厚水溶液の存在下、および有機
溶媒の存在下で、過剰のエピクロロヒドリンと徐々に処
理されることが好都合である。
中間体はEP−A001835号またはラストンおよび
バスによりMakromol. Chem. Macromol. Symp. 27, 231
(1989)に記載された方法の一つに従って、またはその記
載の方法に類似の方法で製造され得る。式VaまたはV
Iaで表されるピペリジン化合物は、強塩基、例えばア
ルカリ金属水酸化物の濃厚水溶液の存在下、および有機
溶媒の存在下で、過剰のエピクロロヒドリンと徐々に処
理されることが好都合である。
【0042】塩基は式VaまたはVIaで表される化合
物を規準として約2−20倍モル過剰に使用されるのが
有利であり、例えば50%水溶液として水酸化ナトリウ
ムまたは水酸化カリウム3−15モル、好ましくは4−
12モルがピペリジン化合物1モルあたり使用される。
有機溶媒は、式VaまたはVIaで表される化合物が完
全に溶解されるような量で好都合に使用され;適当な溶
媒の例は低極性ないし非極性溶媒、例えば炭化水素およ
びエーテルであり;トルエンが好ましい。
物を規準として約2−20倍モル過剰に使用されるのが
有利であり、例えば50%水溶液として水酸化ナトリウ
ムまたは水酸化カリウム3−15モル、好ましくは4−
12モルがピペリジン化合物1モルあたり使用される。
有機溶媒は、式VaまたはVIaで表される化合物が完
全に溶解されるような量で好都合に使用され;適当な溶
媒の例は低極性ないし非極性溶媒、例えば炭化水素およ
びエーテルであり;トルエンが好ましい。
【0043】例えば、エピクロロヒドリン1ないし4当
量、好ましくは1.2ないし3当量、特に1.5ないし
2.5当量が式VaまたはVIaで表されるピペリジン
化合物1当量あたり使用され得る。さらに、第三アミン
塩、例えばテトラアルキルアンモニウムハライド、例と
してテトラメチルアンモニウムクロライドまたはテトラ
ブチルアンモニウムブロマイド、またはホスホニウム
塩、例えば第四ホスホニウムハライド、例としてエチル
トリフェニルホスホニウムブロマイド1ないし30モル
%、好ましくは5ないし25モル%が触媒として混合物
に有利に添加され得る。
量、好ましくは1.2ないし3当量、特に1.5ないし
2.5当量が式VaまたはVIaで表されるピペリジン
化合物1当量あたり使用され得る。さらに、第三アミン
塩、例えばテトラアルキルアンモニウムハライド、例と
してテトラメチルアンモニウムクロライドまたはテトラ
ブチルアンモニウムブロマイド、またはホスホニウム
塩、例えば第四ホスホニウムハライド、例としてエチル
トリフェニルホスホニウムブロマイド1ないし30モル
%、好ましくは5ないし25モル%が触媒として混合物
に有利に添加され得る。
【0044】反応の間の温度は0ないし100℃が好都
合であり、好ましくは20ないし80℃、特に30ない
し70℃である。
合であり、好ましくは20ないし80℃、特に30ない
し70℃である。
【0045】反応が完了したら、仕上げが慣用の方法に
より行われ得る;混合物は最初に水で、例えば反応混合
物を1ないし4倍容量の水中に移すことにより好都合に
希釈され、そして有機相は引続き直接または例えば酢酸
エチルを用いる抽出により分離され得る。有機相が乾燥
した後、生成物は溶媒を除去することにより単離され得
る。その他の精製段階、例えば活性炭の分散、濾過およ
び/または蒸留を行うこともできる。
より行われ得る;混合物は最初に水で、例えば反応混合
物を1ないし4倍容量の水中に移すことにより好都合に
希釈され、そして有機相は引続き直接または例えば酢酸
エチルを用いる抽出により分離され得る。有機相が乾燥
した後、生成物は溶媒を除去することにより単離され得
る。その他の精製段階、例えば活性炭の分散、濾過およ
び/または蒸留を行うこともできる。
【0046】式VまたはVIで表される化合物を得るた
めのエポキシドの開環を伴う式VbまたはVIbで表さ
れる中間体のその他の反応は、溶媒中または溶媒なしで
行われ得る。使用されるあらゆる溶媒は極性または非極
性の不活性であり、好ましくは高沸点である。従って、
例えば、芳香族または脂肪族炭化水素および複素環式溶
媒、エーテル、スルホン、スルホキシドまたはアミドを
使用することも同様に可能であり、好ましい溶媒は比較
的高沸点の炭化水素画分、例えばリグロインまたは石油
エーテル、芳香族炭化水素、例えばトルエンまたはキシ
レン、デカリン環状または開鎖エーテル、例えばジブチ
ルエーテルまたはジオキサン、ジメチルホルムアミドま
たはジメチルスルホキシドを包含し;トルエンおよびキ
シレンが特に好ましい。
めのエポキシドの開環を伴う式VbまたはVIbで表さ
れる中間体のその他の反応は、溶媒中または溶媒なしで
行われ得る。使用されるあらゆる溶媒は極性または非極
性の不活性であり、好ましくは高沸点である。従って、
例えば、芳香族または脂肪族炭化水素および複素環式溶
媒、エーテル、スルホン、スルホキシドまたはアミドを
使用することも同様に可能であり、好ましい溶媒は比較
的高沸点の炭化水素画分、例えばリグロインまたは石油
エーテル、芳香族炭化水素、例えばトルエンまたはキシ
レン、デカリン環状または開鎖エーテル、例えばジブチ
ルエーテルまたはジオキサン、ジメチルホルムアミドま
たはジメチルスルホキシドを包含し;トルエンおよびキ
シレンが特に好ましい。
【0047】反応混合物の温度は反応の間、沸点の範囲
(還流)に維持され得る。この終了時点で、溶媒含有反
応混合物は沸点まで一般に大気圧下で温められ、そして
蒸発させた溶媒は適当な冷却器を用いて濃縮され、そし
て反応混合物中に戻される。純粋な溶媒の沸点範囲は適
当であるならば、60ないし180℃、例えば60ない
し140℃の範囲であってよい。カルボン酸が反応に使
用されるならば、温度は好ましくは30ないし130
℃、特に40ないし90℃に保持され、そして反応時間
は例えば1ないし20時間である。フェノールが使用さ
れるならば、温度は好ましくは80ないし180℃、特
に100ないし160℃の範囲に保持され、そして反応
時間は例えば3ないし36時間である。
(還流)に維持され得る。この終了時点で、溶媒含有反
応混合物は沸点まで一般に大気圧下で温められ、そして
蒸発させた溶媒は適当な冷却器を用いて濃縮され、そし
て反応混合物中に戻される。純粋な溶媒の沸点範囲は適
当であるならば、60ないし180℃、例えば60ない
し140℃の範囲であってよい。カルボン酸が反応に使
用されるならば、温度は好ましくは30ないし130
℃、特に40ないし90℃に保持され、そして反応時間
は例えば1ないし20時間である。フェノールが使用さ
れるならば、温度は好ましくは80ないし180℃、特
に100ないし160℃の範囲に保持され、そして反応
時間は例えば3ないし36時間である。
【0048】反応は好ましくは保護ガス、例えば窒素ま
たはアルゴンの下で行われる。反応混合物は攪拌される
のが好都合である。式VbまたはVIbで表されるエポ
キシドは好ましくは反応体のカルボン酸基またはフェノ
ール性ヒドロキシル基に対してほぼ当量またはわずかに
過剰で、例えばフェノール性OHまたはカルボン酸1当
量あたり1.0ないし1.3当量、特に1.0ないし
1.15当量の量で使用される。
たはアルゴンの下で行われる。反応混合物は攪拌される
のが好都合である。式VbまたはVIbで表されるエポ
キシドは好ましくは反応体のカルボン酸基またはフェノ
ール性ヒドロキシル基に対してほぼ当量またはわずかに
過剰で、例えばフェノール性OHまたはカルボン酸1当
量あたり1.0ないし1.3当量、特に1.0ないし
1.15当量の量で使用される。
【0049】反応は好ましくは触媒として第三アミン
塩、例えばテトラアルキルアンモニウムハライド、例と
してテトラメチルアンモニウムクロライドまたはテトラ
ブチルアンモニウムブロマイド、またはホスホニウム
塩、例えば第四ホスホニウムハライド、例としてエチル
トリフェニルホスホニウムブロマイドの存在下で行われ
る。触媒は式VbまたはVIbで表される化合物を規準
として1ないし5モル%の量で好都合に使用される。
塩、例えばテトラアルキルアンモニウムハライド、例と
してテトラメチルアンモニウムクロライドまたはテトラ
ブチルアンモニウムブロマイド、またはホスホニウム
塩、例えば第四ホスホニウムハライド、例としてエチル
トリフェニルホスホニウムブロマイドの存在下で行われ
る。触媒は式VbまたはVIbで表される化合物を規準
として1ないし5モル%の量で好都合に使用される。
【0050】反応完了後の仕上げは慣用の方法により行
われ得る。例えば、冷却された混合物は最初に塩基の水
溶液、例えば非常に希薄なアルカリ金属水酸化物溶液で
洗浄され、そして水で洗浄され、次いで乾燥され、そし
て溶媒が次に、例えば減圧および/または加温の適用に
より除去される。乾燥後、その他の精製工程、例えば活
性炭の分散、濾過、蒸留その他が行われ得る。
われ得る。例えば、冷却された混合物は最初に塩基の水
溶液、例えば非常に希薄なアルカリ金属水酸化物溶液で
洗浄され、そして水で洗浄され、次いで乾燥され、そし
て溶媒が次に、例えば減圧および/または加温の適用に
より除去される。乾燥後、その他の精製工程、例えば活
性炭の分散、濾過、蒸留その他が行われ得る。
【0051】式VまたはVIで表される新規化合物のた
めのその他の可能な製造方法において、エピクロロヒド
リンをまずカルボン酸またはフェノールと反応させ、そ
して得られた中間体を、式VaまたはVIaで表される
ピペリジン化合物と引続き反応させ、エポキシド環の開
環を伴い、式VまたはVIで表される所望の化合物が得
られる。
めのその他の可能な製造方法において、エピクロロヒド
リンをまずカルボン酸またはフェノールと反応させ、そ
して得られた中間体を、式VaまたはVIaで表される
ピペリジン化合物と引続き反応させ、エポキシド環の開
環を伴い、式VまたはVIで表される所望の化合物が得
られる。
【0052】式Vbで表される化合物は過酸、例えば過
酢酸による相当するN−アリル化合物の酸化によりさら
に得られることができる。残りの反応は、上記のように
行われ得る。
酢酸による相当するN−アリル化合物の酸化によりさら
に得られることができる。残りの反応は、上記のように
行われ得る。
【0053】式Iおよび/またはIIで表される構造単
位からなるホモポリマーまたはコポリマーおよび式Vお
よび式VIで表される化合物は熱、酸化および化学線崩
壊に対する有機ポリマーの安定化に適当である。
位からなるホモポリマーまたはコポリマーおよび式Vお
よび式VIで表される化合物は熱、酸化および化学線崩
壊に対する有機ポリマーの安定化に適当である。
【0054】上記有機ポリマーの例は以下のとおりであ
る: 1.モノオレフィンおよびジオレフィンのポリマー、例
えばポリプロピレン、ポリイソブチレン、ポリブテン−
1、ポリ−4−メチルペンテン−1、ポリイソプレンま
たはポリブタジエン、並びにシクロオレフィン例えばシ
クロペンテンまたはノルボルネンのポリマー、ポリエチ
レン(非架橋でも架橋されていてもよい)、例えば高密
度ポリエチレン(HDPE)、低密度ポリエチレン(L
DPE)、線状低密度ポリエチレン(LLDPE)、分
岐低密度ポリエチレン(BLDPE)。
る: 1.モノオレフィンおよびジオレフィンのポリマー、例
えばポリプロピレン、ポリイソブチレン、ポリブテン−
1、ポリ−4−メチルペンテン−1、ポリイソプレンま
たはポリブタジエン、並びにシクロオレフィン例えばシ
クロペンテンまたはノルボルネンのポリマー、ポリエチ
レン(非架橋でも架橋されていてもよい)、例えば高密
度ポリエチレン(HDPE)、低密度ポリエチレン(L
DPE)、線状低密度ポリエチレン(LLDPE)、分
岐低密度ポリエチレン(BLDPE)。
【0055】ポリオレフィン、すなわち前項に例示した
モノオレフィンのポリマー、好ましくはポリエチレンお
よびポリプロピレンは異なる方法、特に以下の方法によ
り製造され得る: a)ラジカル重合(通常、高温高圧下)。 b)周期表のIVb、Vb、VIbまたはVIII族の
金属1種以上を通常含有する触媒を用いる接触重合。こ
れらの金属は通常1以上の配位子、典型的にはπ(パ
イ)−またはσ(シグマ)−配位されていてよい酸化
物、ハロゲン化物、アルコレート、エステル、エーテ
ル、アミン、アルキル、アルケニルおよび/またはアリ
ールを有する。これらの金属錯体は遊離体であっても、
または基体(substrate) 、典型的には活性化塩化マグネ
シウム、塩化チタン(III)、アルミナまたは酸化ケ
イ素に固定されていてもよい。これらの触媒は重合化媒
体に可溶性であっても、不溶性であってもよい。触媒は
重合においてそれ自体で使用され得、またその他の活性
化剤、典型的には金属アルキル、金属水素化物、金属ア
ルキルハロゲン化物、金属アルキル酸化物または金属ア
ルキルオキサンが使用され得る(上記金属は周期表のI
a、IIaおよび/またはIIIa族の元素である)。
活性化剤はその他のエステル、エーテル、アミンまたは
シリルエーテル基で慣用方法により変性されてもよい。
上記触媒系は通常フィリップス、スタンダード・オイル
・インディアナ、チーグラー(−ナッタ)、TNZ(デ
ュポン)、メタロセンまたは単一部位触媒(single sit
e catalyst, SSC)と命名されている。
モノオレフィンのポリマー、好ましくはポリエチレンお
よびポリプロピレンは異なる方法、特に以下の方法によ
り製造され得る: a)ラジカル重合(通常、高温高圧下)。 b)周期表のIVb、Vb、VIbまたはVIII族の
金属1種以上を通常含有する触媒を用いる接触重合。こ
れらの金属は通常1以上の配位子、典型的にはπ(パ
イ)−またはσ(シグマ)−配位されていてよい酸化
物、ハロゲン化物、アルコレート、エステル、エーテ
ル、アミン、アルキル、アルケニルおよび/またはアリ
ールを有する。これらの金属錯体は遊離体であっても、
または基体(substrate) 、典型的には活性化塩化マグネ
シウム、塩化チタン(III)、アルミナまたは酸化ケ
イ素に固定されていてもよい。これらの触媒は重合化媒
体に可溶性であっても、不溶性であってもよい。触媒は
重合においてそれ自体で使用され得、またその他の活性
化剤、典型的には金属アルキル、金属水素化物、金属ア
ルキルハロゲン化物、金属アルキル酸化物または金属ア
ルキルオキサンが使用され得る(上記金属は周期表のI
a、IIaおよび/またはIIIa族の元素である)。
活性化剤はその他のエステル、エーテル、アミンまたは
シリルエーテル基で慣用方法により変性されてもよい。
上記触媒系は通常フィリップス、スタンダード・オイル
・インディアナ、チーグラー(−ナッタ)、TNZ(デ
ュポン)、メタロセンまたは単一部位触媒(single sit
e catalyst, SSC)と命名されている。
【0056】2.前項1.に記載したポリマーの混合
物、例えばポリプロピレンとポリイソブチレンとの混合
物、ポリプロピレンとポリエチレンとの混合物(例えば
PP/HDPE,PP/LDPE)および異なる種類の
ポリエチレンの混合物(例えばLDPE/HDPE)。
物、例えばポリプロピレンとポリイソブチレンとの混合
物、ポリプロピレンとポリエチレンとの混合物(例えば
PP/HDPE,PP/LDPE)および異なる種類の
ポリエチレンの混合物(例えばLDPE/HDPE)。
【0057】3.モノオレフィンとジオレフィン相互ま
たは他のビニルモノマーとのコポリマー、例えばエチレ
ン/プロピレンコポリマー、線状低密度ポリエチレン
(LLDPE)およびこれと低密度ポリエチレン(LD
PE)との混合物、プロピレン/ブテン−1コポリマ
ー、プロピレン/イソブチレンコポリマー、エチレン/
ブテン−1コポリマー、エチレン/ヘキセンコポリマ
ー、エチレン/メチルペンテンコポリマー、エチレン/
ヘプテンコポリマー、エチレン/オクテンコポリマー、
プロピレン/ブタジエンコポリマー、イソブチレン/イ
ソプレンコポリマー、エチレン/アルキルアクリレート
コポリマー、エチレン/アルキルメタクリレートコポリ
マー、エチレン/酢酸ビニルコポリマーおよびそれらの
一酸化炭素とのコポリマーまたはエチレン/アクリル酸
コポリマーおよびそれらの塩類(アイオノマー)、並び
にエチレンとプロピレンとジエン例えばヘキサジエン、
ジシクロペンタジエンまたはエチリデンノルボルネンと
のターポリマー;および上記コポリマー相互の、および
項1.に記載のポリマーとの混合物、例えばポリプロピ
レン/エチレンプロピレンコポリマー、LDPE/エチ
レン−酢酸ビニルコポリマー(EVA)、LDPE/エ
チレン−アクリル酸コポリマー(EAA)、LLDPE
/EVA、LLDPE/EAAおよび交互またはランダ
ムポリアルキレン/一酸化炭素コポリマー、およびそれ
らとその他のポリマー例えばポリアミドとの混合物。
たは他のビニルモノマーとのコポリマー、例えばエチレ
ン/プロピレンコポリマー、線状低密度ポリエチレン
(LLDPE)およびこれと低密度ポリエチレン(LD
PE)との混合物、プロピレン/ブテン−1コポリマ
ー、プロピレン/イソブチレンコポリマー、エチレン/
ブテン−1コポリマー、エチレン/ヘキセンコポリマ
ー、エチレン/メチルペンテンコポリマー、エチレン/
ヘプテンコポリマー、エチレン/オクテンコポリマー、
プロピレン/ブタジエンコポリマー、イソブチレン/イ
ソプレンコポリマー、エチレン/アルキルアクリレート
コポリマー、エチレン/アルキルメタクリレートコポリ
マー、エチレン/酢酸ビニルコポリマーおよびそれらの
一酸化炭素とのコポリマーまたはエチレン/アクリル酸
コポリマーおよびそれらの塩類(アイオノマー)、並び
にエチレンとプロピレンとジエン例えばヘキサジエン、
ジシクロペンタジエンまたはエチリデンノルボルネンと
のターポリマー;および上記コポリマー相互の、および
項1.に記載のポリマーとの混合物、例えばポリプロピ
レン/エチレンプロピレンコポリマー、LDPE/エチ
レン−酢酸ビニルコポリマー(EVA)、LDPE/エ
チレン−アクリル酸コポリマー(EAA)、LLDPE
/EVA、LLDPE/EAAおよび交互またはランダ
ムポリアルキレン/一酸化炭素コポリマー、およびそれ
らとその他のポリマー例えばポリアミドとの混合物。
【0058】4.炭化水素樹脂(例えば炭素原子数5な
いし9のもの)およびそれらの水素化変性体(例えば粘
着付与剤)およびポリアルキレンとデンプンとの混合
物。
いし9のもの)およびそれらの水素化変性体(例えば粘
着付与剤)およびポリアルキレンとデンプンとの混合
物。
【0059】5.ポリスチレン、ポリ(p−メチルスチ
レン)、ポリ(α−メチルスチレン)。
レン)、ポリ(α−メチルスチレン)。
【0060】6.スチレンまたはα−メチルスチレンと
ジエンまたはアクリル誘導体とのコポリマー、例えばス
チレン/ブタジエン、スチレン/アクリロニトリル、ス
チレン/アルキルメタクリレート、スチレン/ブタジエ
ン/アルキルアクリレート、スチレン/ブタジエン/ア
ルキルメタクリレート、スチレン/無水マレイン酸、ス
チレン/アクリロニトリル/メチルアクリレート;スチ
レンコポリマーと別のポリマー、例えばポリアクリレー
ト、ジエンポリマーまたはエチレン/プロピレン/ジエ
ンターポリマーからの高耐衝撃性混合物;およびスチレ
ンのブロックコポリマー例えばスチレン/ブタジエン/
スチレン、スチレン/イソプレン/スチレン、スチレン
/エチレン/ブチレン/スチレンまたはスチレン/エチ
レン/プロピレン/スチレン。
ジエンまたはアクリル誘導体とのコポリマー、例えばス
チレン/ブタジエン、スチレン/アクリロニトリル、ス
チレン/アルキルメタクリレート、スチレン/ブタジエ
ン/アルキルアクリレート、スチレン/ブタジエン/ア
ルキルメタクリレート、スチレン/無水マレイン酸、ス
チレン/アクリロニトリル/メチルアクリレート;スチ
レンコポリマーと別のポリマー、例えばポリアクリレー
ト、ジエンポリマーまたはエチレン/プロピレン/ジエ
ンターポリマーからの高耐衝撃性混合物;およびスチレ
ンのブロックコポリマー例えばスチレン/ブタジエン/
スチレン、スチレン/イソプレン/スチレン、スチレン
/エチレン/ブチレン/スチレンまたはスチレン/エチ
レン/プロピレン/スチレン。
【0061】7.スチレンまたはα−メチルスチレンの
グラフトコポリマー、例えばポリブタジエンにスチレ
ン、ポリブタジエン−スチレンまたはポリブタジエン−
アクリロニトリルコポリマーにスチレン、ポリブタジエ
ンにスチレンおよびアクリロニトリル(またはメタクリ
ロニトリル)、ポリブタジエンにスチレン、アクリロニ
トリルおよびメチルメタアクリレート、ポリブタジエン
にスチレンおよび無水マレイン酸;ポリブタジエンにス
チレン、アクリロニトリルおよび無水マレイン酸;ポリ
ブタジエンにスチレンおよびマレイミド;ポリブタジエ
ンにスチレンおよびアルキルアクリレート;エチレン/
プロピレン/ジエンターポリマーにスチレンおよびアク
リロニトリル、ポリアルキルアクリレートまたはポリア
ルキルメタクリレートにスチレンおよびアクリロニトリ
ル、アクリレート/ブタジエンコポリマーにスチレンお
よびアクリロニトリル、並びにこれらと項6.に列挙し
たコポリマーとの混合物、例えばABS−、MBS−、
ASA−またはAES−ポリマーとして知られているコ
ポリマー混合物。
グラフトコポリマー、例えばポリブタジエンにスチレ
ン、ポリブタジエン−スチレンまたはポリブタジエン−
アクリロニトリルコポリマーにスチレン、ポリブタジエ
ンにスチレンおよびアクリロニトリル(またはメタクリ
ロニトリル)、ポリブタジエンにスチレン、アクリロニ
トリルおよびメチルメタアクリレート、ポリブタジエン
にスチレンおよび無水マレイン酸;ポリブタジエンにス
チレン、アクリロニトリルおよび無水マレイン酸;ポリ
ブタジエンにスチレンおよびマレイミド;ポリブタジエ
ンにスチレンおよびアルキルアクリレート;エチレン/
プロピレン/ジエンターポリマーにスチレンおよびアク
リロニトリル、ポリアルキルアクリレートまたはポリア
ルキルメタクリレートにスチレンおよびアクリロニトリ
ル、アクリレート/ブタジエンコポリマーにスチレンお
よびアクリロニトリル、並びにこれらと項6.に列挙し
たコポリマーとの混合物、例えばABS−、MBS−、
ASA−またはAES−ポリマーとして知られているコ
ポリマー混合物。
【0062】8.ハロゲン化ポリマー、例えばポリクロ
ロプレン、塩素化ゴム、塩素化またはスルホ塩素化ポリ
エチレン、エチレンと塩素化エチレンとのコポリマー、
エピクロロヒドリンホモ−およびコポリマー、特にハロ
ゲン含有ビニル化合物からのポリマー、例えばポリ塩化
ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリフッ化ビニル、ポリ
フッ化ビニリデン並びにこれらのコポリマー、例えば塩
化ビニル/塩化ビニリデン、塩化ビニル/酢酸ビニルま
たは塩化ビニリデン/酢酸ビニルコポリマー。
ロプレン、塩素化ゴム、塩素化またはスルホ塩素化ポリ
エチレン、エチレンと塩素化エチレンとのコポリマー、
エピクロロヒドリンホモ−およびコポリマー、特にハロ
ゲン含有ビニル化合物からのポリマー、例えばポリ塩化
ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリフッ化ビニル、ポリ
フッ化ビニリデン並びにこれらのコポリマー、例えば塩
化ビニル/塩化ビニリデン、塩化ビニル/酢酸ビニルま
たは塩化ビニリデン/酢酸ビニルコポリマー。
【0063】9.α,β−不飽和酸およびその誘導体か
ら誘導されるポリマー、例えばポリアクリレートおよび
ポリメタアクリレート;ブチルアクリレートで耐衝撃性
に変性されたポリメチルメタクリレート、ポリアクリル
アミドおよびポリアクリロニトリル。
ら誘導されるポリマー、例えばポリアクリレートおよび
ポリメタアクリレート;ブチルアクリレートで耐衝撃性
に変性されたポリメチルメタクリレート、ポリアクリル
アミドおよびポリアクリロニトリル。
【0064】10.前項9.に挙げたモノマー相互のま
たは他の不飽和モノマーとのコポリマー、例えばアクリ
ロニトリル/ブタジエンコポリマー、アクリロニトリル
/アルキルアクリレートコポリマー、アクリロニトリル
/アルコキシアルキルアクリレートもしくはアクリロニ
トリル/ハロゲン化ビニルコポリマーまたはアクリロニ
トリル/アルキルメタアクリレート/ブタジエンターポ
リマー。
たは他の不飽和モノマーとのコポリマー、例えばアクリ
ロニトリル/ブタジエンコポリマー、アクリロニトリル
/アルキルアクリレートコポリマー、アクリロニトリル
/アルコキシアルキルアクリレートもしくはアクリロニ
トリル/ハロゲン化ビニルコポリマーまたはアクリロニ
トリル/アルキルメタアクリレート/ブタジエンターポ
リマー。
【0065】11.不飽和アルコールおよびアミンまた
はそれらのアシル誘導体もしくはアセタールから誘導さ
れるポリマー、例えばポリビニルアルコール、ポリ酢酸
ビニル、ポリビニルステアレート、ポリビニルベンゾエ
ート、ポリビニルマレエート、ポリビニルブチレート、
ポリアリルフタレートまたはポリアリルメラミン;並び
にこれらと項1.に記載したオレフィンとのコポリマ
ー。
はそれらのアシル誘導体もしくはアセタールから誘導さ
れるポリマー、例えばポリビニルアルコール、ポリ酢酸
ビニル、ポリビニルステアレート、ポリビニルベンゾエ
ート、ポリビニルマレエート、ポリビニルブチレート、
ポリアリルフタレートまたはポリアリルメラミン;並び
にこれらと項1.に記載したオレフィンとのコポリマ
ー。
【0066】12.環状エーテルのホモポリマーおよび
コポリマー、例えばポリアルキレングリコール、ポリエ
チレンオキシド、ポリプロピレンオキシドまたはこれら
とビスグリシジルエーテルとのコポリマー。
コポリマー、例えばポリアルキレングリコール、ポリエ
チレンオキシド、ポリプロピレンオキシドまたはこれら
とビスグリシジルエーテルとのコポリマー。
【0067】13.ポリアセタール、例えばポリオキシ
メチレンおよびエチレンオキシドをコモノマーとして含
むポリオキシメチレン;熱可塑性ポリウレタン、アクリ
レートまたはMBSで変性されたポリアセタール。
メチレンおよびエチレンオキシドをコモノマーとして含
むポリオキシメチレン;熱可塑性ポリウレタン、アクリ
レートまたはMBSで変性されたポリアセタール。
【0068】14.ポリフェニレンオキシドおよびスル
フィド、およびポリフェニレンオキシドとスチレンポリ
マーまたはポリアミドとの混合物。
フィド、およびポリフェニレンオキシドとスチレンポリ
マーまたはポリアミドとの混合物。
【0069】15.一方の成分としてヒドロキシ末端基
を含むポリエーテル、ポリエステルまたはポリブタジエ
ンと他方の成分として脂肪族または芳香族ポリイソシア
ネートとから誘導されたポリウレタン並びにその前駆
体。
を含むポリエーテル、ポリエステルまたはポリブタジエ
ンと他方の成分として脂肪族または芳香族ポリイソシア
ネートとから誘導されたポリウレタン並びにその前駆
体。
【0070】16.ジアミンおよびジカルボン酸および
/またはアミノカルボン酸または相当するラクタムから
誘導されたポリアミドおよびコポリアミド。例えばポリ
アミド4、ポリアミド6、ポリアミド6/6、6/1
0、6/9、6/12、4/6、12/12、ポリアミ
ド11、ポリアミド12、m−キシレン、ジアミンおよ
びアジピン酸から出発する芳香族ポリアミド;ヘキサメ
チレンジアミンとイメフタル酸および/またはテレフタ
ル酸とから、変性剤としてエラストマーを添加して、ま
たは添加せずに製造されたポリアミド、例えばポリ−
2,4,4−トリメチルヘキサメチレンテレフタルアミ
ドまたはポリ−m−フェニレンイソフタルアミド;上記
ポリアミドとポリオレフィン、オレフィンコポリマー、
アイオノマーまたは化学結合化もしくはグラフト化エラ
ストマーとの、またはポリエーテル、例えばポリエチレ
ングリコール、ポリプロピレングリコールまたはポリテ
トラメチレングリコールとのブロックコポリマー;並び
にEPDMまたはABSで変性させたポリアミドまたは
コポリアミド;および加工の間に縮合したポリアミド
(RIMポリアミド系)。
/またはアミノカルボン酸または相当するラクタムから
誘導されたポリアミドおよびコポリアミド。例えばポリ
アミド4、ポリアミド6、ポリアミド6/6、6/1
0、6/9、6/12、4/6、12/12、ポリアミ
ド11、ポリアミド12、m−キシレン、ジアミンおよ
びアジピン酸から出発する芳香族ポリアミド;ヘキサメ
チレンジアミンとイメフタル酸および/またはテレフタ
ル酸とから、変性剤としてエラストマーを添加して、ま
たは添加せずに製造されたポリアミド、例えばポリ−
2,4,4−トリメチルヘキサメチレンテレフタルアミ
ドまたはポリ−m−フェニレンイソフタルアミド;上記
ポリアミドとポリオレフィン、オレフィンコポリマー、
アイオノマーまたは化学結合化もしくはグラフト化エラ
ストマーとの、またはポリエーテル、例えばポリエチレ
ングリコール、ポリプロピレングリコールまたはポリテ
トラメチレングリコールとのブロックコポリマー;並び
にEPDMまたはABSで変性させたポリアミドまたは
コポリアミド;および加工の間に縮合したポリアミド
(RIMポリアミド系)。
【0071】17.ポリ尿素、ポリイミド、ポリアミド
イミドおよびポリベンズイミダゾール。
イミドおよびポリベンズイミダゾール。
【0072】18. ジカルボン酸およびジオールおよび
/またはヒドロキシカルボン酸から誘導されたポリエス
テルまたは相当するラクトン、例えばポリエチレンテレ
フタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリ−1,
4−ジメチロール−シクロヘキサンテレフタレートおよ
びポリヒドロキシベンゾエート並びにヒドロキシ末端ポ
リエーテルから誘導されたブロックコポリエーテルエス
テル;およびポリカーボネートまたはMBSで変性され
たポリエステル。
/またはヒドロキシカルボン酸から誘導されたポリエス
テルまたは相当するラクトン、例えばポリエチレンテレ
フタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリ−1,
4−ジメチロール−シクロヘキサンテレフタレートおよ
びポリヒドロキシベンゾエート並びにヒドロキシ末端ポ
リエーテルから誘導されたブロックコポリエーテルエス
テル;およびポリカーボネートまたはMBSで変性され
たポリエステル。
【0073】19.ポリカーボネートおよびポリエステ
ルカーボネート。
ルカーボネート。
【0074】20.ポリスルホン、ポリエーテルスルホ
ンおよびポリエーテルケトン。
ンおよびポリエーテルケトン。
【0075】21.一方の成分としてアルデヒドおよび
他方の成分としてフェノール、尿素およびメラミンから
誘導された架橋ポリマー、例えばフェノール/ホルムア
ルデヒド樹脂、尿素/ ホルムアルデシド樹脂およびメラ
ミン/ホルムアルデヒド樹脂。
他方の成分としてフェノール、尿素およびメラミンから
誘導された架橋ポリマー、例えばフェノール/ホルムア
ルデヒド樹脂、尿素/ ホルムアルデシド樹脂およびメラ
ミン/ホルムアルデヒド樹脂。
【0076】22.乾性および不乾性アルキド樹脂。
【0077】23.飽和および不飽和ジカルボン酸と多
価アルコールとのコポリエステルおよび架橋剤としての
ビニル化合物から誘導された不飽和ポリエステル樹脂、
および燃焼性の低いそれらのハロゲン含有変性物。
価アルコールとのコポリエステルおよび架橋剤としての
ビニル化合物から誘導された不飽和ポリエステル樹脂、
および燃焼性の低いそれらのハロゲン含有変性物。
【0078】24.置換アクリル酸エステル、例えばエ
ポキシアクリレート、ウレタンアクリレートまたはポリ
エステルアクリレートから誘導された架橋性アクリル樹
脂。
ポキシアクリレート、ウレタンアクリレートまたはポリ
エステルアクリレートから誘導された架橋性アクリル樹
脂。
【0079】25.メラミン樹脂、尿素樹脂、ポリイソ
シアネートまたはエポキシ樹脂と架橋されたアルキド樹
脂、ポリエステル樹脂およびアクリレート樹脂。
シアネートまたはエポキシ樹脂と架橋されたアルキド樹
脂、ポリエステル樹脂およびアクリレート樹脂。
【0080】26.ポリエポキシド、例えばビスグリシ
ジルエーテルまたは脂環式ジエポキシドから誘導された
架橋エポキシ樹脂。
ジルエーテルまたは脂環式ジエポキシドから誘導された
架橋エポキシ樹脂。
【0081】27.天然ポリマー、例えばセルロース、
ゴム、ゼラチンおよびこれらの化学的に変性させた重合
同族体誘導体、例えば酢酸セルロース、プロピオン酸セ
ルロースおよび酪酸セルロースまたはセルロースエーテ
ル例えばメチルセルロース;並びにロジンおよびそれら
の誘導体。
ゴム、ゼラチンおよびこれらの化学的に変性させた重合
同族体誘導体、例えば酢酸セルロース、プロピオン酸セ
ルロースおよび酪酸セルロースまたはセルロースエーテ
ル例えばメチルセルロース;並びにロジンおよびそれら
の誘導体。
【0082】28. 前記したポリマーの混合物(ポリブ
レンド)、例えばPP/EPDM、ポリアミド/EPD
MまたはABS、PVC/EVA、PVS/ABS、P
VC/MBS、PC/ABS、PBTP/ABS、PC
/ASA、PC/PBT、PVC/CPE、PVC/ア
クリレート、POM/熱可塑性PUR、PC/熱可塑性
PUR、POM/アクリレート、POM/MBS、PP
O/HIPS、PPO/PA6.6およびコポリマー、
PA/HDPE、PA/PP、PA/PPO。
レンド)、例えばPP/EPDM、ポリアミド/EPD
MまたはABS、PVC/EVA、PVS/ABS、P
VC/MBS、PC/ABS、PBTP/ABS、PC
/ASA、PC/PBT、PVC/CPE、PVC/ア
クリレート、POM/熱可塑性PUR、PC/熱可塑性
PUR、POM/アクリレート、POM/MBS、PP
O/HIPS、PPO/PA6.6およびコポリマー、
PA/HDPE、PA/PP、PA/PPO。
【0083】それ故に、本発明はさらに、(a)光、酸
素および/または熱による損傷に感受性である有機ポリ
マー、および(b)安定剤として上記式Iおよび/また
はIIで表される構造単位からなるポリマーを含有する
組成物、および光、酸素および/または熱による損傷に
対する有機ポリマーの安定化のために、上記ポリマーま
たはコポリマーを使用する方法に関する。
素および/または熱による損傷に感受性である有機ポリ
マー、および(b)安定剤として上記式Iおよび/また
はIIで表される構造単位からなるポリマーを含有する
組成物、および光、酸素および/または熱による損傷に
対する有機ポリマーの安定化のために、上記ポリマーま
たはコポリマーを使用する方法に関する。
【0084】本発明は同様に、上記式Iおよび/または
IIで表される構造単位からなるポリマーまたはコポリ
マーまたは式VまたはVIで表される化合物、または上
記モノマー化合物またはポリマー化合物の混合物を安定
剤としてポリマー中に混合することからなる光、酸素お
よび/または熱による損傷に対して有機ポリマーを安定
化する方法に関する。本発明は好ましくは上記式Iおよ
び/またはIIで表される構造単位からなるポリマーま
たはコポリマーを安定剤としてポリマー中に混合するこ
とからなる光、酸素および/または熱による損傷に対し
て有機ポリマーを安定化する方法に関する。
IIで表される構造単位からなるポリマーまたはコポリ
マーまたは式VまたはVIで表される化合物、または上
記モノマー化合物またはポリマー化合物の混合物を安定
剤としてポリマー中に混合することからなる光、酸素お
よび/または熱による損傷に対して有機ポリマーを安定
化する方法に関する。本発明は好ましくは上記式Iおよ
び/またはIIで表される構造単位からなるポリマーま
たはコポリマーを安定剤としてポリマー中に混合するこ
とからなる光、酸素および/または熱による損傷に対し
て有機ポリマーを安定化する方法に関する。
【0085】合成有機ポリマー、特に熱可塑性樹脂、例
えばポリオレフィンにおける安定剤として新規ポリマー
またはコポリマーの使用が特に興味深い。
えばポリオレフィンにおける安定剤として新規ポリマー
またはコポリマーの使用が特に興味深い。
【0086】保護されるべき有機ポリマーは好ましくは
天然、半合成または好ましくは合成有機ポリマーであ
る。合成有機ポリマーまたは該ポリマーの混合物、特に
熱可塑性樹脂、例えばポリオレフィン、特にポリエチレ
ンおよびポリプロピレン(PP)が特に好ましい。その
他の特に好ましい有機材料は塗料組成物である。写真材
料という用語は、特に、写真複製およびその他の複製方
法のためのリサーチ・ディスクロージャー(Research Di
sclosure) 1990,31429(第474ないし48
0頁)に開示された材料を意味すると理解される。本発
明の範囲内で有利に安定化されるべき塗料組成物は例え
ばウルマンの工業化学百科事典,第5版,第A18巻,
第359−464頁,VCH・フェルラークスゲゼルシ
ャフト,ウィーンハイム 1991(Ullmann's Encyclo
pedia of Industrial Chemistry, 5th Edn, Vol. A18,
pp. 359-464, VCH Verlagsgesellchaft, Weinheim 199
1) に記載されている。
天然、半合成または好ましくは合成有機ポリマーであ
る。合成有機ポリマーまたは該ポリマーの混合物、特に
熱可塑性樹脂、例えばポリオレフィン、特にポリエチレ
ンおよびポリプロピレン(PP)が特に好ましい。その
他の特に好ましい有機材料は塗料組成物である。写真材
料という用語は、特に、写真複製およびその他の複製方
法のためのリサーチ・ディスクロージャー(Research Di
sclosure) 1990,31429(第474ないし48
0頁)に開示された材料を意味すると理解される。本発
明の範囲内で有利に安定化されるべき塗料組成物は例え
ばウルマンの工業化学百科事典,第5版,第A18巻,
第359−464頁,VCH・フェルラークスゲゼルシ
ャフト,ウィーンハイム 1991(Ullmann's Encyclo
pedia of Industrial Chemistry, 5th Edn, Vol. A18,
pp. 359-464, VCH Verlagsgesellchaft, Weinheim 199
1) に記載されている。
【0087】それ故に、本発明は特に好ましくは、保護
されるべき成分(a)がポリオレフィン、またはアクリ
ル、アルキド、ポリウレタン、ポリエステルもしくはポ
リアミド樹脂または相当する変性樹脂をベースとする表
面塗料バインダー(surface-coating binder)である組成
物に関する。
されるべき成分(a)がポリオレフィン、またはアクリ
ル、アルキド、ポリウレタン、ポリエステルもしくはポ
リアミド樹脂または相当する変性樹脂をベースとする表
面塗料バインダー(surface-coating binder)である組成
物に関する。
【0088】一般に、新規ポリマーまたはコポリマー、
または式VまたはVIで表される新規モノマーは安定化
されるべき材料に、安定化される組成物の全量を規準と
して0.01ないし10重量%、好ましくは0.01な
いし5重量%、特に0.01ないし2重量%添加され
る。本発明に係る化合物は特に好ましくは0.05ない
し1.5%、とりわけ0.1ないし1.5%の量で使用
される。
または式VまたはVIで表される新規モノマーは安定化
されるべき材料に、安定化される組成物の全量を規準と
して0.01ないし10重量%、好ましくは0.01な
いし5重量%、特に0.01ないし2重量%添加され
る。本発明に係る化合物は特に好ましくは0.05ない
し1.5%、とりわけ0.1ないし1.5%の量で使用
される。
【0089】安定化されるべき材料中への配合は、例え
ば混合または慣用の方法による新規ポリマーまたはコポ
リマーおよびあらゆるその他の添加剤の適用により行わ
れ得る。例えば、保護されるべきポリマー中への配合は
成形の前または間に、またはポリマーへの溶解もしくは
分散化合物の適用により、必要ならば溶媒を引続き蒸発
させながら行われ得る。エラストマーの場合、これらは
ラテックスとして安定化され得る。新規ポリマーまたは
コポリマーを配合する別の方法は、それらを相当するモ
ノマーの重合の前、間もしくは直後、または架橋前に添
加することからなる。新規ポリマーまたはコポリマーは
そのまま、またはカプセルに封入された形体(例えばワ
ックス、オイルまたはその他のポリマー)で添加され得
る。重合の前または間に添加する場合において、新規ポ
リマーまたはコポリマーはまた、ポリマーの鎖長の制御
剤(連鎖停止剤)として作用する。
ば混合または慣用の方法による新規ポリマーまたはコポ
リマーおよびあらゆるその他の添加剤の適用により行わ
れ得る。例えば、保護されるべきポリマー中への配合は
成形の前または間に、またはポリマーへの溶解もしくは
分散化合物の適用により、必要ならば溶媒を引続き蒸発
させながら行われ得る。エラストマーの場合、これらは
ラテックスとして安定化され得る。新規ポリマーまたは
コポリマーを配合する別の方法は、それらを相当するモ
ノマーの重合の前、間もしくは直後、または架橋前に添
加することからなる。新規ポリマーまたはコポリマーは
そのまま、またはカプセルに封入された形体(例えばワ
ックス、オイルまたはその他のポリマー)で添加され得
る。重合の前または間に添加する場合において、新規ポ
リマーまたはコポリマーはまた、ポリマーの鎖長の制御
剤(連鎖停止剤)として作用する。
【0090】新規ポリマーまたはコポリマーはまた、安
定化されるべきプラスチックスに、この化合物を含有す
るマスターバッチの形態で、例えば2.5ないし25重
量%の濃度で添加され得る。
定化されるべきプラスチックスに、この化合物を含有す
るマスターバッチの形態で、例えば2.5ないし25重
量%の濃度で添加され得る。
【0091】そのようなマスターバッチの特定の形態
は、式Iおよび/またはIIで表される構造単位2ない
し20モル%を有するグラフトコポリマーからなる。主
鎖がポリオレフィン、例えばポリエチレンまたはポリプ
ロピレンから形成され、そして側鎖が式Iおよび/また
はIIで表される構造単位から形成されるグラフトコポ
リマーが好ましい。
は、式Iおよび/またはIIで表される構造単位2ない
し20モル%を有するグラフトコポリマーからなる。主
鎖がポリオレフィン、例えばポリエチレンまたはポリプ
ロピレンから形成され、そして側鎖が式Iおよび/また
はIIで表される構造単位から形成されるグラフトコポ
リマーが好ましい。
【0092】新規ポリマーまたはコポリマーの配合は以
下の方法で好都合で行われ得る: −乳化液または分散液として(例えばラテックスまたは
乳化ポリマー) −追加の成分またはポリマー混合物の混合の間の乾燥混
合物として −加工装置中への直接添加により(例えば押出機,密閉
式ミキサー等) −溶液または溶融液として。
下の方法で好都合で行われ得る: −乳化液または分散液として(例えばラテックスまたは
乳化ポリマー) −追加の成分またはポリマー混合物の混合の間の乾燥混
合物として −加工装置中への直接添加により(例えば押出機,密閉
式ミキサー等) −溶液または溶融液として。
【0093】本発明に係るポリマー組成物は種々の形態
で使用されるか、または種々の生成物に変換され得、例
えば、それらはフィルム、繊維、テープ、成形用組成
物、型材(プロフィール)として使用され得るか、また
は変換され得、また表面塗料のためのバインダー、接着
剤または接着セメントとして使用され得る。
で使用されるか、または種々の生成物に変換され得、例
えば、それらはフィルム、繊維、テープ、成形用組成
物、型材(プロフィール)として使用され得るか、また
は変換され得、また表面塗料のためのバインダー、接着
剤または接着セメントとして使用され得る。
【0094】新規ポリマーまたはコポリマーの他に、本
発明に係る組成物はさらに慣用の添加剤、例えば下記の
ものを含有し得る。慣用の添加剤は安定化されるべきポ
リマーを規準として0.1ないし10重量%、例えば
0.2ないし5重量%の量で好都合に使用される。
発明に係る組成物はさらに慣用の添加剤、例えば下記の
ものを含有し得る。慣用の添加剤は安定化されるべきポ
リマーを規準として0.1ないし10重量%、例えば
0.2ないし5重量%の量で好都合に使用される。
【0095】1.酸化防止剤 1.1.アルキル化モノフェノールの例 2,6−ジ−第三ブチル−4−メチルフェノール、2−
第三ブチル−4,6−ジメチルフェノール、2,6−ジ
−第三ブチル−4−エチルフェノール、2,6−ジ−第
三ブチル−4−n−ブチルフェノール、2,6−ジ−第
三ブチル−4−イソブチルフェノール、2,6−ジシク
ロペンチル−4−メチルフェノ−ル、2−(α−メチル
シクロヘキシル)−4,6−ジメチルフェノール、2,
6−ジオクタデシル−4−メチルフェノ−ル、2,4,
6−トリシクロヘキシルフェノール、2,6−ジ−第三
ブチル−4−メトキシメチルフェノール、2,6−ジノ
ニル−4−メチルフェノール、2,4−ジメチル−6−
(1’−メチルウンデシ−1’−イル)フェノール、
2,4−ジメチル−6−(1’−メチルヘプタデシ−
1’−イル)フェノール、2,4−ジメチル−6−
(1’−メチルトリデシ−1’−イル)フェノールおよ
びその混合物。
第三ブチル−4,6−ジメチルフェノール、2,6−ジ
−第三ブチル−4−エチルフェノール、2,6−ジ−第
三ブチル−4−n−ブチルフェノール、2,6−ジ−第
三ブチル−4−イソブチルフェノール、2,6−ジシク
ロペンチル−4−メチルフェノ−ル、2−(α−メチル
シクロヘキシル)−4,6−ジメチルフェノール、2,
6−ジオクタデシル−4−メチルフェノ−ル、2,4,
6−トリシクロヘキシルフェノール、2,6−ジ−第三
ブチル−4−メトキシメチルフェノール、2,6−ジノ
ニル−4−メチルフェノール、2,4−ジメチル−6−
(1’−メチルウンデシ−1’−イル)フェノール、
2,4−ジメチル−6−(1’−メチルヘプタデシ−
1’−イル)フェノール、2,4−ジメチル−6−
(1’−メチルトリデシ−1’−イル)フェノールおよ
びその混合物。
【0096】1.2.アルキルチオメチルフェノールの
例 2,4−ジオクチルチオメチル−6−第三ブチルフェノ
ール、2,4−ジオクチルチオメチル−6−メチルフェ
ノール、2,4−ジオクチルチオメチル−6−エチルフ
ェノール、2,6−ジドデシルチオメチル−4−ノニル
フェノール。
例 2,4−ジオクチルチオメチル−6−第三ブチルフェノ
ール、2,4−ジオクチルチオメチル−6−メチルフェ
ノール、2,4−ジオクチルチオメチル−6−エチルフ
ェノール、2,6−ジドデシルチオメチル−4−ノニル
フェノール。
【0097】1.3.ヒドロキノンおよびアルキル化ヒ
ドロキノンの例 2,6−ジ第三ブチル−4−メトキシフェノール、2,
5−ジ第三ブチルヒドロキノン、2,5−ジ第三アミル
ヒドロキノン、2,6−ジフェニル−4−オクタデシル
オキシフェノール、2,6−ジ第三ブチルヒドロキノ
ン、2,5−ジ−第三ブチル−4−ヒドロキシアニソー
ル、3,5−ジ第三ブチル−4−ヒドロキシアニソー
ル、3,5−ジ第三ブチル−4−ヒドロキシフェニルス
テアレート、ビス(3,5−ジ第三ブチル−4−ヒドロ
キシフェニル)アジペート。
ドロキノンの例 2,6−ジ第三ブチル−4−メトキシフェノール、2,
5−ジ第三ブチルヒドロキノン、2,5−ジ第三アミル
ヒドロキノン、2,6−ジフェニル−4−オクタデシル
オキシフェノール、2,6−ジ第三ブチルヒドロキノ
ン、2,5−ジ−第三ブチル−4−ヒドロキシアニソー
ル、3,5−ジ第三ブチル−4−ヒドロキシアニソー
ル、3,5−ジ第三ブチル−4−ヒドロキシフェニルス
テアレート、ビス(3,5−ジ第三ブチル−4−ヒドロ
キシフェニル)アジペート。
【0098】1.4.トコフェロールの例 α−トコフェロール、β−トコフェロール、γ−トコフ
ェロール、δ−トコフェロールおよびそれらの混合物
(ビタミンE)
ェロール、δ−トコフェロールおよびそれらの混合物
(ビタミンE)
【0099】1.5.ヒドロキシル化チオジフェニルエ
ーテルの例 2,2’−チオビス(6−第三ブチル−4−メチルフェ
ノール)、2,2’−チオビス(4−オクチルフェノー
ル)、4,4’−チオビス(6−第三ブチル−3−メチ
ルフェノール)、4,4’−チオビス(6−第三ブチル
−2−メチルフェノール)、4,4’−チオビス(3,
6−ジ第二アミルフェノール)、4,4’−ビス(2,
6−ジメチル−4−ヒドロキシフェニル)ジスルフィ
ド。
ーテルの例 2,2’−チオビス(6−第三ブチル−4−メチルフェ
ノール)、2,2’−チオビス(4−オクチルフェノー
ル)、4,4’−チオビス(6−第三ブチル−3−メチ
ルフェノール)、4,4’−チオビス(6−第三ブチル
−2−メチルフェノール)、4,4’−チオビス(3,
6−ジ第二アミルフェノール)、4,4’−ビス(2,
6−ジメチル−4−ヒドロキシフェニル)ジスルフィ
ド。
【0100】1.6.アルキリデンビスフェノールの例 2,2’−メチレンビス(6−第三ブチル−4−メチル
フェノール)、2,2’−メチレンビス(6−第三ブチ
ル−4−エチルフェノール)、2,2’−メチレンビス
〔4−メチル−6−(α−メチルシクロヘキシル)フェ
ノール〕、2,2’−メチレンビス(4−メチル−6−
シクロヘキシルフェノール)、2,2’−メチレンビス
(6−ノニル−4−メチルフェノール)、2,2’−メ
チレンビス(4,6−ジ−第三ブチルフェノール)、
2,2’−エチリデンビス(4,6−ジ−第三ブチルフ
ェノール)、2,2’−エチリデンビス(6−第三ブチ
ル−4−イソブチルフェノール)、2,2’−メチレン
ビス〔6−(α−メチルベンジル)−4−ノニルフェノ
ール〕、2,2’−メチレンビス〔6−(α,α−ジメ
チルベンジル)−4−ノニルフェノール〕、4,4’−
メチレンビス(2,6−ジ−第三ブチルフェノール)、
4,4’−メチレンビス(6−第三ブチル−2−メチル
フェノール)、1,1−ビス(5−第三ブチル−4−ヒ
ドロキシ−2−メチルフェニル)ブタン、2,6−ビス
(3−第三ブチル−5−メチル−2−ヒドロキシベンジ
ル)−4−メチルフェノール、1,1,3−トリス(5
−第三ブチル−4−ヒドロキシ−2−メチルフェニル)
ブタン、1,1−ビス(5−第三ブチル−4−ヒドロキ
シ−2−メチルフェニル)−3−n−ドデシルメルカプ
トブタン、エチレングリコール−ビス〔3,3−ビス
(3’−第三ブチル−4’ーヒドロキシフェニル)ブチ
レート〕、ビス(3−第三ブチル−4ーヒドロキシ−5
−メチルフェニル)ジシクロペンタジエン、ビス〔2−
(3’−第三ブチル−2’ーヒドロキシ−5’−メチル
ベンジル)−6−第三ブチル−4−メチルフェニル〕テ
レフタレート、1,1−ビス(3,5−ジメチル−2−
ヒドロキシフェニル)ブタン、2,2−ビス(3,5−
ジ−第三ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロパン、
2,2−ビス(5−第三ブチル−4−ヒドロキシ−2−
メチルフェニル)−4−n−ドデシルメルカプトブタ
ン、1,1,5,5−テトラ(5−第三ブチル−4−ヒ
ドロキシ−2−メチルフェニル)ペンタン。
フェノール)、2,2’−メチレンビス(6−第三ブチ
ル−4−エチルフェノール)、2,2’−メチレンビス
〔4−メチル−6−(α−メチルシクロヘキシル)フェ
ノール〕、2,2’−メチレンビス(4−メチル−6−
シクロヘキシルフェノール)、2,2’−メチレンビス
(6−ノニル−4−メチルフェノール)、2,2’−メ
チレンビス(4,6−ジ−第三ブチルフェノール)、
2,2’−エチリデンビス(4,6−ジ−第三ブチルフ
ェノール)、2,2’−エチリデンビス(6−第三ブチ
ル−4−イソブチルフェノール)、2,2’−メチレン
ビス〔6−(α−メチルベンジル)−4−ノニルフェノ
ール〕、2,2’−メチレンビス〔6−(α,α−ジメ
チルベンジル)−4−ノニルフェノール〕、4,4’−
メチレンビス(2,6−ジ−第三ブチルフェノール)、
4,4’−メチレンビス(6−第三ブチル−2−メチル
フェノール)、1,1−ビス(5−第三ブチル−4−ヒ
ドロキシ−2−メチルフェニル)ブタン、2,6−ビス
(3−第三ブチル−5−メチル−2−ヒドロキシベンジ
ル)−4−メチルフェノール、1,1,3−トリス(5
−第三ブチル−4−ヒドロキシ−2−メチルフェニル)
ブタン、1,1−ビス(5−第三ブチル−4−ヒドロキ
シ−2−メチルフェニル)−3−n−ドデシルメルカプ
トブタン、エチレングリコール−ビス〔3,3−ビス
(3’−第三ブチル−4’ーヒドロキシフェニル)ブチ
レート〕、ビス(3−第三ブチル−4ーヒドロキシ−5
−メチルフェニル)ジシクロペンタジエン、ビス〔2−
(3’−第三ブチル−2’ーヒドロキシ−5’−メチル
ベンジル)−6−第三ブチル−4−メチルフェニル〕テ
レフタレート、1,1−ビス(3,5−ジメチル−2−
ヒドロキシフェニル)ブタン、2,2−ビス(3,5−
ジ−第三ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロパン、
2,2−ビス(5−第三ブチル−4−ヒドロキシ−2−
メチルフェニル)−4−n−ドデシルメルカプトブタ
ン、1,1,5,5−テトラ(5−第三ブチル−4−ヒ
ドロキシ−2−メチルフェニル)ペンタン。
【0101】1.7.O−,N−およびS−ベンジル化
合物の例 3,5,3’,5’−テトラ第三ブチル−4,4’−ジ
ヒドロキシジベンジルエーテル、オクタデシル−4−ヒ
ドロキシ−3,5−ジメチルベンジルメルカプトアセテ
ート、トリス(3,5−ジ第三ブチル−4−ヒドロキシ
ベンジル)アミン、ビス(4−第三ブチル−3−ヒドロ
キシ−2,6−ジメチルベンジル)ジチオテレフタレー
ト、ビス(3,5−ジ第三ブチル−4−ヒドロキシベン
ジル)スルフィド、イソオクチル−3,5−ジ第三ブチ
ル−4−ヒドロキシベンジルメルカプトアセテート。
合物の例 3,5,3’,5’−テトラ第三ブチル−4,4’−ジ
ヒドロキシジベンジルエーテル、オクタデシル−4−ヒ
ドロキシ−3,5−ジメチルベンジルメルカプトアセテ
ート、トリス(3,5−ジ第三ブチル−4−ヒドロキシ
ベンジル)アミン、ビス(4−第三ブチル−3−ヒドロ
キシ−2,6−ジメチルベンジル)ジチオテレフタレー
ト、ビス(3,5−ジ第三ブチル−4−ヒドロキシベン
ジル)スルフィド、イソオクチル−3,5−ジ第三ブチ
ル−4−ヒドロキシベンジルメルカプトアセテート。
【0102】1.8.ヒドロキシベンジル化マロネート
の例 ジオクタデシル−2,2−ビス(3,5−ジ第三ブチル
−2−ヒドロキシベンジル)マロネート、ジオクタデシ
ル−2−(3−第三ブチル−4−ヒドロキシ−5−メチ
ルベンジル)マロネート、ジドデシルメルカプトエチル
−2,2−ビス(3,5−ジ第三ブチル−4−ヒドロキ
シベンジル)マロネート、ビス〔4−(1,1,3,3
−テトラメチルブチル)フェニル〕−2,2−ビス
(3,5−ジ第三ブチル−4−ヒドロキシベンジル)マ
ロネート。
の例 ジオクタデシル−2,2−ビス(3,5−ジ第三ブチル
−2−ヒドロキシベンジル)マロネート、ジオクタデシ
ル−2−(3−第三ブチル−4−ヒドロキシ−5−メチ
ルベンジル)マロネート、ジドデシルメルカプトエチル
−2,2−ビス(3,5−ジ第三ブチル−4−ヒドロキ
シベンジル)マロネート、ビス〔4−(1,1,3,3
−テトラメチルブチル)フェニル〕−2,2−ビス
(3,5−ジ第三ブチル−4−ヒドロキシベンジル)マ
ロネート。
【0103】1.9.芳香族ヒドロキシベンジル化合物
の例 1,3,5−トリス(3,5−ジ第三ブチル−4−ヒド
ロキシベンジル)−2,4,6−トリメチルベンゼン、
1,4−ビス(3,5−ジ第三ブチル−4−ヒドロキシ
ベンジル)−2,3,5,6−テトラメチルベンゼン、
2,4,6−トリス(3,5−ジ第三ブチル−4−ヒド
ロキシベンジル)フェノール。
の例 1,3,5−トリス(3,5−ジ第三ブチル−4−ヒド
ロキシベンジル)−2,4,6−トリメチルベンゼン、
1,4−ビス(3,5−ジ第三ブチル−4−ヒドロキシ
ベンジル)−2,3,5,6−テトラメチルベンゼン、
2,4,6−トリス(3,5−ジ第三ブチル−4−ヒド
ロキシベンジル)フェノール。
【0104】1.10.トリアジン化合物の例 2,4−ビス(オクチルメルカプト)−6−(3,5−
ジ第三ブチル−4−ヒドロキシアニリノ)−1,3,5
−トリアジン、2−オクチルメルカプト−4,6−ビス
(3,5−ジ第三ブチル−4−ヒドロキシアニリノ)−
1,3,5−トリアジン、2−オクチルメルカプト−
4,6−ビス(3,5−ジ第三ブチル−4−ヒドロキシ
フェノキシ)−1,3,5−トリアジン、2,4,6−
トリス(3,5−ジ第三ブチル−4−ヒドロキシフェノ
キシ)−1,2,3−トリアジン、1,3,5−トリス
(3,5−ジ第三ブチル−4−ヒドロキシベンジル)イ
ソシアヌレート、1,3,5−トリス(4−第三ブチル
−3−ヒドロキシ−2,6−ジメチルベンジル)イソシ
アヌレート、2,4,6−トリス(3,5−ジ第三ブチ
ル−4−ヒドロキシフェニルエチル)−1,3,5−ト
リアジン、1,3,5−トリス(3,5−ジ第三ブチル
−4−ヒドロキシフェニルプロピオニル)ヘキサヒドロ
−1,3,5−トリアジン、1,3,5−トリス(3,
5−ジシクロヘキシル−4−ヒドロキシベンジル)イソ
シアヌレート。
ジ第三ブチル−4−ヒドロキシアニリノ)−1,3,5
−トリアジン、2−オクチルメルカプト−4,6−ビス
(3,5−ジ第三ブチル−4−ヒドロキシアニリノ)−
1,3,5−トリアジン、2−オクチルメルカプト−
4,6−ビス(3,5−ジ第三ブチル−4−ヒドロキシ
フェノキシ)−1,3,5−トリアジン、2,4,6−
トリス(3,5−ジ第三ブチル−4−ヒドロキシフェノ
キシ)−1,2,3−トリアジン、1,3,5−トリス
(3,5−ジ第三ブチル−4−ヒドロキシベンジル)イ
ソシアヌレート、1,3,5−トリス(4−第三ブチル
−3−ヒドロキシ−2,6−ジメチルベンジル)イソシ
アヌレート、2,4,6−トリス(3,5−ジ第三ブチ
ル−4−ヒドロキシフェニルエチル)−1,3,5−ト
リアジン、1,3,5−トリス(3,5−ジ第三ブチル
−4−ヒドロキシフェニルプロピオニル)ヘキサヒドロ
−1,3,5−トリアジン、1,3,5−トリス(3,
5−ジシクロヘキシル−4−ヒドロキシベンジル)イソ
シアヌレート。
【0105】1.11.ベンジルホスホネートの例 ジメチル−2,5−ジ第三ブチル−4−ヒドロキシベン
ジルホスホネート、ジエチル−3,5−ジ第三ブチル−
4−ヒドロキシベンジルホスホネート、ジオクタデシル
3,5−ジ第三ブチル−4−ヒドロキシベンジルホスホ
ネート、ジオクタデシル5−第三ブチル−4−ヒドロキ
シ3−メチルベンジルホスホネート、3,5−ジ第三ブ
チル−4−ヒドロキシベンジルホスホン酸のモノエチル
エステルのカルシウム塩。
ジルホスホネート、ジエチル−3,5−ジ第三ブチル−
4−ヒドロキシベンジルホスホネート、ジオクタデシル
3,5−ジ第三ブチル−4−ヒドロキシベンジルホスホ
ネート、ジオクタデシル5−第三ブチル−4−ヒドロキ
シ3−メチルベンジルホスホネート、3,5−ジ第三ブ
チル−4−ヒドロキシベンジルホスホン酸のモノエチル
エステルのカルシウム塩。
【0106】1.12.アシルアミノフェノールの例 4−ヒドロキシラウリン酸−アニリド、4−ヒドロキシ
ステアリン酸−アニリド、オクチルN−(3,5−ジ−
第三ブチル−4−ヒドロキシフェニル)−カルバメー
ト。
ステアリン酸−アニリド、オクチルN−(3,5−ジ−
第三ブチル−4−ヒドロキシフェニル)−カルバメー
ト。
【0107】1.13.β−(3,5−ジ第三ブチル−
4−ヒドロキシフェニル)プロピオン酸と以下の一価ま
たは多価アルコールとのエステル アルコールの例:メタノール、エタノール、オクタノー
ル、オクタデカノール、1,6−ヘキサンジオール、
1,9−ノナンジオール、エチレングリコール、1,2
−プロパンジオール、ネオペンチルグリコール、チオジ
エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチ
レングリコール、ペンタエリトリトール、トリス(ヒド
ロキシエチル)イソシアヌレート、N,N’−ビス(ヒ
ドロキシエチル)オキサミド、3−チアウンデカノー
ル、3−チアペンタデカノール、トリメチルヘキサンジ
オール、トリメチロールプロパン、4−ヒドロキシメチ
ル−1−ホスファ−2,6,7−トリオキサビシクロ
〔2.2.2〕オクタン。
4−ヒドロキシフェニル)プロピオン酸と以下の一価ま
たは多価アルコールとのエステル アルコールの例:メタノール、エタノール、オクタノー
ル、オクタデカノール、1,6−ヘキサンジオール、
1,9−ノナンジオール、エチレングリコール、1,2
−プロパンジオール、ネオペンチルグリコール、チオジ
エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチ
レングリコール、ペンタエリトリトール、トリス(ヒド
ロキシエチル)イソシアヌレート、N,N’−ビス(ヒ
ドロキシエチル)オキサミド、3−チアウンデカノー
ル、3−チアペンタデカノール、トリメチルヘキサンジ
オール、トリメチロールプロパン、4−ヒドロキシメチ
ル−1−ホスファ−2,6,7−トリオキサビシクロ
〔2.2.2〕オクタン。
【0108】1.14.β−(5−第三ブチル−4−ヒ
ドロキシ−3−メチルフェニル)プロピオン酸と以下の
一価または多価アルコールとのエステル アルコールの例:メタノール、エタノール、オクタノー
ル、オクタデカノール、1,6−ヘキサンジオール、
1,9−ノナンジオール、エチレングリコール、1,2
−プロパンジオール、ネオペンチルグリコール、チオジ
エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチ
レングリコール、ペンタエリトリトール、トリス(ヒド
ロキシエチル)イソシアヌレート、N,N’−ビス(ヒ
ドロキシエチル)オキサミド、3−チアウンデカノー
ル、3−チアペンタデカノール、トリメチルヘキサンジ
オール、トリメチロールプロパン、4−ヒドロキシメチ
ル−1−ホスファ−2,6,7−トリオキサビシクロ
〔2.2.2〕オクタン。
ドロキシ−3−メチルフェニル)プロピオン酸と以下の
一価または多価アルコールとのエステル アルコールの例:メタノール、エタノール、オクタノー
ル、オクタデカノール、1,6−ヘキサンジオール、
1,9−ノナンジオール、エチレングリコール、1,2
−プロパンジオール、ネオペンチルグリコール、チオジ
エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチ
レングリコール、ペンタエリトリトール、トリス(ヒド
ロキシエチル)イソシアヌレート、N,N’−ビス(ヒ
ドロキシエチル)オキサミド、3−チアウンデカノー
ル、3−チアペンタデカノール、トリメチルヘキサンジ
オール、トリメチロールプロパン、4−ヒドロキシメチ
ル−1−ホスファ−2,6,7−トリオキサビシクロ
〔2.2.2〕オクタン。
【0109】1.15.β−(3,5−ジシクロシクロ
ヘキシル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオン酸と以
下の一価または多価アルコールとのエステル アルコールの例:メタノール、エタノール、オクタノー
ル、オクタデカノール、1,6−ヘキサンジオール、
1,9−ノナンジオール、エチレングリコール、1,2
−プロパンジオール、ネオペンチルグリコール、チオジ
エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチ
レングリコール、ペンタエリトリトール、トリス(ヒド
ロキシエチル)イソシアヌレート、N,N’−ビス(ヒ
ドロキシエチル)オキサミド、3−チアウンデカノー
ル、3−チアペンタデカノール、トリメチルヘキサンジ
オール、トリメチロールプロパン、4−ヒドロキシメチ
ル−1−ホスファ−2,6,7−トリオキサビシクロ
〔2.2.2〕オクタン。
ヘキシル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオン酸と以
下の一価または多価アルコールとのエステル アルコールの例:メタノール、エタノール、オクタノー
ル、オクタデカノール、1,6−ヘキサンジオール、
1,9−ノナンジオール、エチレングリコール、1,2
−プロパンジオール、ネオペンチルグリコール、チオジ
エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチ
レングリコール、ペンタエリトリトール、トリス(ヒド
ロキシエチル)イソシアヌレート、N,N’−ビス(ヒ
ドロキシエチル)オキサミド、3−チアウンデカノー
ル、3−チアペンタデカノール、トリメチルヘキサンジ
オール、トリメチロールプロパン、4−ヒドロキシメチ
ル−1−ホスファ−2,6,7−トリオキサビシクロ
〔2.2.2〕オクタン。
【0110】1.16.3,5−ジ第三ブチル−4−ヒ
ドロキシフェニル酢酸と以下の一価または多価アルコー
ルとのエステル アルコールの例:メタノール、エタノール、オクタノー
ル、オクタデカノール、1,6−ヘキサンジオール、
1,9−ノナンジオール、エチレングリコール、1,2
−プロパンジオール、ネオペンチルグリコール、チオジ
エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチ
レングリコール、ペンタエリトリトール、トリス(ヒド
ロキシエチル)イソシアヌレート、N,N’−ビス(ヒ
ドロキシエチル)オキサミド、3−チアウンデカノー
ル、3−チアペンタデカノール、トリメチルヘキサンジ
オール、トリメチロールプロパン、4−ヒドロキシメチ
ル−1−ホスファ−2,6,7−トリオキサビシクロ
〔2.2.2〕オクタン。
ドロキシフェニル酢酸と以下の一価または多価アルコー
ルとのエステル アルコールの例:メタノール、エタノール、オクタノー
ル、オクタデカノール、1,6−ヘキサンジオール、
1,9−ノナンジオール、エチレングリコール、1,2
−プロパンジオール、ネオペンチルグリコール、チオジ
エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチ
レングリコール、ペンタエリトリトール、トリス(ヒド
ロキシエチル)イソシアヌレート、N,N’−ビス(ヒ
ドロキシエチル)オキサミド、3−チアウンデカノー
ル、3−チアペンタデカノール、トリメチルヘキサンジ
オール、トリメチロールプロパン、4−ヒドロキシメチ
ル−1−ホスファ−2,6,7−トリオキサビシクロ
〔2.2.2〕オクタン。
【0111】1.17.β−(3,5−ジ第三ブチル−
4−ヒドロキシフェニル)プロピオン酸のアミドの例 N,N’−ビス(3,5−ジ−第三ブチル−4−ヒドロ
キシフェニルプロピオニル)ヘキサメチレンジアミン、
N,N’−ビス(3,5−ジ−第三ブチル−4−ヒドロ
キシフェニルプロピオニル)トリメチレンジアミン、
N,N’−ビス(3,5−ジ−第三ブチル−4−ヒドロ
キシフェニルプロピオニル)ヒドラジン。
4−ヒドロキシフェニル)プロピオン酸のアミドの例 N,N’−ビス(3,5−ジ−第三ブチル−4−ヒドロ
キシフェニルプロピオニル)ヘキサメチレンジアミン、
N,N’−ビス(3,5−ジ−第三ブチル−4−ヒドロ
キシフェニルプロピオニル)トリメチレンジアミン、
N,N’−ビス(3,5−ジ−第三ブチル−4−ヒドロ
キシフェニルプロピオニル)ヒドラジン。
【0112】2.UV吸収剤および光安定剤 2.1.2−(2’−ヒドロキシフェニル) ベンゾトリ
アゾールの例 2−(2’−ヒドロキシ−5’−メチルフェニル)ベン
ゾトリアゾール、2−(3’,5’−ジ第三ブチル−
2’−ヒドロキシフェニル)ベンゾトリアゾール、2−
(5’−第三ブチル−2’−ヒドロキシフェニル)ベン
ゾトリアゾール、2−(2’−ヒドロキシ−5’−
(1,1,3,3−テトラメチルブチル)フェニル)ベ
ンゾトリアゾール、2−(3’,5’−ジ第三ブチル−
2’−ヒドロキシフェニル)−5−クロロベンゾトリア
ゾール、2−(3’−第三ブチル−2’−ヒドロキシ−
5’−メチルフェニル)−5−クロロベンゾトリアゾー
ル、2−(3’−第二ブチル−5’−第三ブチル−2’
−ヒドロキシフェニル)ベンゾトリアゾール、2−
(2’−ヒドロキシ−4’−オクチルオキシフェニル)
ベンゾトリアゾール、2−(3’,5’−ジ第三アミル
−2’−ヒドロキシフェニル)ベンゾトリアゾール、2
−(3’,5’−ビス(α,α−ジメチルベンジル)−
2’−ヒドロキシフェニル)ベンゾトリアゾール、2−
(3’−第三ブチル−2’−ヒドロキシ−5’−(2−
オクチルオキシカルボニルエチル)フェニル)−5−ク
ロロベンゾトリアゾール、2−(3’−第三ブチル−
5’−〔2−(2−エチルヘキシルオキシ)カルボニル
エチル〕−2’−ヒドロキシフェニル)−5−クロロベ
ンゾトリアゾール、2−(3’−第三ブチル−2’−ヒ
ドロキシ−5’−(2−メトキシカルボニルエチル)フ
ェニル)−5−クロロベンゾトリアゾール、2−(3’
−第三ブチル−2’−ヒドロキシ−5’−(2−メトキ
シカルボニルエチル)フェニル)ベンゾトリアゾール、
2−(3’−第三ブチル−2’−ヒドロキシ−5’−
(2−オクチルオキシカルボニルエチル)フェニル)ベ
ンゾトリアゾール、2−(3’−第三ブチル−5’−
〔2−(2−エチルヘキシルオキシ)カルボニルエチ
ル〕−2’−ヒドロキシフェニル)ベンゾトリアゾー
ル、2−(3’−ドデシル−2’−ヒドロキシ−5’−
メチルフェニル)ベンゾトリアゾールおよび2−(3’
−第三ブチル−2’−ヒドロキシ−5’−(2−イソオ
クチルオキシカルボニルエチル)フェニルベンゾトリア
ゾールの混合物、2,2’−メチレンビス〔4−(1,
1,3,3−テトラメチルブチル)−6−ベンゾトリア
ゾール−2−イルフェノール〕;2−〔3’−第三ブチ
ル−5’−(2−メトキシカルボニルエチル)−2’−
ヒドロキシフェニル〕−2H−ベンゾトリアゾールとポ
リエチレングリコール300とのエステル交換体;次
式:〔R−CH2 CH2 −COO(CH2 )3 −〕2 −
(式中、Rは3’−第三ブチル−4’−ヒドロキシ−
5’−2H−ベンゾトリアゾール−2−イルフェニル基
を表す)で表される化合物。
アゾールの例 2−(2’−ヒドロキシ−5’−メチルフェニル)ベン
ゾトリアゾール、2−(3’,5’−ジ第三ブチル−
2’−ヒドロキシフェニル)ベンゾトリアゾール、2−
(5’−第三ブチル−2’−ヒドロキシフェニル)ベン
ゾトリアゾール、2−(2’−ヒドロキシ−5’−
(1,1,3,3−テトラメチルブチル)フェニル)ベ
ンゾトリアゾール、2−(3’,5’−ジ第三ブチル−
2’−ヒドロキシフェニル)−5−クロロベンゾトリア
ゾール、2−(3’−第三ブチル−2’−ヒドロキシ−
5’−メチルフェニル)−5−クロロベンゾトリアゾー
ル、2−(3’−第二ブチル−5’−第三ブチル−2’
−ヒドロキシフェニル)ベンゾトリアゾール、2−
(2’−ヒドロキシ−4’−オクチルオキシフェニル)
ベンゾトリアゾール、2−(3’,5’−ジ第三アミル
−2’−ヒドロキシフェニル)ベンゾトリアゾール、2
−(3’,5’−ビス(α,α−ジメチルベンジル)−
2’−ヒドロキシフェニル)ベンゾトリアゾール、2−
(3’−第三ブチル−2’−ヒドロキシ−5’−(2−
オクチルオキシカルボニルエチル)フェニル)−5−ク
ロロベンゾトリアゾール、2−(3’−第三ブチル−
5’−〔2−(2−エチルヘキシルオキシ)カルボニル
エチル〕−2’−ヒドロキシフェニル)−5−クロロベ
ンゾトリアゾール、2−(3’−第三ブチル−2’−ヒ
ドロキシ−5’−(2−メトキシカルボニルエチル)フ
ェニル)−5−クロロベンゾトリアゾール、2−(3’
−第三ブチル−2’−ヒドロキシ−5’−(2−メトキ
シカルボニルエチル)フェニル)ベンゾトリアゾール、
2−(3’−第三ブチル−2’−ヒドロキシ−5’−
(2−オクチルオキシカルボニルエチル)フェニル)ベ
ンゾトリアゾール、2−(3’−第三ブチル−5’−
〔2−(2−エチルヘキシルオキシ)カルボニルエチ
ル〕−2’−ヒドロキシフェニル)ベンゾトリアゾー
ル、2−(3’−ドデシル−2’−ヒドロキシ−5’−
メチルフェニル)ベンゾトリアゾールおよび2−(3’
−第三ブチル−2’−ヒドロキシ−5’−(2−イソオ
クチルオキシカルボニルエチル)フェニルベンゾトリア
ゾールの混合物、2,2’−メチレンビス〔4−(1,
1,3,3−テトラメチルブチル)−6−ベンゾトリア
ゾール−2−イルフェノール〕;2−〔3’−第三ブチ
ル−5’−(2−メトキシカルボニルエチル)−2’−
ヒドロキシフェニル〕−2H−ベンゾトリアゾールとポ
リエチレングリコール300とのエステル交換体;次
式:〔R−CH2 CH2 −COO(CH2 )3 −〕2 −
(式中、Rは3’−第三ブチル−4’−ヒドロキシ−
5’−2H−ベンゾトリアゾール−2−イルフェニル基
を表す)で表される化合物。
【0113】2.2.2−ヒドロキシ−ベンゾフェノン
の例 4−ヒドロキシ−、4−メトキシ−、4−オクチルオキ
シ−、4−デシルオキシ−、4−ドデシルオキシ−、4
−ベンジルオキシ−、4,2’,4’−トリヒドロキシ
−および2’−ヒドロキシ−4,4’−ジメトキシ誘導
体。
の例 4−ヒドロキシ−、4−メトキシ−、4−オクチルオキ
シ−、4−デシルオキシ−、4−ドデシルオキシ−、4
−ベンジルオキシ−、4,2’,4’−トリヒドロキシ
−および2’−ヒドロキシ−4,4’−ジメトキシ誘導
体。
【0114】2.3.置換されたおよび非置換安息香酸
のエステルの例 4−第三ブチルフェニルサリチレート、フェニルサリチ
レート、オクチルフェニルサリチレート、ジベンゾイル
レゾルシノール、ビス(4−第三ブチルベンゾイル)レ
ゾルシノール、ベンゾイルレゾルシノール、2,4−ジ
−第三ブチルフェニル3,5−ジ−第三ブチル−4−ヒ
ドロキシベンゾエート、ヘキサデシル3,5−ジ−第三
ブチル−4−ヒドロキシベンゾエート、オクタデシル
3,5−ジ−第三ブチル−4−ヒドロキシベンゾエー
ト、2−メチル−4,6−ジ第三ブチルフェニル3,5
−ジ第三ブチル−4−ヒドロキシベンゾエート。
のエステルの例 4−第三ブチルフェニルサリチレート、フェニルサリチ
レート、オクチルフェニルサリチレート、ジベンゾイル
レゾルシノール、ビス(4−第三ブチルベンゾイル)レ
ゾルシノール、ベンゾイルレゾルシノール、2,4−ジ
−第三ブチルフェニル3,5−ジ−第三ブチル−4−ヒ
ドロキシベンゾエート、ヘキサデシル3,5−ジ−第三
ブチル−4−ヒドロキシベンゾエート、オクタデシル
3,5−ジ−第三ブチル−4−ヒドロキシベンゾエー
ト、2−メチル−4,6−ジ第三ブチルフェニル3,5
−ジ第三ブチル−4−ヒドロキシベンゾエート。
【0115】2.4.アクリレートの例 エチルα−シアノ−β, β−ジフェニルアクリレート、
イソオクチルα−シアノ−β, β−ジフェニル−アクリ
レート、メチルα−カルボメトキシシンナメート、メチ
ルα−シアノ−β−メチル−p−メトキシシンナメー
ト、ブチルα−シアノ−β−メチル−p−メトキシシン
ナメート、メチルα−カルボメトキシ−p −メトキシシ
ンナメートおよびN−(β−カルボメトキシ−β−シア
ノビニル) −2−メチルインドリン。
イソオクチルα−シアノ−β, β−ジフェニル−アクリ
レート、メチルα−カルボメトキシシンナメート、メチ
ルα−シアノ−β−メチル−p−メトキシシンナメー
ト、ブチルα−シアノ−β−メチル−p−メトキシシン
ナメート、メチルα−カルボメトキシ−p −メトキシシ
ンナメートおよびN−(β−カルボメトキシ−β−シア
ノビニル) −2−メチルインドリン。
【0116】2.5 ニッケル化合物の例 2,2’−チオビス−〔4−(1,1,3,3−テトラ
メチルブチル) フェノール〕のニッケル錯体、例えば
1:1または1:2錯体であって、所望によりn−ブチ
ルアミン、トリエタノールアミンもしくはN−シクロヘ
キシルジエタノールアミンのような他の配位子を伴うも
の、ニッケルジブチルジチオカルバメート、モノアルキ
ルエステル、例えば4−ヒドロキシ−3,5−ジ−第三
ブチルベンジルホスホン酸のメチルもしくはエチルエス
テルのニッケル塩、ケトキシム例えば2−ヒドロキシ−
4−メチル−フェニルウンデシルケトキシムのニッケル
錯体、1−フェニル−4−ラウロイル−5−ヒドロキシ
−ピラゾールのニッケル錯体であって、所望により他の
配位子を伴うもの。
メチルブチル) フェノール〕のニッケル錯体、例えば
1:1または1:2錯体であって、所望によりn−ブチ
ルアミン、トリエタノールアミンもしくはN−シクロヘ
キシルジエタノールアミンのような他の配位子を伴うも
の、ニッケルジブチルジチオカルバメート、モノアルキ
ルエステル、例えば4−ヒドロキシ−3,5−ジ−第三
ブチルベンジルホスホン酸のメチルもしくはエチルエス
テルのニッケル塩、ケトキシム例えば2−ヒドロキシ−
4−メチル−フェニルウンデシルケトキシムのニッケル
錯体、1−フェニル−4−ラウロイル−5−ヒドロキシ
−ピラゾールのニッケル錯体であって、所望により他の
配位子を伴うもの。
【0117】2.6 立体障害性アミンの例 ビス(2,2,6,6−テトラメチルピペリジル)セバ
ケート、ビス(2,2,6,6−テトラメチルピペリジ
ル)スクシネート、ビス(1,2,2,6,6−ペンタ
メチルピペリジル)セバケート、ビス(1,2,2,
6,6−ペンタメチルピペリジル)n−ブチル−3,5
−ジ第三ブチル−4−ヒドロキシベンジルマロネート、
1−(2−ヒドロキシエチル)−2,2,6,6−テト
ラメチル−4−ヒドロキシピペリジンとコハク酸との縮
合生成物、N,N’−ビス(2,2,6,6−テトラメ
チル−4−ピペリジル)ヘキサメチレンジアミンと4−
第三オクチルアミノ−2,6−ジクロロ−1,3,5−
トリアジンとの縮合生成物、トリス(2,2,6,6−
テトラメチル−4−ピペリジル)ニトリロトリアセテー
ト、テトラキス(2,2,6,6−テトラメチル−4−
ピペリジル)−1,2,3,4−ブタンテトラカルボキ
シレート、1,1’−(1,2−エタンジイル)−ビス
(3,3,5,5−テトラメチルピペラジノン)、4−
ベンゾイル−2,2,6,6−テトラメチルピペリジ
ン、4−ステアリルオキシ−2,2,6,6−テトラメ
チルピペリジン、ビス(1,2,2,6,6−ペンタメ
チルピペリジル)−2−n−ブチル−2−(2−ヒドロ
キシ−3,5−ジ第三ブチルベンジル)マロネート、3
−n−オクチル−7,7,9,9−テトラメチル−1,
3,8−トリアザスピロ〔4.5〕デカン−2,4−ジ
オン、ビス(1−オクチルオキシ−2,2,6,6−テ
トラメチルピペリジル)セバケート、ビス(1−オクチ
ル−2,2,6,6−テトラメチルピペリジル)スクシ
ネート、N,N’−ビス(2,2,6,6−テトラメチ
ルピペリジル−4−ピペリジル)ヘキサメチレンジアミ
ンと4−モルホリノ−2,6−ジクロロ−1,3,5−
トリアジンとの縮合生成物、2−クロロ−4,6−ビス
(4−n−ブチルアミノ−2,2,6,6−テトラメチ
ルピペリジル)−1,3,5−トリアジンと1,2−ビ
ス(3−アミノプロピルアミノ)エタンとの縮合生成
物、2−クロロ−4,6−ジ(4−n−ブチルアミノ−
1,2,2,6,6−ペンタメチルピペリジル)−1,
3,5−トリアジンと1,2−ビス(3−アミノプロピ
ルアミノ)エタンとの縮合生成物、8−アセチル−3−
ドデシル−7,7,9,9−テトラメチル−1,3,8
−トリアザスピロ〔4.5〕デカン−2,4−ジオン、
3−ドデシル−1−(2,2,6,6−テトラメチル−
4−ピヘリジル)ピロリジン−2,5−ジオン、3−ド
デシル−1−(1,2,2,6,6−ペンタメチル−4
−ピペリジル)ピロリジン−2,5−ジオン。
ケート、ビス(2,2,6,6−テトラメチルピペリジ
ル)スクシネート、ビス(1,2,2,6,6−ペンタ
メチルピペリジル)セバケート、ビス(1,2,2,
6,6−ペンタメチルピペリジル)n−ブチル−3,5
−ジ第三ブチル−4−ヒドロキシベンジルマロネート、
1−(2−ヒドロキシエチル)−2,2,6,6−テト
ラメチル−4−ヒドロキシピペリジンとコハク酸との縮
合生成物、N,N’−ビス(2,2,6,6−テトラメ
チル−4−ピペリジル)ヘキサメチレンジアミンと4−
第三オクチルアミノ−2,6−ジクロロ−1,3,5−
トリアジンとの縮合生成物、トリス(2,2,6,6−
テトラメチル−4−ピペリジル)ニトリロトリアセテー
ト、テトラキス(2,2,6,6−テトラメチル−4−
ピペリジル)−1,2,3,4−ブタンテトラカルボキ
シレート、1,1’−(1,2−エタンジイル)−ビス
(3,3,5,5−テトラメチルピペラジノン)、4−
ベンゾイル−2,2,6,6−テトラメチルピペリジ
ン、4−ステアリルオキシ−2,2,6,6−テトラメ
チルピペリジン、ビス(1,2,2,6,6−ペンタメ
チルピペリジル)−2−n−ブチル−2−(2−ヒドロ
キシ−3,5−ジ第三ブチルベンジル)マロネート、3
−n−オクチル−7,7,9,9−テトラメチル−1,
3,8−トリアザスピロ〔4.5〕デカン−2,4−ジ
オン、ビス(1−オクチルオキシ−2,2,6,6−テ
トラメチルピペリジル)セバケート、ビス(1−オクチ
ル−2,2,6,6−テトラメチルピペリジル)スクシ
ネート、N,N’−ビス(2,2,6,6−テトラメチ
ルピペリジル−4−ピペリジル)ヘキサメチレンジアミ
ンと4−モルホリノ−2,6−ジクロロ−1,3,5−
トリアジンとの縮合生成物、2−クロロ−4,6−ビス
(4−n−ブチルアミノ−2,2,6,6−テトラメチ
ルピペリジル)−1,3,5−トリアジンと1,2−ビ
ス(3−アミノプロピルアミノ)エタンとの縮合生成
物、2−クロロ−4,6−ジ(4−n−ブチルアミノ−
1,2,2,6,6−ペンタメチルピペリジル)−1,
3,5−トリアジンと1,2−ビス(3−アミノプロピ
ルアミノ)エタンとの縮合生成物、8−アセチル−3−
ドデシル−7,7,9,9−テトラメチル−1,3,8
−トリアザスピロ〔4.5〕デカン−2,4−ジオン、
3−ドデシル−1−(2,2,6,6−テトラメチル−
4−ピヘリジル)ピロリジン−2,5−ジオン、3−ド
デシル−1−(1,2,2,6,6−ペンタメチル−4
−ピペリジル)ピロリジン−2,5−ジオン。
【0118】2.7.オキサミドの例 4,4’−ジオクチルオキシオキサニリド、2,2’−
ジオクチルオキシ−5,5’−ジ第三ブトキサニリド、
2,2’−ジドデシルオキシ−5,5’−ジ第三ブトキ
サニリド、2−エトキシ−2’−エトキサニリド、N,
N’−ビス(3−ジメチルアミノプロピル)オキサミ
ド、2−エトキシ−5−第三ブチル−2’−エトキサニ
リドおよび該化合物と2エトキシ−2’−エチル−5,
4’−ジ第三ブトキサニリドとの混合物、オルト−およ
びパラ−メトキシ−二置換オキサニリドの混合物および
o−およびp−エトキシ−二置換オキサニリドの混合
物。
ジオクチルオキシ−5,5’−ジ第三ブトキサニリド、
2,2’−ジドデシルオキシ−5,5’−ジ第三ブトキ
サニリド、2−エトキシ−2’−エトキサニリド、N,
N’−ビス(3−ジメチルアミノプロピル)オキサミ
ド、2−エトキシ−5−第三ブチル−2’−エトキサニ
リドおよび該化合物と2エトキシ−2’−エチル−5,
4’−ジ第三ブトキサニリドとの混合物、オルト−およ
びパラ−メトキシ−二置換オキサニリドの混合物および
o−およびp−エトキシ−二置換オキサニリドの混合
物。
【0119】2.8.2−(2−ヒドロキシフェニル)
−1,3,5−トリアジンの例 2,4,6−トリス(2−ヒドロキシ−4−オクチルオ
キシフェニル) −1,3,5−トリアジン、2−(2−
ヒドロキシ−4−オクチルオキシフェニル)−4,6−
ビス(2,4−ジメチルフェニル)−1,3,5−トリ
アジン、2−(2,4−ジヒドロキシフェニル)−4,
6−ビス(2,4−ジメチルフェニル)−1,3,5−
トリアジン、2,4−ビス(2−ヒドロキシ−4−プロ
ピルオキシフェニル)−6−(2,4−ジメチルフェニ
ル)−1,3,5−トリアジン、2−(2−ヒドロキシ
−4−オクチルオキシフェニル) −4,6−ビス(4−
メチルフェニル)−1,3,5−トリアジン、2−(2
−ヒドロキシ−4−ドデシルオキシフェニル) −4,6
−ビス(2,4−ジメチルフェニル)−1,3,5−ト
リアジン、2−〔2−ヒドロキシ−4−(2−ヒドロキ
シ−3−ブチルオキシプロポキシ)フェニル〕−4,6
−ビス(2,4−ジメチル)−1,3,5−トリアジ
ン、2−〔2−ヒドロキシ−4−(2−ヒドロキシ−3
−オクチルオキシプロピルオキシ)フェニル〕−4,6
−ビス(2,4−ジメチル)−1,3,5−トリアジ
ン。
−1,3,5−トリアジンの例 2,4,6−トリス(2−ヒドロキシ−4−オクチルオ
キシフェニル) −1,3,5−トリアジン、2−(2−
ヒドロキシ−4−オクチルオキシフェニル)−4,6−
ビス(2,4−ジメチルフェニル)−1,3,5−トリ
アジン、2−(2,4−ジヒドロキシフェニル)−4,
6−ビス(2,4−ジメチルフェニル)−1,3,5−
トリアジン、2,4−ビス(2−ヒドロキシ−4−プロ
ピルオキシフェニル)−6−(2,4−ジメチルフェニ
ル)−1,3,5−トリアジン、2−(2−ヒドロキシ
−4−オクチルオキシフェニル) −4,6−ビス(4−
メチルフェニル)−1,3,5−トリアジン、2−(2
−ヒドロキシ−4−ドデシルオキシフェニル) −4,6
−ビス(2,4−ジメチルフェニル)−1,3,5−ト
リアジン、2−〔2−ヒドロキシ−4−(2−ヒドロキ
シ−3−ブチルオキシプロポキシ)フェニル〕−4,6
−ビス(2,4−ジメチル)−1,3,5−トリアジ
ン、2−〔2−ヒドロキシ−4−(2−ヒドロキシ−3
−オクチルオキシプロピルオキシ)フェニル〕−4,6
−ビス(2,4−ジメチル)−1,3,5−トリアジ
ン。
【0120】3.金属不活性化剤の例 N,N’−ジフェニルオキサミド、N−サリチラル−
N’−サリチロイルヒドラジン、N,N’−ビス(サリ
チロイル)ヒドラジン、N,N’−ビス(3,5−ジ第
三ブチル−4−ヒドロキシフェニルプロピオニル)ヒド
ラジン、3−サリチロイルアミノ−1,2,4−トリア
ゾール、ビス(ベンジリデン)オキサリルジヒドラジ
ド、オキサニリド、イソフタロイルジヒドラジド、セバ
コイルビスフェニルヒドラジド、N,N’−ジアセター
ルアジポイルジヒドラジド、N,N’−ビス(サリチロ
イル)オキサリルジヒドラジド、N,N’−ビス(サリ
チロイル)チオプロピオニルジヒドラジド。
N’−サリチロイルヒドラジン、N,N’−ビス(サリ
チロイル)ヒドラジン、N,N’−ビス(3,5−ジ第
三ブチル−4−ヒドロキシフェニルプロピオニル)ヒド
ラジン、3−サリチロイルアミノ−1,2,4−トリア
ゾール、ビス(ベンジリデン)オキサリルジヒドラジ
ド、オキサニリド、イソフタロイルジヒドラジド、セバ
コイルビスフェニルヒドラジド、N,N’−ジアセター
ルアジポイルジヒドラジド、N,N’−ビス(サリチロ
イル)オキサリルジヒドラジド、N,N’−ビス(サリ
チロイル)チオプロピオニルジヒドラジド。
【0121】4.ホスフィットおよびホスホナイトの例 トリフェニルホスフィット、ジフェニルアルキルホスフ
ィット、フェニルジアルキルホスフィット、トリス(ノ
ニルフェニル)ホスフィット、トリラウリルホスフィッ
ト、トリオクタデシルホスフィット、ジステアリルペン
タエリトリトールジホスフィット、トリス(2,4−ジ
第三ブチルフェニル)ホスフィット、ジイソデシルペン
タエリトリトールジホスフィット、ビス(2,4−ジ第
三ブチルフェニル)ペンタエリトリトールジホスフィッ
ト、ビス(2,6−ジ第三ブチル−4−メチルフェニ
ル)ペンタエリトリトールジホスフィット、ジイソデシ
ルオキシペンタエリトリトールジホスフィット、ビス
(2,4−ジ第三ブチル−6−メチルフェニル)ペンタ
エリトリトールジホスフィット、ビス(2,4,6−ト
リス(第三ブチルフェニル)ペンタエリトリトールジホ
スフィット、トリステアリルソルビトールトリホスフィ
ット、テトラキス(2,4−ジ第三ブチルフェニル)
4,4’−ビフェニレンジホスホナイト、6−イソオク
チルオキシ−2,4,8,10−テトラ第三ブチル−1
2H−ジベンズ〔d,g〕−1,3,2−ジオキサホス
ホシン、6−フルオロ−2,4,8,10−テトラ第三
ブチル−12−メチル−ジベンズ〔d,g〕−1,3,
2−ジオキサホスホシン、ビス(2,4−ジ第三ブチル
−6−メチルフェニル)メチルホスフィット、ビス
(2,4−ジ第三ブチル−6−メチルフェニル)エチル
ホスフィット。
ィット、フェニルジアルキルホスフィット、トリス(ノ
ニルフェニル)ホスフィット、トリラウリルホスフィッ
ト、トリオクタデシルホスフィット、ジステアリルペン
タエリトリトールジホスフィット、トリス(2,4−ジ
第三ブチルフェニル)ホスフィット、ジイソデシルペン
タエリトリトールジホスフィット、ビス(2,4−ジ第
三ブチルフェニル)ペンタエリトリトールジホスフィッ
ト、ビス(2,6−ジ第三ブチル−4−メチルフェニ
ル)ペンタエリトリトールジホスフィット、ジイソデシ
ルオキシペンタエリトリトールジホスフィット、ビス
(2,4−ジ第三ブチル−6−メチルフェニル)ペンタ
エリトリトールジホスフィット、ビス(2,4,6−ト
リス(第三ブチルフェニル)ペンタエリトリトールジホ
スフィット、トリステアリルソルビトールトリホスフィ
ット、テトラキス(2,4−ジ第三ブチルフェニル)
4,4’−ビフェニレンジホスホナイト、6−イソオク
チルオキシ−2,4,8,10−テトラ第三ブチル−1
2H−ジベンズ〔d,g〕−1,3,2−ジオキサホス
ホシン、6−フルオロ−2,4,8,10−テトラ第三
ブチル−12−メチル−ジベンズ〔d,g〕−1,3,
2−ジオキサホスホシン、ビス(2,4−ジ第三ブチル
−6−メチルフェニル)メチルホスフィット、ビス
(2,4−ジ第三ブチル−6−メチルフェニル)エチル
ホスフィット。
【0122】5.過酸化物スカベンジャーの例 β−チオジプロピオン酸のエステル、例えばラウリル、
ステアリル、ミリスチルまたはトリデシルエステル、メ
ルカプトベンズイミダゾール、または2−メルカプトベ
ンズイミダゾールの亜鉛塩、ジブチルジチオカルバミン
酸亜鉛、ジオクタデシルジスルフィド、ペンタエリトリ
トールテトラキス(β−ドデシルメルカプト)プロピオ
ネート。
ステアリル、ミリスチルまたはトリデシルエステル、メ
ルカプトベンズイミダゾール、または2−メルカプトベ
ンズイミダゾールの亜鉛塩、ジブチルジチオカルバミン
酸亜鉛、ジオクタデシルジスルフィド、ペンタエリトリ
トールテトラキス(β−ドデシルメルカプト)プロピオ
ネート。
【0123】6.ポリアミド安定剤の例 ヨウ化物および/またはリン化合物と組合せた銅塩およ
び二価マンガンの塩。
び二価マンガンの塩。
【0124】7.塩基性補助安定剤の例 メラミン、ポリビニルピロリドン、ジシアンジアミド、
トリアリルシアヌレート、尿素誘導体、ヒドラジン誘導
体、アミン、ポリアミド、ポリウレタン、高級脂肪酸の
アルカリ金属塩およびアルカリ土類金属塩、例えばカル
シウムステアレート、亜鉛ステアレート、マグネシウム
ベヘネート、マグネシウムステアレート、ナトリウムリ
シノレートおよびカリウムパルミテート、アンチモンピ
ロカテコレートまたは亜鉛ピロカテコレート。
トリアリルシアヌレート、尿素誘導体、ヒドラジン誘導
体、アミン、ポリアミド、ポリウレタン、高級脂肪酸の
アルカリ金属塩およびアルカリ土類金属塩、例えばカル
シウムステアレート、亜鉛ステアレート、マグネシウム
ベヘネート、マグネシウムステアレート、ナトリウムリ
シノレートおよびカリウムパルミテート、アンチモンピ
ロカテコレートまたは亜鉛ピロカテコレート。
【0125】8.核剤の例 4−第三ブチル安息香酸、アジピン酸、ジフェニル酢
酸。
酸。
【0126】9.充填剤および強化剤の例 炭酸カルシウム、ケイ酸塩(シリケート)、ガラス繊
維、アスベスト、タルク、カオリン、雲母(マイカ)、
硫酸バリウム、金属酸化物および水酸化物、カーボンブ
ラックおよびグラファイト。
維、アスベスト、タルク、カオリン、雲母(マイカ)、
硫酸バリウム、金属酸化物および水酸化物、カーボンブ
ラックおよびグラファイト。
【0127】10.その他の添加剤の例 可塑剤、滑剤、乳化剤、顔料、光沢剤、難燃剤、静電防
止剤および発泡剤。
止剤および発泡剤。
【0128】11.ベンゾフラノンおよびインドリノン
の例 US−A−4325863号、US−A−433824
4号、US−A−5175312号、US−A−521
6052号、US−A−5252643号、DE−A−
4316611号、DE−A−4316622号、DE
−A−4316876号、EP−A−0589839号
またはEP−A−0591102号に開示された化合
物、または3−〔4−(2−アセトキシエトキシ)フェ
ニル〕−5,7−ジ第三ブチルベンゾフラン−2−オ
ン、5,7−ジ第三ブチル−3−〔4−(2−ステアロ
イルオキシエトキシ)フェニル〕ベンゾフラン−2−オ
ン、3,3’−ビス〔5,7−ジ第三ブチル−3−(4
−〔2−ヒドロキシエトキシ〕フェニル)ベンゾフラン
−2−オン〕、5,7−ジ第三ブチル−3−(4−エト
キシフェニル)ベンゾフラン−2−オン、3−(4−ア
セトキシ−3,5−ジメチルフェニル)−5,7−ジ第
三ブチルベンゾフラン−2−オン、3−(3,5−ジメ
チル−4−ピバロイルオキシフェニル)−5,7−ジ第
三ブチルベンゾフラン−2−オン。
の例 US−A−4325863号、US−A−433824
4号、US−A−5175312号、US−A−521
6052号、US−A−5252643号、DE−A−
4316611号、DE−A−4316622号、DE
−A−4316876号、EP−A−0589839号
またはEP−A−0591102号に開示された化合
物、または3−〔4−(2−アセトキシエトキシ)フェ
ニル〕−5,7−ジ第三ブチルベンゾフラン−2−オ
ン、5,7−ジ第三ブチル−3−〔4−(2−ステアロ
イルオキシエトキシ)フェニル〕ベンゾフラン−2−オ
ン、3,3’−ビス〔5,7−ジ第三ブチル−3−(4
−〔2−ヒドロキシエトキシ〕フェニル)ベンゾフラン
−2−オン〕、5,7−ジ第三ブチル−3−(4−エト
キシフェニル)ベンゾフラン−2−オン、3−(4−ア
セトキシ−3,5−ジメチルフェニル)−5,7−ジ第
三ブチルベンゾフラン−2−オン、3−(3,5−ジメ
チル−4−ピバロイルオキシフェニル)−5,7−ジ第
三ブチルベンゾフラン−2−オン。
【0129】
【実施例】以下の実施例は本発明をより詳しく説明す
る。なお、以下の実施例において、%はこれまで同様
に、特記しない限り重量%を意味する。また、以下の略
語が実施例において使用される: DMF: ジメチルホルムアミド THF: テトラヒドロフラン GC: ガスクロマトグラフィー HPLC:高圧(高性能)液体クロマトグラフィー GPC: ゲル透過クロマトグラフィー DSC: 示差走査熱量計 TGA: 熱重量分析 AIBN:α,α’−アゾイソブチロニトリル Mn: 数平均分子量(単位g/モル) Mw: 重量平均分子量(単位g/モル)
る。なお、以下の実施例において、%はこれまで同様
に、特記しない限り重量%を意味する。また、以下の略
語が実施例において使用される: DMF: ジメチルホルムアミド THF: テトラヒドロフラン GC: ガスクロマトグラフィー HPLC:高圧(高性能)液体クロマトグラフィー GPC: ゲル透過クロマトグラフィー DSC: 示差走査熱量計 TGA: 熱重量分析 AIBN:α,α’−アゾイソブチロニトリル Mn: 数平均分子量(単位g/モル) Mw: 重量平均分子量(単位g/モル)
【0130】A)モノマーの製造 A1)4−(3−アクリルオキシ−2−ヒドロキシプロ
ポキシ)−1,2,2,6,6−ペンタメチルピペリジ
ン A1a)1,2,2,6,6−ペンタメチル−4−
(2,3−エポキシプロポキシ)ピペリジン 攪拌機、冷却器および500mlの滴下漏斗を取りつけ
た2.5リットルのスルホン化フラスコ中でアルゴン雰
囲気下で水酸化ナトリウム300g(7.5モル)を水
300gに溶解させる。トルエン750ml、テトラブ
チルアンモニウムブロマイド48.4g(0.15モ
ル)および4−ヒドロキシ−1,2,2,6,6−ペン
タメチルピペリジン257g(1.5モル)を添加す
る。エピクロロヒドリン347g(3.75モル)を6
0℃で1.5時間かけて滴下して添加し、そして混合物
を引続き同じ温度でさらに4時間攪拌する。反応溶液を
氷水3リットル中に注ぎ、そして有機相を分離し、硫酸
ナトリウムを用いて乾燥させ、そして蒸発させる。残渣
をビグルーカラム(Vigreux column)により0.05mm
Hgで蒸留し、そして沸点71−72℃の画分を集め
る。 収量:205g(60%),GC:>99% 1H−NMR(CDCl3 ): 1.02および1.16ppm(12H,s):ピペリ
ジン環のCH3 基 1.32−1.4ppmおよび1.83−1.91pp
m(4H,m):ピペリジン環のCH2 基 2.23ppm(3H,s):N−CH3 2.60−2.62ppmおよび2.78−2.82p
pm(2H,m):エポキシ環のCH2 基 3.42−3.47ppmおよび3.71−3.76p
pm(2H,m):O−CH2 基 3.57−3.67ppm(1H,m):ピペリジン環
のCH−O
ポキシ)−1,2,2,6,6−ペンタメチルピペリジ
ン A1a)1,2,2,6,6−ペンタメチル−4−
(2,3−エポキシプロポキシ)ピペリジン 攪拌機、冷却器および500mlの滴下漏斗を取りつけ
た2.5リットルのスルホン化フラスコ中でアルゴン雰
囲気下で水酸化ナトリウム300g(7.5モル)を水
300gに溶解させる。トルエン750ml、テトラブ
チルアンモニウムブロマイド48.4g(0.15モ
ル)および4−ヒドロキシ−1,2,2,6,6−ペン
タメチルピペリジン257g(1.5モル)を添加す
る。エピクロロヒドリン347g(3.75モル)を6
0℃で1.5時間かけて滴下して添加し、そして混合物
を引続き同じ温度でさらに4時間攪拌する。反応溶液を
氷水3リットル中に注ぎ、そして有機相を分離し、硫酸
ナトリウムを用いて乾燥させ、そして蒸発させる。残渣
をビグルーカラム(Vigreux column)により0.05mm
Hgで蒸留し、そして沸点71−72℃の画分を集め
る。 収量:205g(60%),GC:>99% 1H−NMR(CDCl3 ): 1.02および1.16ppm(12H,s):ピペリ
ジン環のCH3 基 1.32−1.4ppmおよび1.83−1.91pp
m(4H,m):ピペリジン環のCH2 基 2.23ppm(3H,s):N−CH3 2.60−2.62ppmおよび2.78−2.82p
pm(2H,m):エポキシ環のCH2 基 3.42−3.47ppmおよび3.71−3.76p
pm(2H,m):O−CH2 基 3.57−3.67ppm(1H,m):ピペリジン環
のCH−O
【0131】A1b)4−(3−アクリルオキシ−2−
ヒドロキシプロポキシ)−1,2,2,6,6−ペンタ
メチルピペリジン マグネチックスターラー、温度計および冷却器を取りつ
けた2.5リットルのスルホン化フラスコ中でキシレン
1.5リットル中の4−(2,3−エポキシプロポキ
シ)−1,2,2,6,6−ペンタメチルピペリジン
(=A1a)375g(1.65モル)を導入する。ア
クリル酸108g(1.5モル)およびエチルトリフェ
ニルホスホニウムブロマイド27.8g(75ミリモ
ル)を添加する。反応体を70℃で18時間反応させ
る。冷却された生成物を氷水中に注ぎ、そして有機相を
分離し、1N水酸化ナトリウム溶液で2回洗浄し、乾燥
および蒸発させる。残渣を短いビグルーカラムにより蒸
留する。表題生成物193g(43%)が沸点119−
125℃(0.06mmHg)の透明液体として得られ
る。 1H−NMR(CDCl3 ): 1.02および1.16ppm(12H,s):CH3
(ピペリジン) 1.33−1.40および1.84−1.89ppm
(4H,m):CH2 (ピペリジン) 2.23ppm(3H,s):N−CH3 2.59ppm(1H,s):OH 3.46−3.63および3.71−3.72および
3.84−3.86および3.98−4.05および
4.18−4.29ppm(6H,m):O−CH2−
C(O)H−CH2 −OおよびCH(ピペリジン) 5.84−5.88および6.12−6.22および
6.42−6.48ppm(3H,m):CO−CH=
CH2
ヒドロキシプロポキシ)−1,2,2,6,6−ペンタ
メチルピペリジン マグネチックスターラー、温度計および冷却器を取りつ
けた2.5リットルのスルホン化フラスコ中でキシレン
1.5リットル中の4−(2,3−エポキシプロポキ
シ)−1,2,2,6,6−ペンタメチルピペリジン
(=A1a)375g(1.65モル)を導入する。ア
クリル酸108g(1.5モル)およびエチルトリフェ
ニルホスホニウムブロマイド27.8g(75ミリモ
ル)を添加する。反応体を70℃で18時間反応させ
る。冷却された生成物を氷水中に注ぎ、そして有機相を
分離し、1N水酸化ナトリウム溶液で2回洗浄し、乾燥
および蒸発させる。残渣を短いビグルーカラムにより蒸
留する。表題生成物193g(43%)が沸点119−
125℃(0.06mmHg)の透明液体として得られ
る。 1H−NMR(CDCl3 ): 1.02および1.16ppm(12H,s):CH3
(ピペリジン) 1.33−1.40および1.84−1.89ppm
(4H,m):CH2 (ピペリジン) 2.23ppm(3H,s):N−CH3 2.59ppm(1H,s):OH 3.46−3.63および3.71−3.72および
3.84−3.86および3.98−4.05および
4.18−4.29ppm(6H,m):O−CH2−
C(O)H−CH2 −OおよびCH(ピペリジン) 5.84−5.88および6.12−6.22および
6.42−6.48ppm(3H,m):CO−CH=
CH2
【0132】A2)4−(3−メタクリルオキシ−2−
ヒドロキシプロポキシ)−1,2,2,6,6−ペンタ
メチルピペリジン マグネチックスターラー、温度計および冷却器を取りつ
けた1.5リットルのスルホン化フラスコ中でキシレン
1リットル中に保護ガス雰囲気下4−(2,3−エポキ
シプロポキシ)−1,2,2,6,6−ペンタメチルピ
ペリジン250g(1.1モル)を溶解する。メタクリ
ル酸86g(1モル)およびエチルトリフェニルホスホ
ニウムブロマイド18.6g(50ミリモル)を添加す
る。混合物を70℃で18時間攪拌し、冷却し、そして
氷水中に注ぎ、そして有機相を分離し、1N水酸化ナト
リウム溶液で2回洗浄し、そして乾燥させる。溶媒をロ
ータバップ(Rotavap) 中で蒸発させ、そして残渣を0.
07mmHgで蒸留すると、128−130℃で沸騰す
る透明液体176.5g(56%)が得られる。 1H−NMR(CDCl3 ): 1.01および1.16ppm(12H,s):CH3
(ピペリジン) 1.32−1.40および1.83−1.88ppm
(4H,m):CH2 (ピペリジン) 1.96ppm(3H,s):CH3 (メタクリレー
ト) 2.23ppm(3H,s):CH3 −N 2.68ppm(1H,s):OH 3.46−4.26ppm(6H,m):O−CH2 −
C(O)H−CH2 およびCH(ピペリジン) 5.59および6.14ppm(2H,s):CH2 =
C
ヒドロキシプロポキシ)−1,2,2,6,6−ペンタ
メチルピペリジン マグネチックスターラー、温度計および冷却器を取りつ
けた1.5リットルのスルホン化フラスコ中でキシレン
1リットル中に保護ガス雰囲気下4−(2,3−エポキ
シプロポキシ)−1,2,2,6,6−ペンタメチルピ
ペリジン250g(1.1モル)を溶解する。メタクリ
ル酸86g(1モル)およびエチルトリフェニルホスホ
ニウムブロマイド18.6g(50ミリモル)を添加す
る。混合物を70℃で18時間攪拌し、冷却し、そして
氷水中に注ぎ、そして有機相を分離し、1N水酸化ナト
リウム溶液で2回洗浄し、そして乾燥させる。溶媒をロ
ータバップ(Rotavap) 中で蒸発させ、そして残渣を0.
07mmHgで蒸留すると、128−130℃で沸騰す
る透明液体176.5g(56%)が得られる。 1H−NMR(CDCl3 ): 1.01および1.16ppm(12H,s):CH3
(ピペリジン) 1.32−1.40および1.83−1.88ppm
(4H,m):CH2 (ピペリジン) 1.96ppm(3H,s):CH3 (メタクリレー
ト) 2.23ppm(3H,s):CH3 −N 2.68ppm(1H,s):OH 3.46−4.26ppm(6H,m):O−CH2 −
C(O)H−CH2 およびCH(ピペリジン) 5.59および6.14ppm(2H,s):CH2 =
C
【0133】A3)4−(3−〔4−ビニルベンゾキ
シ〕−2−ヒドロキシプロポキシ)−1,2,2,6,
6−ペンタメチルピペリジン マグネチックスターラー、冷却器、温度計およびアルゴ
ンバルーンを取りつけた500mlの丸底フラスコ中に
4−ビニル安息香酸32.6g(220ミリモル)、4
−(2,3−エポキシプロポキシ)−1,2,2,6,
6−ペンタメチルピペリジン45.5g(200ミリモ
ル)、エチルトリフェニルホスホニウムブロマイド3.
7g(10ミリモル)およびキシレン200mlを導入
する。混合物を保護ガス雰囲気下で65℃まで加温す
る。透明溶液を65℃に15時間維持し、氷上に注ぐ。
有機相を1N水酸化ナトリウム溶液を用いて0℃で2回
洗浄し、硫酸ナトリウム上で乾燥させ、そして蒸発させ
る。残渣をシリカゲルカラム(THF)で精製し、高真
空中60℃で乾燥させると、透明な粘性の液体52.7
g(70%)が得られる。 1H−NMR(CDCl3 ): 1.01および1.15ppm(12H,s):CH3 1.33−1.43および1.84−1.89ppm
(4H,m):CH2 (ピペリジン) 2.23ppm(3H,s):N−CH3 2.81ppm(1H,s):OH 3.42−4.40ppm(6H,m):O−CH2 −
C(O)H−CH2 およびCH(ピペリジン) 5.36−5.40ppmおよび5.83−5.89p
pm(2H,d):CH2 = 6.70−6.79ppm(2H,q):CH= 7.44−7.47ppmおよび7.99−8.02p
pm(4H,d):芳香族
シ〕−2−ヒドロキシプロポキシ)−1,2,2,6,
6−ペンタメチルピペリジン マグネチックスターラー、冷却器、温度計およびアルゴ
ンバルーンを取りつけた500mlの丸底フラスコ中に
4−ビニル安息香酸32.6g(220ミリモル)、4
−(2,3−エポキシプロポキシ)−1,2,2,6,
6−ペンタメチルピペリジン45.5g(200ミリモ
ル)、エチルトリフェニルホスホニウムブロマイド3.
7g(10ミリモル)およびキシレン200mlを導入
する。混合物を保護ガス雰囲気下で65℃まで加温す
る。透明溶液を65℃に15時間維持し、氷上に注ぐ。
有機相を1N水酸化ナトリウム溶液を用いて0℃で2回
洗浄し、硫酸ナトリウム上で乾燥させ、そして蒸発させ
る。残渣をシリカゲルカラム(THF)で精製し、高真
空中60℃で乾燥させると、透明な粘性の液体52.7
g(70%)が得られる。 1H−NMR(CDCl3 ): 1.01および1.15ppm(12H,s):CH3 1.33−1.43および1.84−1.89ppm
(4H,m):CH2 (ピペリジン) 2.23ppm(3H,s):N−CH3 2.81ppm(1H,s):OH 3.42−4.40ppm(6H,m):O−CH2 −
C(O)H−CH2 およびCH(ピペリジン) 5.36−5.40ppmおよび5.83−5.89p
pm(2H,d):CH2 = 6.70−6.79ppm(2H,q):CH= 7.44−7.47ppmおよび7.99−8.02p
pm(4H,d):芳香族
【0134】A4)1−(3−〔4−ビニルベンゾキ
シ〕−2−ヒドロキシプロポキシ)−4−ベンゾキシ−
2,2,6,6−テトラメチルピペリジン マグネチックスターラー、温度計、冷却器およびアルゴ
ンバルーンを取りつけた500mlの丸底フラスコ中に
1−(2,3−エポキシプロピル)−4−ベンゾキシ−
2,2,6,6−テトラメチルピペリジン53g(17
5ミリモル)、4−ビニル安息香酸28.5g(192
ミリモル)、エチルトリフェニルホスホニウムブロマイ
ド3.2g(8.7ミリモル)およびキシレン200m
lを導入する。混合物を65℃で15時間攪拌し、次い
で氷上に注ぐ。上記実施例と同様の仕上げおよびカラム
クロマトグラフィー(シリカゲル;ヘキサン/酢酸エチ
ル=3/1)により、無色の粘性の液体が得られる。 収量:55.1g(70%) 1H−NMR(CDCl3 ): 0.99および1.21ppm(12H,s):CH3 1.50ppmおよび1.96ppm(4H,m):C
H2 (ピペリジン)2.52−2.60ppmおよび
2.72−2.86ppm(2H,m):N−CH3 3.72−3.81ppm(2H,m):=CH−OH 4.17−4.23ppm(1H,m):CH(ピペリ
ジン) 4.35−4.40ppm(2H,s):CH2 −O−
芳香族 5.35−5.39ppmおよび5.83−5.88p
pm(2H,d):CH2 = 6.69−6.79ppm(1H,q):CH= 7.25−7.35ppm(5H,m):ベンジル芳香
族 7.43−7.46ppmおよび8.01−8.04p
pm(4H,d):安息香酸芳香族
シ〕−2−ヒドロキシプロポキシ)−4−ベンゾキシ−
2,2,6,6−テトラメチルピペリジン マグネチックスターラー、温度計、冷却器およびアルゴ
ンバルーンを取りつけた500mlの丸底フラスコ中に
1−(2,3−エポキシプロピル)−4−ベンゾキシ−
2,2,6,6−テトラメチルピペリジン53g(17
5ミリモル)、4−ビニル安息香酸28.5g(192
ミリモル)、エチルトリフェニルホスホニウムブロマイ
ド3.2g(8.7ミリモル)およびキシレン200m
lを導入する。混合物を65℃で15時間攪拌し、次い
で氷上に注ぐ。上記実施例と同様の仕上げおよびカラム
クロマトグラフィー(シリカゲル;ヘキサン/酢酸エチ
ル=3/1)により、無色の粘性の液体が得られる。 収量:55.1g(70%) 1H−NMR(CDCl3 ): 0.99および1.21ppm(12H,s):CH3 1.50ppmおよび1.96ppm(4H,m):C
H2 (ピペリジン)2.52−2.60ppmおよび
2.72−2.86ppm(2H,m):N−CH3 3.72−3.81ppm(2H,m):=CH−OH 4.17−4.23ppm(1H,m):CH(ピペリ
ジン) 4.35−4.40ppm(2H,s):CH2 −O−
芳香族 5.35−5.39ppmおよび5.83−5.88p
pm(2H,d):CH2 = 6.69−6.79ppm(1H,q):CH= 7.25−7.35ppm(5H,m):ベンジル芳香
族 7.43−7.46ppmおよび8.01−8.04p
pm(4H,d):安息香酸芳香族
【0135】A5)1−(3−アクリルオキシ−2−ヒ
ドロキシプロピル)−4−ベンゾキシ−2,2,6,6
−テトラメチルピペリジン 1−(2,3−エポキシプロピル)−4−ベンゾキシ−
2,2,6,6−テトラメチルピペリジン50g(16
5ミリモル)、アクリル酸13.1g(181ミリモ
ル)およびエチルトリフェニルホスホニウムブロマイド
3.06g(8.3ミリモル)をA4)と同様にキシレ
ン200ml中で反応させる。反応生成物を0℃にて水
酸化ナトリウム溶液で洗浄し、そして仕上げを行うと、
透明な粘性の液体39g(63%)が得られる。 1H−NMR(CDCl3 ): 1.00−1.29ppm(12H,m):CH3 1.49ppmおよび1.97ppm(4H,m):C
H2 (ピペリジン) 2.46−2.54ppmおよび2.67−2.76p
pm(2H,m):N−CH2 3.70−3.79ppm(2H,m):>CH−OH 4.00−4.06ppm(1H,m):CH(ピペリ
ジン) 4.22−4.46ppm(2H,m):COO−CH
2 − 4.56ppm(2H,s):O−CH2 −芳香族 5.82−5.85ppmおよび6.12−6.21p
pmおよび6.42−6.48ppm(3H,m):ア
クリリル基 7.26−7.35ppm(5H,m):芳香族
ドロキシプロピル)−4−ベンゾキシ−2,2,6,6
−テトラメチルピペリジン 1−(2,3−エポキシプロピル)−4−ベンゾキシ−
2,2,6,6−テトラメチルピペリジン50g(16
5ミリモル)、アクリル酸13.1g(181ミリモ
ル)およびエチルトリフェニルホスホニウムブロマイド
3.06g(8.3ミリモル)をA4)と同様にキシレ
ン200ml中で反応させる。反応生成物を0℃にて水
酸化ナトリウム溶液で洗浄し、そして仕上げを行うと、
透明な粘性の液体39g(63%)が得られる。 1H−NMR(CDCl3 ): 1.00−1.29ppm(12H,m):CH3 1.49ppmおよび1.97ppm(4H,m):C
H2 (ピペリジン) 2.46−2.54ppmおよび2.67−2.76p
pm(2H,m):N−CH2 3.70−3.79ppm(2H,m):>CH−OH 4.00−4.06ppm(1H,m):CH(ピペリ
ジン) 4.22−4.46ppm(2H,m):COO−CH
2 − 4.56ppm(2H,s):O−CH2 −芳香族 5.82−5.85ppmおよび6.12−6.21p
pmおよび6.42−6.48ppm(3H,m):ア
クリリル基 7.26−7.35ppm(5H,m):芳香族
【0136】A6)1−(3−メタクリルオキシ−2−
ヒドロキシプロピル)−4−ベンゾキシ−2,2,6,
6−テトラメチルピペリジン 製造がA5)と同様に行われ、透明な粘性の液体54g
(84%)が得られる。 1H−NMR(CDCl3 ): 1.00−1.21ppm(12H,m):CH3 (ピ
ペリジン) 1.48ppm(2H,m):CH2 (ピペリジン) 1.94−1.96ppm(5H,m):CH2 (ピペ
リジン),CH3 (メタクリレート) 2.47−2.55ppmおよび2.67−2.74p
pm(2H,m):N−CH2 − 3.71−3.79ppm(2H,m):>CH−OH 4.00−4.06ppm(1H,m):CH(ピペリ
ジン) 4.18−4.28ppm(2H,m):−COO−C
H2 − 4.55ppm(2H,s):O−CH2 −芳香族 5.58ppmおよび6.15ppm(2H,s):C
H2 =C 7.26−7.34ppm(5H,m):芳香族
ヒドロキシプロピル)−4−ベンゾキシ−2,2,6,
6−テトラメチルピペリジン 製造がA5)と同様に行われ、透明な粘性の液体54g
(84%)が得られる。 1H−NMR(CDCl3 ): 1.00−1.21ppm(12H,m):CH3 (ピ
ペリジン) 1.48ppm(2H,m):CH2 (ピペリジン) 1.94−1.96ppm(5H,m):CH2 (ピペ
リジン),CH3 (メタクリレート) 2.47−2.55ppmおよび2.67−2.74p
pm(2H,m):N−CH2 − 3.71−3.79ppm(2H,m):>CH−OH 4.00−4.06ppm(1H,m):CH(ピペリ
ジン) 4.18−4.28ppm(2H,m):−COO−C
H2 − 4.55ppm(2H,s):O−CH2 −芳香族 5.58ppmおよび6.15ppm(2H,s):C
H2 =C 7.26−7.34ppm(5H,m):芳香族
【0137】A7)1−(3−〔4−ビニルフェノキ
シ〕−2−ヒドロキシプロピル)−4−ベンゾキシ−
2,2,6,6−テトラメチルピペリジン マグネチックスターラー、冷却器およびアルゴンバルー
ンを取りつけた500mlのスルホン化フラスコ中に4
−ヒドロキシスチレン43.3g(360ミリモル)、
1−(2,3−エポキシプロピル)−4−ベンゾキシ−
2,2,6,6−テトラメチルピペリジン91g(30
0ミリモル)、エチルトリフェニルホスホニウムブロマ
イド5.6g(15ミリモル)、ジ第三ブチルクレゾー
ル1.3g(6ミリモル)およびジオキサン250ml
を導入する。反応混合物を攪拌しながら還流温度に14
時間保持し、引続き氷/酢酸エチル中に注ぎ、そして有
機相を0℃にて1N NaOHで2回洗浄し、乾燥さ
せ、そして蒸発させる。固体をn−ヘキサンから再結晶
させると、86℃で融解する無色物質100g(78
%)が得られる。 1H−NMR(CDCl3 ): 0.96−1.18ppm(12H,s):CH3 1.38−1.50ppmおよび1.95−2.02p
pm(4H,m):CH2 (ピペリジン) 2.62−2.85ppm(2H,m):N−CH2 − 3.73−4.02ppm(3H,m):O−CH2 −
CH 4.35ppm(1H,s):OH 4.57ppm(2H,s):O−CH2 Ar 5.10−5.14ppmおよび5.57−5.63p
pm(2H,d):CH2 = 6.61−6.70ppm(1H,q):CH= 6.87−6.90ppmおよび7.25−7.35p
pm(9H,d,m):H−芳香族
シ〕−2−ヒドロキシプロピル)−4−ベンゾキシ−
2,2,6,6−テトラメチルピペリジン マグネチックスターラー、冷却器およびアルゴンバルー
ンを取りつけた500mlのスルホン化フラスコ中に4
−ヒドロキシスチレン43.3g(360ミリモル)、
1−(2,3−エポキシプロピル)−4−ベンゾキシ−
2,2,6,6−テトラメチルピペリジン91g(30
0ミリモル)、エチルトリフェニルホスホニウムブロマ
イド5.6g(15ミリモル)、ジ第三ブチルクレゾー
ル1.3g(6ミリモル)およびジオキサン250ml
を導入する。反応混合物を攪拌しながら還流温度に14
時間保持し、引続き氷/酢酸エチル中に注ぎ、そして有
機相を0℃にて1N NaOHで2回洗浄し、乾燥さ
せ、そして蒸発させる。固体をn−ヘキサンから再結晶
させると、86℃で融解する無色物質100g(78
%)が得られる。 1H−NMR(CDCl3 ): 0.96−1.18ppm(12H,s):CH3 1.38−1.50ppmおよび1.95−2.02p
pm(4H,m):CH2 (ピペリジン) 2.62−2.85ppm(2H,m):N−CH2 − 3.73−4.02ppm(3H,m):O−CH2 −
CH 4.35ppm(1H,s):OH 4.57ppm(2H,s):O−CH2 Ar 5.10−5.14ppmおよび5.57−5.63p
pm(2H,d):CH2 = 6.61−6.70ppm(1H,q):CH= 6.87−6.90ppmおよび7.25−7.35p
pm(9H,d,m):H−芳香族
【0138】A8)4−(3−〔4−ビニルフェノキ
シ〕−2−ヒドロキシプロポキシ−1,2,2,6,6
−ペンタメチルピペリジン 実施例A7と同様の方法で、4−ビニルフェノール2
8.8g(240ミリモル)を4−(2,3−エポキシ
プロポキシ)−1,2,2,6,6−ペンタメチルピペ
リジン45.5g(200ミリモル)と反応させる。 収量:66g(95%) 1H−NMR(CDCl3 ): 1.01および1.15ppm(12H,s):CH3
(ピペリジン) 1.32−1.41ppmおよび1.84−1.89p
pm(4H,m):CH2 (ピペリジン) 2.23ppm(3H,s):N−CH3 2.72ppm(1H,s):OH 3.54−3.69ppm(3H,m):Pip−O−
CH2 −CH− 3.98−4.03ppm(2H,d):ar−O−C
H2 − 4.06−4.12ppm(1H,m):>CH−O 5.11−5.14ppmおよび5.58−5.64p
pm(2H,d):CH2 = 6.60−6.70ppm(1H,q):CH= 6.86−6.89ppmおよび7.32−7.35p
pm(4H,d):H−芳香族
シ〕−2−ヒドロキシプロポキシ−1,2,2,6,6
−ペンタメチルピペリジン 実施例A7と同様の方法で、4−ビニルフェノール2
8.8g(240ミリモル)を4−(2,3−エポキシ
プロポキシ)−1,2,2,6,6−ペンタメチルピペ
リジン45.5g(200ミリモル)と反応させる。 収量:66g(95%) 1H−NMR(CDCl3 ): 1.01および1.15ppm(12H,s):CH3
(ピペリジン) 1.32−1.41ppmおよび1.84−1.89p
pm(4H,m):CH2 (ピペリジン) 2.23ppm(3H,s):N−CH3 2.72ppm(1H,s):OH 3.54−3.69ppm(3H,m):Pip−O−
CH2 −CH− 3.98−4.03ppm(2H,d):ar−O−C
H2 − 4.06−4.12ppm(1H,m):>CH−O 5.11−5.14ppmおよび5.58−5.64p
pm(2H,d):CH2 = 6.60−6.70ppm(1H,q):CH= 6.86−6.89ppmおよび7.32−7.35p
pm(4H,d):H−芳香族
【0139】実施例A9−A14 下の表2および3に示されるモノマーは、相当するエポ
キシドを相当する酸と反応させることによりA1に記載
の方法により製造される:
キシドを相当する酸と反応させることによりA1に記載
の方法により製造される:
【表2】
【表3】
【0140】A15)4−(3−〔4−ビニルフェノキ
シ〕−2−ヒドロキシプロポキシ)−1−シクロヘキシ
ルオキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン 実施例A8と同様にして、4−ビニルフェノールを4−
(2,3−エポキシプロポキシ)−1−シクロヘキシル
オキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジンと反
応させると表題の化合物が得られる。
シ〕−2−ヒドロキシプロポキシ)−1−シクロヘキシ
ルオキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン 実施例A8と同様にして、4−ビニルフェノールを4−
(2,3−エポキシプロポキシ)−1−シクロヘキシル
オキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジンと反
応させると表題の化合物が得られる。
【0141】A16)4−(3−〔4−ビニルフェノキ
シ〕−2−ヒドロキシプロポキシ)−1−オクチルオキ
シ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン 実施例A8と同様にして、4−ビニルフェノールを4−
(2,3−エポキシプロポキシ)−1−オクチルオキシ
−2,2,6,6−テトラメチルピペリジンと反応させ
ると表題の化合物が得られる。
シ〕−2−ヒドロキシプロポキシ)−1−オクチルオキ
シ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン 実施例A8と同様にして、4−ビニルフェノールを4−
(2,3−エポキシプロポキシ)−1−オクチルオキシ
−2,2,6,6−テトラメチルピペリジンと反応させ
ると表題の化合物が得られる。
【0142】B)ポリマーの製造 B1)ポリ〔4−3−アリールオキシ〕−2−ヒドロキ
シプロピル)−1,2,2,6,6−ペンタメチルピペ
リジン〕 マグネチックスターラーおよびアルゴンバルーンを取り
つけた500mlの丸底フラスコ中にモノマーA1 6
0g(0.2モル)、AIBN657mg(4ミリモ
ル)およびトルエン300mlを導入する。真空/アル
ゴンにより混合物から酸素を排除する。混合物をアルゴ
ン雰囲気中70℃で15時間重合化させる。粘性の溶液
をn−ヘキサン中に導入し、そして半固体物質を沈澱さ
せ、該沈澱をトルエンに再び溶解させ、そしてn−ヘキ
サン中に沈澱させる。高真空下で乾燥させると、ポリマ
ー35.7g(60%)が得られる。 TGA(N2 ,10℃/分):320°で5%重量損失1 H−NMR(CDCl3 ):アクリレート二重結合が
ないことを示す GPC(DMF,85℃):Mn: 50000 Mw:165000
シプロピル)−1,2,2,6,6−ペンタメチルピペ
リジン〕 マグネチックスターラーおよびアルゴンバルーンを取り
つけた500mlの丸底フラスコ中にモノマーA1 6
0g(0.2モル)、AIBN657mg(4ミリモ
ル)およびトルエン300mlを導入する。真空/アル
ゴンにより混合物から酸素を排除する。混合物をアルゴ
ン雰囲気中70℃で15時間重合化させる。粘性の溶液
をn−ヘキサン中に導入し、そして半固体物質を沈澱さ
せ、該沈澱をトルエンに再び溶解させ、そしてn−ヘキ
サン中に沈澱させる。高真空下で乾燥させると、ポリマ
ー35.7g(60%)が得られる。 TGA(N2 ,10℃/分):320°で5%重量損失1 H−NMR(CDCl3 ):アクリレート二重結合が
ないことを示す GPC(DMF,85℃):Mn: 50000 Mw:165000
【0143】B1a)モノマーA1 0.37モル、A
IBN3.7ミリモルおよび追加の連鎖移動触媒として
ブチルメルカプタン74ミリモルが使用される以外は、
B1に記載されたように、別の重合化が行われる。B1
の場合と同様に、分子量(GPC;DMF,85℃)M
n:6800およびMw:8100を有するポリマーが
得られる。
IBN3.7ミリモルおよび追加の連鎖移動触媒として
ブチルメルカプタン74ミリモルが使用される以外は、
B1に記載されたように、別の重合化が行われる。B1
の場合と同様に、分子量(GPC;DMF,85℃)M
n:6800およびMw:8100を有するポリマーが
得られる。
【0144】B1b)モノマーA1 60g(0.2モ
ル)、AIBN328mg(2ミリモル)および追加の
連鎖移動触媒としてブチルメルカプタン20ミリモルが
使用される以外は、B1に記載されたように、別の重合
化が行われる。B1の場合と同様に、分子量(GPC;
DMF,85℃)Mn:12000およびMw:150
00を有するポリマーが得られる。
ル)、AIBN328mg(2ミリモル)および追加の
連鎖移動触媒としてブチルメルカプタン20ミリモルが
使用される以外は、B1に記載されたように、別の重合
化が行われる。B1の場合と同様に、分子量(GPC;
DMF,85℃)Mn:12000およびMw:150
00を有するポリマーが得られる。
【0145】B1c)モノマーA1 60g(0.2モ
ル)、AIBN328mg(2ミリモル)および追加の
連鎖移動触媒としてブチルメルカプタン4ミリモルが使
用される以外は、B1に記載されたように、別の重合化
が行われる。B1の場合と同様に、分子量(GPC;D
MF,85℃)Mn:25000およびMw:4400
0を有するポリマーが得られる。
ル)、AIBN328mg(2ミリモル)および追加の
連鎖移動触媒としてブチルメルカプタン4ミリモルが使
用される以外は、B1に記載されたように、別の重合化
が行われる。B1の場合と同様に、分子量(GPC;D
MF,85℃)Mn:25000およびMw:4400
0を有するポリマーが得られる。
【0146】B2)ポリ〔4−(3−メタクリルオキ
シ〕−2−ヒドロキシプロピル)−1,2,2,6,6
−ペンタメチルピペリジン〕 実施例B2a THF中への溶解およびn−ヘキサン中での再沈澱によ
り再沈澱が行われる以外は、B1の記載と同様にして、
モノマーA2 60g(0.2モル)をトルエン300
ml中のAIBN624mgと重合させる。ポリマー微
粉末53.2g(89%)が得られる。 1H−NMR(CDCl3 ):二重結合が観測されない TGA(N2 ,10℃/分):320°で5%重量損失 GPC(DMF,85℃):Mn: 54000 Mw:158000
シ〕−2−ヒドロキシプロピル)−1,2,2,6,6
−ペンタメチルピペリジン〕 実施例B2a THF中への溶解およびn−ヘキサン中での再沈澱によ
り再沈澱が行われる以外は、B1の記載と同様にして、
モノマーA2 60g(0.2モル)をトルエン300
ml中のAIBN624mgと重合させる。ポリマー微
粉末53.2g(89%)が得られる。 1H−NMR(CDCl3 ):二重結合が観測されない TGA(N2 ,10℃/分):320°で5%重量損失 GPC(DMF,85℃):Mn: 54000 Mw:158000
【0147】実施例B2b 上記方法(B2a)を繰り返し、そしてトルエン中への
溶解とn−ヘキサン中での再沈澱により実施例B1に記
載されたように再沈澱を行うと、分子量(GPC;DM
F,85℃)Mn:93000およびMw:47000
0を有するポリマーが得られる。
溶解とn−ヘキサン中での再沈澱により実施例B1に記
載されたように再沈澱を行うと、分子量(GPC;DM
F,85℃)Mn:93000およびMw:47000
0を有するポリマーが得られる。
【0148】B2c)モノマーA2 60g(0.2モ
ル)、AIBN328mg(2ミリモル)および追加の
連鎖移動触媒としてブチルメルカプタン40ミリモルが
使用される以外は、B2aに記載されたようにその他の
重合が行われる。B2aと同様に、分子量(GPC;D
MF,85℃)Mn:7800およびMw:9200を
有するポリマーが得られる。
ル)、AIBN328mg(2ミリモル)および追加の
連鎖移動触媒としてブチルメルカプタン40ミリモルが
使用される以外は、B2aに記載されたようにその他の
重合が行われる。B2aと同様に、分子量(GPC;D
MF,85℃)Mn:7800およびMw:9200を
有するポリマーが得られる。
【0149】B2d)モノマーA2 60g(0.2モ
ル)、AIBN328mg(2ミリモル)および追加の
連鎖移動触媒としてブチルメルカプタン20ミリモルが
使用される以外は、B2aに記載されたようにその他の
重合が行われる。B2aと同様に、分子量(GPC;D
MF,85℃)Mn:12000およびMw:1500
0を有するポリマーが得られる。
ル)、AIBN328mg(2ミリモル)および追加の
連鎖移動触媒としてブチルメルカプタン20ミリモルが
使用される以外は、B2aに記載されたようにその他の
重合が行われる。B2aと同様に、分子量(GPC;D
MF,85℃)Mn:12000およびMw:1500
0を有するポリマーが得られる。
【0150】B2e)モノマーA2 60g(0.2モ
ル)、AIBN1.6g(10ミリモル)および追加の
連鎖移動触媒としてブチルメルカプタン10ミリモルが
使用される以外は、B2aに記載されたようにその他の
重合が行われる。B2aと同様に、分子量(GPC;D
MF,85℃)Mn:15000およびMw:2100
0を有するポリマーが得られる。
ル)、AIBN1.6g(10ミリモル)および追加の
連鎖移動触媒としてブチルメルカプタン10ミリモルが
使用される以外は、B2aに記載されたようにその他の
重合が行われる。B2aと同様に、分子量(GPC;D
MF,85℃)Mn:15000およびMw:2100
0を有するポリマーが得られる。
【0151】B2f)モノマーA2 60g(0.2モ
ル)、AIBN328mg(2ミリモル)および追加の
連鎖移動触媒としてブチルメルカプタン10ミリモルが
使用される以外は、B2aに記載されたようにその他の
重合が行われる。B2aと同様に、分子量(GPC;D
MF,85℃)Mn:17000およびMw:2400
0を有するポリマーが得られる。
ル)、AIBN328mg(2ミリモル)および追加の
連鎖移動触媒としてブチルメルカプタン10ミリモルが
使用される以外は、B2aに記載されたようにその他の
重合が行われる。B2aと同様に、分子量(GPC;D
MF,85℃)Mn:17000およびMw:2400
0を有するポリマーが得られる。
【0152】B2g)モノマーA2 60g(0.2モ
ル)、AIBN328mg(2ミリモル)および追加の
連鎖移動触媒としてブチルメルカプタン4ミリモルが使
用される以外は、B2aに記載されたようにその他の重
合が行われる。B2aと同様に、分子量(GPC;DM
F,85℃)Mn:25000およびMw:42000
を有するポリマーが得られる。
ル)、AIBN328mg(2ミリモル)および追加の
連鎖移動触媒としてブチルメルカプタン4ミリモルが使
用される以外は、B2aに記載されたようにその他の重
合が行われる。B2aと同様に、分子量(GPC;DM
F,85℃)Mn:25000およびMw:42000
を有するポリマーが得られる。
【0153】B3)ポリ{4−〔3−(4−ビニルベン
ゾキシ)−2−ヒドロキシプロポキシ〕−1,2,2,
6,6−ペンタメチルピペリジン} B1に記載されたようにしてモノマーA3 40g(1
07ミリモル)をトルエン120g中のAIBN525
mgと重合させると、白色のポリマー28.8g(72
%)が得られる。 1H−NMR(CDCl3 ):二重結合が観測されない TGA(N2 ,10℃/分):360℃で10%重量損
失 GPC(DMF):Mn: 53000 Mw:123000
ゾキシ)−2−ヒドロキシプロポキシ〕−1,2,2,
6,6−ペンタメチルピペリジン} B1に記載されたようにしてモノマーA3 40g(1
07ミリモル)をトルエン120g中のAIBN525
mgと重合させると、白色のポリマー28.8g(72
%)が得られる。 1H−NMR(CDCl3 ):二重結合が観測されない TGA(N2 ,10℃/分):360℃で10%重量損
失 GPC(DMF):Mn: 53000 Mw:123000
【0154】B3a)モノマーA3 40g(107ミ
リモル)、AIBN526mg(約3ミリモル)および
追加の連鎖移動触媒としてブチルメルカプタン5ミリモ
ルが使用される以外は、B3に記載されたようにその他
の重合が行われる。B3と同様に、分子量(GPC;D
MF,85℃)Mn:14000およびMw:1700
0を有するポリマーが得られる。
リモル)、AIBN526mg(約3ミリモル)および
追加の連鎖移動触媒としてブチルメルカプタン5ミリモ
ルが使用される以外は、B3に記載されたようにその他
の重合が行われる。B3と同様に、分子量(GPC;D
MF,85℃)Mn:14000およびMw:1700
0を有するポリマーが得られる。
【0155】B3b)モノマーA3 40g(107ミ
リモル)、AIBN526mg(約3ミリモル)および
追加の連鎖移動触媒としてブチルメルカプタン10ミリ
モルが使用される以外は、B3に記載されたようにその
他の重合が行われる。B3と同様に、分子量(GPC;
DMF,85℃)Mn:11000およびMw:120
00を有するポリマーが得られる。この重合がAIBN
1.05g(約6ミリモル)を用いて繰り返されると、
分子量(GPC;DMF,85℃)Mn:11000お
よびMw:12000を有するポリマーが得られる。
リモル)、AIBN526mg(約3ミリモル)および
追加の連鎖移動触媒としてブチルメルカプタン10ミリ
モルが使用される以外は、B3に記載されたようにその
他の重合が行われる。B3と同様に、分子量(GPC;
DMF,85℃)Mn:11000およびMw:120
00を有するポリマーが得られる。この重合がAIBN
1.05g(約6ミリモル)を用いて繰り返されると、
分子量(GPC;DMF,85℃)Mn:11000お
よびMw:12000を有するポリマーが得られる。
【0156】B4)ポリ{1−〔3−(ビニルベンゾキ
シ)−2−ヒドロキシプロピル〕−4−ベンゾキシ−
2,2,6,6−テトラメチルピペリジン}B1に記載
されたようにしてモノマーA4 51g(113ミリモ
ル)をトルエン153ml中のAIBN557mg
(3.4ミリモル)と重合させる。2回の再沈澱を行う
と、白色のポリマー粉末45.6g(89%)が得られ
る。 TGA(N2 ,10℃/分):320°で10%重量損
失 GPC(DMF):Mn: 52000 Mw:114000
シ)−2−ヒドロキシプロピル〕−4−ベンゾキシ−
2,2,6,6−テトラメチルピペリジン}B1に記載
されたようにしてモノマーA4 51g(113ミリモ
ル)をトルエン153ml中のAIBN557mg
(3.4ミリモル)と重合させる。2回の再沈澱を行う
と、白色のポリマー粉末45.6g(89%)が得られ
る。 TGA(N2 ,10℃/分):320°で10%重量損
失 GPC(DMF):Mn: 52000 Mw:114000
【0157】B5)ポリ〔1−(3−アクリルオキシ−
2−ヒドロキシプロピル〕−4−ベンゾキシ−2,2,
6,6−テトラメチルピペリジン〕実施例A5に記載の
方法で製造された化合物37g(98.5ミリモル)を
B1に記載されたようにしてトルエン111ml中のA
IBN485mg(3ミリモル)と70℃で重合させ
る。THF/n−ヘキサン中での2回の再沈澱を行う
と、白色のポリマー粉末30.1g(81%)が得られ
る。 TGA(N2 ,10℃/分):320℃で10%重量損
失 DSC(N2 ,10℃/分):融点(337℃) GPC(THF):Mn:31000 Mw:63000
2−ヒドロキシプロピル〕−4−ベンゾキシ−2,2,
6,6−テトラメチルピペリジン〕実施例A5に記載の
方法で製造された化合物37g(98.5ミリモル)を
B1に記載されたようにしてトルエン111ml中のA
IBN485mg(3ミリモル)と70℃で重合させ
る。THF/n−ヘキサン中での2回の再沈澱を行う
と、白色のポリマー粉末30.1g(81%)が得られ
る。 TGA(N2 ,10℃/分):320℃で10%重量損
失 DSC(N2 ,10℃/分):融点(337℃) GPC(THF):Mn:31000 Mw:63000
【0158】B6)ポリ〔1−(3−メタクリルオキシ
−2−ヒドロキシプロピル)−4−ベンゾキシ−2,
2,6,6−テトラメチルピペリジン〕実施例A6に記
載の方法で製造された化合物50g(128ミリモル)
をB1に記載されたようにしてトルエン150ml中の
AIBN632mg(3.9ミリモル)と70℃で重合
させる。 収量:白色のポリマー粉末41.4g(82%) TGA(N2 ,10℃/分):330℃で10%重量損
失 DSC(N2 ,10℃/分):337℃ GPC(THF):Mn: 59000 Mw:180000
−2−ヒドロキシプロピル)−4−ベンゾキシ−2,
2,6,6−テトラメチルピペリジン〕実施例A6に記
載の方法で製造された化合物50g(128ミリモル)
をB1に記載されたようにしてトルエン150ml中の
AIBN632mg(3.9ミリモル)と70℃で重合
させる。 収量:白色のポリマー粉末41.4g(82%) TGA(N2 ,10℃/分):330℃で10%重量損
失 DSC(N2 ,10℃/分):337℃ GPC(THF):Mn: 59000 Mw:180000
【0159】B7)ポリ{1−(3−〔4−ビニルフェ
ノキシ〕−2−ヒドロキシプロピル)−4−ベンゾキシ
−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン} マグネチックスターラーおよびアルゴンバルーンを取り
つけた250mlの丸底フラスコ中に実施例A7からの
モノマー73g(172ミリモル)、AIBN848m
g(5.2ミリモル)およびトルエン146mlを導入
する。溶液から酸素を排除し、そしてアルゴン雰囲気中
70℃で20時間攪拌する。ポリマーをn−ヘキサン中
に沈澱させ、単離し、そしてTHF中に溶解させ、n−
ヘキサン中に再び溶解させ、そして60℃/0.01m
mHgで乾燥させると、白色ポリマー29g(40%)
が得られる。 GPC(DMF)Mn:29000 Mw:42000 TGA(N2 ,10℃/分):320℃で5%重量損失
ノキシ〕−2−ヒドロキシプロピル)−4−ベンゾキシ
−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン} マグネチックスターラーおよびアルゴンバルーンを取り
つけた250mlの丸底フラスコ中に実施例A7からの
モノマー73g(172ミリモル)、AIBN848m
g(5.2ミリモル)およびトルエン146mlを導入
する。溶液から酸素を排除し、そしてアルゴン雰囲気中
70℃で20時間攪拌する。ポリマーをn−ヘキサン中
に沈澱させ、単離し、そしてTHF中に溶解させ、n−
ヘキサン中に再び溶解させ、そして60℃/0.01m
mHgで乾燥させると、白色ポリマー29g(40%)
が得られる。 GPC(DMF)Mn:29000 Mw:42000 TGA(N2 ,10℃/分):320℃で5%重量損失
【0160】B8)ポリ{4−(3−〔4−ビニルフェ
ノキシ〕−2−ヒドロキシプロポキシ)−1,2,2,
6,6−ペンタメチルピペリジン} 実施例A8からのモノマー35g(101ミリモル)お
よびAIBN496mg(3ミリモル)をトルエン10
5ml中に溶解させ、そして酸素を溶液から除去する。
混合物をアルゴン雰囲気中70℃で16時間攪拌する。
次にポリマーをn−ヘキサン中に沈澱させ、THF中に
溶解させ、そしてn−ヘキサン中に再び溶解させる。白
色ポリマー粉末を60℃/0.008mmHgで乾燥さ
せる。 収量:17.4g(50%) GPC(DMF)Mw:33000 Mn:23000 TGA(N2 ,10℃/分):380℃で5%重量損失
ノキシ〕−2−ヒドロキシプロポキシ)−1,2,2,
6,6−ペンタメチルピペリジン} 実施例A8からのモノマー35g(101ミリモル)お
よびAIBN496mg(3ミリモル)をトルエン10
5ml中に溶解させ、そして酸素を溶液から除去する。
混合物をアルゴン雰囲気中70℃で16時間攪拌する。
次にポリマーをn−ヘキサン中に沈澱させ、THF中に
溶解させ、そしてn−ヘキサン中に再び溶解させる。白
色ポリマー粉末を60℃/0.008mmHgで乾燥さ
せる。 収量:17.4g(50%) GPC(DMF)Mw:33000 Mn:23000 TGA(N2 ,10℃/分):380℃で5%重量損失
【0161】C)使用実施例 実施例C1:ポリプロピレン繊維の光安定化 本発明に係る安定剤2.5gをトリス(2,4−ジ第三
ブチルフェニル)ホスフィット1g、カルシウムモノエ
チル3,5−ジ第三ブチル−4−ヒドロキシベンジルホ
スホネート1g、ステアリン酸カルシウム1gおよびT
iO2 〔クロノスRN57(Kronos RN 57)〕2.5gと
一緒にポリプロピレン粉末(メルトフローインデックス
12g/10分,230℃/2.16kgで測定)10
00gとターボミキサー中で混合する。混合物を200
−230℃で押出し粒体を得る。これらを引続き、以下
の条件下でパイロットプラント〔レオナード;スミラゴ
/VA,イタリア(Leonard; Sumirago/VA, Italy) 〕を
用いて繊維に変換する: 押出温度: 200−230℃ ダイヘッド温度:255−260℃ 延伸比: 1:3.5 延伸温度: 100℃ 繊維 10den(デニール)
ブチルフェニル)ホスフィット1g、カルシウムモノエ
チル3,5−ジ第三ブチル−4−ヒドロキシベンジルホ
スホネート1g、ステアリン酸カルシウム1gおよびT
iO2 〔クロノスRN57(Kronos RN 57)〕2.5gと
一緒にポリプロピレン粉末(メルトフローインデックス
12g/10分,230℃/2.16kgで測定)10
00gとターボミキサー中で混合する。混合物を200
−230℃で押出し粒体を得る。これらを引続き、以下
の条件下でパイロットプラント〔レオナード;スミラゴ
/VA,イタリア(Leonard; Sumirago/VA, Italy) 〕を
用いて繊維に変換する: 押出温度: 200−230℃ ダイヘッド温度:255−260℃ 延伸比: 1:3.5 延伸温度: 100℃ 繊維 10den(デニール)
【0162】このようにして製造された繊維を、AST
M D2565−85に準拠して63℃のブラックパネ
ル温度でウエザロメーター・タイプ65WR〔登録商標
Weather-O-Meter type 65WR,アトラス・コーポレーシ
ョン(Atlas Corp.) 〕において白色背景に対して暴露す
る。種々の暴露時間後、試料の残留引張強さを測定す
る。測定値は、試料の引張強さが半分になるまでの暴露
時間T50を計算するために使用される。比較のために、
本発明の安定剤を含まない繊維が製造され、上記と同様
の条件下で試験される。試験結果は表C1に示されてい
る。
M D2565−85に準拠して63℃のブラックパネ
ル温度でウエザロメーター・タイプ65WR〔登録商標
Weather-O-Meter type 65WR,アトラス・コーポレーシ
ョン(Atlas Corp.) 〕において白色背景に対して暴露す
る。種々の暴露時間後、試料の残留引張強さを測定す
る。測定値は、試料の引張強さが半分になるまでの暴露
時間T50を計算するために使用される。比較のために、
本発明の安定剤を含まない繊維が製造され、上記と同様
の条件下で試験される。試験結果は表C1に示されてい
る。
【0163】 表C1:初期の引張強さが半分になるまでの暴露時間 安定剤 暴露時間(時間) ───────────────────────────── なし 300 実施例B1で製造したポリマー 1120 実施例B2bで製造したポリマー 1030 実施例B5で製造したポリマー 1050 実施例B6で製造したポリマー 1060 実施例B8で製造したポリマー 1180 ───────────────────────────── 本発明に従って安定化された繊維はすぐれた靱性を有す
る。
る。
【0164】実施例C2:2層仕上げ塗料(two-coat f
inish )の安定化 光安定剤をキシレン5−10g中に配合し、そして以下
の組成のワニス中で試験する: シンタクリルSC303(登録商標 Synthacryl SC 303)1) 27.51 シンタクリルSC3702) 23.34 マプレナルMF650(登録商標 Maprenal MF 650)3) 27.29 酢酸ブチル/ブタノール(37/8) 4.33 イソブタノール 4.87 ソルベッソ150(登録商標 Solvesso 150 )4) 2.72 クリスタルオイルK−305) 8.74 流れ調整剤ベイシロンMA(登録商標 Baysilon MA)6) 1.20 ────────────────────────────────── 100.00g 1)アクリレート樹脂,ヘキスト・アクチエンゲゼルシ
ャフト;キシレン/ブタノール(26/9)中の65%
溶液 2)アクリレート樹脂,ヘキスト・アクチエンゲゼルシ
ャフト;ソルベッソ1004)中の75%溶液 3)メラミン樹脂,ヘキスト・アクチエンゲゼルシャフ
ト;イソブタノール中の55%溶液 4)製造業者:エッソ 5)製造業者:シェル 6)ソルベッソ150中1%;製造業者:バイエル・ア
クチエンゲゼルシャフト
inish )の安定化 光安定剤をキシレン5−10g中に配合し、そして以下
の組成のワニス中で試験する: シンタクリルSC303(登録商標 Synthacryl SC 303)1) 27.51 シンタクリルSC3702) 23.34 マプレナルMF650(登録商標 Maprenal MF 650)3) 27.29 酢酸ブチル/ブタノール(37/8) 4.33 イソブタノール 4.87 ソルベッソ150(登録商標 Solvesso 150 )4) 2.72 クリスタルオイルK−305) 8.74 流れ調整剤ベイシロンMA(登録商標 Baysilon MA)6) 1.20 ────────────────────────────────── 100.00g 1)アクリレート樹脂,ヘキスト・アクチエンゲゼルシ
ャフト;キシレン/ブタノール(26/9)中の65%
溶液 2)アクリレート樹脂,ヘキスト・アクチエンゲゼルシ
ャフト;ソルベッソ1004)中の75%溶液 3)メラミン樹脂,ヘキスト・アクチエンゲゼルシャフ
ト;イソブタノール中の55%溶液 4)製造業者:エッソ 5)製造業者:シェル 6)ソルベッソ150中1%;製造業者:バイエル・ア
クチエンゲゼルシャフト
【0165】仕上げ塗料の固体含量に基づいて安定剤1
%をワニスに添加する。使用される対照は光安定剤を含
まないワニスである。ワニスをソルベッソ100で希釈
してスプレー可能なものとし、そして準備されたアルミ
ニウムシート(コイルコート,繊維,シルバーメタリッ
クベースコート)上にスプレーし、そして130℃で3
0分間焼き付けると、厚さ40−50μmのワニスの乾
燥フィルムが得られる。次に試料をアトラス・コーポレ
ーションからのウブコン(登録商標 UVCON)暴露装置に
おいて(UVB−313ランプ)、60℃で4時間のU
V照射および50℃で4時間の結露のサイクルで耐候試
験を行う。一定の時間間隔で試料の亀裂(クラック,割
れ)を調べる。結果は表C2に示されている。
%をワニスに添加する。使用される対照は光安定剤を含
まないワニスである。ワニスをソルベッソ100で希釈
してスプレー可能なものとし、そして準備されたアルミ
ニウムシート(コイルコート,繊維,シルバーメタリッ
クベースコート)上にスプレーし、そして130℃で3
0分間焼き付けると、厚さ40−50μmのワニスの乾
燥フィルムが得られる。次に試料をアトラス・コーポレ
ーションからのウブコン(登録商標 UVCON)暴露装置に
おいて(UVB−313ランプ)、60℃で4時間のU
V照射および50℃で4時間の結露のサイクルで耐候試
験を行う。一定の時間間隔で試料の亀裂(クラック,割
れ)を調べる。結果は表C2に示されている。
【0166】 表C2:亀裂発生までの耐候時間 安定剤 亀裂発生(時間後) ───────────────────────────── なし 1200 実施例B3で製造したポリマー 4000 実施例B4で製造したポリマー 4800 実施例B5で製造したポリマー 4800 実施例B6で製造したポリマー 4800 ───────────────────────────── 本発明に係る安定剤を含有する試料は亀裂発生に対する
高い耐性を有する。
高い耐性を有する。
【0167】実施例C3:写真材料の安定化 次式:
【化50】 で表されるイエローカップラー0.087gを本発明に
係る安定剤の酢酸エチル溶液(2.25g/100m
l)2.0ml中に溶解させる。この溶液1.0ml
に、pH6.5に調整され、次式:
係る安定剤の酢酸エチル溶液(2.25g/100m
l)2.0ml中に溶解させる。この溶液1.0ml
に、pH6.5に調整され、次式:
【化51】 で表される湿潤剤1.744g/lを含む2.3%ゼラ
チン水溶液9.0mlを添加する。
チン水溶液9.0mlを添加する。
【0168】銀含量6.0g/lの臭化銀エマルジョン
および次式:
および次式:
【化52】 で表される硬化剤の0.7%水溶液1.0mlを生成し
たカップラーエマルジョン5.0mlに添加し、そして
混合物を13×18cmプラチック被覆紙上に注ぐ。7
日間の硬化時間の後、試料を銀ステップウエッジの後方
から125lux・sで露光し、引続きコダック・エク
タプリント2(登録商標 Kodak Ektaprint2)法により
処理する。
たカップラーエマルジョン5.0mlに添加し、そして
混合物を13×18cmプラチック被覆紙上に注ぐ。7
日間の硬化時間の後、試料を銀ステップウエッジの後方
から125lux・sで露光し、引続きコダック・エク
タプリント2(登録商標 Kodak Ektaprint2)法により
処理する。
【0169】得られたイエローウエッジをアトラス・ウ
エザロメーターにおいて2500Wキセノンランプによ
りUVフィルター(コダック2C)の後方より合計60
kJ/cm2 で照射する。安定剤を含まない試料は標準
として同様にして被覆される。照射の間に起こる黄色染
料の吸収最大での色濃度の降下はマクベスTR924A
濃度計を用いて測定される。光安定効果は色濃度におけ
る降下から明らかである。濃度のより小さい降下は、光
安定剤がより高い効果を示すことを示す。本発明に係る
安定剤は良好な安定化作用を有する。
エザロメーターにおいて2500Wキセノンランプによ
りUVフィルター(コダック2C)の後方より合計60
kJ/cm2 で照射する。安定剤を含まない試料は標準
として同様にして被覆される。照射の間に起こる黄色染
料の吸収最大での色濃度の降下はマクベスTR924A
濃度計を用いて測定される。光安定効果は色濃度におけ
る降下から明らかである。濃度のより小さい降下は、光
安定剤がより高い効果を示すことを示す。本発明に係る
安定剤は良好な安定化作用を有する。
【0170】実施例4C:ポリプロピレンテープの安定
化 本発明に係る安定剤1.0gをトリス(2,4−第三ブ
チルフェニル)ホスフィット1g、ペンタエリトリチル
テトラキス(3−〔3’,5’−ジ第三ブチル−4’−
ヒドロキシフェニル)プロピオネート0.5gおよびス
テアリン酸カルシウム1gと一緒に、プロピレン粉末
〔スタトイルMF(STATOIL MF);メルトフロッインデッ
クス4.0g/10分,230℃/2.16kgで測
定〕とターボミキサー中で混合する。混合物を200−
230℃で押出し粒体を得る。これらを引続き、以下の
条件下でパイロットプラント〔登録商標レオナード−ス
ミラゴ(VA)(Leonard-Sumirago(VA) ,イタリア〕を
用いて幅2.5mmおよび厚さ50μmの延伸テープに
変換する: 押出温度: 210−230℃ ダイヘッド温度:240−260℃ 延伸比: 1:6
化 本発明に係る安定剤1.0gをトリス(2,4−第三ブ
チルフェニル)ホスフィット1g、ペンタエリトリチル
テトラキス(3−〔3’,5’−ジ第三ブチル−4’−
ヒドロキシフェニル)プロピオネート0.5gおよびス
テアリン酸カルシウム1gと一緒に、プロピレン粉末
〔スタトイルMF(STATOIL MF);メルトフロッインデッ
クス4.0g/10分,230℃/2.16kgで測
定〕とターボミキサー中で混合する。混合物を200−
230℃で押出し粒体を得る。これらを引続き、以下の
条件下でパイロットプラント〔登録商標レオナード−ス
ミラゴ(VA)(Leonard-Sumirago(VA) ,イタリア〕を
用いて幅2.5mmおよび厚さ50μmの延伸テープに
変換する: 押出温度: 210−230℃ ダイヘッド温度:240−260℃ 延伸比: 1:6
【0171】このようにして製造されたテープを、AS
TM D2565−85に準拠して63℃のブラックパ
ネル温度でウエザロメーター・タイプ65WR(アトラ
ス・コーポレーション)において白色背景に対して暴露
する。種々の暴露時間後、試料の残留引張強さを測定す
る。測定値は、試料の引張強さが半分になるまでの暴露
時間T50を計算するために使用される。比較のために、
本発明の安定剤を含まないテープが製造され、上記と同
様の条件下で試験される。試験結果は表C4に示されて
いる。
TM D2565−85に準拠して63℃のブラックパ
ネル温度でウエザロメーター・タイプ65WR(アトラ
ス・コーポレーション)において白色背景に対して暴露
する。種々の暴露時間後、試料の残留引張強さを測定す
る。測定値は、試料の引張強さが半分になるまでの暴露
時間T50を計算するために使用される。比較のために、
本発明の安定剤を含まないテープが製造され、上記と同
様の条件下で試験される。試験結果は表C4に示されて
いる。
【0172】 表C4:初期の引張強さが半分になるまでの暴露時間 安定剤 暴露時間(時間) ───────────────────────────── なし 360 実施例B1で製造したポリマー 1220 ───────────────────────────── 本発明に従って安定化された試料はすぐれた靱性を有す
る。
る。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 C07D 211/74 241/04 471/20 498/10 A C08F 212/14 MJY 222/40 MNE // C07D 491/10 7019−4C
Claims (17)
- 【請求項1】 テトラメチルピペリジン側鎖を有し、そ
して次式Iおよび/またはII: 【化1】 【化2】 で表される構造単位50ないし100モル%からなるポ
リマーであって、 ゲル透過クロマトグラフィーにより測定されるホモポリ
マーまたはコポリマーの分子量Mnは600ないし60
0000g/モルであり、そして上記式中、下記のkは
2または3の数を表し、 mおよびnは互いに独立して0または1を表し、 Aは−CH2 −または−CO−を表し、 Aがメチレン基を表す場合、Eは次式: 【化3】 で表される基を表し、そしてAがカルボニル基を表す場
合、Eは次式: 【化4】 で表される基を表し、 R1 は水素原子を表し、 R2 は水素原子;−N(R13)R14;炭素原子数1ない
し50のアルコキシ基;−O−、−S−、−CO−N
(R17)−、−N(R17)−CO−または−NR11−に
より、および/または炭素原子数5ないし8のシクロア
ルキレン基またはフェニレン基により中断された、およ
び/または1ないし3個の第三ヒドロキシル基を含む炭
素原子数2ないし50のアルコキシ基;炭素原子数5な
いし12のシクロアルコキシ基;1ないし4個の−R12
基により置換された炭素原子数5ないし12のシクロア
ルコキシ基;フェノキシ基;1ないし4個の−R12基に
より置換されたフェノキシ基;または炭素原子数7ない
し20のアルアルコキシ基を表すか、またはR1 および
R2 は一緒になって、=O置換基を表すか;またはそれ
らが結合されている炭素原子と一緒になって次式: 【化5】 で表される5または6員環を表し、 R3 は水素原子;各々が非置換または炭素原子数5ない
し8のシクロアルキル基もしくは−CO−N(R17)2
により置換された、または脂肪族部分において炭素原子
数5ないし8のシクロアルキレン基、−CO−N
(R17)−もしくは−N(R17)−CO−または酸素原
子もしくは硫黄原子により中断された、または芳香族部
分において1ないし3個の炭素原子数1ないし4のアル
キル基または炭素原子数1ないし4のアルコキシ基によ
り置換された、炭素原子数1ないし36のアルキル基、
炭素原子数1ないし36のアルコキシ基、炭素原子数7
ないし36のアルアルキル基または炭素原子数7ないし
36のアルアルコキシ基;非置換または1ないし3個の
炭素原子数1ないし4のアルキル基もしくは炭素原子数
1ないし4のアルコキシ基により置換された炭素原子数
5ないし12のシクロアルキル基;非置換または1ない
し3個の炭素原子数1ないし4のアルキル基もしくは炭
素原子数1ないし4のアルコキシ基により置換された炭
素原子数5ないし12のシクロアルコキシ基;非置換ま
たは1ないし3個の炭素原子数1ないし4のアルキル基
もしくは炭素原子数1ないし4のアルコキシ基により置
換された炭素原子数6ないし10のアリール基;非置換
または1ないし3個の炭素原子数1ないし4のアルキル
基もしくは炭素原子数1ないし4のアルコキシ基により
置換された炭素原子数6ないし10のアリールオキシ
基;−CO−R11;または各々が炭素原子数1ないし4
のアルキル基により置換されたベンゾイル基またはナフ
トイル基を表し、 R4 およびR5 は互いに独立して水素原子;炭素原子数
1ないし18のアルキル基;フェニル基;または炭素原
子数7ないし9のフェニルアルキル基を表すか、または
R4 またはR5 の一方はさらに塩素原子を表し、 R6 はR4 およびR5 に対して与えられた塩素原子以外
の意味の一つを有するか;または基Xへの直接結合を表
すか;または次式:−X−(CO)m −Z4 または−X
−(CO)n −Z5 で表される基を表し、 R11は炭素原子数1ないし18のアルキル基;炭素原子
数5ないし7のシクロアルキル基;フェニル基;ナフチ
ル基;炭素原子数7ないし9のフェニルアルキル基;ま
たは炭素原子数11ないし14のナフチルアルキル基を
表し、 R12は炭素原子数1ないし18のアルキル基;炭素原子
数5ないし7のシクロアルキル基;フェニル基またはベ
ンジル基を表し、 R13およびR14は互いに独立して炭素原子数1ないし5
0のアルキル基;または−O−、−S−、−CO−N
(R17)−、−N(R17)−CO−または−NR11−に
より、および/または炭素原子数5ないし8のシクロア
ルキレン基またはフェニレン基により中断された、およ
び/または1ないし3個の第三ヒドロキシル基を含む炭
素原子数2ないし50のアルキル基;または非置換また
は1ないし4個の−R12基により置換された炭素原子数
5ないし12のシクロアルキル基;非置換または1ない
し4個の−R12基により置換されたフェニル基;または
炭素原子数7ないし20のアルアルキル基を表すか、ま
たはR13およびR14はそれらが結合されている窒素原子
と一緒になって次式: 【化6】 で表される、その環構造が4ないし6個の炭素原子を含
む環状イミド基を表し、 R15およびR16は互いに独立してH;または炭素原子数
1ないし12のアルキル基を表すか、または一緒になっ
て直鎖のα,ω−結合した炭素原子数4ないし13のア
ルキレン基を表し、 R17は水素原子を表すか、またはR11の意味の一つを有
し、 R18は炭素原子数2ないし18のアルキレン基を表し、 Xは、R6 が基Xへの直接結合である場合、次式: 【化7】 (式中、2個のカルボニル基に局在する遊離原子価はポ
リマー鎖の隣接炭素原子に結合する)で表される3価の
基を表し、 Xは、R6 が基Xへの直接結合でなく、m=0またはn
=0の場合、フェニレン基または−Z4 もしくは−Z5
により置換されたフェニレン基を表し、そしてXは、R
6 が基Xへの直接結合でなく、m=1またはn=1の場
合、直接結合;炭素原子数1ないし4のアルキレン基;
フェニレン基;または次式:−Z2 −Z3 −(式中、Z
2 はポリマー鎖の炭素原子に結合する)で表される基を
表し、 Z1 はフェニレン基を表し、 Z2 は−O−またはフェニレン基を表し、 Z3 は炭素原子数1ないし8のアルキレン基を表し、 Z4 は次式Ia: 【化8】 で表される基を表し、そしてZ5 は次式IIa: 【化9】 で表される基を表す、上記ポリマー。 - 【請求項2】 上記式Iおよび/またはIIで表される
構造単位50ないし100モル%および次式III: 【化10】 で表される構造単位0ないし50モル%からなり、ゲル
透過クロマトグラフィーにより測定される分子量Mnが
1000ないし300000g/モルであり、そて上記
式中、R7 、R8 およびR9 は互いに独立して水素原
子;−Cl;炭素原子数1ないし18のアルキル基;フ
ェニル基;1ないし3個の−Cl、炭素原子数1ないし
4のアルキル基および/または炭素原子数1ないし4の
アルコキシ基により置換されたフェニル基;または炭素
原子数7ないし9のフェニルアルキル基を表し、 R10はR7 、R8 およびR9 に対して与えられた意味の
一つを有するか;または−CN;炭素原子数1ないし1
2のアルコキシカルボニル基;炭素原子数1ないし12
のアルカノイルオキシ基;炭素原子数1ないし12のア
ルコキシ基;または次式IVaまたはIVb: 【化11】 【化12】 〔式中、m”およびn”は各々0または1の数を表し、 Dは−O−または−NR11−を表し、 R1 、R2 、R3 およびR11は上で定義されたものと同
じ意味を表し、 Z6 は直接結合、炭素原子数1ないし8のアルキレン基
または次式:−CH2−CH2 −(O−CH2 −C
H2 )h −(式中、hは1ないし30の範囲の整数を表
す)で表されるポリオキシエチレン基を表し、そしてZ
7 は炭素原子数1ないし8のアルキレン基または次式:
−CH2 −CH2 −(O−CH2 −CH2 )h −(式
中、hは1ないし30の範囲の整数を表す)で表される
ポリオキシエチレン基を表す〕で表される基を表す請求
項1記載のホモポリマーまたはコポリマー。 - 【請求項3】 上記式Iで表される構造単位からなるホ
モポリマーの分子量Mnが1000ないし300000
g/モルであり、上記式IIで表される構造単位からな
るホモポリマーの分子量Mnが1000ないし3000
0g/モルであり、そしてコポリマーの分子量Mnが1
000ないし100000g/モルである請求項2記載
のホモポリマーまたはコポリマー。 - 【請求項4】 上記式Iおよび/またはII中、Aがメ
チレン基を表し、そしてEが次式: 【化13】 で表される基を表し、 R1 が水素原子を表し、 R2 が水素原子;−N(R13)R14;炭素原子数1ない
し18のアルコキシ基;−CO−N(R17)−または−
N(R17)−CO−により中断された炭素原子数4ない
し36のアルコキシ基;非置換または−R12により置換
された炭素原子数5ないし8のシクロアルコキシ基;非
置換または1ないし4個の−R12基により置換されたフ
ェノキシ基;または炭素原子数7ないし12のアルアル
コキシ基を表すか、またはR1 およびR2 が一緒になっ
て=O置換基を表すか;またはそれらが結合されている
炭素原子と一緒になって次式: 【化14】 で表される5または6員環を表し、 R3 が炭素原子数1ないし36のアルキル基;炭素原子
数1ないし36のアルコキシ基;非置換または1ないし
3個の炭素原子数1ないし4のアルキル基もしくは炭素
原子数1ないし4のアルコキシ基により置換された炭素
原子数5ないし12のシクロアルキル基;非置換または
1ないし3個の炭素原子数1ないし4のアルキル基もし
くは炭素原子数1ないし4のアルコキシ基により置換さ
れた炭素原子数5ないし12のシクロアルコキシ基;非
置換または1ないし3個の炭素原子数1ないし4のアル
キル基もしくは炭素原子数1ないし4のアルコキシ基に
より置換されたフェニル基;非置換または1ないし3個
の炭素原子数1ないし4のアルキル基もしくは炭素原子
数1ないし4のアルコキシ基により置換されたナフチル
基;非置換または1ないし3個の炭素原子数1ないし4
のアルキル基もしくは炭素原子数1ないし4のアルコキ
シ基により置換されたフェノキシ基;非置換または1な
いし3個の炭素原子数1ないし4のアルキル基もしくは
炭素原子数1ないし4のアルコキシ基により置換された
ナフトキシ基;非置換またはフェニル環上で1ないし3
個の炭素原子数1ないし4のアルキル基もしくは炭素原
子数1ないし4のアルコキシ基により置換された炭素原
子数7ないし12のフェニルアルキル基;非置換または
フェニル環上で1ないし3個の炭素原子数1ないし4の
アルキル基もしくは炭素原子数1ないし4のアルコキシ
基により置換された炭素原子数7ないし12のフェニル
アルコキシ基;−CO−R11;または各々が炭素原子数
1ないし4のアルキル基により置換されたベンゾイル基
またはナフトイル基を表し、 R4 、R5 およびR6 が互いに独立して水素原子;炭素
原子数1ないし18のアルキル基;フェニル基;または
炭素原子数7ないし9のフェニルアルキル基を表すか、
またはR4 またはR5 の一方はまた−Clであってよ
く、 R11が炭素原子数1ないし18のアルキル基;炭素原子
数5ないし7のシクロアルキル基;フェニル基;または
炭素原子数7ないし9のフェニルアルキル基を表し、 R12が炭素原子数1ないし18のアルキル基;炭素原子
数5ないし7のシクロアルキル基;フェニル基またはベ
ンジル基を表し、 R13およびR14が互いに独立して炭素原子数1ないし1
8のアルキル基;−CO−N(R17)−または−N(R
17)−CO−により中断された炭素原子数4ないし36
のアルキル基;非置換または−R12により置換された炭
素原子数5ないし8のシクロアルキル基;非置換または
1ないし4個の−R12基により置換されたフェニル基;
または炭素原子数7ないし12のアルアルキル基を表
し、 R15およびR16が互いに独立してH;または炭素原子数
1ないし12のアルキル基を表すか、または一緒になっ
て直鎖のα,ω−結合した炭素原子数4ないし13のア
ルキレン基を表し、 R17が水素原子を表すか、またはR11の意味の一つを有
し、 Xが、m=0またはn=0である場合、フェニレン基ま
たは−Z4 もしくは−Z5 により5位で置換された1,
3−フェニレン基を表し、 Xが、m=1またはn=1の場合、直接結合;炭素原子
数1ないし4のアルキレン基;フェニレン基;または次
式:−Z2 −Z3 −(式中、Z2 はポリマー鎖の炭素原
子に結合する)で表される基を表す構造単位50ないし
100モル%からなる、請求項1記載のホモポリマーま
たはコポリマー。 - 【請求項5】 上記式Iおよび/またはII中、Aがメ
チレン基を表し、そしてEが次式: 【化15】 で表される基を表し、 R2 が−N(R13)R14;炭素原子数2ないし18のア
ルコキシ基;−CO−N(R17)−または−N(R17)
−CO−により中断された炭素原子数4ないし36のア
ルコキシ基;または炭素原子数7ないし12のアルアル
コキシ基を表すか、またはR1 およびR2 が一緒になっ
て=O置換基を表し、 R3 が炭素原子数1ないし12のアルキル基;炭素原子
数4ないし18のアルコキシ基;炭素原子数5ないし8
のシクロアルキル基;炭素原子数5ないし8のシクロア
ルコキシ基;炭素原子数7ないし12のフェニルアルキ
ル基;炭素原子数7ないし12のフェニルアルコキシ
基;または−CO−R11を表し、 基R4 、R5 およびR6 の二つが水素原子を表し、そし
て一つが水素原子;炭素原子数1ないし4のアルキル
基;フェニル基;または炭素原子数7ないし9のフェニ
ルアルキル基を表し、 R11が炭素原子数1ないし18のアルキル基;シクロヘ
キシル基;フェニル基;または炭素原子数7ないし9の
フェニルアルキル基を表し、 R13およびR14が互いに独立して炭素原子数2ないし1
8のアルキル基;−CO−N(R17)−または−N(R
17)−CO−により中断された炭素原子数4ないし36
のアルキル基;または炭素原子数7ないし12のアルア
ルキル基を表し、 R17が水素原子を表すか、またはR11の意味の一つを有
し、 Xが、m=0またはn=0である場合、フェニレン基を
表し、そしてXが、m=1またはn=1の場合、直接結
合;炭素原子数1ないし4のアルキレン基またはフェニ
レン基を表す構造単位50ないし100モル%からな
る、請求項4記載のホモポリマーまたはコポリマー。 - 【請求項6】 上記式Iおよび/またはII中、Aがメ
チレン基を表し、そしてEが次式: 【化16】 で表される基を表し、 R2 が炭素原子数4ないし18のアルコキシ基;−CO
−N(R17)−または−N(R17)−CO−により中断
された炭素原子数4ないし36のアルコキシ基;または
炭素原子数7ないし12のアルアルコキシ基;または−
N(R13)R14を表すか、またはR1 およびR2 が一緒
になって=O置換基を表し、 R3 が炭素原子数1ないし6のアルキル基;炭素原子数
4ないし12のアルコキシ基;シクロヘキシル基;シク
ロヘキシルオキシ基;ベンジル基;ベンゾキシ基;また
はベンゾイル基を表し、 基R4 、R5 およびR6 の二つが水素原子を表し、そし
て一つが水素原子;メチル基;またはフェニル基を表
し、 R13およびR14が互いに独立して炭素原子数2ないし1
2のアルキル基を表し、 Xが、m=0またはn=0である場合、フェニレン基を
表し、そしてXが、m=1またはn=1の場合、直接結
合;またはフェニレン基を表す構造単位50ないし10
0モル%からなる、請求項5記載のホモポリマーまたは
コポリマー。 - 【請求項7】 請求項6記載のホモポリマー。
- 【請求項8】 次式V: 【化17】 (式中、E、A、R4 、R5 、R6 、mおよびXは請求
項1で定義されたものと同じ意味を表す)で表される化
合物。 - 【請求項9】 (a)光、酸素および/または熱による
損傷に感受性である有機ポリマー、および(b)安定剤
として請求項1記載の式Iおよび/またはIIで表され
る構造単位からなるポリマーを含有する組成物。 - 【請求項10】 成分(a)がポリオレフィン、または
アクリル、アルキド、ポリウレタン、ポリエステルもし
くはポリアミド樹脂または相当する変性樹脂をベースと
する表面塗料バインダーである請求項9記載の組成物。 - 【請求項11】 成分(a)および(b)の他に慣用の
添加剤を含有する請求項9記載の組成物。 - 【請求項12】 組成物の重量に基づいて、成分(b)
を0.01ないし10重量%含有する請求項9記載の組
成物。 - 【請求項13】 有機ポリマーに請求項1記載のポリマ
ーまたはコポリマーを安定剤として混合することからな
る、光、酸素および/または熱による損傷に対して有機
ポリマーを安定化する方法。 - 【請求項14】 光、酸素および/または熱による損傷
に対して有機ポリマーを安定化するために請求項1記載
のポリマーまたはコポリマーを使用する方法。 - 【請求項15】 請求項1記載の式Iおよび/またはI
Iで表される構造単位を0.01ないし5モル%含有す
る、光、酸素および/または熱の有害作用に対して保護
されたポリマー。 - 【請求項16】 請求項1記載の式Iおよび/またはI
Iで表される構造単位を2ないし20モル%含有するグ
ラフトコポリマー。 - 【請求項17】 請求項8記載の式Vで表される化合物
もしくは次式VI: 【化18】 (式中、R3 、R4 、R5 、R6 、nおよびXは請求項
1で定義されたものと同じ意味を表す)で表される化合
物または式Vで表される化合物と式VIで表される化合
物との混合物、または式VおよびVIで表される化合物
の1種もしくはそれ以上と50モル%までの次式VII
I: 【化19】 (式中、R7 、R8 、R9 およびR10は請求項2で定義
されたものと同じ意味を表す)で表される化合物とを、
ラジカル重合に供することからなる、請求項1記載のポ
リマーの製造方法。
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|---|---|---|---|
| CH2098/93-4 | 1993-07-13 | ||
| CH209893 | 1993-07-13 |
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|---|---|
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|---|---|---|---|
| JP6183951A Pending JPH0770248A (ja) | 1993-07-13 | 1994-07-13 | 安定剤としてのヒンダードアミン−エポキシドのポリマー付加物 |
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|---|---|
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| EP (1) | EP0638597A1 (ja) |
| JP (1) | JPH0770248A (ja) |
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