JPH07813B2 - 焼鈍炉 - Google Patents

焼鈍炉

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JPH07813B2
JPH07813B2 JP25450085A JP25450085A JPH07813B2 JP H07813 B2 JPH07813 B2 JP H07813B2 JP 25450085 A JP25450085 A JP 25450085A JP 25450085 A JP25450085 A JP 25450085A JP H07813 B2 JPH07813 B2 JP H07813B2
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修 竹内
章 相沢
透 井浦
宏 山崎
健二郎 松本
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石川島播磨重工業株式会社
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  • Heat Treatment Of Strip Materials And Filament Materials (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] この発明は、製鉄所の冷延工場の薄板熱処理工程におけ
る箱型タイト焼鈍炉に関するものである。
[従来の技術] 第8図に従来の箱型コイル焼鈍炉の概略断面を示す。本
例の場合の被処理物は、0.2〜3.2mm厚程の薄板を密に巻
いた物であり、タイトコイルと称する。このようなコイ
ルWを支持するプレナムチャンバ1は金属版を格子状に
組み、風が自由に流れるようになっている。このプレナ
ムチャンバ1の一端側には、モータ2に連結されたファ
ン3が設けられ、さらにファン3の吐出側には風箱4が
設けられているこの風箱4はプレナムチャンバ1と共
に、雰囲気ガスを循環させる一連のガス流路Lを成して
いる。コイルWの上方には、複数の輻射管5が支持され
ている。これらの輻射管5の一端にはバーナ(図示せ
ず)、他端には排気ダクト(図示せず)が設置されてい
る。
風箱4の途中には炉殻6及び断熱材7を貫通してクーラ
8が設けられ、このクーラ8には、このクーラ8自体を
風箱4内に出し入れするクーラ駆動装置9と、炉内外の
シールを目的とするベローズ10が備えられている。一
方、炉前には、コイルWを装入、抽出する際に開閉する
ドア11と、このドア11と炉殻6の接触部における炉の内
外を完全シールするためのドアシール装置12が備えられ
ている。
コイルWはその冶金上の要求から750℃程度に加熱さ
れ、十分に均熱された後に冷却処理される。炉内には窒
素と水素の混合ガスが封入されている。加熱、均熱期に
は、クーラー8を図中実線で表すようにクーラー駆動装
置9によって十分に炉外に引き出しておく。バーナで発
生した高温燃焼ガスを内包せる輻射管5の外表面より輻
射熱が発射され、モータ2の運転によりファン3が図中
の矢印方向に炉内雰囲気ガスを循環させる。
第9図によりコイルWの加熱の仕組みを説明する。輻射
管5の外表面から外向きに放出された熱輻射線は概ねコ
イルWに向かう分と、上方(天井)の断熱材7に向かう
分と、炉内雰囲気ガスに吸収される分となる。上方(天
井)の断熱材7の表面からはコイルWに輻射線が発射さ
れる。
このことから、コイルWの上面は、概ね輻射管5及び上
方(天井)断熱材7の熱輻射線と、雰囲気ガス流による
対流によって盛んに加熱される。コイルWの側面の加熱
は、その角度から雰囲気ガス流による対流加熱が主とな
り、輻射管5からの輻射分は減少する。また、コイルW
の下面については、雰囲気ガス流による対流加熱のみと
なる。
コイルWの上面のA点における温度上昇と温度降下曲線
Aと、下面のB点における温度上昇と温度降下曲線Bを
第7図に示す。上面のA点は下面のB点に比べて温度上
昇が遅れている。これは、上述の輻射線の有無、上面の
A点付近で吸収された残りの熱ガスで下面のB点を加熱
すること、さらに下面のB点が熱容量が大きい金属製の
プレナムチャンバ1と接しているためであり、第7図に
示すように比較的大きなT1の時間遅れが生じる。
第7図にては時間帯を3つに分け、Iを加熱期、IIを均
熱期、IIIを冷却期とする。
下面のB点が目標温度に到達してから均熱を行い、次に
冷却を行う。その際には、輻射管5のバーナを消化し、
クーラー8をクーラー駆動装置9によって風箱4内に挿
入する。クーラー8は、その内部に冷却水管群を有し、
通過する雰囲気ガスを冷却する。雰囲気ガスが冷却さ
れ、この冷却された循環ガスにより、断熱材7、プレナ
ムチャンバ1、ファン3、輻射管5及び風箱4の温度が
徐々に下がる。
コイルWから見ると最も冷たい雰囲気ガスがコイルWの
上面に当たり、次に側面に沿い最後にプレナムチャンバ
1を介して冷却される。このことから前記の上面のA点
と下面のB点を比較すると、下面のB点の温度降下が大
幅に遅れ、第7図に示すように比較的大きなT2の時間遅
れを生じる。
[発明が解決しようとする問題点] 上述したように従来の焼鈍炉にあっては、コイルWの下
面のB点の加熱、及び冷却には大きな時間遅れが生じ、
加熱、冷却期ともにそのコイルWの上面のA点が最悪条
件点となる。そのため、次のような問題があった。
.コイル下面の温度によって操業時間が決まるため、
加熱、均熱、冷却の操業時間が短縮できず、長い時間を
要する。
.生産量が制限される。
.燃料消費量が多く不経済である。
.コイル上面と下面の温度差が大きく品質上不利であ
る。
この発明は、このような従来の問題を解決し、加熱、均
熱及び冷却時間の短縮による生産能力の向上、省エネル
ギー化、被処理物コイルの温度分布の改善とこれによる
品質向上を図ることのできる焼鈍炉を提供することを目
的とする。
[問題点を解決するための手段] この発明は、その目的を達成させるために、被処理物を
収めた炉内に、高温の雰囲気ガスを循環させて被処理物
を加熱、均熱させた後、低温の雰囲気ガスを循環させて
被処理物を冷却させる焼鈍炉において、被処理物の加
熱、均熱時に雰囲気ガスを加熱する輻射管と、炉内の被
処理物上方の位置に備えられて雰囲気ガスを下方に噴出
する上部の噴出ノズルと、炉内の被処理物下方の位置に
備えられて雰囲気ガスを上方に噴出する下部の噴出ノズ
ルと、炉内の被処理物上方の空間と前記上部の噴出ノズ
ルとの間に形成されて被処理物の加熱、均熱時に通じる
上部のガス流路と、炉内の被処理物上方の空間と前記下
部の噴出ノズルとの間に形成されて被処理物の加熱、均
熱、冷却時に通じる下部のガス流路と、上部と下部のガ
ス流路中に備えられて、炉内の被処理物上方の空間の雰
囲気ガスを吸い込む循環ファンと、上部のガス流路中に
備えられて、被処理物の冷却時に雰囲気ガスを冷却する
上部クーラーと、下部のガス流路中に備えられて、被処
理物の加熱、均熱時に雰囲気ガスを加熱する補助加熱装
置と、下部のガス流路中に備えられて、被処理物の冷却
時に雰囲気ガスを冷却する下部クーラーとを具備してな
ることを特徴としている。
[作用] この発明の焼鈍炉は、被処理物の過熱においては、その
上面を主に輻射加熱しかつその下面を主に対流加熱し
て、被処理物の最温点をその被処理物の中央とし、一
方、被処理物の冷却時においては、被処理物の上方と下
方から同時に対流冷却して、被処理物の最冷点をその被
処理物の中央とすることにより、被処理物内の温度分布
を均一化して熱効率よく焼鈍する。
[実施例] 以下、本発明の一実施例を第1図ないし第6図を参照し
ながら説明する。
第1図は焼鈍炉の構成図であり、図中21は、焼鈍対象の
コイルWを支持するプレナムチャンバである。このプレ
ナムチャンバ21は金属版を格子状に組んで成り、このプ
レナムチャンバ21の溝内部には、上吹きの下部の噴出ノ
ズル22を複数個取り付けたダクト状の下部ヘッダ23が複
数列配置されている。この噴出ノズル22の取り付いた下
部ヘッダ23は下部風箱24に接続されている。コイルWの
上方には複数個の輻射管25が配置されており、この輻射
管25の上方には、上部の噴出ノズル26を複数個取り付け
た上部ヘッダ27が複数列配置されている。この上部ヘッ
ダ27は、分岐管28とダクト29を介して上部風箱30に接続
されている。
コイルW、輻射管25、プレナムチャンバ21、風箱24、3
0、及びこれらの風箱24、30に接続された吸い込み箱31
等は、断熱材32、炉殻33、コイルWの装入、抽出する際
に開閉するドア34、及びこのドア34と炉殻33の接触部に
おける炉内、炉外を完全シールするドアシール装置35等
によって格納されている。炉殻33は箱型をしていて、そ
の一側壁(本実施例の場合は後壁)に沿って風箱24、30
が配置されている。
そして、本例の場合は風箱24、30の中間に循環ファン36
が設けられている。この循環ファン36には、それを駆動
するモータ37が付属されている。循環ファン36は、回転
することによって、吸い込み箱31を通してコイルWの上
方の空間の雰囲気ガスを吸い込み、そしてその雰囲気ガ
スを下部風箱24と上部風箱30内に送り込むようになって
いる。下部風箱24は、噴出ノズル22の取り付いた下部ヘ
ッダ23に通じる一連の下部のガス流路L1を成していて、
この下部のガス流路L1を通して雰囲気ガスを導く。一
方、上部風箱30は、ダクト29と分岐管28を通って噴出ノ
ズル26の取り付けた上部ヘッダ27に通じる一連の上部の
ガス流路L2を成していて、この上部のガス流路L2を通し
て雰囲気ガスを導く。
上部風箱30と分岐管28には遮へいダンパー38、39が備え
られており、これらを調整することによって、上部と下
部の風箱24、30内への吐出風量を例えば、上部風箱30内
に0〜50%、下部風箱24内に100〜50%という具合に吐
出風量比を調整できるようになっている。
下部風箱24の下方には下部クーラ40がクーラハウジング
41と共に設置されている。クーラハウジング41には、開
口部における炉の内外を完全にシールするベローズ又は
蛇腹(図示せず)と、クーラ40を挿入、引き出しするク
ーラ駆動装置42が備えられている。更に、下部風箱24の
底部の部屋には、補助加熱装置43が格納されている。
上部風箱30は、断熱材32と炉殻33を貫通してダクト29に
通じており、このダクト29の途中には上部クーラー44が
設置されている。このダクト29からは上部ヘッダ27への
分岐管28が分岐して、その分岐管28の途中に、遮へいダ
ンパー39とON-OFF弁45が備えられている。本例において
は、ダクト29と分岐管28等を炉外に配置したが、勿論、
炉内に配置することも可能である。
炉内には、窒素(N2)と水素(H2)の混合ガスが封入さ
れ、循環ファン36の運転により、炉内雰囲気ガスとし
て、ガス流路L1、L2を通って炉内を循環する。また、前
記輻射管25、補助加熱装置43のそれぞれの一端にはバー
ナ(図示せず)、他端には排気ダクト(図示せず)が備
えられている。補助加熱装置43には、バーナ燃焼による
ものの外に電気ヒータによる加熱の方法もある。なお、
46は仕切り壁である。
次に、作用について説明する。
焼鈍作業は、前述した従来の場合と同様に、加熱ー均熱
ー冷却の3工程からなる。
まず、加熱ー均熱の態様を第2図、第3図により説明す
る。
クーラ40は、クーラ駆動装置42によってクーラハウジン
グ41内に引き出して格納しておく。また、遮へいダンパ
ー38を下限位置に保持して上部風箱30の上端を閉止する
と共に、遮へいダンパー39を下限位置に保持して上部ヘ
ッダ27の入口を閉止しておく。また、ON-OFF弁45も全閉
としておく。
したがって、雰囲気ガスは循環ファン36によって第2図
中の矢印方向にする。すなわち、炉内の雰囲気ガスは、
輻射管25によって加熱されてから、第2図において左方
から右方へと吸い込み箱31内に引き込まれ、循環ファン
36の吐出量の100%が下部風箱24内に入って下降し、そ
の風箱24に設けられた補助加熱装置43によって更に加熱
され、そして複数列の下部ヘッダー23に流れ込んで噴出
ノズル22から上方に高速噴出する。この下部ヘッダー23
は十分な容量(容積)をもち、内部を均圧にして各噴出
ノズル22から高速に、かつバランスよく循環ガスを噴出
する。また、一方において、輻射管25の外周からは熱輻
射線が発射される。
この時における加熱の仕組みを第3図に基いて詳述す
る。輻射管25の熱輻射線は、コイルWに向かう分と、天
井の断熱材32に向か分と、炉内の雰囲気ガスを温める分
とに分かれる。天井の断熱材32に吸収される熱はコイル
Wに再輻射される。他方、循環ファン36によって加圧さ
れた高温の雰囲気ガスは、補助加熱装置43の周辺を通
り、コイルWの下面に向って噴出ノズル22から高速で吹
き付けられて、コイルWの下面を加熱する。
この結果、コイルWはその上面を主に輻射加熱、下面を
噴流による対流加熱により加熱される。コイルWの上面
と下面の加熱のバランスは、循環ファン36の回転数の調
整と補助加熱装置43の調整により、容易に制御すること
が可能である。
コイルWの下面に吹き付けられた雰囲気ガスは、コイル
Wの周辺を通ってから、輻射管25の周辺を通過して、再
度、吸い込み管31内に吸い込まれ、循環ファン36によっ
て繰り返し循環されることになる。また、本例の場合
は、炉内に吹き出された雰囲気ガスが有効にコイルWと
輻射管25の周辺を通過するように、仕切り壁46や吸い込
み箱31の入り口を工夫している。吸い込み箱31の上下方
向に関する位置も重要な要因であり、本例においてはこ
れらを十分に考慮した構成となっている。
次に、冷却の態様を第4図、第5図により説明する。
クーラ40は、クーラ駆動装置42によってクーラハウジン
グ41内から下部風箱24内に挿入する。上部風箱30の遮へ
いダンパー38は上限位置に保持して開き、分岐管28中の
ON-OFF弁45は全開し、分岐管28の遮へいダンパー39は上
限位置に保持して開く。輻射管25と補助加熱装置43のバ
ーナは消化する。そして、循環ファン36によって、雰囲
気ガスは上部と下部の両方のガス流路L1,L2を通って第
4図中の矢印方向に循環する。
下部のガス流路L1を通って循環する雰囲気ガスは、下部
風箱24内の下部クーラ40によって冷却される。この冷却
された雰囲気ガスは、風箱24の下方に送り出されて、下
部ヘッダー23内に流れ込み、噴出ノズル22から高速で上
方に噴出される。
一方、上部のガス流路L2を通って循環する雰囲気ガス
は、上部クーラ44によって冷却される。この冷却された
雰囲気ガスは、ダクト29から分岐管28内に分岐して、上
部ヘッダー27内に流れ込み、噴出ノズル26から高速で下
方に噴出される。
この時における冷却の仕組みを第5図に基いて詳述す
る。
コイルWの下方においては、下部クーラ40によって冷却
された雰囲気ガスが噴出ノズル22から上方に高速で噴出
し、コイルWの下面に衝突してそのコイルWの熱を奪
う。一方、コイルWの上方においても同様に、上部クー
ラ44によって冷却された雰囲気ガスが噴出ノズル26から
下方に高速で噴出し、コイルWの上面に衝突してそのコ
イルWの熱を奪う。
コイルWの上下面に衝突した後の雰囲気ガスは、コイル
Wの側面に沿って流れつつそのコイルWの熱を更に奪
い、そして再度、循環ファン36によって吸い込み箱31内
に吸い込まれて、下部と上部のクーラ43、44により冷却
され、下部と上部の噴出ノズル22、26からコイルWの上
下面に向って噴出する。雰囲気ガスはこのように循環す
る。
コイルWの上面と下面の冷却のバランスは、循環ファン
36の回転数と、下部と上部のガス流路L1,L2への吐出風
量比と、下部と上部のクーラ43、44への供給冷却水量の
調整により、容易に制御することが可能である。また、
冷却時の一態様としては、冷えにくいコイルWの下部に
向かって噴出ノズル22から多量の雰囲気ガスを噴出させ
るように、下部と上部のガス流路L1,L2中の循環ガスの
流量を調整することもできる。
また、本例においては、加熱期と同様に、炉内を流れる
雰囲気ガスが有効にコイルWの周辺を通過するように考
慮した構成となっている。また、上部ヘッダー27に昇降
装置を備えることにより、コイルWの積み込み高さHに
応じて、噴出ノズル26の噴出口とコイルWの上面との間
の距離Lを調整するように成すことも可能である。
第5図中のコイルWのC点,D点,E点における温度曲線を
第6図に示す。同図において、曲線CはC点,曲線Dは
D点の温度曲線であり、ほぼ同一曲線となる。これに対
し、コイルWの中央部のE点の温度曲線Eはやや遅れ
る。しかし、この遅れT3,T4は、従来の場合の遅れT1,T2
に比して半分以下となる。したがって、均熱時間も短縮
可能となり、加熱ー均熱ー冷却期の全てにおいて時間を
短縮することができた。
[発明の効果] 以上説明したように、この発明の焼鈍炉は、被処理物の
過熱においては、その上面を主に輻射加熱すると共にそ
の下面を主に対流加熱し、一方、被処理物の冷却時にお
いては、被処理物の上方と下方から同時に対流冷却する
構成であるから、次ぎのような優れた効果を奏する。
、コイルを上下両面から加熱、冷却するため、コイル
内の最温点および最冷点がコイル中央となり、コイル内
の温度分布が均一化されて、温度差がなくなった。
、の結果から品質が向上した。
、操業時間が大幅に短縮され生産量が増大した。
、燃料の消費量が減少し、燃料原単位の改善ができ
た。
【図面の簡単な説明】
第1図ないし第6図はこの発明の一実施例を説明するた
めの図であり、第1図は断面図、第2図は加熱ー均熱状
態における断面図、第3図は加熱の仕組みを説明するた
めの図、第4図は冷却状態における断面図、第5図は冷
却の仕組みを説明するための図、第6図は被処理物の各
点における温度曲線を示す図である。 第7図ないし第9図は従来例を説明するための図であ
り、第7図は被処理物の各点における温度曲線を示す
図、第8図は加熱ー均熱状態における断面図、第9図は
加熱の仕組みを説明するための図である。 21……プレナムチャンバ、22……下部の噴出ノズル、23
……下部ヘッダー、24……下部風箱、25……輻射管、26
……上部の噴出ノズル、27……上部ヘッダー、31……循
環ファン、32……断熱材、40……下部クーラー、43……
補助加熱装置、44……上部クーラー、W……コイル(被
処理物)、L1……下部のガス流路、L2……上部のガス流
路。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 山崎 宏 東京都千代田区大手町2丁目2番1号 石 川島播磨重工業株式会社内 (72)発明者 松本 健二郎 東京都千代田区大手町2丁目2番1号 石 川島播磨重工業株式会社内 (56)参考文献 特開 昭62−116725(JP,A) 実開 昭60−156171(JP,U)

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】被処理物を収めた炉内に、高温の雰囲気ガ
    スを循環させて被処理物を加熱、均熱させた後、低温の
    雰囲気ガスを循環させて被処理物を冷却させる焼鈍炉に
    おいて、被処理物の加熱、均熱時に雰囲気ガスを加熱す
    る輻射管と、炉内の被処理物上方の位置に備えられて雰
    囲気ガスを下方に噴出する上部の噴出ノズルと、炉内の
    被処理物下方の位置に備えられて雰囲気ガスを上方に噴
    出する下部の噴出ノズルと、炉内の被処理物上方の空間
    と前記上部の噴出ノズルとの間に形成されて被処理物の
    加熱、均熱時に通じる上部のガス流路と、炉内の被処理
    物上方の空間と前記下部の噴出ノズルとの間に形成され
    て被処理物の加熱、均熱、冷却時に通じる下部のガス流
    路と、上部と下部のガス流路中に備えられて、炉内の被
    処理物上方の空間の雰囲気ガスを吸い込む循環ファン
    と、上部のガス流路中に備えられて、被処理物の冷却時
    に雰囲気ガスを冷却する上部クーラーと、下部のガス流
    路中に備えられて、被処理物の加熱、均熱時に雰囲気ガ
    スを加熱する補助加熱装置と、下部のガス流路中に備え
    られて、被処理物の冷却時に雰囲気ガスを冷却する下部
    クーラーとを具備してなることを特徴とする焼鈍炉。
JP25450085A 1985-11-13 1985-11-13 焼鈍炉 Expired - Lifetime JPH07813B2 (ja)

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