JPH0778334A - 磁気記録媒体 - Google Patents
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Landscapes
- Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 走行性、耐久性および保存性に優れた薄膜金
属型磁気記録媒体を得る。 【構成】 非磁性支持体上の少なくとも一方の面に強磁
性金属薄膜の磁性層を形成した磁気記録媒体において、
下記の一般式(1)もしくは一般式(2)で表されるパ
ーフルオロアルキル基1個と−OH、−COOH、−S
O3 M、−O(CH2 )b SO3 M、−PO3 M2 、−
OPO3 M(Mは水素原子、アルカリ金属、アンモニウ
ム)の群から選ばれた極性基を少なくとも2個有するフ
ッ素系化合物の少なくとも1種を含む表面層を有するこ
とを特徴とする磁気記録媒体。 【化1】 ただし、nは2〜10、n+mは6〜26の整数であ
る。 【効果】 高度な潤滑性が得られる。
属型磁気記録媒体を得る。 【構成】 非磁性支持体上の少なくとも一方の面に強磁
性金属薄膜の磁性層を形成した磁気記録媒体において、
下記の一般式(1)もしくは一般式(2)で表されるパ
ーフルオロアルキル基1個と−OH、−COOH、−S
O3 M、−O(CH2 )b SO3 M、−PO3 M2 、−
OPO3 M(Mは水素原子、アルカリ金属、アンモニウ
ム)の群から選ばれた極性基を少なくとも2個有するフ
ッ素系化合物の少なくとも1種を含む表面層を有するこ
とを特徴とする磁気記録媒体。 【化1】 ただし、nは2〜10、n+mは6〜26の整数であ
る。 【効果】 高度な潤滑性が得られる。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は磁性層上に有機フッ素化
合物を含有する潤滑層を有する磁気記録媒体に関し、と
くに強磁性金属薄膜からなる磁性層の潤滑性および防錆
性を高めた磁気記録媒体に関するものである。
合物を含有する潤滑層を有する磁気記録媒体に関し、と
くに強磁性金属薄膜からなる磁性層の潤滑性および防錆
性を高めた磁気記録媒体に関するものである。
【0002】
【従来の技術】磁気テープ、フロッピーディスク等の磁
気記録媒体の潤滑剤を磁性層表面に塗布することによっ
て、磁気記録媒体とヘッドとの間の潤滑性および走行耐
久性を改善するために使用したり、また写真感光材料に
おいては、過酷な使用条件においても耐えられるように
感光材料の表面に塗布することが行われている。とく
に、磁気記録媒体では記録の高密度化により磁性層表面
はより平滑になり、また磁気記録媒体はさまざまな環境
で使用され、かつ記録された情報は数年から数十年にわ
たって保存される。そのため多様な環境下での走行耐久
性および保存安定性が要求されており、従来の潤滑剤で
は十分な効果を発揮し得なくなっている。さらに、カム
コーダすなわちカメラ一体型ビデオテープレコーダや小
型のビデオテープレコーダは、外部で使用されることが
多く、磁気記録媒体には幅広い環境条件での使用に耐え
る潤滑性能が必要とされている。また、薄膜金属型磁性
層は高密度記録に有利であり、今後の高精細度化、デジ
タル化等の磁気記録密度向上のために薄膜金属型が期待
されているが、記録層の金属がごく薄い酸化層でのみ保
護されているので、薄膜金属型磁気記録媒体にあって
は、保存性の大幅な向上が可能な潤滑剤の提供が求めら
れている。
気記録媒体の潤滑剤を磁性層表面に塗布することによっ
て、磁気記録媒体とヘッドとの間の潤滑性および走行耐
久性を改善するために使用したり、また写真感光材料に
おいては、過酷な使用条件においても耐えられるように
感光材料の表面に塗布することが行われている。とく
に、磁気記録媒体では記録の高密度化により磁性層表面
はより平滑になり、また磁気記録媒体はさまざまな環境
で使用され、かつ記録された情報は数年から数十年にわ
たって保存される。そのため多様な環境下での走行耐久
性および保存安定性が要求されており、従来の潤滑剤で
は十分な効果を発揮し得なくなっている。さらに、カム
コーダすなわちカメラ一体型ビデオテープレコーダや小
型のビデオテープレコーダは、外部で使用されることが
多く、磁気記録媒体には幅広い環境条件での使用に耐え
る潤滑性能が必要とされている。また、薄膜金属型磁性
層は高密度記録に有利であり、今後の高精細度化、デジ
タル化等の磁気記録密度向上のために薄膜金属型が期待
されているが、記録層の金属がごく薄い酸化層でのみ保
護されているので、薄膜金属型磁気記録媒体にあって
は、保存性の大幅な向上が可能な潤滑剤の提供が求めら
れている。
【0003】電磁変換特性が優れ高密度記録用の磁気記
録媒体して期待されている強磁性薄膜を非磁性支持体上
に形成したいわゆる金属薄膜型磁気記録媒体にあって
は、有機フッ素化合物を潤滑剤とすることが有効である
ことが知られている。パーフルオロアルキル基を含む有
機フッ素化合物は、疎水性であると同時に疎油性の性質
も有しており、水および油中においても界面活性剤とし
ての性質を発揮することはよく知られている。また、表
面エネルギーを低下させる特性も有しており、これらの
性質を利用して有機フッ素化合物を塗布して材料の滑り
性や潤滑性を改善することが行われている。
録媒体して期待されている強磁性薄膜を非磁性支持体上
に形成したいわゆる金属薄膜型磁気記録媒体にあって
は、有機フッ素化合物を潤滑剤とすることが有効である
ことが知られている。パーフルオロアルキル基を含む有
機フッ素化合物は、疎水性であると同時に疎油性の性質
も有しており、水および油中においても界面活性剤とし
ての性質を発揮することはよく知られている。また、表
面エネルギーを低下させる特性も有しており、これらの
性質を利用して有機フッ素化合物を塗布して材料の滑り
性や潤滑性を改善することが行われている。
【0004】例えば極性基としてスルホン酸金属塩、連
結基にエステル基、分子末端は2個のフッ素置換アルキ
ル基を有する化合物を磁性粉末を分散した塗料液中に混
合して塗布することが特開昭58−100228号公報
に記載されているが、極性基としてスルホン酸金属塩等
を含んでおり、これらの極性基は極性が大きく酸性が強
く、金属薄膜や高密度記録のために使用される薄膜ヘッ
ドを腐食する等の問題があり、またパーフルオロアルキ
ル基の分子鎖の鎖長が短いので、強磁性金属薄膜型の磁
気記録媒体の保護層として十分な摩擦係数の低下を期待
することはできない。さらに、非フッ素系の有機溶剤へ
の溶解性が極めて低く、保護層を形成する場合には、フ
ッ素系の有機溶剤を使用しなければならず、環境問題を
引き起こす。また、潤滑剤そのものが加水分解を受け易
く長期間の保存には耐えないものである。
結基にエステル基、分子末端は2個のフッ素置換アルキ
ル基を有する化合物を磁性粉末を分散した塗料液中に混
合して塗布することが特開昭58−100228号公報
に記載されているが、極性基としてスルホン酸金属塩等
を含んでおり、これらの極性基は極性が大きく酸性が強
く、金属薄膜や高密度記録のために使用される薄膜ヘッ
ドを腐食する等の問題があり、またパーフルオロアルキ
ル基の分子鎖の鎖長が短いので、強磁性金属薄膜型の磁
気記録媒体の保護層として十分な摩擦係数の低下を期待
することはできない。さらに、非フッ素系の有機溶剤へ
の溶解性が極めて低く、保護層を形成する場合には、フ
ッ素系の有機溶剤を使用しなければならず、環境問題を
引き起こす。また、潤滑剤そのものが加水分解を受け易
く長期間の保存には耐えないものである。
【0005】特開昭61−25634号公報には、(C
nF2n+1Ym O)k=O(OX)3-kで表される潤滑剤が
記載されており、連結基は燐酸エステル、フッ素鎖の連
結には、アルキレン基、アルキレンオキサイド、スルホ
ンアミドを開示しているが、非フッ素系溶剤には溶解し
ないという問題がある。特公平3−19602号、特開
昭54−79366号には、−SO3 Na、−SO
3 K、−SO3 H、−COOH等を有するフッ素系炭化
水素化合物からなる潤滑剤について記載されており、C
6F17SO2F、パーフルオロアルキルポリオキシエチレ
ンの末端OH、SO3 H、RfCONH(CH2)3の末
端ベタイン構造基などが具体的に示されているが、μ
値、スチル耐久性、保存性のいずれもが不十分で、炭化
水素系溶剤には溶解しないものである。
nF2n+1Ym O)k=O(OX)3-kで表される潤滑剤が
記載されており、連結基は燐酸エステル、フッ素鎖の連
結には、アルキレン基、アルキレンオキサイド、スルホ
ンアミドを開示しているが、非フッ素系溶剤には溶解し
ないという問題がある。特公平3−19602号、特開
昭54−79366号には、−SO3 Na、−SO
3 K、−SO3 H、−COOH等を有するフッ素系炭化
水素化合物からなる潤滑剤について記載されており、C
6F17SO2F、パーフルオロアルキルポリオキシエチレ
ンの末端OH、SO3 H、RfCONH(CH2)3の末
端ベタイン構造基などが具体的に示されているが、μ
値、スチル耐久性、保存性のいずれもが不十分で、炭化
水素系溶剤には溶解しないものである。
【0006】また、特開平3−241524号、特開昭
62−92227号には、フルオロアルキル基と脂肪族
アルキル基を有する化合物を強磁性金属薄膜上へ塗布す
ることが記載されているが、これらのものはアルキル基
の導入によって、イソプロパノールによる塗布が可能と
なったが、μ値、スチル耐久性、保存性が不十分であっ
た。パーフルオロアルキル基−アルキル基−極性基の単
分子層を強磁性金属薄膜上に形成することが特開昭64
−72313号に記載されているが、ラングミュア−ブ
ロジェット(LB)膜による単分子膜の生成は生産性が
悪い。さらに、μ値、スチル耐久性、保存性が劣ってい
る。
62−92227号には、フルオロアルキル基と脂肪族
アルキル基を有する化合物を強磁性金属薄膜上へ塗布す
ることが記載されているが、これらのものはアルキル基
の導入によって、イソプロパノールによる塗布が可能と
なったが、μ値、スチル耐久性、保存性が不十分であっ
た。パーフルオロアルキル基−アルキル基−極性基の単
分子層を強磁性金属薄膜上に形成することが特開昭64
−72313号に記載されているが、ラングミュア−ブ
ロジェット(LB)膜による単分子膜の生成は生産性が
悪い。さらに、μ値、スチル耐久性、保存性が劣ってい
る。
【0007】上記潤滑剤を磁気記録層に塗布することの
他に、例えばパーフルオロアルキルポリエーテルおよび
その誘導体(特開昭60−61918号、特開昭61−
107528号、米国特許第3778308号、特公昭
60−10368号、米国特許第4897211号等)
を使用することが記載されているが、これらのフッ素系
有機化合物の潤滑剤は、テープが摺動する相手部材との
低速の摩擦係数は高く不十分でありかつ保存性について
も亜硫酸ガス等の酸性ガス腐食については磁性層離脱を
起こし、実用に耐え得る磁気記録媒体とはなり得ない。
また脂肪酸および脂肪酸エステル等(特公昭28−28
367号、特公昭51−39081号、特公昭51−3
0981号、特開昭56−80828号、特開昭61−
24017号)は、磁気ヘッドとの高速摩擦が高く不十
分であり、かつ亜硫酸ガス等の酸性ガス腐食についても
不十分である。また上記の潤滑剤の多くは、アセトン、
メチルエチルケトン、酢酸エチル、アルコール類、トル
エン等の通常の炭化水素系の有機溶剤には溶解せず、塗
布に当たってはフッ素系の有機溶剤を使用する必要があ
った。ところが、フッ素系有機溶剤は高価であり、オゾ
ン層破壊の問題を起こしたり、作業環境の悪化をおこし
たりして極めて生産適性のないものである。
他に、例えばパーフルオロアルキルポリエーテルおよび
その誘導体(特開昭60−61918号、特開昭61−
107528号、米国特許第3778308号、特公昭
60−10368号、米国特許第4897211号等)
を使用することが記載されているが、これらのフッ素系
有機化合物の潤滑剤は、テープが摺動する相手部材との
低速の摩擦係数は高く不十分でありかつ保存性について
も亜硫酸ガス等の酸性ガス腐食については磁性層離脱を
起こし、実用に耐え得る磁気記録媒体とはなり得ない。
また脂肪酸および脂肪酸エステル等(特公昭28−28
367号、特公昭51−39081号、特公昭51−3
0981号、特開昭56−80828号、特開昭61−
24017号)は、磁気ヘッドとの高速摩擦が高く不十
分であり、かつ亜硫酸ガス等の酸性ガス腐食についても
不十分である。また上記の潤滑剤の多くは、アセトン、
メチルエチルケトン、酢酸エチル、アルコール類、トル
エン等の通常の炭化水素系の有機溶剤には溶解せず、塗
布に当たってはフッ素系の有機溶剤を使用する必要があ
った。ところが、フッ素系有機溶剤は高価であり、オゾ
ン層破壊の問題を起こしたり、作業環境の悪化をおこし
たりして極めて生産適性のないものである。
【0008】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、磁性体と安
定強固な吸着結合体を作り、なおかつ一般の炭化水素系
有機溶剤に溶解し、フッ素系有機溶剤を使用する必要が
ないフッ素系有機化合物からなる潤滑剤を提供すること
を目的とし、また蒸着、スパッタリングリング等によっ
て記録密度を飛躍的に向上させることができる金属薄膜
からなる磁気記録媒体に走行性、耐久性、繰り返し耐久
性、保存性を付与した磁気記録媒体を提供するものであ
る。さらに、屋外での使用環境においても十分な走行性
と耐久性を有する磁気記録媒体を提供することを目的と
し、薄膜ヘッド等の高密度記録用磁気ヘッドを腐食する
ことがない磁気記録媒体を提供することを目的とする。
定強固な吸着結合体を作り、なおかつ一般の炭化水素系
有機溶剤に溶解し、フッ素系有機溶剤を使用する必要が
ないフッ素系有機化合物からなる潤滑剤を提供すること
を目的とし、また蒸着、スパッタリングリング等によっ
て記録密度を飛躍的に向上させることができる金属薄膜
からなる磁気記録媒体に走行性、耐久性、繰り返し耐久
性、保存性を付与した磁気記録媒体を提供するものであ
る。さらに、屋外での使用環境においても十分な走行性
と耐久性を有する磁気記録媒体を提供することを目的と
し、薄膜ヘッド等の高密度記録用磁気ヘッドを腐食する
ことがない磁気記録媒体を提供することを目的とする。
【0009】
【課題を解決するための手段】本発明は、非磁性支持体
上の少なくとも一方の面に強磁性金属薄膜の磁性層を形
成した磁気記録媒体において、下記の一般式(1)もし
くは一般式(2)で表されるパーフルオロアルキル基1
個と−OH、−COOH、−SO3 M、−O(CH2 )
b SO3 M、−PO3 M2 、−OPO3 M(Mは水素原
子、アルカリ金属、アンモニウム)の群から選ばれた極
性基を少なくとも2個有するフッ素系化合物の少なくと
も1種を含む表面層を有する磁気記録媒体である。
上の少なくとも一方の面に強磁性金属薄膜の磁性層を形
成した磁気記録媒体において、下記の一般式(1)もし
くは一般式(2)で表されるパーフルオロアルキル基1
個と−OH、−COOH、−SO3 M、−O(CH2 )
b SO3 M、−PO3 M2 、−OPO3 M(Mは水素原
子、アルカリ金属、アンモニウム)の群から選ばれた極
性基を少なくとも2個有するフッ素系化合物の少なくと
も1種を含む表面層を有する磁気記録媒体である。
【0010】
【化3】
【0011】ただし、nは2〜10、n+mは6〜26
の整数である。とくに、フッ素系化合物が下記の一般式
(3)〜(4)で表される化合物のうちの少なくとも一
種であるが好ましい。
の整数である。とくに、フッ素系化合物が下記の一般式
(3)〜(4)で表される化合物のうちの少なくとも一
種であるが好ましい。
【0012】
【化4】
【0013】ここで、Rfは、一般式(1)または
(2) Yは、2価の連結基、Xは、−OH、−COOH、−S
O3 M、−O(CH2 )b SO3 M、−PO3 M2 、−
OPO3 Mであり、同一分子中のおいてXは同一でなく
てもよい。 Rh は、CH、CCH3 、CHCH2 もしくはCHCH
2CH2 kは、2もしくは3 lは、1〜3の整数 一般式(1)もしくは(2)に記載のパーフルオロアル
キル基において、mが大きい場合あるいは小さい場合に
は、有機溶剤に対する溶解性が低下するので、mは、2
〜18の範囲であることが好ましい。nは、4〜8であ
ることがとくに好ましく、6〜8であることがさらに好
ましい。nが4よりも小さい場合には、摩擦係数が低下
せず、またnが8よりも大きい場合には、通常の有機溶
剤への溶解性が低下するので好ましくない。n+mは、
10〜24であることが好ましく、12〜24であるこ
とがさらに好ましい。n+mが、10よりも小さい場合
には、摩擦係数を充分に低下させることができず、ま
た、スチル耐久性も改良することが難しくなる。そし
て、n+mが24よりも大きい場合には、通常用いられ
る炭化水素系などのフッ素系でない有機溶剤への溶解性
が低下するためか塗布が充分に行えなくなる。
(2) Yは、2価の連結基、Xは、−OH、−COOH、−S
O3 M、−O(CH2 )b SO3 M、−PO3 M2 、−
OPO3 Mであり、同一分子中のおいてXは同一でなく
てもよい。 Rh は、CH、CCH3 、CHCH2 もしくはCHCH
2CH2 kは、2もしくは3 lは、1〜3の整数 一般式(1)もしくは(2)に記載のパーフルオロアル
キル基において、mが大きい場合あるいは小さい場合に
は、有機溶剤に対する溶解性が低下するので、mは、2
〜18の範囲であることが好ましい。nは、4〜8であ
ることがとくに好ましく、6〜8であることがさらに好
ましい。nが4よりも小さい場合には、摩擦係数が低下
せず、またnが8よりも大きい場合には、通常の有機溶
剤への溶解性が低下するので好ましくない。n+mは、
10〜24であることが好ましく、12〜24であるこ
とがさらに好ましい。n+mが、10よりも小さい場合
には、摩擦係数を充分に低下させることができず、ま
た、スチル耐久性も改良することが難しくなる。そし
て、n+mが24よりも大きい場合には、通常用いられ
る炭化水素系などのフッ素系でない有機溶剤への溶解性
が低下するためか塗布が充分に行えなくなる。
【0014】また、2価の連結基であるYには、アミ
ド、エステル、チオール、エーテル、スルホキシド、ス
ルホンが選ばれるが、最も好ましいのは連結基を介さ
ず、炭素−炭素結合でパーフルオロアルキル基が炭化水
素基Rhに直接連結した場合である。
ド、エステル、チオール、エーテル、スルホキシド、ス
ルホンが選ばれるが、最も好ましいのは連結基を介さ
ず、炭素−炭素結合でパーフルオロアルキル基が炭化水
素基Rhに直接連結した場合である。
【0015】本発明の磁気記録媒体の表面層に含まれる
フッ素系化合物は、アゾビスイソブチロニトリルを触媒
として、ラジカル反応によってアリルマロン酸ジエチル
エステルのような末端二重結合を有する化合物とパーフ
ルオロアルキルヨージドとの反応生成物を亜鉛の存在下
でヨウ化水素酸を添加して還元した後に、加水分解して
合成することができる。また、パーフルオロアルキル酸
クロリドにリンゴ酸のような水酸基を持つジカルボン酸
を反応させてエステル結合で連結しても良い。本発明の
磁気記録媒体において、上記フッ素系化合物を含有する
表面層の形成は、炭化水素系溶剤に溶解して塗布するこ
とによって行うことができる。この利点は、本発明にお
けるフッ素系化合物がパーフルオロアルキル基中に炭化
水素基を含有するという構造的特徴に由来するものであ
るが、炭化水素系溶剤としては、アセトン、メチルエチ
ルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノ
ン、メタノール、エタノール、イソプロパノール等を用
いることができる。特に、溶解力、工程の安全性という
見地からは、メチルエチルケトン、メチルイソメチルケ
トン、シクロヘキサノン、イソプロパノールが望まし
い。
フッ素系化合物は、アゾビスイソブチロニトリルを触媒
として、ラジカル反応によってアリルマロン酸ジエチル
エステルのような末端二重結合を有する化合物とパーフ
ルオロアルキルヨージドとの反応生成物を亜鉛の存在下
でヨウ化水素酸を添加して還元した後に、加水分解して
合成することができる。また、パーフルオロアルキル酸
クロリドにリンゴ酸のような水酸基を持つジカルボン酸
を反応させてエステル結合で連結しても良い。本発明の
磁気記録媒体において、上記フッ素系化合物を含有する
表面層の形成は、炭化水素系溶剤に溶解して塗布するこ
とによって行うことができる。この利点は、本発明にお
けるフッ素系化合物がパーフルオロアルキル基中に炭化
水素基を含有するという構造的特徴に由来するものであ
るが、炭化水素系溶剤としては、アセトン、メチルエチ
ルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノ
ン、メタノール、エタノール、イソプロパノール等を用
いることができる。特に、溶解力、工程の安全性という
見地からは、メチルエチルケトン、メチルイソメチルケ
トン、シクロヘキサノン、イソプロパノールが望まし
い。
【0016】本発明における強磁性金属薄膜の材料とし
ては鉄、コバルト、ニッケルその他の強磁性金属あるい
はFe−Co、Fe−Ni、Fe−Rh、Co−P、C
o−B、Co−Y、Co−La、Co−Ce、Co−P
t、Co−Sm、Co−Mn、Co−Cr、Fe−Co
−Ni、Co−Ni−P、Co−Ni−B、Co−Ni
−Ag、Co−Ni−Nd、Co−Ni−Ce、Co−
Ni−Zn、Co−Ni−Cu、Co−Ni−W、Co
−Ni−Re等の強磁性合金を蒸着の方法により形成せ
しめたもので、その膜厚は0.02〜2μmの範囲のも
のが望ましい。上記の強磁性金属薄膜は他に、酸素、窒
素、クロム、ガリウム、砒素、ストロンチウム、ジルコ
ニウム、ニオブ、モリブデン、ロジウム、パラジウム、
スズ、アンチモン、テルル、プロメチウム、レニウム、
オスミウム、イリジウム、金、水銀、鉛、マグネシウ
ム、ビスマス等を含んでいても良い。
ては鉄、コバルト、ニッケルその他の強磁性金属あるい
はFe−Co、Fe−Ni、Fe−Rh、Co−P、C
o−B、Co−Y、Co−La、Co−Ce、Co−P
t、Co−Sm、Co−Mn、Co−Cr、Fe−Co
−Ni、Co−Ni−P、Co−Ni−B、Co−Ni
−Ag、Co−Ni−Nd、Co−Ni−Ce、Co−
Ni−Zn、Co−Ni−Cu、Co−Ni−W、Co
−Ni−Re等の強磁性合金を蒸着の方法により形成せ
しめたもので、その膜厚は0.02〜2μmの範囲のも
のが望ましい。上記の強磁性金属薄膜は他に、酸素、窒
素、クロム、ガリウム、砒素、ストロンチウム、ジルコ
ニウム、ニオブ、モリブデン、ロジウム、パラジウム、
スズ、アンチモン、テルル、プロメチウム、レニウム、
オスミウム、イリジウム、金、水銀、鉛、マグネシウ
ム、ビスマス等を含んでいても良い。
【0017】本発明に用いられる非磁性支持体としては
ポリエチレンテレフタレート、ポリイミド、ポリアミ
ド、ポリ塩化ビニル、三酢酸セルロース、ポリカーボネ
ート、ポリエチレンナフタレート、ポリフェニレンサル
ファイドのようなプラスチックス、アルミニウム、チタ
ン、ステンレス鋼、ガラス等が使用することができる。
走行耐久性を向上させるために、強磁性金属薄膜を形成
する前に非磁性支持体表面に微小突起を設けておくこと
が結果的に磁性層表面に適度な凹凸を設けることになり
効果的である。非磁性支持体表面の微小突起の存在密度
は2×106 〜2×108 個であり、突起の高さは1〜
50nmのものが好ましい。また、非磁性支持体の厚み
は用途によって相違するが3〜50μmのものが一般的
である。また、強磁性金属薄膜の密着性を高めるために
非磁性基体と強磁性金属薄膜との間に中間層を設けても
良い。さらに、本発明の磁気記録媒体の走行性を高める
ために、非磁性支持体の磁気記録層が形成された面とは
反対の面にカーボンブラック等の微粉末と結合剤樹脂と
を主体とする塗膜よりなるバックコート層を設けること
もできる。
ポリエチレンテレフタレート、ポリイミド、ポリアミ
ド、ポリ塩化ビニル、三酢酸セルロース、ポリカーボネ
ート、ポリエチレンナフタレート、ポリフェニレンサル
ファイドのようなプラスチックス、アルミニウム、チタ
ン、ステンレス鋼、ガラス等が使用することができる。
走行耐久性を向上させるために、強磁性金属薄膜を形成
する前に非磁性支持体表面に微小突起を設けておくこと
が結果的に磁性層表面に適度な凹凸を設けることになり
効果的である。非磁性支持体表面の微小突起の存在密度
は2×106 〜2×108 個であり、突起の高さは1〜
50nmのものが好ましい。また、非磁性支持体の厚み
は用途によって相違するが3〜50μmのものが一般的
である。また、強磁性金属薄膜の密着性を高めるために
非磁性基体と強磁性金属薄膜との間に中間層を設けても
良い。さらに、本発明の磁気記録媒体の走行性を高める
ために、非磁性支持体の磁気記録層が形成された面とは
反対の面にカーボンブラック等の微粉末と結合剤樹脂と
を主体とする塗膜よりなるバックコート層を設けること
もできる。
【0018】また、本発明の磁気記録媒体は、磁性層と
しては、磁性粉末を結合剤中に分散して支持体上に塗布
したもの、支持体上に形成した強磁性金属薄膜のいずれ
のものにも適用することができるが、鉄、ニッケル、コ
バルト等の金属もしくはその合金からなる強磁性金属薄
膜からなる磁性層で形成された磁気記録媒体に好適であ
る。
しては、磁性粉末を結合剤中に分散して支持体上に塗布
したもの、支持体上に形成した強磁性金属薄膜のいずれ
のものにも適用することができるが、鉄、ニッケル、コ
バルト等の金属もしくはその合金からなる強磁性金属薄
膜からなる磁性層で形成された磁気記録媒体に好適であ
る。
【0019】とくに、支持体には、厚さ5μm〜15μ
mのPET、PEN、ポリアミド、ポリイミド樹脂等の
フィルムが好ましく、磁性層厚みは、0.1〜0.3μ
mであることが好ましい。また、磁性層は、コバルトが
80重量%以上で他にニッケル、クロム等を含有する単
層、平行型多層、非平行型多層のものがとくに好まし
く、磁性層形成手段は蒸着、スパッタリング等の手段を
適用することができるが、酸素存在下で蒸着法により形
成した磁性層が特に好ましい。
mのPET、PEN、ポリアミド、ポリイミド樹脂等の
フィルムが好ましく、磁性層厚みは、0.1〜0.3μ
mであることが好ましい。また、磁性層は、コバルトが
80重量%以上で他にニッケル、クロム等を含有する単
層、平行型多層、非平行型多層のものがとくに好まし
く、磁性層形成手段は蒸着、スパッタリング等の手段を
適用することができるが、酸素存在下で蒸着法により形
成した磁性層が特に好ましい。
【0020】金属薄膜磁性層には、プラズマCVD等に
より、CH4 、C2 H6 、C3 H8、C4 H10等のアル
カン、CH2 =CH2 、CH3 CH=CH2 等のアルケ
ン、CH≡CH等のアルキン等をはじめ炭素化合物を供
給して得られる炭素保護膜を形成した後に塗布等によっ
て本発明の潤滑剤を付与することができる。
より、CH4 、C2 H6 、C3 H8、C4 H10等のアル
カン、CH2 =CH2 、CH3 CH=CH2 等のアルケ
ン、CH≡CH等のアルキン等をはじめ炭素化合物を供
給して得られる炭素保護膜を形成した後に塗布等によっ
て本発明の潤滑剤を付与することができる。
【0021】本発明のフッ素系化合物含有層は、防錆性
が優れているが、さらに、テトラザインデン環化合物及
び/又はチオウラシル環化合物からなる防錆剤を含有す
ることによって磁気記録媒体としての特性を高めること
ができる。このような目的で使用可能なテトラザインデ
ン環化合物には、下記に示すものが挙げられる。
が優れているが、さらに、テトラザインデン環化合物及
び/又はチオウラシル環化合物からなる防錆剤を含有す
ることによって磁気記録媒体としての特性を高めること
ができる。このような目的で使用可能なテトラザインデ
ン環化合物には、下記に示すものが挙げられる。
【0022】
【化5】
【0023】ここで、Rには、アルキル基、アルコキシ
基、アルキルアミド基から選ばれる炭化水素基である。
とくに好ましくは、炭素数3以上26以下であり、アル
コキシの場合にはROCOCH2 −のRは、C3 H
7 −、C6 H13−、フェニル、またアルキル基の場合に
は、C6 H13−、C9 H19−、C17H35−が挙げられ、
アルキルアミドの場合にはRNHCOCH2 −のRはフ
ェニル、C3 H7 −が挙げられる。また、チオウラシル
環化合物には、下記に示すものが挙げられる。
基、アルキルアミド基から選ばれる炭化水素基である。
とくに好ましくは、炭素数3以上26以下であり、アル
コキシの場合にはROCOCH2 −のRは、C3 H
7 −、C6 H13−、フェニル、またアルキル基の場合に
は、C6 H13−、C9 H19−、C17H35−が挙げられ、
アルキルアミドの場合にはRNHCOCH2 −のRはフ
ェニル、C3 H7 −が挙げられる。また、チオウラシル
環化合物には、下記に示すものが挙げられる。
【0024】
【化6】
【0025】ここで、Rは炭素数が3以上である炭化水
素基である。潤滑剤と防錆剤を混合して同時に塗布して
も良いが、防錆剤を先に塗布した後に、潤滑剤を塗布す
る方法が効果的である。塗布の方法は有機溶剤に溶解し
てコイルバー等通常の塗布方式で塗布することができ
る。防錆剤の塗布量は0.1〜5.0mg/m2 潤滑剤
は1.0〜50mg/m2が好ましい。特に好ましくは
防錆剤0.3〜3mg/m2 潤滑剤3〜30mg/
m2 。また、本発明の有機フッ素化合物からなる潤滑剤
に他の潤滑剤を併用しても良い。例えば下記で示される
パーフロオロポリエーテルCF3 −(CFRfCF2 −
O)−nCF2 CF3 あるいはこの末端がOH、CO
OH等で変性されている物が用いられる。ここでRfは
CF3 、Fであり、分子量は1000〜20000、好
ましくは2500〜10000のものが挙げられる。具
体的にはデュポン社製 KRYTOXK143AZ、同
K157FSL、モンテフルオス社製 FOMBLIN
AM2001、ダイキン工業製DEMNUMSYなど
である。
素基である。潤滑剤と防錆剤を混合して同時に塗布して
も良いが、防錆剤を先に塗布した後に、潤滑剤を塗布す
る方法が効果的である。塗布の方法は有機溶剤に溶解し
てコイルバー等通常の塗布方式で塗布することができ
る。防錆剤の塗布量は0.1〜5.0mg/m2 潤滑剤
は1.0〜50mg/m2が好ましい。特に好ましくは
防錆剤0.3〜3mg/m2 潤滑剤3〜30mg/
m2 。また、本発明の有機フッ素化合物からなる潤滑剤
に他の潤滑剤を併用しても良い。例えば下記で示される
パーフロオロポリエーテルCF3 −(CFRfCF2 −
O)−nCF2 CF3 あるいはこの末端がOH、CO
OH等で変性されている物が用いられる。ここでRfは
CF3 、Fであり、分子量は1000〜20000、好
ましくは2500〜10000のものが挙げられる。具
体的にはデュポン社製 KRYTOXK143AZ、同
K157FSL、モンテフルオス社製 FOMBLIN
AM2001、ダイキン工業製DEMNUMSYなど
である。
【0026】
【作用】本発明は、非磁性支持体上の少なくとも一方の
面に強磁性金属薄膜からなる磁性層を有する磁気記録媒
体において、パーフルオロアルキル基を1個と−OH、
−COOM、−SO3 M、−OSO3 M、−PO
3 M2 、−OPO3 M2 (Mは水素原子、アルカリ金
属、アンモニウム)の群から選ばれた2個以上の極性基
を有するフッ素系化合物のうちの少なくとも1種の含有
層を磁性層上に形成した磁気記録媒体であり、フッ素系
化合物が一般的な炭化水素系の有機溶剤に溶解するの
で、磁性層上への塗布膜の形成が容易であり、また磁性
層表面に吸着したフッ素系化合物のパーフルオロアルキ
ル基が保護層として表面に配向し、優れた潤滑性を与え
るとともに、防錆剤を併用することによってとくに大き
な効果が得られる。
面に強磁性金属薄膜からなる磁性層を有する磁気記録媒
体において、パーフルオロアルキル基を1個と−OH、
−COOM、−SO3 M、−OSO3 M、−PO
3 M2 、−OPO3 M2 (Mは水素原子、アルカリ金
属、アンモニウム)の群から選ばれた2個以上の極性基
を有するフッ素系化合物のうちの少なくとも1種の含有
層を磁性層上に形成した磁気記録媒体であり、フッ素系
化合物が一般的な炭化水素系の有機溶剤に溶解するの
で、磁性層上への塗布膜の形成が容易であり、また磁性
層表面に吸着したフッ素系化合物のパーフルオロアルキ
ル基が保護層として表面に配向し、優れた潤滑性を与え
るとともに、防錆剤を併用することによってとくに大き
な効果が得られる。
【0027】従来の強磁性金属薄膜からなる磁気記録媒
体用フッ素系化合物は、末端の極性基がいずれも1個で
あるものが一般的であった。本件発明のフッ素系化合物
は末端の極性基が2個以上あることが特徴である。末端
に極性基を2個以上持つことにより強磁性金属薄膜への
吸着速度を早め、吸着する分子の割合が多く、少量の塗
布でも効率よく、かつ強固な吸着が起こるので、吸着し
ない化合物による弊害を防止することができる。さら
に、強磁性金属薄膜上での分子の移行性を高めて潤滑性
を向上させるものである。すなわち、強磁性金属薄膜へ
の潤滑剤用化合物の付与は通常は溶液の塗布でなされる
が、塗布した溶液が短時間で乾燥するために平衡状態で
の吸着は実際にはあり得ず、したがって表面に付与した
全分子のうちの実際に吸着した分子の割合は、吸着の実
効速度で決められてしまう。
体用フッ素系化合物は、末端の極性基がいずれも1個で
あるものが一般的であった。本件発明のフッ素系化合物
は末端の極性基が2個以上あることが特徴である。末端
に極性基を2個以上持つことにより強磁性金属薄膜への
吸着速度を早め、吸着する分子の割合が多く、少量の塗
布でも効率よく、かつ強固な吸着が起こるので、吸着し
ない化合物による弊害を防止することができる。さら
に、強磁性金属薄膜上での分子の移行性を高めて潤滑性
を向上させるものである。すなわち、強磁性金属薄膜へ
の潤滑剤用化合物の付与は通常は溶液の塗布でなされる
が、塗布した溶液が短時間で乾燥するために平衡状態で
の吸着は実際にはあり得ず、したがって表面に付与した
全分子のうちの実際に吸着した分子の割合は、吸着の実
効速度で決められてしまう。
【0028】本願発明のフッ素系化合物は、2個以上の
極性基を有するのでそのうちの1個が吸着すれば分子が
吸着したことになるので、極性基の数だけ吸着の確率が
高くなるために上記の本願発明の効果が発揮されるもの
と推定される。したがって、単純に比較すれば、本願発
明のフッ素化合物を使用することにより極性基が1個し
かないものよりも少量の塗布量で同じだけの吸着を果た
すことができる。そして、それだけ潤滑剤分子に無駄が
なく、吸着しない状態で強磁性金属薄膜上に存在する分
子が少ないということになる。そのため、磁気ヘッド表
面に付着して磁性層と磁気ヘッドとの間隙を広げて出力
を低下させるいわゆる「ヘッド汚れ」の問題や、磁気ヘ
ッドのギャップ間に入り込んでいわゆる「ヘッド目詰ま
り」の問題を引き起こす可能性が少ないのである。ま
た、吸着しない酸性極性基を有する分子が少ないので磁
気ヘッドを腐食するおそれが少なくなる。
極性基を有するのでそのうちの1個が吸着すれば分子が
吸着したことになるので、極性基の数だけ吸着の確率が
高くなるために上記の本願発明の効果が発揮されるもの
と推定される。したがって、単純に比較すれば、本願発
明のフッ素化合物を使用することにより極性基が1個し
かないものよりも少量の塗布量で同じだけの吸着を果た
すことができる。そして、それだけ潤滑剤分子に無駄が
なく、吸着しない状態で強磁性金属薄膜上に存在する分
子が少ないということになる。そのため、磁気ヘッド表
面に付着して磁性層と磁気ヘッドとの間隙を広げて出力
を低下させるいわゆる「ヘッド汚れ」の問題や、磁気ヘ
ッドのギャップ間に入り込んでいわゆる「ヘッド目詰ま
り」の問題を引き起こす可能性が少ないのである。ま
た、吸着しない酸性極性基を有する分子が少ないので磁
気ヘッドを腐食するおそれが少なくなる。
【0029】また、2個以上のアンカーとなる極性基が
あるので強磁性金属薄膜への吸着が確実なものとなるの
で、安定な潤滑膜が得られるという利点がある。さら
に、本願発明のフッ素系化合物は、分子末端のパーフル
オロアルキル基により潤滑性がもたらされるとともに、
分子内に特定の長さの炭化水素基を導入したので、フッ
素を含有しない炭化水素系等の有機溶剤に溶解しやすい
という特徴も有している。
あるので強磁性金属薄膜への吸着が確実なものとなるの
で、安定な潤滑膜が得られるという利点がある。さら
に、本願発明のフッ素系化合物は、分子末端のパーフル
オロアルキル基により潤滑性がもたらされるとともに、
分子内に特定の長さの炭化水素基を導入したので、フッ
素を含有しない炭化水素系等の有機溶剤に溶解しやすい
という特徴も有している。
【0030】
【実施例】以下に本発明の実施例を示し、本発明をさら
に詳細に説明する。 化合物1の合成例 攪拌機、窒素導入管、温度計、環流コンデンサを設けた
200ml3つ口フラスコ内を窒素置換し、n−パーフ
ルオロオクチルヨージド54.6g(0.1mol)、
ジエチル−2−アリルマロネート22.0g(0.11
mol)を加えて攪拌した。70℃に加熱し、窒素気流
下でアゾビスイソブチロニトリル(AIBN)0.82
g(5mmol)を添加して反応を開始した。1時間後
にもう一度同じ量のAIBNを加え、2時間後に更にも
う一度同量のAIBNを加えて3時間後に反応を終了し
た。この反応容器に50mlのエタノールを加えて水冷
下でヨウ化水素酸22.4g(0.1mol)を滴下し
た。フラスコを65℃に加熱し、ゆっくりと亜鉛末7.
85g(0.12mol)を少しずつ加えた。1時間加
熱攪拌の後、反応を終了した。
に詳細に説明する。 化合物1の合成例 攪拌機、窒素導入管、温度計、環流コンデンサを設けた
200ml3つ口フラスコ内を窒素置換し、n−パーフ
ルオロオクチルヨージド54.6g(0.1mol)、
ジエチル−2−アリルマロネート22.0g(0.11
mol)を加えて攪拌した。70℃に加熱し、窒素気流
下でアゾビスイソブチロニトリル(AIBN)0.82
g(5mmol)を添加して反応を開始した。1時間後
にもう一度同じ量のAIBNを加え、2時間後に更にも
う一度同量のAIBNを加えて3時間後に反応を終了し
た。この反応容器に50mlのエタノールを加えて水冷
下でヨウ化水素酸22.4g(0.1mol)を滴下し
た。フラスコを65℃に加熱し、ゆっくりと亜鉛末7.
85g(0.12mol)を少しずつ加えた。1時間加
熱攪拌の後、反応を終了した。
【0031】反応液を熱濾過して不溶物を除去した。濾
液を700mlの蒸留水中に加え、酢酸エチル100m
lで抽出し、ロータリーエバポレータで濃縮した。濃縮
物を200ml三つ口フラスコに加えてエタノール70
ml、水30ml、水酸化ナトリウム12g(0.3m
ol)を加えて80℃に加熱し加水分解を行った。3時
間後に反応を終了し、600mlの蒸留水に加えて加熱
溶解し濾過した。濾液に25mlの塩酸を加え酸性で結
晶を析出させた。酢酸エチル50ml、n−ヘキサン2
00mlで再結晶し精製した。NMRスペクトル、マス
スペクトルでC8 F17CH2CH2CH2CH(COO
H)2の構造を確認した。収量34.8g、収率61.
8%であった。同様の方法によって、化合物2 C10F21CH2CH2CH2CH(COOH)2 化合物3 (CF3 )2CF(CF2)8CH2CH2CH2CH(CO
OH)2 も合成した。
液を700mlの蒸留水中に加え、酢酸エチル100m
lで抽出し、ロータリーエバポレータで濃縮した。濃縮
物を200ml三つ口フラスコに加えてエタノール70
ml、水30ml、水酸化ナトリウム12g(0.3m
ol)を加えて80℃に加熱し加水分解を行った。3時
間後に反応を終了し、600mlの蒸留水に加えて加熱
溶解し濾過した。濾液に25mlの塩酸を加え酸性で結
晶を析出させた。酢酸エチル50ml、n−ヘキサン2
00mlで再結晶し精製した。NMRスペクトル、マス
スペクトルでC8 F17CH2CH2CH2CH(COO
H)2の構造を確認した。収量34.8g、収率61.
8%であった。同様の方法によって、化合物2 C10F21CH2CH2CH2CH(COOH)2 化合物3 (CF3 )2CF(CF2)8CH2CH2CH2CH(CO
OH)2 も合成した。
【0032】化合物4の合成例 攪拌機、温度計、冷却管を設けた300ml3つ口フラ
スコにリンゴ酸(D,L−ヒドロキシコハク酸)7.3
8g(0.055mol)、酢酸エチル150ml、ト
リエチルアミン5.56g(0.055mol)をそれ
ぞれ加えて攪拌し溶解した。次いで、3−パーフルオロ
オクチルプロピオニルクロリド25.53g(0.05
mol)を25mlの酢酸エチルで溶解してゆっくりと
滴下した。発熱を抑えるために、氷水で反応容器を冷却
し、滴下終了後30分間室温にて攪拌を続け、蒸留水4
00mlに加えて得られた結晶を濾取し、 化合物4 C8 F17CH2CH2COOCH(COOH)
CH2COOH を収量23.4g、収率70%で得た。
スコにリンゴ酸(D,L−ヒドロキシコハク酸)7.3
8g(0.055mol)、酢酸エチル150ml、ト
リエチルアミン5.56g(0.055mol)をそれ
ぞれ加えて攪拌し溶解した。次いで、3−パーフルオロ
オクチルプロピオニルクロリド25.53g(0.05
mol)を25mlの酢酸エチルで溶解してゆっくりと
滴下した。発熱を抑えるために、氷水で反応容器を冷却
し、滴下終了後30分間室温にて攪拌を続け、蒸留水4
00mlに加えて得られた結晶を濾取し、 化合物4 C8 F17CH2CH2COOCH(COOH)
CH2COOH を収量23.4g、収率70%で得た。
【0033】実施例および比較例 10μm厚のポリエチレンテレフタレート上にコバルト
−ニッケル磁性膜(膜厚150nm)を斜め蒸着し、強
磁性金属薄膜層を設けた。蒸着は、コバルト−ニッケル
合金(Co:80重量%、Ni:20重量%)を電子ビ
ームによって蒸発し、真空度6.7×10-3N/m2 中
にて酸素ガスを導入しつつ入射角が50度となるよう斜
め蒸着を行った。得られた強磁性金属薄膜上に、表1お
よび表2記載のフッ素系化合物および防錆剤の溶液をコ
イルバーで塗布した。支持体にはバックコート層を設
け、8mm幅にスリットして磁気テープを作成した。
−ニッケル磁性膜(膜厚150nm)を斜め蒸着し、強
磁性金属薄膜層を設けた。蒸着は、コバルト−ニッケル
合金(Co:80重量%、Ni:20重量%)を電子ビ
ームによって蒸発し、真空度6.7×10-3N/m2 中
にて酸素ガスを導入しつつ入射角が50度となるよう斜
め蒸着を行った。得られた強磁性金属薄膜上に、表1お
よび表2記載のフッ素系化合物および防錆剤の溶液をコ
イルバーで塗布した。支持体にはバックコート層を設
け、8mm幅にスリットして磁気テープを作成した。
【0034】得られた磁気テープは以下の方法によって
評価し、その結果を表1および2に示す。 〔評価方法〕 摩擦係数の測定 得られた磁気テープとステンレスポールとを30gの張
力(T1 )で巻き付け角180°で接触させた、磁気テ
ープを3.3cm/秒の速度で走行させるのに必要な張
力(T2 )を測定した。下記計算式により磁気テープ
の、摩擦係数μをもとめた。 μ=1/π・ln(T2 /T1 ) 摩擦係数は、A)そのままのもの(保存前)を23℃
70%RHで測定B)5℃ 80%RHで測定、C:4
0℃80%RHで測定、D:60℃ 90%RHの環境
に7日間保存したものを23℃ 70%RHで測定し
た。 スチル耐久性の測定 スチル耐久性は、8mmVTR(富士写真フィルム
(株)製 FUJIX−8M6型)を使用してスチル制
限機構を動作させないでスチル状態で画像を再生し、画
像が出なくなるまでの時間を測定して評価した。スチル
耐久性は、A)そのままのもの(保存前)と D)60
℃ 90%RHの環境に7日間保存したものを 5℃
10%RHで測定した。 耐候性の評価 下記環境に保存し、保存後の磁性層表面を目視および光
学顕微鏡で観察した。 Cl2 :10ppb,NO2 :200ppb,H2 S:
10ppb 上記3種混合ガスの流量:1000リットル/時間 温湿度:60℃ 90%RH 保存日数:10日間 評価基準 ○‥磁性層表面を200倍の光学顕微鏡で観
察したとき腐食がまったく見られない △‥同上で腐食が見られるが、肉眼観察で磁性層表面の
金属光沢が認められる ×‥肉眼で観察したとき磁性層表面に金属光沢がない
評価し、その結果を表1および2に示す。 〔評価方法〕 摩擦係数の測定 得られた磁気テープとステンレスポールとを30gの張
力(T1 )で巻き付け角180°で接触させた、磁気テ
ープを3.3cm/秒の速度で走行させるのに必要な張
力(T2 )を測定した。下記計算式により磁気テープ
の、摩擦係数μをもとめた。 μ=1/π・ln(T2 /T1 ) 摩擦係数は、A)そのままのもの(保存前)を23℃
70%RHで測定B)5℃ 80%RHで測定、C:4
0℃80%RHで測定、D:60℃ 90%RHの環境
に7日間保存したものを23℃ 70%RHで測定し
た。 スチル耐久性の測定 スチル耐久性は、8mmVTR(富士写真フィルム
(株)製 FUJIX−8M6型)を使用してスチル制
限機構を動作させないでスチル状態で画像を再生し、画
像が出なくなるまでの時間を測定して評価した。スチル
耐久性は、A)そのままのもの(保存前)と D)60
℃ 90%RHの環境に7日間保存したものを 5℃
10%RHで測定した。 耐候性の評価 下記環境に保存し、保存後の磁性層表面を目視および光
学顕微鏡で観察した。 Cl2 :10ppb,NO2 :200ppb,H2 S:
10ppb 上記3種混合ガスの流量:1000リットル/時間 温湿度:60℃ 90%RH 保存日数:10日間 評価基準 ○‥磁性層表面を200倍の光学顕微鏡で観
察したとき腐食がまったく見られない △‥同上で腐食が見られるが、肉眼観察で磁性層表面の
金属光沢が認められる ×‥肉眼で観察したとき磁性層表面に金属光沢がない
【0035】
【表1】
【0036】
【表2】
【0037】
【発明の効果】従来公知の潤滑剤では得られなかった高
度な保存性、走行性、耐久性を合わせ持つ保護層の技術
が得られ、高密度磁気記録媒体を実現した。これは本発
明に開示した構造の潤滑剤は磁性層表面へ吸着し、パー
フルオロアルキル鎖の持つ撥水性、撥油性が保護層とし
てエネルギーを低下させ良好な潤滑性を付与したもので
あり、特にパーフロロアルキル鎖と炭化水素部分を1個
の分子内に併せ持つことにより炭化水素系の有機溶剤へ
の溶解性が向上し、炭化水素系の有機溶剤での保護層形
成が可能となった。また潤滑性を発現するパーフルオロ
アルキル鎖と磁性層への吸着性を発現する極性基の比率
が、従来の化合物は1であったのに対し本発明は2以上
であり、1分子当たりの吸着特性が高く、少ない添加量
でも極めて高い潤滑性を示した。これは一般式(4)の
化合物の場合も同様である。
度な保存性、走行性、耐久性を合わせ持つ保護層の技術
が得られ、高密度磁気記録媒体を実現した。これは本発
明に開示した構造の潤滑剤は磁性層表面へ吸着し、パー
フルオロアルキル鎖の持つ撥水性、撥油性が保護層とし
てエネルギーを低下させ良好な潤滑性を付与したもので
あり、特にパーフロロアルキル鎖と炭化水素部分を1個
の分子内に併せ持つことにより炭化水素系の有機溶剤へ
の溶解性が向上し、炭化水素系の有機溶剤での保護層形
成が可能となった。また潤滑性を発現するパーフルオロ
アルキル鎖と磁性層への吸着性を発現する極性基の比率
が、従来の化合物は1であったのに対し本発明は2以上
であり、1分子当たりの吸着特性が高く、少ない添加量
でも極めて高い潤滑性を示した。これは一般式(4)の
化合物の場合も同様である。
【0038】さらに、薄膜金属型磁気記録媒体では、防
錆剤との併用によりさらに高い保存性を実現するが、こ
れは潤滑剤の炭化水素部分と防錆剤との相互間で親和性
を持つことにより、磁性層を錆の活性点を保護してい
る。
錆剤との併用によりさらに高い保存性を実現するが、こ
れは潤滑剤の炭化水素部分と防錆剤との相互間で親和性
を持つことにより、磁性層を錆の活性点を保護してい
る。
Claims (3)
- 【請求項1】 非磁性支持体上の少なくとも一方の面に
強磁性金属薄膜の磁性層を形成した磁気記録媒体におい
て、下記の一般式(1)もしくは一般式(2)で表され
るパーフルオロアルキル基1個と−OH、−COOH、
−SO3 M、−O(CH2 )b SO3 M、−PO
3 M2 、−OPO3 M(Mは水素原子、アルカリ金属、
アンモニウム)の群から選ばれた極性基を少なくとも2
個有するフッ素系化合物の少なくとも1種を含む表面層
を有することを特徴とする磁気記録媒体。 【化1】 ただし、nは2〜10、n+mは6〜26の整数であ
る。 - 【請求項2】 フッ素系化合物が下記の一般式(3)〜
(4)で表される化合物のうちの少なくとも一種である
ことを特徴とする請求項1記載の磁気記録媒体。 【化2】 ここで、Rfは、一般式(1)または(2) Yは、2価の連結基、 Xは、−OH、−COOH、−SO3 M、−O(C
H2 )b SO3 M、−PO3 M2 、−OPO3 Mであ
り、同一分子中のおいてXは同一でなくてもよい。 Rh は、CH、CCH3 、CHCH2 もしくはCHCH
2CH2 kは、2もしくは3 lは、1〜3の整数 - 【請求項3】 表面層中に防錆剤を含有する請求項1に
記載の磁気記録媒体。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP22343593A JPH0778334A (ja) | 1993-09-08 | 1993-09-08 | 磁気記録媒体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP22343593A JPH0778334A (ja) | 1993-09-08 | 1993-09-08 | 磁気記録媒体 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0778334A true JPH0778334A (ja) | 1995-03-20 |
Family
ID=16798105
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP22343593A Pending JPH0778334A (ja) | 1993-09-08 | 1993-09-08 | 磁気記録媒体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0778334A (ja) |
-
1993
- 1993-09-08 JP JP22343593A patent/JPH0778334A/ja active Pending
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