JPH077495B2 - 磁気記録媒体 - Google Patents
磁気記録媒体Info
- Publication number
- JPH077495B2 JPH077495B2 JP22136586A JP22136586A JPH077495B2 JP H077495 B2 JPH077495 B2 JP H077495B2 JP 22136586 A JP22136586 A JP 22136586A JP 22136586 A JP22136586 A JP 22136586A JP H077495 B2 JPH077495 B2 JP H077495B2
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- medium
- magnetic
- magnetic recording
- recording medium
- film
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Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、磁気記録媒体に関し、特にスパッタリング
法,メッキ法,蒸着法等で磁性膜が膜付けされる磁気記
録媒体において、媒体ノイズを低減して電磁変換特性を
改善するのに好適な磁気記録媒体に関する。
法,メッキ法,蒸着法等で磁性膜が膜付けされる磁気記
録媒体において、媒体ノイズを低減して電磁変換特性を
改善するのに好適な磁気記録媒体に関する。
従来より主として用いられている塗布形の磁気記録媒体
に変わり、「日経ニューマテリアル12−2 1985 pp.24〜
35」に示されるように、スパッタリング法,メッキ法,
蒸着法等により形成される,いわゆる薄膜媒体が開発さ
れており、一部実用に供されている。塗布形媒体に比べ
これらの薄膜媒体は、磁性膜厚が約1/10程度にできるこ
と、連続膜を形成できるため、高保磁力化,高残留磁束
密度化が容易であること等で飛躍的に記録密度を向上し
得ることが知られている。これらの薄膜媒体の磁性膜材
料としてはCo系合金{Co-Ni(コバルト−ニッケル),Co
-Cr(コバルト−クロム),Co-Ni-P(コバルト−ニッケ
ル−リン),Co-Ni−O(コバルト−ニッケル−酸素),C
o-Ni−N(コバルト−ニッケル−チッ素),Co-Ni-Cr
(コバルト−ニッケル−クロム)等}が一般的に用いら
れている。
に変わり、「日経ニューマテリアル12−2 1985 pp.24〜
35」に示されるように、スパッタリング法,メッキ法,
蒸着法等により形成される,いわゆる薄膜媒体が開発さ
れており、一部実用に供されている。塗布形媒体に比べ
これらの薄膜媒体は、磁性膜厚が約1/10程度にできるこ
と、連続膜を形成できるため、高保磁力化,高残留磁束
密度化が容易であること等で飛躍的に記録密度を向上し
得ることが知られている。これらの薄膜媒体の磁性膜材
料としてはCo系合金{Co-Ni(コバルト−ニッケル),Co
-Cr(コバルト−クロム),Co-Ni-P(コバルト−ニッケ
ル−リン),Co-Ni−O(コバルト−ニッケル−酸素),C
o-Ni−N(コバルト−ニッケル−チッ素),Co-Ni-Cr
(コバルト−ニッケル−クロム)等}が一般的に用いら
れている。
第2図は、薄膜媒体と塗布形媒体を比較した媒体ノイズ
の記録密度依存性を表したものであり、横軸に記録密
度,縦軸に各記録密度での媒体ノイズを示す。
の記録密度依存性を表したものであり、横軸に記録密
度,縦軸に各記録密度での媒体ノイズを示す。
この図から既に報告されているように(R.A.Baugh,E.S.
Murdock and B.R.Natrajam ; IEEE Trans.MAG19,pp.172
2〜1724,Sept.1983参照)、塗布形媒体のノイズは記録
密度の増加に伴ない減少するが,Co系合金の薄膜媒体の
ノイズは、記録密度の増加とともに増大し、高記録密度
(20KFCI前後)でピークに達した後減少する傾向を示
す。また、媒体ノイズの値も高記録密度(20KFCI前後)
で、塗布形媒体に比べ2〜3倍と大きな値を示す。
Murdock and B.R.Natrajam ; IEEE Trans.MAG19,pp.172
2〜1724,Sept.1983参照)、塗布形媒体のノイズは記録
密度の増加に伴ない減少するが,Co系合金の薄膜媒体の
ノイズは、記録密度の増加とともに増大し、高記録密度
(20KFCI前後)でピークに達した後減少する傾向を示
す。また、媒体ノイズの値も高記録密度(20KFCI前後)
で、塗布形媒体に比べ2〜3倍と大きな値を示す。
上述した従来技術では、Co系合金の薄膜媒体は高記録密
度達成の可能性を有しているが、一方,第2図に示す如
く、塗布形媒体に比較して媒体ノイズが大きいという問
題がある。
度達成の可能性を有しているが、一方,第2図に示す如
く、塗布形媒体に比較して媒体ノイズが大きいという問
題がある。
本発明の目的は、このような従来の問題点を改善し、Co
系合金薄膜媒体の高記録密度時の媒体ノイズが低減され
る磁気記録媒体を提供することにある。
系合金薄膜媒体の高記録密度時の媒体ノイズが低減され
る磁気記録媒体を提供することにある。
上記問題点を解決するため、本発明では、スパッタリン
グ法,メッキ法,蒸着法等で磁性膜が膜付けされる磁気
記録媒体でかつ磁性膜がCo系の合金材料よりなる磁気記
録媒体において、上記磁性膜の保磁力角形比S+を0.68〜
0.8の範囲に特定することに特徴がある。
グ法,メッキ法,蒸着法等で磁性膜が膜付けされる磁気
記録媒体でかつ磁性膜がCo系の合金材料よりなる磁気記
録媒体において、上記磁性膜の保磁力角形比S+を0.68〜
0.8の範囲に特定することに特徴がある。
磁気記録媒体の磁気特性を表現する手段として第3図に
示すB−H曲線が一般に用いられる。また、媒体の電磁
変換特性を表す値として第3図中のb/aの値を保磁力角
形比S+(以下、S+とのみ記す)が一般に用いられる。従
来はこのS+は大きい方がディスクとしては良好であると
考えられていた。
示すB−H曲線が一般に用いられる。また、媒体の電磁
変換特性を表す値として第3図中のb/aの値を保磁力角
形比S+(以下、S+とのみ記す)が一般に用いられる。従
来はこのS+は大きい方がディスクとしては良好であると
考えられていた。
第4図に上述のS+をパラメータとして作られた媒体の媒
体ノイズとS+との関係を示す。第4図に見られるよう
に、媒体ノイズはS+に強い依存性を示し、S+=0.8以上
では急激に増加する傾向が見られる。この傾向は高記録
密度時(20KFCI)にはより顕著に見られる。
体ノイズとS+との関係を示す。第4図に見られるよう
に、媒体ノイズはS+に強い依存性を示し、S+=0.8以上
では急激に増加する傾向が見られる。この傾向は高記録
密度時(20KFCI)にはより顕著に見られる。
第5図にCo系合金薄膜媒体の磁区構造模式図を示す。第
5図に示すように、Co系合金薄膜媒体では結晶粒間の磁
気的結合により、磁化反転部分が鋸歯状磁区になる(松
本光功著磁気記録共立出版PP.157〜158参照)。このよ
うに磁化反転部分が鋸歯状になり磁界の急峻な変化を妨
げることが、Co系合金薄膜媒体の媒体ノイズの主要因で
ある。
5図に示すように、Co系合金薄膜媒体では結晶粒間の磁
気的結合により、磁化反転部分が鋸歯状磁区になる(松
本光功著磁気記録共立出版PP.157〜158参照)。このよ
うに磁化反転部分が鋸歯状になり磁界の急峻な変化を妨
げることが、Co系合金薄膜媒体の媒体ノイズの主要因で
ある。
この鋸歯状磁区の大きさは、残留磁束密度Brに比例し、
保持力Hcに反比例する。
保持力Hcに反比例する。
本発明においては、BrおよびHcの値より定まるS+の値を
特定することにより、低ノイズ化を図る。
特定することにより、低ノイズ化を図る。
以下、本発明の一実施例を、図面により詳細に説明す
る。
る。
第6図にCo合金系の薄膜媒体の一般的な構成を示す。こ
れは、Co-Niスパッタ媒体の構成を示している。
れは、Co-Niスパッタ媒体の構成を示している。
以下、このような一般的なスパッタ媒体の製造プロセス
を説明する。
を説明する。
まず、アルミニウム合金(Al-Mg)基板上に無電解メッ
キ法で約10μm程度のNi−P層を形成する。次に、磁性
膜の水平方向の結晶磁気異方性を増して保持力Hcを向上
するように、スパッタで約2000Å程度のCr層を形成す
る。形成されたCr層の上にスパッタリングにより磁性膜
となるCo-Ni膜(層)を約600Å程度の膜厚で形成する。
この後、これらの形成膜を保護するためのコーテイング
層であるC層をスパッタリングにより約400Å程度の膜
厚で形成する。以上のプロセスによりCo-Ni薄膜媒体が
製造される。
キ法で約10μm程度のNi−P層を形成する。次に、磁性
膜の水平方向の結晶磁気異方性を増して保持力Hcを向上
するように、スパッタで約2000Å程度のCr層を形成す
る。形成されたCr層の上にスパッタリングにより磁性膜
となるCo-Ni膜(層)を約600Å程度の膜厚で形成する。
この後、これらの形成膜を保護するためのコーテイング
層であるC層をスパッタリングにより約400Å程度の膜
厚で形成する。以上のプロセスによりCo-Ni薄膜媒体が
製造される。
本発明の実施例として第6図に示した膜構成における磁
性膜(Co-Ni)の組成および,成膜条件(アルゴンガス
圧,投入パワ)をパラメータとした実験結果例を第7図
に示す。なお、本実験は、DCマグネトロンスパッタ装置
を用いて行った。
性膜(Co-Ni)の組成および,成膜条件(アルゴンガス
圧,投入パワ)をパラメータとした実験結果例を第7図
に示す。なお、本実験は、DCマグネトロンスパッタ装置
を用いて行った。
第7図に示す如く、S+は容易にコントロールすることが
可能である。
可能である。
第1図は、本発明の一実施例を示す薄膜媒体における磁
性膜の保磁力角形比と媒体ノイズ比の関係を示す図であ
る。これは上記サンプルの信号対媒体ノイズ比(以下、
S/Nと記す)とS+の関係を示している。ここで、記録密
度は10,15,20KFCIである。
性膜の保磁力角形比と媒体ノイズ比の関係を示す図であ
る。これは上記サンプルの信号対媒体ノイズ比(以下、
S/Nと記す)とS+の関係を示している。ここで、記録密
度は10,15,20KFCIである。
第1図に見られるように、S/NはS+が0.7〜0.75の間で最
大となる。本発明において、高S/Nを得るために、S+の
値を、管理可能な巾も考慮して0.68〜0.8の間に特定す
る。
大となる。本発明において、高S/Nを得るために、S+の
値を、管理可能な巾も考慮して0.68〜0.8の間に特定す
る。
なお、本発明は、保磁力角形比S+を特定するものであ
り、実施例に開示した,膜構成,組成,成膜条件に限ら
れるものでないことは明白である。
り、実施例に開示した,膜構成,組成,成膜条件に限ら
れるものでないことは明白である。
このように、本実施例においては、S+値を特定すること
により,媒体ノイズを約1/3に軽減し、S/Nを約5dB改善
することが可能である。
により,媒体ノイズを約1/3に軽減し、S/Nを約5dB改善
することが可能である。
以上説明したように、本発明によれば、Co系合金薄膜媒
体の高記録密度時の媒体ノイズが低減されるようにな
る。
体の高記録密度時の媒体ノイズが低減されるようにな
る。
第1図は本発明の一実施例を示す保持力角形比とS/Nの
関係を示す図、第2図は媒体ノイズの記録密度依存性を
示す図、第3図は媒体磁化曲線を示す図、第4図は保磁
力角形比と媒体ノイズの関係を示す図、第5図はCo系合
金薄膜媒体の磁区構造模式図、第6図はCo系合金薄膜媒
体の膜構成例を示す図、第7図は本発明の実施例におけ
る実験結果例を示す図である。
関係を示す図、第2図は媒体ノイズの記録密度依存性を
示す図、第3図は媒体磁化曲線を示す図、第4図は保磁
力角形比と媒体ノイズの関係を示す図、第5図はCo系合
金薄膜媒体の磁区構造模式図、第6図はCo系合金薄膜媒
体の膜構成例を示す図、第7図は本発明の実施例におけ
る実験結果例を示す図である。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 青井 基 東京都国分寺市東恋ケ窪1丁目280番地 株式会社日立製作所中央研究所内 (72)発明者 城石 芳博 東京都国分寺市東恋ケ窪1丁目280番地 株式会社日立製作所中央研究所内
Claims (1)
- 【請求項1】スパッタリング法,メッキ法,蒸着法等で
磁性膜が膜付けされる磁気記録媒体でかつ磁性膜がCo系
の合金材料よりなる磁気記録媒体において、上記磁性膜
の保磁力角形比S+を0.68〜0.8の範囲に特定することを
特徴とする磁気記録媒体。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP22136586A JPH077495B2 (ja) | 1986-09-19 | 1986-09-19 | 磁気記録媒体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP22136586A JPH077495B2 (ja) | 1986-09-19 | 1986-09-19 | 磁気記録媒体 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6376111A JPS6376111A (ja) | 1988-04-06 |
| JPH077495B2 true JPH077495B2 (ja) | 1995-01-30 |
Family
ID=16765651
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP22136586A Expired - Lifetime JPH077495B2 (ja) | 1986-09-19 | 1986-09-19 | 磁気記録媒体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH077495B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5143794A (en) * | 1988-08-10 | 1992-09-01 | Hitachi, Ltd. | Magnetic recording media for longitudinal recording, process for producing the same and magnetic memory apparatus |
| US6627253B2 (en) | 1988-08-10 | 2003-09-30 | Hitachi, Ltd. | Magnetic recording media for longitudinal recording, process for producing the same and magnetic memory apparatus |
-
1986
- 1986-09-19 JP JP22136586A patent/JPH077495B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6376111A (ja) | 1988-04-06 |
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