JPH0774859B2 - マスク観察装置 - Google Patents
マスク観察装置Info
- Publication number
- JPH0774859B2 JPH0774859B2 JP2105984A JP2105984A JPH0774859B2 JP H0774859 B2 JPH0774859 B2 JP H0774859B2 JP 2105984 A JP2105984 A JP 2105984A JP 2105984 A JP2105984 A JP 2105984A JP H0774859 B2 JPH0774859 B2 JP H0774859B2
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- mask
- light
- illumination
- epi
- microscope
- Prior art date
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- Expired - Lifetime
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B21/00—Microscopes
- G02B21/06—Means for illuminating specimens
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Investigating Materials By The Use Of Optical Means Adapted For Particular Applications (AREA)
- Microscoopes, Condenser (AREA)
- Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
- Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は、半導体等の製造に使用する低反射率のマスク
観察装置に関するものである。
観察装置に関するものである。
従来例の構成とその問題点 従来の落射照明顕微鏡による、低反射率マスクの観察方
法は第１図〜第３図にその具体例を示すように、落射照
明装置を有する顕微鏡の対物レンズ１の下方にガラス基
板２の下面に遮光パターン３を有するマスク４を置き、
さらにその下方に第１図の如く何も置かないか、第２図
の如く乱反射板５を置くか、第３図の如く平面反射鏡６
を置くものであり、落射照明光は対物レンズ１を通し
て、光の経路７と８の間を満たして落射され、顕微鏡の
焦点の合うマスク４の遮光パターン３付近に落射照明光
７〜８も集束し、その後第１図の従来例においては、下
方に透過発散し、第２図の従来例においては、下方の乱
反射板５で乱反射し、乱反射光の一部がマスク４の遮光
パターン３の無い部分を通して対物レンズ１に戻り、第
３図の従来例では、下方の正反射鏡６で正反射し、光の
経路9,10の如く広がって進み、照明光の一部が対物レン
ズ１に戻るものであった。
法は第１図〜第３図にその具体例を示すように、落射照
明装置を有する顕微鏡の対物レンズ１の下方にガラス基
板２の下面に遮光パターン３を有するマスク４を置き、
さらにその下方に第１図の如く何も置かないか、第２図
の如く乱反射板５を置くか、第３図の如く平面反射鏡６
を置くものであり、落射照明光は対物レンズ１を通し
て、光の経路７と８の間を満たして落射され、顕微鏡の
焦点の合うマスク４の遮光パターン３付近に落射照明光
７〜８も集束し、その後第１図の従来例においては、下
方に透過発散し、第２図の従来例においては、下方の乱
反射板５で乱反射し、乱反射光の一部がマスク４の遮光
パターン３の無い部分を通して対物レンズ１に戻り、第
３図の従来例では、下方の正反射鏡６で正反射し、光の
経路9,10の如く広がって進み、照明光の一部が対物レン
ズ１に戻るものであった。
しかしながら上記のような構成では、マスク４の遮光パ
ターン３の材質が一般に多く用いられる低反射率のもの
である場合、遮光パターン３の無い部分を透過した照明
光は第１図のものにおいては、対物レンズ１に戻らない
ので、顕微鏡で観察した時には、暗黒の背景の中に灰色
の遮光パターン３が低コントラストで見えるだけであ
り、第２図，第３図のものにおいては、うす明るい背景
の中に黒色の遮光パターン３がやはり低コントラストで
見えるだけで、いづれも低コントラストで見にくいもの
であり、第２図，第３図の場合には、対物レンズ１に下
方より入射する反射光の焦点が観察すべき遮光パターン
に合っていないので、顕微鏡の分解能が低下し、合焦点
位置も不明確となって像が良く見えなくなるという欠点
を有し、特にテレビカメラ等による顕微鏡観察において
は像が良く見えないという欠点を有していた。
ターン３の材質が一般に多く用いられる低反射率のもの
である場合、遮光パターン３の無い部分を透過した照明
光は第１図のものにおいては、対物レンズ１に戻らない
ので、顕微鏡で観察した時には、暗黒の背景の中に灰色
の遮光パターン３が低コントラストで見えるだけであ
り、第２図，第３図のものにおいては、うす明るい背景
の中に黒色の遮光パターン３がやはり低コントラストで
見えるだけで、いづれも低コントラストで見にくいもの
であり、第２図，第３図の場合には、対物レンズ１に下
方より入射する反射光の焦点が観察すべき遮光パターン
に合っていないので、顕微鏡の分解能が低下し、合焦点
位置も不明確となって像が良く見えなくなるという欠点
を有し、特にテレビカメラ等による顕微鏡観察において
は像が良く見えないという欠点を有していた。
発明の目的 本発明は上記欠点に鑑み、低反射率マスクの検査及び測
定において、下方よりの透過光照明が利用できない場合
に落射照明顕微鏡を用いて、像のコントラストが良く、
合焦点位置も明確で、像の分解能も良い観察装置を提供
するものである。
定において、下方よりの透過光照明が利用できない場合
に落射照明顕微鏡を用いて、像のコントラストが良く、
合焦点位置も明確で、像の分解能も良い観察装置を提供
するものである。
発明の構成 本発明のマスク観察装置は、被観察マスクに対し、一方
に置いた落射照明顕微鏡と、反対側に置いた光を入射方
向に反射する反射板とから構成されており、反射板は、
微小な球状ガラスを平面に密に並べて固定したものであ
り、低反射率マスクのパターン観察において、像のコン
トラストと分解能が良く合焦点位置も明確となるという
特有の効果を有する。
に置いた落射照明顕微鏡と、反対側に置いた光を入射方
向に反射する反射板とから構成されており、反射板は、
微小な球状ガラスを平面に密に並べて固定したものであ
り、低反射率マスクのパターン観察において、像のコン
トラストと分解能が良く合焦点位置も明確となるという
特有の効果を有する。
実施例の説明 以下本発明の一実施例について第４図を参照しながら説
明する。11は落射照明装置を有する顕微鏡の対物レン
ズ、12は対物レンズ11の下方に置いたマスク14のガラス
基板、13はマスク14の被観察物である低反射率遮光パタ
ーン、15はマスク14のさらに下方に置いた入射光とほぼ
反対方向に光を反射する反射板であり、その構造は、微
小な球状ガラス16をシート17上に密に並べ光を透過させ
る樹脂18にて固定したものである。
明する。11は落射照明装置を有する顕微鏡の対物レン
ズ、12は対物レンズ11の下方に置いたマスク14のガラス
基板、13はマスク14の被観察物である低反射率遮光パタ
ーン、15はマスク14のさらに下方に置いた入射光とほぼ
反対方向に光を反射する反射板であり、その構造は、微
小な球状ガラス16をシート17上に密に並べ光を透過させ
る樹脂18にて固定したものである。
以上のように構成された顕微鏡観察装置について、以下
その動作を説明する。落射照明光は光の経路19,20の間
を満たして、マスク14の観察個所にほぼ焦点を結ぶよう
に落射され、遮光パターン13に当った部分は大部分が吸
収され、マスク14の透過部分を通った光は反射板15に当
り、大部分の光が内部の微小な球状ガラスにより屈折及
び反射して、光の経路21,22の如くほぼ入射方向に反射
して、再びマスク14の観察個所にほぼ焦点を結びさらに
進んで対物レンズ11に入り、観察者には、明るい背景の
中に遮光パターン13が黒色で明瞭に見え、顕微鏡の合焦
点位置も明確になる。
その動作を説明する。落射照明光は光の経路19,20の間
を満たして、マスク14の観察個所にほぼ焦点を結ぶよう
に落射され、遮光パターン13に当った部分は大部分が吸
収され、マスク14の透過部分を通った光は反射板15に当
り、大部分の光が内部の微小な球状ガラスにより屈折及
び反射して、光の経路21,22の如くほぼ入射方向に反射
して、再びマスク14の観察個所にほぼ焦点を結びさらに
進んで対物レンズ11に入り、観察者には、明るい背景の
中に遮光パターン13が黒色で明瞭に見え、顕微鏡の合焦
点位置も明確になる。
発明の効果 以上のように本発明によれば、低反射率マスクの観察に
おいて、下方よりの透過光照明が行なえない場合に、落
射照明顕微鏡を用いて、被観察マスクの下方に、微小な
球状ガラスを平面に密に並べたもの等より成る光をほぼ
入射方向に反射する反射板を置き、かつ反射板を微小な
球状ガラスを平面に密に並べて固定したものとすること
により、低反射率の遮光パターンをコントラストと分解
能が良く観察することができ、その実用的効果は大なる
ものがある。
おいて、下方よりの透過光照明が行なえない場合に、落
射照明顕微鏡を用いて、被観察マスクの下方に、微小な
球状ガラスを平面に密に並べたもの等より成る光をほぼ
入射方向に反射する反射板を置き、かつ反射板を微小な
球状ガラスを平面に密に並べて固定したものとすること
により、低反射率の遮光パターンをコントラストと分解
能が良く観察することができ、その実用的効果は大なる
ものがある。
第１図は従来のマスクの下方に何も置かない観察状態を
示す模式図、第２図は従来のマスクの下方に乱反射板を
置いた観察状態を示す模式図、第３図は従来のマスクの
下方に平面反射鏡を置いた観察状態を示す模式図、第４
図は本発明の一実施例のマスク観察装置を示す模式図で
ある。 11……対物レンズ、13……遮光パターン、14……マス
ク、16……微小球状ガラス、19,20……落射照明光の経
路。
示す模式図、第２図は従来のマスクの下方に乱反射板を
置いた観察状態を示す模式図、第３図は従来のマスクの
下方に平面反射鏡を置いた観察状態を示す模式図、第４
図は本発明の一実施例のマスク観察装置を示す模式図で
ある。 11……対物レンズ、13……遮光パターン、14……マス
ク、16……微小球状ガラス、19,20……落射照明光の経
路。
Claims (1)
- 【請求項１】光を遮光する個所と透過する個所を有する
被観察マスクに対し、その一方側に置いた対物レンズを
通して対象物を照明する落射照明顕微鏡と、前記マスク
の反対側に配置され落射照明光をほぼ入射方向に反射す
る反射板とより構成され、前記反射板は、微小な球状ガ
ラスを平面に密に並べて固定したものより成るマスク観
察装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2105984A JPH0774859B2 (ja) | 1984-02-07 | 1984-02-07 | マスク観察装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2105984A JPH0774859B2 (ja) | 1984-02-07 | 1984-02-07 | マスク観察装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60164715A JPS60164715A (ja) | 1985-08-27 |
| JPH0774859B2 true JPH0774859B2 (ja) | 1995-08-09 |
Family
ID=12044325
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2105984A Expired - Lifetime JPH0774859B2 (ja) | 1984-02-07 | 1984-02-07 | マスク観察装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0774859B2 (ja) |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| FR2848682B1 (fr) * | 2002-12-13 | 2005-02-18 | Commissariat Energie Atomique | Microscope optique a eclairage structure modifiable |
| JP4487042B2 (ja) * | 2003-12-16 | 2010-06-23 | レーザーテック株式会社 | 光学装置、検査装置及び検査方法 |
| JP7037277B2 (ja) * | 2017-03-01 | 2022-03-16 | オリンパス株式会社 | 観察装置 |
| US11299701B2 (en) | 2019-03-19 | 2022-04-12 | Olympus Corporation | Culture-medium-monitoring apparatus |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5237358B2 (ja) * | 1971-11-29 | 1977-09-21 | ||
| DE3204686A1 (de) * | 1982-02-11 | 1983-08-18 | Fa. Carl Zeiss, 7920 Heidenheim | Optisches system zur durchlichtmikroskopie bei auflichtbeleuchtung |
-
1984
- 1984-02-07 JP JP2105984A patent/JPH0774859B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS60164715A (ja) | 1985-08-27 |
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