JPH0778029B2 - 一価フェノール化合物、ビスフェノール化合物及びスチームを含有するストリッピングガスの凝縮処理方法 - Google Patents
一価フェノール化合物、ビスフェノール化合物及びスチームを含有するストリッピングガスの凝縮処理方法Info
- Publication number
- JPH0778029B2 JPH0778029B2 JP3201444A JP20144491A JPH0778029B2 JP H0778029 B2 JPH0778029 B2 JP H0778029B2 JP 3201444 A JP3201444 A JP 3201444A JP 20144491 A JP20144491 A JP 20144491A JP H0778029 B2 JPH0778029 B2 JP H0778029B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- monohydric phenol
- compound
- steam
- phenol compound
- bisphenol
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
Landscapes
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Description
物、ビスフェノール化合物及びスチームを含有するスト
リッピングガスの凝縮処理方法に関するものである。
造するために、酸触媒の存在下、過剰の一価フェノール
化合物にアルデヒド又はケトンを反応させることは知ら
れている。また、この反応生成物から、高純度ビスフェ
ノール化合物を分離回収するために、反応生成物を冷却
してビスフェノール化合物と一価フェノール化合物との
アダクトを晶出させ、得られたアダクト結晶から一価フ
ェノール化合物を除去することも知られている。ビスフ
ェノール化合物と一価フェノール化合物とのアダクトか
ら一価フェノール化合物を分離除去するための1つの方
法として、そのアダクトを熱溶融し、この溶融物をその
まま又はそれから大部分の一価フェノール化合物を除去
した後、スチームストリッピングする方法が知られてい
る(例えば、特開平2−28126号、特開昭63−1
32850号等)。このスチームストリッピング法は、
一価フェノール化合物を含むビスフェノール化合物の溶
融液を、充填塔や、濡れ壁塔、遠心薄膜蒸発器等の気液
接触装置内において、スチームと向流接触させて、溶融
液中の一価フェノール化合物をスチームとともに蒸発除
去させる方法である。この場合、そのスチームストリッ
ピングにより一価フェノール化合物の蒸発除去を促進さ
せるために、減圧条件が採用され、その絶対圧力が低い
程あるいは減圧度(真空度)が高い程一価フェノール化
合物を効率的に除去することができ、より高純度のビス
フェノール化合物を得ることができる。
は、排出ガスとして、一価フェノール化合物の蒸気と、
ビスフェノール化合物の蒸気とスチームからなるストリ
ッピングガスが得られ、このガスは、それらの各成分を
凝縮回収するために、冷却処理される。この冷却温度は
スチームの凝縮温度によって支配され、圧力が低くなる
につれて、より低い冷却温度が必要とされる。比較的圧
力が高い条件では、ストリッピングガスの凝縮処理には
格別の問題はないが、ビスフェノール化合物の純度を向
上させようとして、圧力条件を前記した30トール以下
の低圧にすると、ストリッピングガス中のスチームの凝
縮温度はビスフェノール化合物や一価フェノール化合物
の凝固点よりも低くなり、冷却に際し、スチームが凝縮
する以前に、それらビスフェノール化合物や一価フェノ
ール化合物の凝固が起るようになり、冷却器上にはその
固体が析出付着するようになる。そして、冷却器上にビ
スフェノール化合物や一価フェノール化合物の固体が付
着すると、その冷却器の冷却効果が著しく悪化するとと
もに、冷却器の閉塞トラブルを生じるようになる。一
方、このような問題を回避するために、ビスフェノール
化合物や一価フェノール化合物の凝固を生じないような
条件までストリッピングガスを昇圧した後冷却処理する
ことも可能であるが、この場合には、大型の圧縮機が必
要となり、多大のエネルギーを消費することになるの
で、工業的に有利な方法とは言えない。
ールを不純物として含むビスフェノール化合物をスチー
ムストリッピング法により精製するに際して得られる低
圧のストリッピングガスを、それに含まれるビスフェノ
ール化合物や一価フェノール化合物の凝固を生じさせる
ことなく、かつストリッピングガスを昇圧させることな
く、効率よく凝縮処理する方法を提供することをその課
題とする。
を解決すべく鋭意研究を重ねた結果、本発明を完成する
に至った。
合物とビスフェノール化合物との混合溶融液を30トー
ル以下の低圧条件でスチームストリッピング処理する際
に得られる一価フェノール化合物、ビスフェノール化合
物及びスチームを含有するストリッピングガスを凝縮処
理する方法において、該ストリッピングガスを30トー
ル以下の低圧力条件下及びスチームを気体に保持しかつ
一価フェノール化合物の一部を液体に保持する温度条件
下、一価フェノール化合物又はビスフェノール化合物を
含む一価フェノール化合物からなる第1冷却媒体と向流
接触させて、該ストリッピングガスに含まれるビスフェ
ノール化合物の実質的全量と一価フェノール化合物の一
部を凝縮させるとともに、未凝縮のスチームと一価フェ
ノール化合物の混合ガスを得る第1冷却工程と、該第1
冷却工程で得られた前記混合ガスを、30トール以下の
低圧力条件下及び該混合ガスの実質全量を凝縮させる温
度条件下、一価フェノール化合物の水溶液からなる第2
冷却媒体と向流接触させて、該混合ガスの実質的全量を
凝縮させる第2冷却工程からなるストリッピングガスの
凝縮処理方法が提供される。
前記したように、一価フェノール化合物とアルデヒド又
はケトンを酸触媒の存在下で反応して得られるもので、
その反応は公知である。ビスフェノール化合物として
は、フェノールとアセトンを反応させて得られるビスフ
ェノールA〔2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)
プロパン〕がその代表例であるが、他のビスフェノール
化合物も同様にして製造され、本発明におけるビスフェ
ノール化合物として適用することができる。
ノール化合物を含むビスフェノール化合物にスチームを
向流接触させ、一価フェノール化合物をスチームととも
に蒸発除去する工程で、従来公知の工程である。スチー
ムストリッピングの対象となる一価フェノール化合物を
含むビスフェノール化合物は、前記したように、ビスフ
ェノール化合物と一価フェノール化合物とのアダクトの
溶融物であってもよいし、また、この溶融物を蒸留処理
して、その一価フェノール化合物の大部分を除去したも
のであってもよく、さらに、抽出法等の他の方法により
一価フェノール化合物の大部分を除去したものであって
もよい。本発明におけるスチームストリッピング工程
は、一価フェノール化合物を含むビスフェノール化合物
であればどのようなものに対しても適用される。本発明
におけるスチームストリッピング工程に供給されるビス
フェノール化合物中の一価フェノールの含有量は、通
常、29〜42重量%、好ましくは35重量%以下であ
る。
を含むビスフェノール化合物を溶融状態でスチームスト
リッピング工程へ供給し、ここでスチームと向流接触さ
せる。ストリッピング装置としては、充填塔、濡れ壁
塔、遠心薄膜蒸発器等があり、液体とガスとを向流接触
させ得る装置であれば、その構造は特に制約されない。
価フェノール化合物を含むビスフェノール化合物(以
下、原料ビスフェノール化合物とも言う)の温度は、そ
の融点より少なくとも15℃高い温度であり、ビスフェ
ノール化合物がビスフェノールAの場合、170〜20
0℃、好ましくは175〜190℃である。スチームの
温度は、原料ビスフェノール化合物より少なくとも15
℃高い温度であり、ビスフェノール化合物がビスフェノ
ールAの場合、170〜200℃、好ましくは175〜
190℃である。原料ビスフェノール化合物とスチーム
との重量比は15以上、好ましくは20以上である。ス
トリッピング工程は減圧条件で実施され、その圧力は3
0トール以下、好ましくは5〜20トールである。
フェノール化合物が蒸発除去された高純度のビスフェノ
ール化合物が精製物として得られ、一価フェノール化合
物と、ビスフェノール化合物と、スチームからなるスト
リッピングガスが排出ガスとして得られる。ストリッピ
ングガスにおける各成分の重量比は、スチーム1重量部
当り、一価フェノール化合物0.4〜0.8重量部、好
ましくは0.5〜0.8重量部、ビスフェノール化合物
0.05〜0.25重量部、好ましくは0.05〜0.
15重量部であり、一価フェノール化合物とビスフェノ
ール化合物との重量比は、2〜10、好ましくは3以上
である。
ームストリッピング工程から得られたストリッピングガ
スは、その減圧状態のまま第1冷却工程へ供給し、ここ
で一価フェノール化合物又はビスフェノール化合物を含
む一価フェノール化合物からなる第1冷却媒体と向流接
触させて冷却する。この第1冷却工程は、ストリッピン
グガス中のビスフェノール化合物の実質的全量を冷却媒
体中に溶解するように実施する。ストリッピングガス中
のスチームは、この第1冷却工程では実質上凝縮され
ず、次の第2冷却工程へ送られる。ストリッピングガス
中の一価フェノール化合物は、その一部がこの第1冷却
工程で凝縮され、残りの未凝縮のものはスチームととも
に次の第2冷却工程へ送られる。第1冷却工程でストリ
ッピングガスから分離回収されたビスフェノール化合物
と一価フェノール化合物の混合液は、その一部を冷却媒
体として用いることができる。第1冷却媒体の温度は、
一価フェノール化合物の凝固点より1〜50℃程度高い
温度である。この第1冷却工程における一価フェノール
化合物の回収率は、この第1冷却工程に対する全供給一
価フェノール化合物に対し、70重量%以上、好ましく
は85重量%以上である。
ッピングガスを所望温度に冷却し得るに充分な量であれ
ばよく、通常、ストリッピングガスに対する重量比で、
5〜10、好ましくは5〜6である。また、第1冷却工
程で得られるストリッピングガス中のビスフェノール化
合物と一価フェノール化合物を溶解した冷却媒体中に含
まれるビスフェノール化合物の一価フェノール化合物に
対する重量比は、0.05〜0.20、好ましくは0.
08〜0.14である。本発明の第1冷却工程において
は、ビスフェノール化合物に対し過剰の一価フェノール
化合物が存在することから、ビスフェノール化合物の凝
固点以下の冷却温度であっても、ビスフェノール化合物
と一価フェノール化合物とのアダクトが晶出するような
ことはない。
好ましくは5〜20トールであり、スチームストリッピ
ング工程における圧力に対応する。また、第1冷却工程
における温度は、前記圧力条件下においてスチームが気
体を保持し、一価フェノール化合物の一部が液体を保持
する温度である。好ましい冷却温度(ビスフェノール化
合物を凝縮させる温度)は、一価フェノール化合物の凝
固点よりも1〜50℃程度高い温度である。ビスフェノ
ール化合物がビスフェノールAである場合、その冷却温
度は42〜90℃、好ましくは45〜55℃である。
ェノール化合物の混合ガスは、ここで一価フェノール化
合物の水溶液からなる第2冷却媒体と向流接触させて冷
却する。この第2冷却工程は、この工程へ送られたスチ
ームと一価フェノール化合物の実質的全量が凝縮液化す
るように実施し、この工程からは一価フェノール化合物
の水溶液が回収される。この第2冷却工程で得られる一
価フェノール化合物の水溶液は、その一部を第2冷却媒
体として用いることができる。水溶液中の一価フェノー
ル化合物の濃度は、ストリッピングガスの組成及び第1
冷却工程の条件で決まるが、通常、55〜75重量%で
ある。また、この第2冷却媒体の温度は、スチームの凝
縮温度より1〜10℃程度低い温度である。
合ガスの全量を凝縮させるに充分な量であればよく、通
常、第1冷却工程から送られたスチームと一価フェノー
ル化合物との混合ガスに対する重量比で、100〜30
0、好ましくは190〜250である。この第2冷却工
程の圧力は、30トール以下、好ましくは5〜20トー
ルであり、第1冷却工程の圧力に対応する。第2冷却工
程における冷却温度(スチーム凝縮温度)は、前記圧力
条件下においてスチームと一価フェノール化合物の混合
ガスの全量が凝縮液化する温度であればよい。
いる冷却器は、気液接触型の装置であればよく、任意の
ものが用いられる。このような冷却器としては、例え
ば、充填塔や、スプレー塔等を用いることができる。充
填塔を用いる場合、その充填物としては、圧力損失を抑
えるように、ラッシッヒリングや、ポールリング、多孔
金属板等を用いるのがよい。また、第1冷却工程と第2
冷却工程で用いる冷却器は、それぞれ別個に設置するこ
ともできるが、2つの冷却器を含む一塔型の装置であっ
てもよい。
処理方法の1つの実施態様について、図面を参照して説
明する。図1において、1は第1冷却器、2は第2冷却
器を示す。ライン3は、スチームストリッピング装置に
持続するストリッピングガスラインを示す。ライン4は
排気ポンプ(図示されず)及び冷却器に接続する真空ラ
インであり、スチームストリッピング装置(図示され
ず)及び冷却器を含む全装置系は減圧条件に保持され
る。スチームストリッピング装置からのストリッピング
ガスは、ライン3を通って第1冷却器1の下部に供給さ
れ、ここで、ライン5を通って第1冷却器の上部から導
入される第1冷却媒体(一価フェノール化合物又はビス
フェノール化合物を含む一価フェノール化合物)と向流
接触する。この第1冷却器で凝縮したビスフェノール化
合物と一価フェノール化合物を溶解した冷却媒体は、抜
出しポンプ7を含むライン6を通って第1冷却器の底部
から抜出される。このライン6を通って抜出される冷却
媒体は、必要に応じ、その一部を所要温度に冷却した
後、冷却媒体としてライン5にリサイクルすることもで
きる。
抜出されるスチームと一価フェノール化合物の混合ガス
は、第2冷却器2の下部に導入され、ここで、ライン9
を通って第2冷却器の上部から導入される第2冷却媒体
(一価フェノール化合物の水溶液)と向流接触する。こ
の第2冷却器でスチームと一価フェノール化合物の混合
ガスは凝縮液化し、この凝縮液は冷却媒体とともに第2
冷却器2の底部から抜出しポンプ11を含むライン10
を通って抜出され、その一部はライン13を通り、冷却
媒体用の冷却器14を通って冷却された後、ライン9を
通り、第2冷却器にリサイクルされる。ライン11を通
って抜出された凝縮スチームと一価フェノール化合物を
含む冷却媒体の残部はライン12を通って系外へ抜出さ
れる。
において、第1冷却器と第2冷却器を含む一塔型の冷却
装置を用いた場合のフローシートを図2に示す。図2に
おいて、30はその内部に第1冷却器1と第2冷却器2
を備えた一塔型の冷却装置である。この冷却装置は、第
1冷却器1と第2冷却器2との中間に中央部に開口を有
する仕切板25を配設し、その開口に筒体23を立設し
た構造を有する。この装置において、筒体23の外周面
と冷却装置30の内壁との間に形成される環状中空室
は、液体を貯留するためのものである。22は、第2冷
却器2を流下する液体を前記環状中空室に案内するため
の案内板である。筒状空間24はガス通路を示す。な
お、図2における符号において、図1に示したものと同
じ符号は同じ意味を示す。また、図2においては、図1
に示した流量コントロール系は図示されていない。
を含むビスフェノール化合物のスチームストリッピング
工程から得られるスチーム、一価フェノール化合物及び
ビスフェノール化合物を含むストリッピングガスを、昇
圧することなく、30トール以下の減圧状態のままで冷
却凝縮させることができる。しかも、本発明の場合、3
0トール以下という低い圧力条件と、それに応じた低い
スチーム凝縮温度条件を採用したにもかかわらず、ビス
フェノール化合物や一価フェノール化合物の結晶は何ら
析出しない。従って、本発明のストリッピングガスの凝
縮処理法においては、固体析出による冷却器の効率低下
や、冷却器の閉塞トラブルは何ら生じない。
構成するスチーム、一価フェノール化合物及びビスフェ
ノール化合物の全てが凝縮され、真空排気系にはそれら
のガスは実質的に流入されない。従って、真空排気ポン
プは、装置系を所定の減圧条件に保持するだけであるの
で、排気容量の小さなもので済み、設備コスト及びエネ
ルギーコスト的に非常に有利である。本発明において
は、前記のように、ストリッピングガスの冷却凝縮処理
を30トール以下の極めて低い圧力で実施し得ることか
ら、その前段のスチームストリッピング工程を低圧で行
うことができる。従って、このスチームストリッピング
工程からは、一価フェノール化合物含有率が極めて低い
高純度のビスフェノール化合物、例えば、一価フェノー
ル化合物含有率が50ppm以下、特に20ppm以下
という極めて低い高純度ビスフェノール化合物を得るこ
とができる。
する。
の連続的凝縮処理を行った。この場合の第1冷却器1及
び第2冷却器2の操作条件を以下に示す。 (第1冷却器の操作条件) (1)ライン3から第1冷却器1に導入されるストリッ
ピングガス 圧力:10トール 温度:180℃ 組成:ビスフェノールA25wt%、フェノール25w
t%、スチーム50wt% (2)ライン5から導入される第1冷却媒体(フェノー
ル) 温度:50℃ 冷却媒体/ストリッピングガス重量比:6 (3)冷却器1におけるストリッピングガスからのビス
フェノールAの回収率:100%
ス 圧力:10トール 温度:51℃ 組成:フェノール65wt%、スチーム35wt% (2)ライン9から第2冷却器2に導入される第2冷却
媒体(フェノール水溶液) 温度:9℃ 冷却媒体/未凝縮ガス重量比:190 (3)冷却器1における未凝縮ガスからのフェノール及
びスチームの各回収率 フェノール回収率:100% スチーム回収率:100%
トを示す。
を示す。
Claims (4)
- 【請求項1】 一価フェノール化合物とビスフェノール
化合物との混合溶融液を30トール以下の低圧条件でス
チームストリッピング処理する際に得られる一価フェノ
ール化合物、ビスフェノール化合物及びスチームを含有
するストリッピングガスを凝縮処理する方法において、
該ストリッピングガスを、30トール以下の低圧力条件
下及びスチームを気体に保持しかつ一価フェノール化合
物の一部を液体に保持する温度条件下、一価フェノール
化合物又はビスフェノール化合物を含む一価フェノール
化合物からなる第1冷却媒体と向流接触させて、該スト
リッピングガスに含まれるビスフェノール化合物の実質
的全量と一価フェノール化合物の一部を凝縮させるとと
もに、未凝縮のスチームと一価フェノール化合物の混合
ガスを得る第1冷却工程と、該第1冷却工程で得られた
前記混合ガスを、30トール以下の低圧力条件下及び該
混合ガスの実質全量を凝縮させる温度条件下、一価フェ
ノール化合物の水溶液からなる第2冷却媒体と向流接触
させて、該混合ガスの実質的全量を凝縮させる第2冷却
工程からなるストリッピングガスの凝縮処理方法。 - 【請求項2】 第2冷却工程において得られた混合ガス
の凝縮液の一部を第2冷却媒体として用いる請求項1の
方法。 - 【請求項3】 ビスフェノール化合物がビスフェノール
Aであり、一価フェノール化合物がフェノールである請
求項1又は2の方法。 - 【請求項4】 第1冷却工程における冷却温度が42〜
90℃である請求項3の方法。
Priority Applications (23)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3201444A JPH0778029B2 (ja) | 1991-07-16 | 1991-07-16 | 一価フェノール化合物、ビスフェノール化合物及びスチームを含有するストリッピングガスの凝縮処理方法 |
| TW81103340A TW252100B (ja) | 1991-07-10 | 1992-04-28 | |
| TW83101630A TW252972B (ja) | 1991-07-10 | 1992-04-28 | |
| TW83101629A TW254928B (ja) | 1991-07-10 | 1992-04-28 | |
| TW83101628A TW252101B (ja) | 1991-07-10 | 1992-04-28 | |
| CNB991038959A CN1167659C (zh) | 1991-07-10 | 1992-06-30 | 酚精制、双酚a·酚结晶加合物精制和制法、双酚a制法 |
| CNB991038614A CN1190403C (zh) | 1991-07-10 | 1992-06-30 | 双酚a·酚结晶加合物的晶析装置、制法及其装置 |
| CNB991038622A CN1190404C (zh) | 1991-07-10 | 1992-06-30 | 含酚化合物、双酚a和蒸汽的解吸气体的冷凝处理方法 |
| CN92105365A CN1059428C (zh) | 1991-07-10 | 1992-06-30 | 高品位双酚a的制造方法 |
| DE69214889T DE69214889T2 (de) | 1991-07-16 | 1992-07-10 | Verfahren zur Herstellung von Bisphenol A |
| DE69217393T DE69217393T2 (de) | 1991-07-16 | 1992-07-10 | Kondensationsverfahren zur Rückgewinnung von Bisphenol A und Phenol |
| KR1019920012309A KR100189205B1 (ko) | 1991-07-10 | 1992-07-10 | 비스페놀a. 페놀 결정 부가물의 정제방법, 이 결정 부가물의 제조방법과 그를 위한 정석 장치 및 비스페놀 a 의 제조방법 |
| EP92306380A EP0523931B1 (en) | 1991-07-16 | 1992-07-10 | Process for the production of bisphenol A |
| EP94203111A EP0643032B1 (en) | 1991-07-16 | 1992-07-10 | Condensation process for recovery of bisphenol A and phenol |
| ES94203111T ES2097610T3 (es) | 1991-07-16 | 1992-07-10 | Procedimiento de condensacion para recuperacion de bisfenol a y fenol. |
| ES92306380T ES2093788T3 (es) | 1991-07-16 | 1992-07-10 | Procedimiento para la produccion de bisfenol a. |
| US07/912,487 US5324867A (en) | 1991-07-16 | 1992-07-13 | Process for the production of bisphenol A. |
| US08/228,871 US5371304A (en) | 1991-07-16 | 1994-04-18 | Process for the production of bisphenol A |
| US08/229,349 US5382711A (en) | 1991-07-16 | 1994-04-18 | Process for the production of bishenol A |
| US08/229,348 US5382712A (en) | 1991-07-16 | 1994-04-18 | Process for the production of bisphenol A |
| KR1019980044544A KR100190334B1 (ko) | 1991-07-10 | 1998-10-23 | 페놀의정제방법, 비스페놀a. 페놀결정 부가물의 정제방법, 이 결정 부가물의 제조방법과 그를 위한 정석 장치 및 비스페놀 a의 제조방법 |
| KR1019980044545A KR100190335B1 (ko) | 1991-07-10 | 1998-10-23 | 비스페놀a.페놀결정부가물의정제방법,이결정부가물의제조방법과그를위한정석장치및비스페놀a의제조방법 |
| KR1019980044546A KR100190336B1 (ko) | 1991-07-10 | 1998-10-23 | 비스페놀a.페놀결정부가물의정제방법,이결정부가물의제조방법과그를위한정석장치및비스페놀a의제조방법 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3201444A JPH0778029B2 (ja) | 1991-07-16 | 1991-07-16 | 一価フェノール化合物、ビスフェノール化合物及びスチームを含有するストリッピングガスの凝縮処理方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0532572A JPH0532572A (ja) | 1993-02-09 |
| JPH0778029B2 true JPH0778029B2 (ja) | 1995-08-23 |
Family
ID=16441193
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3201444A Expired - Lifetime JPH0778029B2 (ja) | 1991-07-10 | 1991-07-16 | 一価フェノール化合物、ビスフェノール化合物及びスチームを含有するストリッピングガスの凝縮処理方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0778029B2 (ja) |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH085828B2 (ja) * | 1988-04-05 | 1996-01-24 | 三井東圧化学株式会社 | 高純度ビスフェノールaの製造方法 |
-
1991
- 1991-07-16 JP JP3201444A patent/JPH0778029B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0532572A (ja) | 1993-02-09 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US5382711A (en) | Process for the production of bishenol A | |
| KR100755475B1 (ko) | 아크릴산의 제조 방법 | |
| US5831124A (en) | Purification of acrylic acid and methacrylic acid | |
| KR100690034B1 (ko) | 아크릴산의 제조 방법 | |
| US5817865A (en) | Preparation of acrylic acid and esters | |
| US11111211B2 (en) | Method of distilling dimethyl sulfoxide and multistage distillation tower | |
| EP0009545B1 (en) | Acrylic acid recovery with recycle quench | |
| JPH0393610A (ja) | 金属硫酸塩を含む硫酸の濃縮法 | |
| EP0322323B1 (fr) | Procédé pour séparer l'oxyde d'éthylène d'impuretés aldéhydiques | |
| JP3413497B2 (ja) | ビスフェノールaの製造方法 | |
| JP4535543B2 (ja) | グリコールの単離 | |
| JPH0778029B2 (ja) | 一価フェノール化合物、ビスフェノール化合物及びスチームを含有するストリッピングガスの凝縮処理方法 | |
| EP0044366B1 (en) | Distillative freezing process for separating close boiling mixtures | |
| KR100189205B1 (ko) | 비스페놀a. 페놀 결정 부가물의 정제방법, 이 결정 부가물의 제조방법과 그를 위한 정석 장치 및 비스페놀 a 의 제조방법 | |
| JP3194235B2 (ja) | 高品位ビスフェノールaの製造方法 | |
| JP3190388B2 (ja) | 高品位ビスフェノールaの製造方法 | |
| JP2913123B2 (ja) | 変色のないビスフェノールaの分離方法 | |
| JPH06199720A (ja) | 熱安定性の高いビスフェノールaの製造方法 | |
| US6989047B2 (en) | Method for the absorptive outward transfer of ammonia and methane out of synthesis gas | |
| EP1985609B1 (en) | Method for recovering cyclohexanone oxime | |
| JPS6117535A (ja) | ソルビン酸の製造法 | |
| JPH06306001A (ja) | 純粋なフェノールを回収する方法 | |
| GB2057909A (en) | Separating volatile materials | |
| JP2010184871A (ja) | アクリル酸の精製方法 | |
| JPH06306003A (ja) | ビスフェノールaの製造方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20070823 Year of fee payment: 12 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080823 Year of fee payment: 13 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090823 Year of fee payment: 14 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100823 Year of fee payment: 15 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100823 Year of fee payment: 15 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110823 Year of fee payment: 16 |
|
| EXPY | Cancellation because of completion of term |