JPH0782005B2 - 遊離塩素測定装置 - Google Patents
遊離塩素測定装置Info
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- JPH0782005B2 JPH0782005B2 JP17594589A JP17594589A JPH0782005B2 JP H0782005 B2 JPH0782005 B2 JP H0782005B2 JP 17594589 A JP17594589 A JP 17594589A JP 17594589 A JP17594589 A JP 17594589A JP H0782005 B2 JPH0782005 B2 JP H0782005B2
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- hypochlorous acid
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- free chlorine
- water
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Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 この発明は上下水道水，工業用水，河川水等に存在する
遊離塩素の測定装置に係り、特に試料水中の全遊離塩素
濃度を正確に測定する遊離塩素測定装置に関する。
遊離塩素の測定装置に係り、特に試料水中の全遊離塩素
濃度を正確に測定する遊離塩素測定装置に関する。
水の消毒には一般に塩素（Cl2）が用いられる。塩素を
水中に注入した場合、次亜塩素酸（HOCl）および次亜塩
素酸イオン（OCl-）を生じる。
水中に注入した場合、次亜塩素酸（HOCl）および次亜塩
素酸イオン（OCl-）を生じる。
Cl2＋H2OHOCl＋H+＋Cl- （１） HOClOCl-＋H+ （２） ここで塩素，次亜塩素酸及び次亜塩素酸イオンを総称し
て遊離塩素といい、これらは強い殺菌力を持つ。
て遊離塩素といい、これらは強い殺菌力を持つ。
さて、この殺菌処理における塩素の注入量は、例えば水
道法では「給水せんにおける水が、遊離残留塩素を0.1p
pm以上保持するように塩素消毒をすること」と義務付け
られているので、遊離塩素の監視は不可欠である。
道法では「給水せんにおける水が、遊離残留塩素を0.1p
pm以上保持するように塩素消毒をすること」と義務付け
られているので、遊離塩素の監視は不可欠である。
遊離塩素の存在割合、つまり塩素，次亜塩素酸，次亜塩
素酸イオンの存在割合は試料水のpHの影響を大きく受け
る。pHを通常のpH範囲、例えば飲料水基準のpH＝5.8〜
8.6に限定してみても次亜塩素酸と次亜塩素酸イオンが
混在している領域であり、その割合は大きく異なる。し
たがって塩素殺菌を行う場合には次亜塩素酸，次亜塩素
酸イオンの各濃度、あるいはその合計濃度を知ることが
重要である。
素酸イオンの存在割合は試料水のpHの影響を大きく受け
る。pHを通常のpH範囲、例えば飲料水基準のpH＝5.8〜
8.6に限定してみても次亜塩素酸と次亜塩素酸イオンが
混在している領域であり、その割合は大きく異なる。し
たがって塩素殺菌を行う場合には次亜塩素酸，次亜塩素
酸イオンの各濃度、あるいはその合計濃度を知ることが
重要である。
このための手段が実公昭59−42693号公報および特開昭6
3−27745号公報に開示されている。
3−27745号公報に開示されている。
実公昭59−42693号公報に開示された考案は式（２）の
解離平衡がpHに依存するとともに、その解離定数は水温
が既知になれば定まることに着目し、隔膜式次亜塩素酸
電極で試料水中の次亜塩素酸濃度を測定すると同時に試
料水のpH及び水温を検出し、下記の式（３） 〔OCl-〕＝Ｋ（Ｔ）＊〔HOCl〕＊10pH （３） により演算で次亜塩素酸イオン濃度を求め、これにより
次亜塩素酸と次亜塩素酸イオンとの合計濃度を求める。
解離平衡がpHに依存するとともに、その解離定数は水温
が既知になれば定まることに着目し、隔膜式次亜塩素酸
電極で試料水中の次亜塩素酸濃度を測定すると同時に試
料水のpH及び水温を検出し、下記の式（３） 〔OCl-〕＝Ｋ（Ｔ）＊〔HOCl〕＊10pH （３） により演算で次亜塩素酸イオン濃度を求め、これにより
次亜塩素酸と次亜塩素酸イオンとの合計濃度を求める。
特開昭63−27745号公報に開示された発明は、試料水のp
Hが３〜５であれば遊離塩素はほぼ100％次亜塩素酸の形
態で存在することに着目したもので、試料水を実質的に
希釈することなくpHを３〜５に調整し、この試料水中の
次亜塩素酸を隔膜式次亜塩素酸電極で測定し、全遊離塩
素濃度を求めるものである。
Hが３〜５であれば遊離塩素はほぼ100％次亜塩素酸の形
態で存在することに着目したもので、試料水を実質的に
希釈することなくpHを３〜５に調整し、この試料水中の
次亜塩素酸を隔膜式次亜塩素酸電極で測定し、全遊離塩
素濃度を求めるものである。
実公昭59−42693号公報に開示された考案及び特開昭63
−27745号公報に開示された発明のいずれも、試料水中
の次亜塩素酸の測定に隔膜式次亜塩素酸電極を用いてい
る。この隔膜式次亜塩素酸電極は電解液が封入され、一
部に次亜塩素酸を透過する隔膜（例えば、多孔質テフロ
ン膜（テフロンはデュポンの商品名））を持ち、内部に
アノード及びカソードが収容された構造のものである。
−27745号公報に開示された発明のいずれも、試料水中
の次亜塩素酸の測定に隔膜式次亜塩素酸電極を用いてい
る。この隔膜式次亜塩素酸電極は電解液が封入され、一
部に次亜塩素酸を透過する隔膜（例えば、多孔質テフロ
ン膜（テフロンはデュポンの商品名））を持ち、内部に
アノード及びカソードが収容された構造のものである。
この隔膜は試料水に浸漬されている内に、試料水中の微
粒子の隔膜内の細孔への侵入や表面への汚れの付着によ
り次第に汚染される。このため試料水中の次亜塩素酸の
隔膜の透過特性が変化し、測定誤差が生じるという問題
がある。さらに隔膜式次亜塩素酸電極は定期的に内部電
解液の交換を行わなければならないという問題もある。
粒子の隔膜内の細孔への侵入や表面への汚れの付着によ
り次第に汚染される。このため試料水中の次亜塩素酸の
隔膜の透過特性が変化し、測定誤差が生じるという問題
がある。さらに隔膜式次亜塩素酸電極は定期的に内部電
解液の交換を行わなければならないという問題もある。
この発明は上述の点に鑑みなされ、その目的は汚染され
ることがない次亜塩素酸の検知手段を用いることによ
り、信頼性に優れる全遊離塩素測定装置を提供すること
にある。
ることがない次亜塩素酸の検知手段を用いることによ
り、信頼性に優れる全遊離塩素測定装置を提供すること
にある。
上述の目的はこの発明によれば、 １）試料水中の次亜塩素酸を気相に移行させて行う遊離
塩素測定装置において、 （１）試料水中の次亜塩素酸をキャリアガス中に移行さ
せる気相抽出手段1,2,3,4と、 （２）キャリアガス中に移行した次亜塩素酸を検知して
試料水中の次亜塩素酸濃度〔HOCl〕を測定するIn2O3を
主成分とする金属酸化物半導体式ガス検知手段15と、 （３）試料水のpHを検知する手段５と、 （４）試料水の温度（Ｔ）を測定する手段６と、 （５）次亜塩素酸イオン濃度を〔OCl-〕,K2（Ｔ）を温
度によって決まる酸解離定数とするときに次式 〔OCl-〕＝K2（Ｔ）＊〔HOCl〕＊10pH および〔OCl-〕＋〔HOCl〕の計算を行う演算部９、とを
備えること、または ２）試料水中の次亜塩素酸を気相に移行させて行う遊離
塩素測定装置において、 （１）試料水中の次亜塩素酸をキャリアガス中に移行さ
せる気相抽出手段1,2,3,4と、 （２）キャリアガス中に移行した次亜塩素酸を検知して
試料水中の次亜塩素酸濃度を測定するIn2O3を主成分と
する金属酸化物半導体式ガス検知手段15と、 （３）試料水の塩素イオン濃度を〔Cl-〕とするときに
試料水のpHを下記範囲内にする pH調節手段31,33とを備えることにより達成される。
塩素測定装置において、 （１）試料水中の次亜塩素酸をキャリアガス中に移行さ
せる気相抽出手段1,2,3,4と、 （２）キャリアガス中に移行した次亜塩素酸を検知して
試料水中の次亜塩素酸濃度〔HOCl〕を測定するIn2O3を
主成分とする金属酸化物半導体式ガス検知手段15と、 （３）試料水のpHを検知する手段５と、 （４）試料水の温度（Ｔ）を測定する手段６と、 （５）次亜塩素酸イオン濃度を〔OCl-〕,K2（Ｔ）を温
度によって決まる酸解離定数とするときに次式 〔OCl-〕＝K2（Ｔ）＊〔HOCl〕＊10pH および〔OCl-〕＋〔HOCl〕の計算を行う演算部９、とを
備えること、または ２）試料水中の次亜塩素酸を気相に移行させて行う遊離
塩素測定装置において、 （１）試料水中の次亜塩素酸をキャリアガス中に移行さ
せる気相抽出手段1,2,3,4と、 （２）キャリアガス中に移行した次亜塩素酸を検知して
試料水中の次亜塩素酸濃度を測定するIn2O3を主成分と
する金属酸化物半導体式ガス検知手段15と、 （３）試料水の塩素イオン濃度を〔Cl-〕とするときに
試料水のpHを下記範囲内にする pH調節手段31,33とを備えることにより達成される。
試料水中の次亜塩素酸はキャリアガスとの接触によりキ
ャリアガス中に移行する。試料水からキャリアガス中に
移行した次亜塩素酸は、そのままの形であるいは分解し
た状態でIn2O3を主成分とする金属酸化物半導体式ガス
センサの抵抗を変化させるものと推定される。
ャリアガス中に移行する。試料水からキャリアガス中に
移行した次亜塩素酸は、そのままの形であるいは分解し
た状態でIn2O3を主成分とする金属酸化物半導体式ガス
センサの抵抗を変化させるものと推定される。
請求項１に係る発明においてはIn2O3を主成分とする金
属酸化物半導体式ガスセンサで次亜塩素酸濃度が測定さ
れ、この次亜塩素酸濃度と試料水のpHと試料水の温度Ｔ
とから計算によって次亜塩素酸イオン濃度が求められる
ので〔HOCl〕＋〔OCl-〕により遊離塩素の総量が求ま
る。
属酸化物半導体式ガスセンサで次亜塩素酸濃度が測定さ
れ、この次亜塩素酸濃度と試料水のpHと試料水の温度Ｔ
とから計算によって次亜塩素酸イオン濃度が求められる
ので〔HOCl〕＋〔OCl-〕により遊離塩素の総量が求ま
る。
請求項２に係る発明においては試料水を所定のpHにする
と遊離塩素のうち次亜塩素酸の占める割合が95％以上に
なる。
と遊離塩素のうち次亜塩素酸の占める割合が95％以上に
なる。
以下にこの発明の実施例を図面に基づいて説明する。
第１図は請求項１の発明の実施例に係る装置の構成を示
す配置図である。第１図において、１は清浄な除湿空気
を得るための活性炭とシリカゲルが充填されたフィル
タ、２及び３はそれぞれ乾燥ガス，キャリアガス用の流
量計、４は抽出槽で内部に試料水があり、pH計５及び水
温計６が試料水中に浸漬されている。７は気相部の次亜
塩素酸を検出するためのIn2O3を主成分とする金属酸化
物半導体式ガスセンサを内蔵した測定チャンバ、８は乾
燥ガス及びキャリアガスを吸引するためのエアポンプ、
９は演算装置、10はサンプリングポンプである。測定チ
ャンバ７に内蔵されたIn2O3を主成分とする金属酸化物
半導体式ガスセンサ15の詳細が第２図に示される。In2O
3を主成分とする金属酸化物半導体式ガスセンサは電気
絶縁性基板、例えばアルミナ基板11、アルミナ基板11の
表面に蒸着により形成されたIn2O3を主成分とする金属
酸化物In2O3を主成分とする金属酸化物半導体薄膜12の
抵抗変化を測定するPt膜電極13A,13B、アルミナ基板11
の裏面に形成された気相中の水分、油脂分による感度の
経時的劣化を避けるためのPt膜ヒータ14により構成され
る。
す配置図である。第１図において、１は清浄な除湿空気
を得るための活性炭とシリカゲルが充填されたフィル
タ、２及び３はそれぞれ乾燥ガス，キャリアガス用の流
量計、４は抽出槽で内部に試料水があり、pH計５及び水
温計６が試料水中に浸漬されている。７は気相部の次亜
塩素酸を検出するためのIn2O3を主成分とする金属酸化
物半導体式ガスセンサを内蔵した測定チャンバ、８は乾
燥ガス及びキャリアガスを吸引するためのエアポンプ、
９は演算装置、10はサンプリングポンプである。測定チ
ャンバ７に内蔵されたIn2O3を主成分とする金属酸化物
半導体式ガスセンサ15の詳細が第２図に示される。In2O
3を主成分とする金属酸化物半導体式ガスセンサは電気
絶縁性基板、例えばアルミナ基板11、アルミナ基板11の
表面に蒸着により形成されたIn2O3を主成分とする金属
酸化物In2O3を主成分とする金属酸化物半導体薄膜12の
抵抗変化を測定するPt膜電極13A,13B、アルミナ基板11
の裏面に形成された気相中の水分、油脂分による感度の
経時的劣化を避けるためのPt膜ヒータ14により構成され
る。
次に第１図，第２図に示した装置において、どのように
して遊離塩素の測定が行われるかについて述べる。
して遊離塩素の測定が行われるかについて述べる。
エアポンプ８によって周囲空気が装置内に吸引される。
この空気はフィルタ１で除湿，清浄化され、一方は流量
計２を通って乾燥ガスに、もう一方は流量計３を通って
キャリアガスになる。キャリアガスは抽出槽４内の気相
部に流入し、試料水中の次亜塩素酸は水面からキャリア
ガス中に拡散してくる。このキャリアガス中には次亜塩
素酸だけでなく、水蒸気も拡散してくる。抽出槽４から
測定チャンバ７に至る配管の温度が低ければこの水蒸気
は凝縮し、液滴になる。このようにして液滴ができれ
ば、キャリアガス中に抽出された次亜塩素酸が液滴部分
で再び気液平衡を起こし気相部の次亜塩素酸濃度が変化
するから、測定誤差の原因になる。この装置では水蒸気
が凝縮しないように、抽出槽４から測定チャンバ７に至
る配管の途中で、流量計２を経由してきた乾燥ガスと混
合している。この混合する箇所は抽出槽４になるべく近
いところが望ましい。
この空気はフィルタ１で除湿，清浄化され、一方は流量
計２を通って乾燥ガスに、もう一方は流量計３を通って
キャリアガスになる。キャリアガスは抽出槽４内の気相
部に流入し、試料水中の次亜塩素酸は水面からキャリア
ガス中に拡散してくる。このキャリアガス中には次亜塩
素酸だけでなく、水蒸気も拡散してくる。抽出槽４から
測定チャンバ７に至る配管の温度が低ければこの水蒸気
は凝縮し、液滴になる。このようにして液滴ができれ
ば、キャリアガス中に抽出された次亜塩素酸が液滴部分
で再び気液平衡を起こし気相部の次亜塩素酸濃度が変化
するから、測定誤差の原因になる。この装置では水蒸気
が凝縮しないように、抽出槽４から測定チャンバ７に至
る配管の途中で、流量計２を経由してきた乾燥ガスと混
合している。この混合する箇所は抽出槽４になるべく近
いところが望ましい。
乾燥ガスと混合された次亜塩素酸を含有するキャリアガ
スは、ついで測定チャンバ７に導かれてIn2O3を主成分
とする金属酸化物半導体式ガスセンサ15で次亜塩素酸濃
度が測定され、その濃度は演算装置９に入力される。演
算装置９にはさらに、抽出槽４内の試料水のpHおよび水
温がそれぞれpH計５、水温計６から入力される。
スは、ついで測定チャンバ７に導かれてIn2O3を主成分
とする金属酸化物半導体式ガスセンサ15で次亜塩素酸濃
度が測定され、その濃度は演算装置９に入力される。演
算装置９にはさらに、抽出槽４内の試料水のpHおよび水
温がそれぞれpH計５、水温計６から入力される。
演算装置９では次亜塩素算濃度,pH,水温から次亜塩素酸
イオン濃度さらには全遊離塩素濃度の演算を行う。以下
に演算内容を説明する。
イオン濃度さらには全遊離塩素濃度の演算を行う。以下
に演算内容を説明する。
式（２）の解離平衡は平衡定数をK2（Ｔ）とすると次の
式で示される。
式で示される。
解離定数K2（Ｔ）は水温Ｔの関数であり、−log K
2（Ｔ）≒5097/T−92.77＋33.63＊log Tである。また
〔H+〕とpHの間には、pH＝−log〔H+〕の関係がある。
よって式（４）より〔OCl-〕は以下のように表現でき
る。
2（Ｔ）≒5097/T−92.77＋33.63＊log Tである。また
〔H+〕とpHの間には、pH＝−log〔H+〕の関係がある。
よって式（４）より〔OCl-〕は以下のように表現でき
る。
〔OCl-〕＝K2（Ｔ）＊〔HOCl〕＊10pH （５） したがって次亜塩素酸濃度,pH,水温が測定されれば、演
算により次亜塩素酸イオン濃度が求まり、さらには次亜
塩素酸と次亜塩素酸イオンの合計濃度、つまり全遊離塩
素濃度が求まる。
算により次亜塩素酸イオン濃度が求まり、さらには次亜
塩素酸と次亜塩素酸イオンの合計濃度、つまり全遊離塩
素濃度が求まる。
以上、この実施例では試料水中の次亜塩素酸の抽出方法
としてヘッドスペース法を用いた測定方法について説明
してきたが、この発明の抽出方法はヘッドスペース法に
限定さるものではなく、試料水中の次亜塩素酸を気相中
に拡散させ抽出する方法であればその方法を問わない。
としてヘッドスペース法を用いた測定方法について説明
してきたが、この発明の抽出方法はヘッドスペース法に
限定さるものではなく、試料水中の次亜塩素酸を気相中
に拡散させ抽出する方法であればその方法を問わない。
第３図には抽出方法としてバブリング法を用いたときの
装置構成を示した。エアポンプ８でガスを吸引すると抽
出槽４内は減圧になるから、ボールディフューザー21か
らキャリアガスが試料水中に吹き込まれ、試料水中の次
亜塩素酸は気相部に抽出される。したがって第１図に示
した装置と同様に試料水中の次亜塩素酸濃度が測定され
る。このバブリング法は試料水中に強制的にキャリアガ
スを吹き込んでいることから、応答速度が速く、低濃度
まで測定可能であるという利点がある。
装置構成を示した。エアポンプ８でガスを吸引すると抽
出槽４内は減圧になるから、ボールディフューザー21か
らキャリアガスが試料水中に吹き込まれ、試料水中の次
亜塩素酸は気相部に抽出される。したがって第１図に示
した装置と同様に試料水中の次亜塩素酸濃度が測定され
る。このバブリング法は試料水中に強制的にキャリアガ
スを吹き込んでいることから、応答速度が速く、低濃度
まで測定可能であるという利点がある。
第４図は請求項２の発明の実施例に係る装置の構成を示
す配置図である。この発明は試料水に緩衝液を注入して
次亜塩素酸の存在割合をほぼ100％にしてから次亜塩素
酸を測定するもので、緩衝液33を試料水に注入するため
の薬液ポンプ31を備え、さらに演算の必要がないため測
定チャンバ７内のIn2O3を主成分とする金属酸化物半導
体式ガスセンサの出力は直接レコーダ32に接続されてい
る。
す配置図である。この発明は試料水に緩衝液を注入して
次亜塩素酸の存在割合をほぼ100％にしてから次亜塩素
酸を測定するもので、緩衝液33を試料水に注入するため
の薬液ポンプ31を備え、さらに演算の必要がないため測
定チャンバ７内のIn2O3を主成分とする金属酸化物半導
体式ガスセンサの出力は直接レコーダ32に接続されてい
る。
この装置において、抽出槽４内の試料水には薬液ポンプ
31によって緩衝液が添加され、pHの上限が6.15、下限が
水素イオン濃度と塩素イオン濃度の積〔H+〕＊〔Cl-〕
が3.84＊10-6になるように調節される。この条件を満た
せば試料水中の遊離塩素の95％以上が次亜塩素酸として
存在する。
31によって緩衝液が添加され、pHの上限が6.15、下限が
水素イオン濃度と塩素イオン濃度の積〔H+〕＊〔Cl-〕
が3.84＊10-6になるように調節される。この条件を満た
せば試料水中の遊離塩素の95％以上が次亜塩素酸として
存在する。
理由を以下に説明する。式（１），式（２）の解離平衡
は第５図のようになり、次亜塩素酸としてほぼ100％存
在するためにはpHは所定の範囲に限定される。いま上
限，下限を次亜塩素酸として95％以上存在する範囲と定
義する。次亜塩素酸として95％以上存在するためには、
上限は次式を満たせばよい。
は第５図のようになり、次亜塩素酸としてほぼ100％存
在するためにはpHは所定の範囲に限定される。いま上
限，下限を次亜塩素酸として95％以上存在する範囲と定
義する。次亜塩素酸として95％以上存在するためには、
上限は次式を満たせばよい。
〔OCl-〕は、 であるから、式（７）を式（６）に代入して整理する
と、 〔H+〕≧19＊K2（Ｔ） （８） となる。通常、上下水道水，工業用水，河川水等の水温
は０〜25℃であるから、式（８）に結果的に値が大きく
なるK2（25）＝3.7＊10-8を代入すると、〔H+〕≧7.0＊
10-7、pHで表わすと6.15以下にすればよい。
と、 〔H+〕≧19＊K2（Ｔ） （８） となる。通常、上下水道水，工業用水，河川水等の水温
は０〜25℃であるから、式（８）に結果的に値が大きく
なるK2（25）＝3.7＊10-8を代入すると、〔H+〕≧7.0＊
10-7、pHで表わすと6.15以下にすればよい。
一方、下限は次の条件を満たす必要がある。
〔Cl2〕は、 K1（Ｔ）：式（１）の平衡定数 であるから、式（10）を式（９）に代入して整理する
と、 〔H+〕＊〔Cl-〕≦2.63＊10-2＊K1（Ｔ） （11） となる。上限を求めた時と同様に、上下水道水，工業用
水，河川水等の水温は０〜25℃であるから結果的に値が
小さくなるK1（０）＝1.46＊10-4を代入して、〔H+〕＊
〔Cl-〕≦3.84＊10-6となる。
と、 〔H+〕＊〔Cl-〕≦2.63＊10-2＊K1（Ｔ） （11） となる。上限を求めた時と同様に、上下水道水，工業用
水，河川水等の水温は０〜25℃であるから結果的に値が
小さくなるK1（０）＝1.46＊10-4を代入して、〔H+〕＊
〔Cl-〕≦3.84＊10-6となる。
よってpH≦6.15でかつ〔H+〕＊〔Cl-〕≦3.84＊10-6の
条件を満たせば、遊離塩素は常に次亜塩素酸の形態で95
％以上が存在する。したがって、このように調整された
試料水の次亜塩素酸を測定すれば、試料水中の次亜塩素
酸と次亜塩素酸イオンの合計濃度が求まる。
条件を満たせば、遊離塩素は常に次亜塩素酸の形態で95
％以上が存在する。したがって、このように調整された
試料水の次亜塩素酸を測定すれば、試料水中の次亜塩素
酸と次亜塩素酸イオンの合計濃度が求まる。
第４図の実施例では次亜塩素酸の抽出方法としてヘッド
スペース法を示したが、請求項１の発明と同様にこれに
限定されるものではなく、バブリング法を用いてもよ
い。
スペース法を示したが、請求項１の発明と同様にこれに
限定されるものではなく、バブリング法を用いてもよ
い。
この発明によれば、 １）試料水中の次亜塩素酸を気相に移行させて行う遊離
塩素測定装置において、 （１）試料水中の次亜塩素酸をキャリアガス中に移行さ
せる気相抽出手段と、 （２）キャリアガス中に移行した次亜塩素酸を検知して
試料水中の次亜塩素酸濃度〔HOCl〕を測定するIn2O3を
主成分とする金属酸化物半導体式ガス検知手段と、 （３）試料水のpHを検知する手段と、 （４）試料水の温度（Ｔ）を測定する手段と、 （５）次亜塩素酸イオン濃度を〔OCl-〕,K2（Ｔ）を温
度によって決まる酸解離定数とするときに次式 〔OCl-〕＝K2（Ｔ）＊〔HOCl〕＊10pH および〔OCl-〕＋〔HOCl〕の計算を行う演算部、とを備
え、または ２）試料水中の次亜塩素酸を気相に移行させて行う遊離
塩素測定装置において、 （１）試料水中の次亜塩素酸をキャリアガス中に移行さ
せる気相抽出手段と、 （２）キャリアガス中に移行した次亜塩素酸を検知して
試料水中の次亜塩素酸濃度を測定するIn2O3を主成分と
する金属酸化物半導体式ガス検知手段と、 （３）試料水の塩素イオン濃度を〔Cl-〕とするときに
試料水のpHを下記範囲内にする pH調節手段、とを備えるので、 イ）試料水中の次亜塩素酸は汚染を受けることのないIn
2O3を主成分とする金属酸化物半導体式ガスセンサによ
って高信頼性の測定がなされる。In2O3を主成分とする
金属酸化物半導体式ガスセンサで検知されない次亜塩素
酸イオンは試料水のpHと温度をもとにして計算され、こ
れらの結果として遊離塩素を高い信頼性で測定すること
が可能となる。
塩素測定装置において、 （１）試料水中の次亜塩素酸をキャリアガス中に移行さ
せる気相抽出手段と、 （２）キャリアガス中に移行した次亜塩素酸を検知して
試料水中の次亜塩素酸濃度〔HOCl〕を測定するIn2O3を
主成分とする金属酸化物半導体式ガス検知手段と、 （３）試料水のpHを検知する手段と、 （４）試料水の温度（Ｔ）を測定する手段と、 （５）次亜塩素酸イオン濃度を〔OCl-〕,K2（Ｔ）を温
度によって決まる酸解離定数とするときに次式 〔OCl-〕＝K2（Ｔ）＊〔HOCl〕＊10pH および〔OCl-〕＋〔HOCl〕の計算を行う演算部、とを備
え、または ２）試料水中の次亜塩素酸を気相に移行させて行う遊離
塩素測定装置において、 （１）試料水中の次亜塩素酸をキャリアガス中に移行さ
せる気相抽出手段と、 （２）キャリアガス中に移行した次亜塩素酸を検知して
試料水中の次亜塩素酸濃度を測定するIn2O3を主成分と
する金属酸化物半導体式ガス検知手段と、 （３）試料水の塩素イオン濃度を〔Cl-〕とするときに
試料水のpHを下記範囲内にする pH調節手段、とを備えるので、 イ）試料水中の次亜塩素酸は汚染を受けることのないIn
2O3を主成分とする金属酸化物半導体式ガスセンサによ
って高信頼性の測定がなされる。In2O3を主成分とする
金属酸化物半導体式ガスセンサで検知されない次亜塩素
酸イオンは試料水のpHと温度をもとにして計算され、こ
れらの結果として遊離塩素を高い信頼性で測定すること
が可能となる。
ロ）試料水のpHが所定範囲に調整されると、遊離塩素の
95％以上が次亜塩素酸となり、半導体式ガスセンサによ
りこれを検知して遊離塩素を高い信頼性で測定すること
ができる。
95％以上が次亜塩素酸となり、半導体式ガスセンサによ
りこれを検知して遊離塩素を高い信頼性で測定すること
ができる。
【図面の簡単な説明】 第１図は請求項１の発明の実施例に係る遊離塩素測定装
置を示す配置図、第２図は請求項１または２の発明の実
施例に係る装置のうちのIn2O3を主成分とする金属酸化
物半導体式ガスセンサを示し、第２図（ａ）は斜視図、
第２図（ｂ）は断面図、第３図は請求項１の発明の異な
る実施例に係る遊離塩素測定装置を示す配置図、第４図
は請求項２の発明の実施例に係る遊離塩素測定装置を示
す配置図、第５図は試料水pHとHOCl存在割合を示す線図
である。 1:フィルタ、2,3:流量計、4:抽出槽、5:pH計、6:水温
計、7:測定チャンバ、8:エアポンプ、9:演算装置、31:
薬液ポンプ、32:レコーダ。
置を示す配置図、第２図は請求項１または２の発明の実
施例に係る装置のうちのIn2O3を主成分とする金属酸化
物半導体式ガスセンサを示し、第２図（ａ）は斜視図、
第２図（ｂ）は断面図、第３図は請求項１の発明の異な
る実施例に係る遊離塩素測定装置を示す配置図、第４図
は請求項２の発明の実施例に係る遊離塩素測定装置を示
す配置図、第５図は試料水pHとHOCl存在割合を示す線図
である。 1:フィルタ、2,3:流量計、4:抽出槽、5:pH計、6:水温
計、7:測定チャンバ、8:エアポンプ、9:演算装置、31:
薬液ポンプ、32:レコーダ。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 伊藤 晴夫 神奈川県川崎市川崎区田辺新田１番１号 富士電機株式会社内 (72)発明者 高田 義 大阪府大阪市淀川区三津屋中２丁目５番４ 号 新コスモス電機株式会社内 (72)発明者 酒井 才 大阪府大阪市淀川区三津屋中２丁目５番４ 号 新コスモス電機株式会社内 (72)発明者 青木 豊明 大阪府枚方市楠葉野田３丁目37番32号 (56)参考文献 特開 昭58−169049（ＪＰ，Ａ) 実開 昭55−81759（ＪＰ，Ｕ)
Claims (2)
- 【請求項１】試料水中の次亜塩素酸を気相に移行させて
行う遊離塩素測定装置において、 （１）試料水中の次亜塩素酸をキャリアガス中に移行さ
せる気相抽出手段と、 （２）キャリアガス中に移行した次亜塩素酸を検知し
て、試料水中の次亜塩素酸濃度〔HOCl〕を測定するIn2O
3を主成分とする金属酸化物半導体式ガス検出手段と、 （３）試料水のpHを検知する手段と、 （４）試料水の温度（Ｔ）を測定する手段と、 （５）次亜塩素酸イオン濃度を〔OCl-〕,K2（Ｔ）を温
度によって決まる酸解離定数とするときに次式 〔OCl-〕＝K2（Ｔ）＊〔HOCl〕＊10pH および〔OCl-〕＋〔HOCl〕の計算を行う演算部、とを備
えることを特徴とする遊離塩素測定装置。 - 【請求項２】試料水中の次亜塩素酸を気相に移行させて
行う遊離塩素測定装置において、 （１）試料水中の次亜塩素酸をキャリアガス中に移行さ
せる気相抽出手段と、 （２）キャリアガス中に移行した次亜塩素酸を検知し
て、試料水中の次亜塩素酸濃度を測定するIn2O3を主成
分とする金属酸化物半導体式ガス検出手段と、 （３）試料水の塩素イオン濃度を〔Cl-〕とするときに
試料水のpHを下記範囲内にする pH調節手段、とを備えることを特徴とする遊離塩素測定
装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17594589A JPH0782005B2 (ja) | 1989-07-07 | 1989-07-07 | 遊離塩素測定装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17594589A JPH0782005B2 (ja) | 1989-07-07 | 1989-07-07 | 遊離塩素測定装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0341360A JPH0341360A (ja) | 1991-02-21 |
| JPH0782005B2 true JPH0782005B2 (ja) | 1995-09-06 |
Family
ID=16005003
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP17594589A Expired - Lifetime JPH0782005B2 (ja) | 1989-07-07 | 1989-07-07 | 遊離塩素測定装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0782005B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN111135332A (zh) * | 2019-12-23 | 2020-05-12 | 浙江吉叶生物科技有限公司 | 消毒液消毒效果的测试方法及系统 |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS58169049A (ja) * | 1982-03-31 | 1983-10-05 | Kanegafuchi Chem Ind Co Ltd | 液中濃度測定法及び同用装置 |
-
1989
- 1989-07-07 JP JP17594589A patent/JPH0782005B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0341360A (ja) | 1991-02-21 |
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