JPS60164715A - マスク観察装置 - Google Patents
マスク観察装置Info
- Publication number
- JPS60164715A JPS60164715A JP59021059A JP2105984A JPS60164715A JP S60164715 A JPS60164715 A JP S60164715A JP 59021059 A JP59021059 A JP 59021059A JP 2105984 A JP2105984 A JP 2105984A JP S60164715 A JPS60164715 A JP S60164715A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- light
- mask
- shielding pattern
- observed
- incident
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- Granted
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-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B21/00—Microscopes
- G02B21/06—Means for illuminating specimens
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- Physics & Mathematics (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Investigating Materials By The Use Of Optical Means Adapted For Particular Applications (AREA)
- Microscoopes, Condenser (AREA)
- Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
- Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は、半導体等の製造に使用する低反射率のマスク
観察装置に関するものである。
観察装置に関するものである。
従来例の構成とその問題点
従来の落射照明顕微鏡による、低反射率マスクの観察方
法は第１図〜第３図にその具体例を示すように、落射照
明装置を有する顕微鏡の対物レンズ１の下方にガラス基
板２の下面に遮光パターン３を有するマスク４を置き、
さらにその下方に第１図の如く何も置かないか、第２図
の如く乱反射板６を置くか、第３図の如く平面反射鏡６
を置くものであり、落射照明光は対物レンズ１を通して
、光の経路７と８の間を満たして落射され、顕微鏡の焦
点の合うマスク４の遮光パターン３付近に落射照明光７
−８も集束し、その後第１図の従来例においては、下方
に透過発散し、第２図の従来例においては、下方の乱反
射板６で乱反射し、乱反射光の一部がマスク４の遮光パ
ターン３の無い部分を通して対物レンズ１に戻り、第３
図の従来例では、下方の正反射鏡６で正反射し、光の経
路９゜１０の如く広がって進み、照明光の一部が対物レ
ンズ１に戻るものであった。
法は第１図〜第３図にその具体例を示すように、落射照
明装置を有する顕微鏡の対物レンズ１の下方にガラス基
板２の下面に遮光パターン３を有するマスク４を置き、
さらにその下方に第１図の如く何も置かないか、第２図
の如く乱反射板６を置くか、第３図の如く平面反射鏡６
を置くものであり、落射照明光は対物レンズ１を通して
、光の経路７と８の間を満たして落射され、顕微鏡の焦
点の合うマスク４の遮光パターン３付近に落射照明光７
−８も集束し、その後第１図の従来例においては、下方
に透過発散し、第２図の従来例においては、下方の乱反
射板６で乱反射し、乱反射光の一部がマスク４の遮光パ
ターン３の無い部分を通して対物レンズ１に戻り、第３
図の従来例では、下方の正反射鏡６で正反射し、光の経
路９゜１０の如く広がって進み、照明光の一部が対物レ
ンズ１に戻るものであった。
しかしながら上記のような構成では、マスク４の遮光パ
ターン３の材質が一般に多く用いられる低反射率のもの
である場合、遮光パターン３の無い部分を透過した照明
光は第１図のものにおいては、対物レンズ１に戻らない
ので、顕微鏡で観察した時には、暗黒の背景の中に灰色
の遮光パターン３が低コントラストで見えるだけであり
、第２図、第３図のものにおいては、うす明るい背景の
中に黒色の遮光パターン３がやはり低コントラストで見
えるだけで、いづれも低コントラス］・で見にくいもの
であり、第２図、第３図の場合には、対物レンズ１に下
方より入射する反射光の焦点が観察すべき遮光パターン
に合っていないので、顕微鏡の分解能が低下し、合焦点
位置も不明確となって像が良く見えなくなるという欠点
を有し、特にテレビカメラ等による顕微鏡観察において
は保育及び測定において、下方よりの透過光照明が利用
できない場合に落射照明顕微鏡を用いて、像のコントラ
ストが良く、合焦点位置も明確で、像の分解能も良い観
察装置を提供するものである。
ターン３の材質が一般に多く用いられる低反射率のもの
である場合、遮光パターン３の無い部分を透過した照明
光は第１図のものにおいては、対物レンズ１に戻らない
ので、顕微鏡で観察した時には、暗黒の背景の中に灰色
の遮光パターン３が低コントラストで見えるだけであり
、第２図、第３図のものにおいては、うす明るい背景の
中に黒色の遮光パターン３がやはり低コントラストで見
えるだけで、いづれも低コントラス］・で見にくいもの
であり、第２図、第３図の場合には、対物レンズ１に下
方より入射する反射光の焦点が観察すべき遮光パターン
に合っていないので、顕微鏡の分解能が低下し、合焦点
位置も不明確となって像が良く見えなくなるという欠点
を有し、特にテレビカメラ等による顕微鏡観察において
は保育及び測定において、下方よりの透過光照明が利用
できない場合に落射照明顕微鏡を用いて、像のコントラ
ストが良く、合焦点位置も明確で、像の分解能も良い観
察装置を提供するものである。
発明の構成
本発明のマスク観察装置は、被観察マスクに対し、一方
に置いた落射照明顕微鏡と、反対側に置いた光を入射方
向に反射する反射板とから構成されており、低反射率マ
スクのパターン観察において、像のコントラストと分解
能が良く合焦点位置も明確となるという特有の効果を有
する。
に置いた落射照明顕微鏡と、反対側に置いた光を入射方
向に反射する反射板とから構成されており、低反射率マ
スクのパターン観察において、像のコントラストと分解
能が良く合焦点位置も明確となるという特有の効果を有
する。
実施例の説明
以下本発明の一実施例について第４図を参照しながら説
明する。１１は落射照明装置を有する顕微鏡の対物レン
ズ、１２は対物レンズ１１の下方に置いたマスク１４の
ガラス基板、１３はマスク１°４の被観察物である低反
射率遮光パターン、１５はマスク１４のさらに下方に置
いた入射光とほぼ反対方向に光を反射する反射板であり
、その構造は、微小な球状ガラス１６をシート１７上に
密に並べ光を透過させる樹脂１８にて固定したものであ
る。
明する。１１は落射照明装置を有する顕微鏡の対物レン
ズ、１２は対物レンズ１１の下方に置いたマスク１４の
ガラス基板、１３はマスク１°４の被観察物である低反
射率遮光パターン、１５はマスク１４のさらに下方に置
いた入射光とほぼ反対方向に光を反射する反射板であり
、その構造は、微小な球状ガラス１６をシート１７上に
密に並べ光を透過させる樹脂１８にて固定したものであ
る。
以上のように構成された顕微鏡観察装置について、以下
その動作を説明する。落射照明光は光の経路１９ 、２
Ｑの間を満たして、マスク１４の観察個所にほぼ焦点を
結ぶように落射され、遮光パターン１３に当った部分は
大部分が吸収され、マスク１４の透過部分を通った光は
反射板１５に蟲シ、大部分の光が内部の微小な球状ガラ
スによυ屈折及び反射１−で、光の経路２１．２２の如
くほぼ入射方向に反射して、再びマスク１４の観察個所
に１１ぼ焦点を結びさらに進んで対物レンズ１１に入り
、観察者には、明るい背景の中に遮光パターン１３が黒
色で明瞭に見え、顕微鏡の合焦点位置も明確になる。
その動作を説明する。落射照明光は光の経路１９ 、２
Ｑの間を満たして、マスク１４の観察個所にほぼ焦点を
結ぶように落射され、遮光パターン１３に当った部分は
大部分が吸収され、マスク１４の透過部分を通った光は
反射板１５に蟲シ、大部分の光が内部の微小な球状ガラ
スによυ屈折及び反射１−で、光の経路２１．２２の如
くほぼ入射方向に反射して、再びマスク１４の観察個所
に１１ぼ焦点を結びさらに進んで対物レンズ１１に入り
、観察者には、明るい背景の中に遮光パターン１３が黒
色で明瞭に見え、顕微鏡の合焦点位置も明確になる。
発明の効果
以上のように本発明によれば、低反射率マスクの観察に
おいて、下方よりの透過光照明が行なえない場合に、落
射照明顕微鏡を用いて、被観察マスクの下方に、微小な
球状ガラスを平面に密に並べたもの等」：り成る光をほ
ぼ入射方向に反射する反射板を置くことにより、低反射
率の遮光パターンをコントラストと分解能が良く観察す
ることができ、その実用的効果は大なるものがある。
おいて、下方よりの透過光照明が行なえない場合に、落
射照明顕微鏡を用いて、被観察マスクの下方に、微小な
球状ガラスを平面に密に並べたもの等」：り成る光をほ
ぼ入射方向に反射する反射板を置くことにより、低反射
率の遮光パターンをコントラストと分解能が良く観察す
ることができ、その実用的効果は大なるものがある。
第１図は従来のマスクの下方に何も置かない観察状態を
示す模式図、第２図は従来のマスクの下方に乱反射板を
置いた観察状態を示す模式図、第３図は従来のマスクの
下方に平面反射鏡を置いた観察状態を示す模式図、第４
図は本発明の一実施例のマスク観察装置を示す模式図で
ある。 １１・・・・・対物レンズ、１３・・川・遮光パターン
、１４・・・・・・マスク、１６・・・・・・微小球状
ガラス、１９゜２０・・・−落射照明光の経路。 代理人の氏名 弁理士 中 尾 敏 男 ほか１名第
Ｉ Ｉ！Ｉ ζ 第３１！ｌ 第 特開昭ＧＯ−ＩＧ４７１５（３） ２ 因 ４１！１ ７、昼太″ ？ ム（
示す模式図、第２図は従来のマスクの下方に乱反射板を
置いた観察状態を示す模式図、第３図は従来のマスクの
下方に平面反射鏡を置いた観察状態を示す模式図、第４
図は本発明の一実施例のマスク観察装置を示す模式図で
ある。 １１・・・・・対物レンズ、１３・・川・遮光パターン
、１４・・・・・・マスク、１６・・・・・・微小球状
ガラス、１９゜２０・・・−落射照明光の経路。 代理人の氏名 弁理士 中 尾 敏 男 ほか１名第
Ｉ Ｉ！Ｉ ζ 第３１！ｌ 第 特開昭ＧＯ−ＩＧ４７１５（３） ２ 因 ４１！１ ７、昼太″ ？ ム（
Claims (2)
- （１）光を遮光する個所と透過する個所を有する被観察
マスクに対し、その−刃側に置いた対物レンズを通して
対象物を照明する落射照明顕微鏡と、前記マスクの反対
側に配置され落射照明光をほぼ入射方向に反射する反射
板とよりなるマスク観察装置。 - （２）反射板は、微小な球状ガラスを平面に密に並べて
固定したものより成る特許請求の範囲第１項記載のマス
ク観察装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2105984A JPH0774859B2 (ja) | 1984-02-07 | 1984-02-07 | マスク観察装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2105984A JPH0774859B2 (ja) | 1984-02-07 | 1984-02-07 | マスク観察装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60164715A true JPS60164715A (ja) | 1985-08-27 |
| JPH0774859B2 JPH0774859B2 (ja) | 1995-08-09 |
Family
ID=12044325
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2105984A Expired - Lifetime JPH0774859B2 (ja) | 1984-02-07 | 1984-02-07 | マスク観察装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0774859B2 (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1429169A1 (fr) * | 2002-12-13 | 2004-06-16 | Commissariat A L'Energie Atomique | Microscope optique à éclairage modifiable et procédé de fonctionnement d'un tel microscope |
| JP2005180939A (ja) * | 2003-12-16 | 2005-07-07 | Lasertec Corp | 光学装置、検査装置及び検査方法 |
| JP2018146602A (ja) * | 2017-03-01 | 2018-09-20 | オリンパス株式会社 | 観察装置 |
| US11299701B2 (en) | 2019-03-19 | 2022-04-12 | Olympus Corporation | Culture-medium-monitoring apparatus |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS4872290A (ja) * | 1971-11-29 | 1973-09-29 | ||
| JPS58145911A (ja) * | 1982-02-11 | 1983-08-31 | カ−ル・ツアイス−スチフツング | 反射光照明による透過光顕微鏡試験のための光学系 |
-
1984
- 1984-02-07 JP JP2105984A patent/JPH0774859B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS4872290A (ja) * | 1971-11-29 | 1973-09-29 | ||
| JPS58145911A (ja) * | 1982-02-11 | 1983-08-31 | カ−ル・ツアイス−スチフツング | 反射光照明による透過光顕微鏡試験のための光学系 |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1429169A1 (fr) * | 2002-12-13 | 2004-06-16 | Commissariat A L'Energie Atomique | Microscope optique à éclairage modifiable et procédé de fonctionnement d'un tel microscope |
| FR2848682A1 (fr) * | 2002-12-13 | 2004-06-18 | Commissariat Energie Atomique | Microscope optique a eclairage structure modifiable |
| JP2005180939A (ja) * | 2003-12-16 | 2005-07-07 | Lasertec Corp | 光学装置、検査装置及び検査方法 |
| JP2018146602A (ja) * | 2017-03-01 | 2018-09-20 | オリンパス株式会社 | 観察装置 |
| US11299701B2 (en) | 2019-03-19 | 2022-04-12 | Olympus Corporation | Culture-medium-monitoring apparatus |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0774859B2 (ja) | 1995-08-09 |
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