JPH0778329A - 磁気記録媒体 - Google Patents
磁気記録媒体Info
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- JPH0778329A JPH0778329A JP5223646A JP22364693A JPH0778329A JP H0778329 A JPH0778329 A JP H0778329A JP 5223646 A JP5223646 A JP 5223646A JP 22364693 A JP22364693 A JP 22364693A JP H0778329 A JPH0778329 A JP H0778329A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 走行性が安定化し、動作信頼性が高く、かつ
記録再生特性の優れた磁気記録媒体の提供。 【構成】 本発明の磁気記録媒体は、非磁性支持体上に
磁性層が設けられてなる磁気記録媒体であって、圧力２
００gf／cm2 で磁気記録媒体の磁性層表面をガラスに接
触させたときに、ガラスと接触する磁性層表面の中心
線平均粗さＲａが８ｎｍ以下で、かつ接触面積比が２０
％以下、又はガラスと接触する磁性層表面の自乗平均
粗さｒｍｓが１０ｎｍ以下で、かつ突起の平均接触面積
が６０μｍ 2 以下、又はガラスと接触する磁性層表面
の自乗平均粗さｒｍｓが１０ｎｍ以下で、かつ突起の接
触点数が４１００（１／mm2 ）以上である。
記録再生特性の優れた磁気記録媒体の提供。 【構成】 本発明の磁気記録媒体は、非磁性支持体上に
磁性層が設けられてなる磁気記録媒体であって、圧力２
００gf／cm2 で磁気記録媒体の磁性層表面をガラスに接
触させたときに、ガラスと接触する磁性層表面の中心
線平均粗さＲａが８ｎｍ以下で、かつ接触面積比が２０
％以下、又はガラスと接触する磁性層表面の自乗平均
粗さｒｍｓが１０ｎｍ以下で、かつ突起の平均接触面積
が６０μｍ 2 以下、又はガラスと接触する磁性層表面
の自乗平均粗さｒｍｓが１０ｎｍ以下で、かつ突起の接
触点数が４１００（１／mm2 ）以上である。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、磁気ディスク等の磁気
記録媒体に関するものである。
記録媒体に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】磁気記録媒体にあっては、大容量化、高
密度化の観点から、磁性層表面の中心線平均粗さＲａ又
は自乗平均粗さｒｍｓを小さくして磁気ヘッドとのスペ
ーシングを少なくしようとする傾向にある。
密度化の観点から、磁性層表面の中心線平均粗さＲａ又
は自乗平均粗さｒｍｓを小さくして磁気ヘッドとのスペ
ーシングを少なくしようとする傾向にある。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】磁気メディア（磁気記
録媒体の磁性層）と磁気ヘッド表面はそれぞれマイクロ
スケールの粗さを持っている。磁気メディアと磁気ヘッ
ドが接触するとき、接触は両者の表面の突起の頂点で起
こる。磁気メディア表面の突起はヘッド荷重によって押
しつぶされ、接触面積の増加を引き起こす。この接触面
積の増加は、磁気メディア表面の中心線平均粗さＲａ又
は自乗平均粗さｒｍｓが小さくなるにしたがい大きくな
り、摩擦係数の増加を引き起こし、走行性を低下させ
る。一方、中心線平均粗さＲａ又は自乗平均粗さｒｍｓ
が大きくなるにしたがい、磁気ヘッドとのスペーシング
が大きくなり記録再生特性の低下を招く。
録媒体の磁性層）と磁気ヘッド表面はそれぞれマイクロ
スケールの粗さを持っている。磁気メディアと磁気ヘッ
ドが接触するとき、接触は両者の表面の突起の頂点で起
こる。磁気メディア表面の突起はヘッド荷重によって押
しつぶされ、接触面積の増加を引き起こす。この接触面
積の増加は、磁気メディア表面の中心線平均粗さＲａ又
は自乗平均粗さｒｍｓが小さくなるにしたがい大きくな
り、摩擦係数の増加を引き起こし、走行性を低下させ
る。一方、中心線平均粗さＲａ又は自乗平均粗さｒｍｓ
が大きくなるにしたがい、磁気ヘッドとのスペーシング
が大きくなり記録再生特性の低下を招く。
【０００４】従って、本発明の目的は、走行性が安定化
し、動作信頼性が高く、かつ記録再生特性の優れた磁気
記録媒体を提供することにある。
し、動作信頼性が高く、かつ記録再生特性の優れた磁気
記録媒体を提供することにある。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、磁気メデ
ィアの表面状態について種々検討した結果、特定の表面
特性を有する磁気メディアにより上記目的が達成される
ことを知見した。
ィアの表面状態について種々検討した結果、特定の表面
特性を有する磁気メディアにより上記目的が達成される
ことを知見した。
【０００６】即ち、本発明は、上記知見に基づいてなさ
れたもので、下記〜の磁気記録媒体を提供するもの
である。
れたもので、下記〜の磁気記録媒体を提供するもの
である。
【０００７】非磁性支持体上に磁性層が設けられてな
る磁気記録媒体であって、圧力２００gf／cm2 で磁気記
録媒体の磁性層表面をガラスに接触させたときに、ガラ
スと接触する磁性層表面の中心線平均粗さＲａが８ｎｍ
以下で、かつ接触面積比が２０％以下であることを特徴
とする磁気記録媒体（以下、第１発明という）。
る磁気記録媒体であって、圧力２００gf／cm2 で磁気記
録媒体の磁性層表面をガラスに接触させたときに、ガラ
スと接触する磁性層表面の中心線平均粗さＲａが８ｎｍ
以下で、かつ接触面積比が２０％以下であることを特徴
とする磁気記録媒体（以下、第１発明という）。
【０００８】非磁性支持体上に磁性層が設けられてな
る磁気記録媒体であって、圧力２００gf／cm2 で磁気記
録媒体の磁性層表面をガラスに接触させたときに、ガラ
スと接触する磁性層表面の自乗平均粗さｒｍｓが１０ｎ
ｍ以下で、かつ突起の平均接触面積が６０μｍ2 以下で
あることを特徴とする磁気記録媒体（以下、第２発明と
いう）。
る磁気記録媒体であって、圧力２００gf／cm2 で磁気記
録媒体の磁性層表面をガラスに接触させたときに、ガラ
スと接触する磁性層表面の自乗平均粗さｒｍｓが１０ｎ
ｍ以下で、かつ突起の平均接触面積が６０μｍ2 以下で
あることを特徴とする磁気記録媒体（以下、第２発明と
いう）。
【０００９】非磁性支持体上に磁性層が設けられてな
る磁気記録媒体であって、圧力２００gf／cm2 で磁気記
録媒体の磁性層表面をガラスに接触させたときに、ガラ
スと接触する磁性層表面の自乗平均粗さｒｍｓが１０ｎ
ｍ以下で、かつ突起の接触点数が４１００（１／mm2 ）
以上であることを特徴とする磁気記録媒体（以下、第３
発明という）。
る磁気記録媒体であって、圧力２００gf／cm2 で磁気記
録媒体の磁性層表面をガラスに接触させたときに、ガラ
スと接触する磁性層表面の自乗平均粗さｒｍｓが１０ｎ
ｍ以下で、かつ突起の接触点数が４１００（１／mm2 ）
以上であることを特徴とする磁気記録媒体（以下、第３
発明という）。
【００１０】以下、先ず第１発明について詳述する。第
１発明の磁気記録媒体は、磁性層表面の中心線平均粗さ
Ｒａが８ｎｍ以下、好ましくは７ｎｍ以下、より好まし
くは６．５〜０．５ｎｍのものである。Ｒａが大きい
と、相対出力が低下する傾向にある。
１発明の磁気記録媒体は、磁性層表面の中心線平均粗さ
Ｒａが８ｎｍ以下、好ましくは７ｎｍ以下、より好まし
くは６．５〜０．５ｎｍのものである。Ｒａが大きい
と、相対出力が低下する傾向にある。
【００１１】また、第１発明の磁気記録媒体は、磁性層
表面の接触面積比が２０％以下、好ましくは１５％以
下、より好ましくは１４．５〜１％のものである。接触
面積比が大きいと、動摩擦係数が大きくなる。この接触
面積比とは、図１に示すように、磁性層表面の最も高い
突起の頂点Ａから深さ方向に２０ｎｍでの高さで水平方
向に切断したとき、その水平面Ｂ上より高い突起の全体
に対する面積比である。
表面の接触面積比が２０％以下、好ましくは１５％以
下、より好ましくは１４．５〜１％のものである。接触
面積比が大きいと、動摩擦係数が大きくなる。この接触
面積比とは、図１に示すように、磁性層表面の最も高い
突起の頂点Ａから深さ方向に２０ｎｍでの高さで水平方
向に切断したとき、その水平面Ｂ上より高い突起の全体
に対する面積比である。
【００１２】上記の中心線平均粗さＲａ及び接触面積比
は、下記の測定方法により磁気記録媒体の磁性層の表面
形状を測定したときの中心線平均粗さＲａ及び接触面積
比である。
は、下記の測定方法により磁気記録媒体の磁性層の表面
形状を測定したときの中心線平均粗さＲａ及び接触面積
比である。
【００１３】〔Ｒａ及び接触面積比の測定方法〕図２に
示す装置を用いて測定する。図２の装置は、磁気記録媒
体１の磁性層の上にガラススライド２（Ｒａ１．５ｎ
ｍ、Ｒｍｓ１．９ｎｍ、ヤング率５０．６ＧＰａ）を接
触させ、磁気記録媒体１の下部からライン３を介して空
気圧を加えることができるものである。該圧力は、レギ
ュレータ（図示せず）により可変可能である。また、圧
力測定のための圧力計（図示せず）がライン３中に備え
付けられている。測定する磁気記録媒体１は、圧力の漏
れを最小限にするために設けられた内径６．５mmと２
３．１mmの２つのＯ−リング４、５上に置かれる。２つ
のＯ−リング４、５の間には口径１mmの排気管６が設け
られており、圧力は常に内側のＯ−リング４の内側のみ
に加わるように設計されている。而して、図２に示すよ
うに磁気記録媒体１を配置した後、磁気記録媒体１の下
部からライン３を介して２００ｇｆ／cm2 の空気圧を加
える。そして、ガラススライド２と接触している磁気記
録媒体１の磁性層の表面形状を、ガラススライド２を介
して、光学式非接触３次元表面粗さ計（図示せず）を用
いて測定することにより、Ｒａ及び接触面積比を求め
る。使用した光学式非接触３次元表面粗さ計は波長６３
２．８ｎｍのＨｅ−Ｎｅレーザーを光源とし、その分解
能は垂直方向０．２Å、水平方向０．７μｍである。
尚、測定視野は０．１８mm×０．１８mmである。
示す装置を用いて測定する。図２の装置は、磁気記録媒
体１の磁性層の上にガラススライド２（Ｒａ１．５ｎ
ｍ、Ｒｍｓ１．９ｎｍ、ヤング率５０．６ＧＰａ）を接
触させ、磁気記録媒体１の下部からライン３を介して空
気圧を加えることができるものである。該圧力は、レギ
ュレータ（図示せず）により可変可能である。また、圧
力測定のための圧力計（図示せず）がライン３中に備え
付けられている。測定する磁気記録媒体１は、圧力の漏
れを最小限にするために設けられた内径６．５mmと２
３．１mmの２つのＯ−リング４、５上に置かれる。２つ
のＯ−リング４、５の間には口径１mmの排気管６が設け
られており、圧力は常に内側のＯ−リング４の内側のみ
に加わるように設計されている。而して、図２に示すよ
うに磁気記録媒体１を配置した後、磁気記録媒体１の下
部からライン３を介して２００ｇｆ／cm2 の空気圧を加
える。そして、ガラススライド２と接触している磁気記
録媒体１の磁性層の表面形状を、ガラススライド２を介
して、光学式非接触３次元表面粗さ計（図示せず）を用
いて測定することにより、Ｒａ及び接触面積比を求め
る。使用した光学式非接触３次元表面粗さ計は波長６３
２．８ｎｍのＨｅ−Ｎｅレーザーを光源とし、その分解
能は垂直方向０．２Å、水平方向０．７μｍである。
尚、測定視野は０．１８mm×０．１８mmである。
【００１４】また、第１発明の磁気記録媒体の磁性層に
は、バリウムフェライト（ＢａＦｅ）粉末を含有させる
ことが好ましい。かかるバリウムフェライト粉末として
は、粒子の形状が六角板状のものが好ましく、粒径（対
角線長）は特に限定されないが、０．０２〜１．０μｍ
程度が一般的であり、厚さは０．００１〜０．１μｍ程
度である。また、上記バリウムフェライト粉末の保磁力
は特に限定されず、所望とする磁気記録媒体の性能に応
じて適宜決められるが、５００〜２０００Ｏｅ程度が一
般的である。
は、バリウムフェライト（ＢａＦｅ）粉末を含有させる
ことが好ましい。かかるバリウムフェライト粉末として
は、粒子の形状が六角板状のものが好ましく、粒径（対
角線長）は特に限定されないが、０．０２〜１．０μｍ
程度が一般的であり、厚さは０．００１〜０．１μｍ程
度である。また、上記バリウムフェライト粉末の保磁力
は特に限定されず、所望とする磁気記録媒体の性能に応
じて適宜決められるが、５００〜２０００Ｏｅ程度が一
般的である。
【００１５】上記バリウムフェライト粉末の含有量は、
磁性層中、５０〜９５重量％、特に６５〜９０重量％が
好ましい。磁性層中に上記バリウムフェライト粉末が含
まれていないと、相対出力が低下する傾向にある。
磁性層中、５０〜９５重量％、特に６５〜９０重量％が
好ましい。磁性層中に上記バリウムフェライト粉末が含
まれていないと、相対出力が低下する傾向にある。
【００１６】また、第１発明の磁気記録媒体は、常法に
準じて、即ち例えば、磁性粉末を有機溶媒及びバインダ
ー等と混練して磁性塗料を調製し、該塗料を非磁性支持
体上に塗布して、乾燥処理、カレンダー処理及び研磨処
理を施すことにより製造される。
準じて、即ち例えば、磁性粉末を有機溶媒及びバインダ
ー等と混練して磁性塗料を調製し、該塗料を非磁性支持
体上に塗布して、乾燥処理、カレンダー処理及び研磨処
理を施すことにより製造される。
【００１７】上記磁性粉末としては、上記バリウムフェ
ライト粉末の他に、磁気記録媒体の磁性粉末として従来
より使用されているもの（例えば、γ−Ｆｅ2 Ｏ3 粉
末、Ｆｅ3 Ｏ4 粉末、Ｃｏ含有γ−Ｆｅ2 Ｏ3 粉末等）
も配合できるが、その場合は、上記バリウムフェライト
粉末の含有量が、磁性粉末中７０重量％以上となるよう
に配合することが好ましい。
ライト粉末の他に、磁気記録媒体の磁性粉末として従来
より使用されているもの（例えば、γ−Ｆｅ2 Ｏ3 粉
末、Ｆｅ3 Ｏ4 粉末、Ｃｏ含有γ−Ｆｅ2 Ｏ3 粉末等）
も配合できるが、その場合は、上記バリウムフェライト
粉末の含有量が、磁性粉末中７０重量％以上となるよう
に配合することが好ましい。
【００１８】また、上記の有機溶媒及びバインダーとし
ては、従来より使用されているもの（例えば、有機溶媒
としては、メチルエチルケトン、トルエン、シクロヘキ
サノン、酢酸エチル、ベンゼン、キシレン等；バインダ
ーとしては、塩化ビニル樹脂、ポリウレタン樹脂、ニト
ロセルロース、エポキシ樹脂等）を使用できる。また、
上記磁性塗料には、脂肪酸、脂肪酸エステル、無機粉末
等の従来より使用されている添加物を配合することがで
きる。
ては、従来より使用されているもの（例えば、有機溶媒
としては、メチルエチルケトン、トルエン、シクロヘキ
サノン、酢酸エチル、ベンゼン、キシレン等；バインダ
ーとしては、塩化ビニル樹脂、ポリウレタン樹脂、ニト
ロセルロース、エポキシ樹脂等）を使用できる。また、
上記磁性塗料には、脂肪酸、脂肪酸エステル、無機粉末
等の従来より使用されている添加物を配合することがで
きる。
【００１９】また、上記非磁性支持体も、ポリエステル
等の合成樹脂、非磁性金属及び紙等の、フィルム、テー
プ及びシート等、従来より使用されているものを使用で
きる。
等の合成樹脂、非磁性金属及び紙等の、フィルム、テー
プ及びシート等、従来より使用されているものを使用で
きる。
【００２０】上記の表面特性（中心線平均粗さＲａ＝８
ｎｍ以下、接触面積比＝２０％以下）を有する磁性層
は、磁性層中に含まれる研磨剤の量及びその粒径、カレ
ンダー処理条件、並びに研磨処理条件等を適宜調整する
ことにより得られる。これらの好ましい条件は、磁性層
の配合成分等により一概には言えないが、通常次の通り
である。 ・磁性層中に含まれる研磨剤の量及び粒径 研磨剤の量：磁性粉末１００重量部に対し４〜１３重量
部 研磨剤の粒径：０．１〜０．３μｍ ・カレンダー処理条件 ロールの段数：３〜９ ロール温度：６０〜１００℃ ロール圧力：線圧１００〜３００ kgf／cm ・研磨処理条件 研磨剤の粒度：♯６０００〜１００００ 研磨圧力：５０〜５０００ｇ／cm2 研磨時間：２〜１０秒
ｎｍ以下、接触面積比＝２０％以下）を有する磁性層
は、磁性層中に含まれる研磨剤の量及びその粒径、カレ
ンダー処理条件、並びに研磨処理条件等を適宜調整する
ことにより得られる。これらの好ましい条件は、磁性層
の配合成分等により一概には言えないが、通常次の通り
である。 ・磁性層中に含まれる研磨剤の量及び粒径 研磨剤の量：磁性粉末１００重量部に対し４〜１３重量
部 研磨剤の粒径：０．１〜０．３μｍ ・カレンダー処理条件 ロールの段数：３〜９ ロール温度：６０〜１００℃ ロール圧力：線圧１００〜３００ kgf／cm ・研磨処理条件 研磨剤の粒度：♯６０００〜１００００ 研磨圧力：５０〜５０００ｇ／cm2 研磨時間：２〜１０秒
【００２１】次に、第２発明について詳述する。第２発
明の磁気記録媒体は、磁性層表面の自乗平均粗さｒｍｓ
が１０ｎｍ以下、好ましくは９ｎｍ以下、より好ましく
は８．８〜１．５ｎｍのものである。ｒｍｓが大きい
と、相対出力が低下する傾向にある。
明の磁気記録媒体は、磁性層表面の自乗平均粗さｒｍｓ
が１０ｎｍ以下、好ましくは９ｎｍ以下、より好ましく
は８．８〜１．５ｎｍのものである。ｒｍｓが大きい
と、相対出力が低下する傾向にある。
【００２２】また、第２発明の磁気記録媒体は、磁性層
表面の突起の平均接触面積が６０μｍ2 以下、好ましく
は３０μｍ2 以下、より好ましくは２９〜２μｍ2 のも
のである。突起の平均接触面積が大きいと、動摩擦係数
が大きくなる。この突起の平均接触面積とは、図１に示
すように、磁性層表面の最も高い突起の頂点Ａから深さ
方向に２０ｎｍでの高さで水平方向に切断したとき、そ
の水平面Ｂ上より高い突起の平均面積である。
表面の突起の平均接触面積が６０μｍ2 以下、好ましく
は３０μｍ2 以下、より好ましくは２９〜２μｍ2 のも
のである。突起の平均接触面積が大きいと、動摩擦係数
が大きくなる。この突起の平均接触面積とは、図１に示
すように、磁性層表面の最も高い突起の頂点Ａから深さ
方向に２０ｎｍでの高さで水平方向に切断したとき、そ
の水平面Ｂ上より高い突起の平均面積である。
【００２３】上記の自乗平均粗さｒｍｓ及び突起の平均
接触面積は、前述の第１発明におけるＲａ及び接触面積
比の測定方法と同一の方法により磁気記録媒体の磁性層
の表面形状を測定したときの自乗平均粗さｒｍｓ及び突
起の平均接触面積である。
接触面積は、前述の第１発明におけるＲａ及び接触面積
比の測定方法と同一の方法により磁気記録媒体の磁性層
の表面形状を測定したときの自乗平均粗さｒｍｓ及び突
起の平均接触面積である。
【００２４】また、第２発明の磁気記録媒体の磁性層に
も、バリウムフェライト粉末を含有させることが好まし
く、かかるバリウムフェライト粉末としては、前述の第
１発明で使用されるバリウムフェライト粉末と同一のも
のが同程度の量使用される。
も、バリウムフェライト粉末を含有させることが好まし
く、かかるバリウムフェライト粉末としては、前述の第
１発明で使用されるバリウムフェライト粉末と同一のも
のが同程度の量使用される。
【００２５】また、第２発明の磁気記録媒体は、前述の
第１発明の磁気記録媒体と同様な方法により製造され
る。
第１発明の磁気記録媒体と同様な方法により製造され
る。
【００２６】上記の表面特性（自乗平均粗さｒｍｓ＝１
０ｎｍ以下、突起の平均接触面積＝６０μｍ2 以下）を
有する磁性層は、磁性層中に含まれる研磨剤の量及びそ
の粒径、カレンダー処理条件、並びに研磨処理条件等を
適宜調整することにより得られる。これらの好ましい条
件は、磁性層の配合成分等により一概には言えないが、
通常次の通りである。 ・磁性層中に含まれる研磨剤の量及び粒径 研磨剤の量：磁性粉末１００重量部に対し４〜１２重量
部 研磨剤の粒径：０．１〜０．３μｍ ・カレンダー処理条件 ロールの段数：３〜９ ロール温度：６０〜１００℃ ロール圧力：線圧１００〜４００ kgf／cm ・研磨処理条件 研磨剤の粒度：♯６０００〜１００００ 研磨圧力：１００〜５０００ｇ／cm2 研磨時間：２〜１０秒
０ｎｍ以下、突起の平均接触面積＝６０μｍ2 以下）を
有する磁性層は、磁性層中に含まれる研磨剤の量及びそ
の粒径、カレンダー処理条件、並びに研磨処理条件等を
適宜調整することにより得られる。これらの好ましい条
件は、磁性層の配合成分等により一概には言えないが、
通常次の通りである。 ・磁性層中に含まれる研磨剤の量及び粒径 研磨剤の量：磁性粉末１００重量部に対し４〜１２重量
部 研磨剤の粒径：０．１〜０．３μｍ ・カレンダー処理条件 ロールの段数：３〜９ ロール温度：６０〜１００℃ ロール圧力：線圧１００〜４００ kgf／cm ・研磨処理条件 研磨剤の粒度：♯６０００〜１００００ 研磨圧力：１００〜５０００ｇ／cm2 研磨時間：２〜１０秒
【００２７】次に、第３発明について詳述する。第３発
明の磁気記録媒体は、磁性層表面の自乗平均粗さｒｍｓ
が１０ｎｍ以下、好ましくは９ｎｍ以下、より好ましく
は８．８〜１．５ｎｍのものである。ｒｍｓが大きい
と、相対出力が低下する傾向にある。
明の磁気記録媒体は、磁性層表面の自乗平均粗さｒｍｓ
が１０ｎｍ以下、好ましくは９ｎｍ以下、より好ましく
は８．８〜１．５ｎｍのものである。ｒｍｓが大きい
と、相対出力が低下する傾向にある。
【００２８】また、第３発明の磁気記録媒体は、磁性層
表面の突起の接触点数が４１００（１／ｍｍ2 ）以上、
好ましくは４６００（１／ｍｍ2 ）以上、より好ましく
は４７００〜１００００（１／ｍｍ2 ）のものである。
突起の接触点数が低いと、動摩擦係数が大きくなる。こ
の突起の接触点数とは、図１に示すように、磁性層表面
の最も高い突起の頂点Ａから深さ方向に２０ｎｍでの高
さで水平方向に切断したとき、その水平面Ｂ上より高い
突起の数である。
表面の突起の接触点数が４１００（１／ｍｍ2 ）以上、
好ましくは４６００（１／ｍｍ2 ）以上、より好ましく
は４７００〜１００００（１／ｍｍ2 ）のものである。
突起の接触点数が低いと、動摩擦係数が大きくなる。こ
の突起の接触点数とは、図１に示すように、磁性層表面
の最も高い突起の頂点Ａから深さ方向に２０ｎｍでの高
さで水平方向に切断したとき、その水平面Ｂ上より高い
突起の数である。
【００２９】上記の自乗平均粗さｒｍｓ及び突起の接触
点数は、前述の第１発明におけるＲａ及び接触面積比の
測定方法と同一の方法により磁気記録媒体の磁性層の表
面形状を測定したときの自乗平均粗さｒｍｓ及び突起の
接触点数である。
点数は、前述の第１発明におけるＲａ及び接触面積比の
測定方法と同一の方法により磁気記録媒体の磁性層の表
面形状を測定したときの自乗平均粗さｒｍｓ及び突起の
接触点数である。
【００３０】また、第３発明の磁気記録媒体の磁性層に
も、バリウムフェライト粉末を含有させることが好まし
く、かかるバリウムフェライト粉末も、前述の第１発明
で使用されるバリウムフェライト粉末と同一のものが同
程度の量使用される。
も、バリウムフェライト粉末を含有させることが好まし
く、かかるバリウムフェライト粉末も、前述の第１発明
で使用されるバリウムフェライト粉末と同一のものが同
程度の量使用される。
【００３１】また、第３発明の磁気記録媒体も、前述の
第１発明の磁気記録媒体と同様な方法により製造され
る。
第１発明の磁気記録媒体と同様な方法により製造され
る。
【００３２】上記の表面特性（自乗平均粗さｒｍｓ＝１
０ｎｍ以下、突起の接触点数＝４１００（１／mm2 ）以
上）を有する磁性層は、磁性層中に含まれる研磨剤の量
及びその粒径、カレンダー処理条件、並びに研磨処理条
件等を適宜調整することにより得られる。これらの好ま
しい条件は、磁性層の配合成分等により一概には言えな
いが、通常次の通りである。 ・磁性層中に含まれる研磨剤の量及び粒径 研磨剤の量：磁性粉末１００重量部に対し２〜１４重量
部 研磨剤の粒径：０．１〜０．３μｍ ・カレンダー処理条件 ロールの段数：３〜９ ロール温度：６０〜１００℃ ロール圧力：線圧１００〜５００ kgf／cm ・研磨処理条件 研磨剤の粒度：♯６０００〜１００００ 研磨圧力：１００〜４０００ｇ／cm2 研磨時間：２〜１０秒
０ｎｍ以下、突起の接触点数＝４１００（１／mm2 ）以
上）を有する磁性層は、磁性層中に含まれる研磨剤の量
及びその粒径、カレンダー処理条件、並びに研磨処理条
件等を適宜調整することにより得られる。これらの好ま
しい条件は、磁性層の配合成分等により一概には言えな
いが、通常次の通りである。 ・磁性層中に含まれる研磨剤の量及び粒径 研磨剤の量：磁性粉末１００重量部に対し２〜１４重量
部 研磨剤の粒径：０．１〜０．３μｍ ・カレンダー処理条件 ロールの段数：３〜９ ロール温度：６０〜１００℃ ロール圧力：線圧１００〜５００ kgf／cm ・研磨処理条件 研磨剤の粒度：♯６０００〜１００００ 研磨圧力：１００〜４０００ｇ／cm2 研磨時間：２〜１０秒
【００３３】
【作用】磁気記録媒体の磁性層の表面状態を特定の状態
とすることにより、磁気記録媒体の走行性を安定化し、
動作信頼性を高め、かつ記録再生特性を向上させる。
とすることにより、磁気記録媒体の走行性を安定化し、
動作信頼性を高め、かつ記録再生特性を向上させる。
【００３４】
【実施例】以下に、本発明の実施例を比較例と共に挙げ
て本発明を更に詳細に説明するが、本発明はこれらの実
施例に限定されるものではない。
て本発明を更に詳細に説明するが、本発明はこれらの実
施例に限定されるものではない。
【００３５】実施例１（第１発明の実施例） ・ＢａＦｅ強磁性粉（板状比３：Ｈｃ７５０Ｏｅ） １００重量部 ・塩化ビニル樹脂（日本ゼオン（株）製、ＭＲ１１０） ６重量部 ・ポリウレタン樹脂（東洋紡（株）製、ＵＲ８３００） ６重量部 ・ミリスチン酸 ３重量部 ・ブチルステアレート ３重量部 ・α−Ａｌ2 Ｏ3 （粒径０．１μｍ〜０．３μｍ） （住友化学工業（株）製、ＡＫＰ−５０） ８重量部 ・カーボンブラック ５重量部 ・メチルエチルケトン ７５重量部 ・トルエン ７５重量部 ・シクロヘキサノン １００重量部 上記の組成物を十分に混練した後、ポリイソシアネート
（コロネートＬ、日本ポリウレタン工業（株）製の硬化
剤）３重量部を添加して磁性塗料を調製し、この磁性塗
料をポリエステルフィルムからなる非磁性支持体上に塗
布し、乾燥及びカレンダー処理を行う。然る後、外径８
６mmで打抜き、そして＃８０００の研磨テープを用いて
１０００ｇ／cm2 の荷重をかけて４秒間にわたって研磨
し、磁気ディスクを得た。
（コロネートＬ、日本ポリウレタン工業（株）製の硬化
剤）３重量部を添加して磁性塗料を調製し、この磁性塗
料をポリエステルフィルムからなる非磁性支持体上に塗
布し、乾燥及びカレンダー処理を行う。然る後、外径８
６mmで打抜き、そして＃８０００の研磨テープを用いて
１０００ｇ／cm2 の荷重をかけて４秒間にわたって研磨
し、磁気ディスクを得た。
【００３６】実施例２（第１発明の実施例） 実施例１におけるα−Ａｌ2 Ｏ3 の重量部数を１２部と
した以外は、実施例１と同様にして磁気ディスクを得
た。
した以外は、実施例１と同様にして磁気ディスクを得
た。
【００３７】実施例３（第１発明の実施例） 実施例１における研磨工程で＃８０００の研磨テープを
用いて１０００ｇ／ cm2の荷重をかけて１０秒間にわた
って研磨した以外は、実施例１と同様にして磁気ディス
クを得た。
用いて１０００ｇ／ cm2の荷重をかけて１０秒間にわた
って研磨した以外は、実施例１と同様にして磁気ディス
クを得た。
【００３８】比較例１ 実施例１におけるα−Ａｌ2 Ｏ3 の重量部数を１４部と
した以外は、実施例１と同様にして磁気ディスクを得
た。
した以外は、実施例１と同様にして磁気ディスクを得
た。
【００３９】比較例２ 実施例１における粒径０．１μｍ〜０．３μｍのα−Ａ
ｌ2 Ｏ3 を粒径０．６μｍ〜０．８μｍのα−Ａｌ2 Ｏ
3 （住友化学工業（株）製、ＡＫＰ−１５）に代えた以
外は、実施例１と同様にして磁気ディスクを得た。
ｌ2 Ｏ3 を粒径０．６μｍ〜０．８μｍのα−Ａｌ2 Ｏ
3 （住友化学工業（株）製、ＡＫＰ−１５）に代えた以
外は、実施例１と同様にして磁気ディスクを得た。
【００４０】上記の実施例１〜３及び比較例１〜２で得
た磁気ディスクについて、磁性層表面の中心線平均粗さ
及び接触面積比、並びに動摩擦係数及び相対出力を下記
〔表１〕に示す。
た磁気ディスクについて、磁性層表面の中心線平均粗さ
及び接触面積比、並びに動摩擦係数及び相対出力を下記
〔表１〕に示す。
【００４１】
【表１】
【００４２】尚、動摩擦係数は、ＦＤドライブ（ＴＯＳ
ＨＩＢＡ ＰＤ−２１１）を用いて測定し、電流値換算
した値である。また、相対出力は、標準フレキシブルデ
ィスクに対するTr. 79. 2Fの値である。後記の〔表２〕
及び〔表３〕における動摩擦係数及び相対出力も上記と
同じ方法で測定したものである。
ＨＩＢＡ ＰＤ−２１１）を用いて測定し、電流値換算
した値である。また、相対出力は、標準フレキシブルデ
ィスクに対するTr. 79. 2Fの値である。後記の〔表２〕
及び〔表３〕における動摩擦係数及び相対出力も上記と
同じ方法で測定したものである。
【００４３】実施例４（第２発明の実施例） ・ＢａＦｅ強磁性粉（板状比３：Ｈｃ７５０Ｏｅ） １００重量部 ・塩化ビニル樹脂（日本ゼオン（株）製、ＭＲ１１０） ６重量部 ・ポリウレタン樹脂（東洋紡（株）製、ＵＲ８３００） ６重量部 ・パルミチン酸 ３重量部 ・ブチルステアレート ３重量部 ・α−Ａｌ2 Ｏ3 （粒径０．１μｍ〜０．３μｍ） （住友化学工業（株）製、ＡＫＰ−５０） ８重量部 ・カーボンブラック ５重量部 ・メチルエチルケトン ７５重量部 ・トルエン ７５重量部 ・シクロヘキサノン １００重量部 上記の組成物を十分に混練した後、ポリイソシアネート
（コロネートＬ、日本ポリウレタン工業（株）製の硬化
剤）３重量部を添加して磁性塗料を調製し、この磁性塗
料をポリエステルフィルムからなる非磁性支持体上に塗
布し、乾燥及びカレンダー処理を行う。然る後、外径８
６mmで打抜き、そして＃８０００の研磨テープを用いて
１０００ｇ／cm2 の荷重をかけて２秒間にわたって研磨
し、磁気ディスクを得た。
（コロネートＬ、日本ポリウレタン工業（株）製の硬化
剤）３重量部を添加して磁性塗料を調製し、この磁性塗
料をポリエステルフィルムからなる非磁性支持体上に塗
布し、乾燥及びカレンダー処理を行う。然る後、外径８
６mmで打抜き、そして＃８０００の研磨テープを用いて
１０００ｇ／cm2 の荷重をかけて２秒間にわたって研磨
し、磁気ディスクを得た。
【００４４】実施例５（第２発明の実施例） 実施例４におけるα−Ａｌ2 Ｏ3 の重量部数を１２部と
した以外は、実施例４と同様にして磁気ディスクを得
た。
した以外は、実施例４と同様にして磁気ディスクを得
た。
【００４５】実施例６（第２発明の実施例） 実施例４における研磨工程で＃１００００の研磨テープ
を用いて５００ｇ／cm 2 の荷重をかけて１０秒間にわた
って研磨した以外は、実施例４と同様にして磁気ディス
クを得た。
を用いて５００ｇ／cm 2 の荷重をかけて１０秒間にわた
って研磨した以外は、実施例４と同様にして磁気ディス
クを得た。
【００４６】比較例３ 実施例４におけるα−Ａｌ2 Ｏ3 の重量部数を１４部と
した以外は、実施例４と同様にして磁気ディスクを得
た。
した以外は、実施例４と同様にして磁気ディスクを得
た。
【００４７】比較例４ 実施例４における粒径０．１μｍ〜０．３μｍのα−Ａ
ｌ2 Ｏ3 を粒径０．６μｍ〜０．８μｍのα−Ａｌ2 Ｏ
3 （住友化学工業（株）製、ＡＫＰ−１５）に代えた以
外は、実施例４と同様にして磁気ディスクを得た。
ｌ2 Ｏ3 を粒径０．６μｍ〜０．８μｍのα−Ａｌ2 Ｏ
3 （住友化学工業（株）製、ＡＫＰ−１５）に代えた以
外は、実施例４と同様にして磁気ディスクを得た。
【００４８】比較例５ 比較例３における粒径０．１μｍ〜０．３μｍのα−Ａ
ｌ2 Ｏ3 を粒径０．６μｍ〜０．８μｍのα−Ａｌ2 Ｏ
3 （住友化学工業（株）製、ＡＫＰ−１５）に代えた以
外は、比較例３と同様にして磁気ディスクを得た。
ｌ2 Ｏ3 を粒径０．６μｍ〜０．８μｍのα−Ａｌ2 Ｏ
3 （住友化学工業（株）製、ＡＫＰ−１５）に代えた以
外は、比較例３と同様にして磁気ディスクを得た。
【００４９】上記の実施例４〜６及び比較例３〜５で得
た磁気ディスクについて、磁性層表面の自乗平均粗さ及
び突起の平均接触面積、並びに動摩擦係数及び相対出力
を下記〔表２〕に示す。
た磁気ディスクについて、磁性層表面の自乗平均粗さ及
び突起の平均接触面積、並びに動摩擦係数及び相対出力
を下記〔表２〕に示す。
【００５０】
【表２】
【００５１】実施例７（第３発明の実施例） ・ＢａＦｅ強磁性粉（板状比３：Ｈｃ７５０Ｏｅ） １００重量部 ・塩化ビニル樹脂（日本ゼオン（株）製、ＭＲ１１０） ６重量部 ・ポリウレタン樹脂（東洋紡（株）製、ＵＲ８３００） ６重量部 ・パルミチン酸 ３重量部 ・ブチルステアレート ３重量部 ・α−Ａｌ2 Ｏ3 （粒径０．１μｍ〜０．３μｍ） （住友化学工業（株）製、ＡＫＰ−５０） ８重量部 ・カーボンブラック ５重量部 ・メチルエチルケトン ７５重量部 ・トルエン ７５重量部 ・シクロヘキサノン １００重量部 上記の組成物を十分に混練した後、ポリイソシアネート
（コロネートＬ、日本ポリウレタン工業（株）製の硬化
剤）３重量部を添加して磁性塗料を調製し、この磁性塗
料をポリエステルフィルムからなる非磁性支持体上に塗
布し、乾燥及びカレンダー処理を行う。然る後、外径８
６mmで打抜き、そして＃８０００の研磨テープを用いて
５００ｇ／ cm2の荷重をかけて２秒間にわたって研磨
し、磁気ディスクを得た。
（コロネートＬ、日本ポリウレタン工業（株）製の硬化
剤）３重量部を添加して磁性塗料を調製し、この磁性塗
料をポリエステルフィルムからなる非磁性支持体上に塗
布し、乾燥及びカレンダー処理を行う。然る後、外径８
６mmで打抜き、そして＃８０００の研磨テープを用いて
５００ｇ／ cm2の荷重をかけて２秒間にわたって研磨
し、磁気ディスクを得た。
【００５２】実施例８（第３発明の実施例） 実施例７におけるα−Ａｌ2 Ｏ3 の重量部数を１４部と
した以外は、実施例７と同様にして磁気ディスクを得
た。
した以外は、実施例７と同様にして磁気ディスクを得
た。
【００５３】実施例９（第３発明の実施例） 実施例７における研磨工程で＃１００００の研磨テープ
を用いて１００ｇ／cm 2 の荷重をかけて１０秒間にわた
って研磨した以外は、実施例７と同様にして磁気ディス
クを得た。
を用いて１００ｇ／cm 2 の荷重をかけて１０秒間にわた
って研磨した以外は、実施例７と同様にして磁気ディス
クを得た。
【００５４】比較例６ 実施例７におけるα−Ａｌ2 Ｏ3 の重量部数を２０部と
した以外は、実施例７と同様にして磁気ディスクを得
た。
した以外は、実施例７と同様にして磁気ディスクを得
た。
【００５５】比較例７ 実施例７における粒径０．１μｍ〜０．３μｍのα−Ａ
ｌ2 Ｏ3 を粒径０．６μｍ〜０．８μｍのα−Ａｌ2 Ｏ
3 （住友化学工業（株）製、ＡＫＰ−１５）に代えた以
外は、実施例７と同様にして磁気ディスクを得た。 比較例８ 比較例６における粒径０．１μｍ〜０．３μｍのα−Ａ
ｌ2 Ｏ3 を粒径０．６μｍ〜０．８μｍのα−Ａｌ2 Ｏ
3 （住友化学工業（株）製、ＡＫＰ−１５）に代えた以
外は、比較例６と同様にして磁気ディスクを得た。
ｌ2 Ｏ3 を粒径０．６μｍ〜０．８μｍのα−Ａｌ2 Ｏ
3 （住友化学工業（株）製、ＡＫＰ−１５）に代えた以
外は、実施例７と同様にして磁気ディスクを得た。 比較例８ 比較例６における粒径０．１μｍ〜０．３μｍのα−Ａ
ｌ2 Ｏ3 を粒径０．６μｍ〜０．８μｍのα−Ａｌ2 Ｏ
3 （住友化学工業（株）製、ＡＫＰ−１５）に代えた以
外は、比較例６と同様にして磁気ディスクを得た。
【００５６】上記の実施例７〜９及び比較例６〜８で得
た磁気ディスクについて、磁性層表面の自乗平均粗さ及
び突起の接触点数、並びに動摩擦係数及び相対出力を下
記〔表３〕に示す。
た磁気ディスクについて、磁性層表面の自乗平均粗さ及
び突起の接触点数、並びに動摩擦係数及び相対出力を下
記〔表３〕に示す。
【００５７】
【表３】
【００５８】
【発明の効果】本発明の磁気記録媒体は、走行性が安定
化し、動作信頼性が高く、かつ記録再生特性の優れたも
のである。
化し、動作信頼性が高く、かつ記録再生特性の優れたも
のである。
【図１】磁性層表面の突起の状態の概略を示す拡大図で
ある。
ある。
【図２】磁性層の表面形状の測定装置の概略を示す側面
図である。
図である。
Ａ 最も高い突起の頂点 Ｂ 水平面 １ 磁気記録媒体 ２ ガラススライド ３ ライン ４、５ Ｏ−リング ６ 排気管
Claims (6)
- 【請求項１】 非磁性支持体上に磁性層が設けられてな
る磁気記録媒体であって、圧力２００gf／cm2 で磁気記
録媒体の磁性層表面をガラスに接触させたときに、ガラ
スと接触する磁性層表面の中心線平均粗さＲａが８ｎｍ
以下で、かつ接触面積比が２０％以下であることを特徴
とする磁気記録媒体。 - 【請求項２】 磁性層がバリウムフェライト粉末を含む
請求項１記載の磁気記録媒体。 - 【請求項３】 非磁性支持体上に磁性層が設けられてな
る磁気記録媒体であって、圧力２００gf／cm2 で磁気記
録媒体の磁性層表面をガラスに接触させたときに、ガラ
スと接触する磁性層表面の自乗平均粗さｒｍｓが１０ｎ
ｍ以下で、かつ突起の平均接触面積が６０μｍ2 以下で
あることを特徴とする磁気記録媒体。 - 【請求項４】 磁性層がバリウムフェライト粉末を含む
請求項３記載の磁気記録媒体。 - 【請求項５】 非磁性支持体上に磁性層が設けられてな
る磁気記録媒体であって、圧力２００gf／cm2 で磁気記
録媒体の磁性層表面をガラスに接触させたときに、ガラ
スと接触する磁性層表面の自乗平均粗さｒｍｓが１０ｎ
ｍ以下で、かつ突起の接触点数が４１００（１／mm2 ）
以上であることを特徴とする磁気記録媒体。 - 【請求項６】 磁性層がバリウムフェライト粉末を含む
請求項５記載の磁気記録媒体。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5223646A JPH0778329A (ja) | 1993-09-08 | 1993-09-08 | 磁気記録媒体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5223646A JPH0778329A (ja) | 1993-09-08 | 1993-09-08 | 磁気記録媒体 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0778329A true JPH0778329A (ja) | 1995-03-20 |
Family
ID=16801453
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5223646A Pending JPH0778329A (ja) | 1993-09-08 | 1993-09-08 | 磁気記録媒体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0778329A (ja) |
-
1993
- 1993-09-08 JP JP5223646A patent/JPH0778329A/ja active Pending
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