JPH0341360A - 遊離塩素測定装置 - Google Patents
遊離塩素測定装置Info
- Publication number
- JPH0341360A JPH0341360A JP17594589A JP17594589A JPH0341360A JP H0341360 A JPH0341360 A JP H0341360A JP 17594589 A JP17594589 A JP 17594589A JP 17594589 A JP17594589 A JP 17594589A JP H0341360 A JPH0341360 A JP H0341360A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- hypochlorous acid
- sample water
- water
- free chlorine
- gas
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Landscapes
- Investigating Or Analyzing Non-Biological Materials By The Use Of Chemical Means (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
この発明は上下水道水、工業用水、河川水等に存在する
遊離塩素の測定装置に係り、特に試料水中の全遊離塩素
濃度を正確に測定する遊離塩素測定装置に関する。
遊離塩素の測定装置に係り、特に試料水中の全遊離塩素
濃度を正確に測定する遊離塩素測定装置に関する。
水の消毒には一般に塩素（ｃｌｉが用いられる。塩素を
水中に注入した場合、次亜塩素酸（ＨＱＣ１）および次
亜塩素酸イオン（○Ｃ１−）を生じる。
水中に注入した場合、次亜塩素酸（ＨＱＣ１）および次
亜塩素酸イオン（○Ｃ１−）を生じる。
Ｃ１ｔ ＋Ｈｚ Ｏ；”ＨＯＣ１＋Ｈ” ＋ＣＩ−（１
１ＨＯＣ１≠０ＣＩ−＋Ｈ” （２）
ここで塩素９次亜塩素酸及び次亜塩素酸イオンを総称し
て遊離塩素といい、これらは強い殺菌力を持つ。
１ＨＯＣ１≠０ＣＩ−＋Ｈ” （２）
ここで塩素９次亜塩素酸及び次亜塩素酸イオンを総称し
て遊離塩素といい、これらは強い殺菌力を持つ。
さて、この殺菌処理における塩素の注入量は、例えば水
道法では「給水せんにおけろ水が、遊離残留塩素を０．
ｌｐｐｍ以上保持するように塩素消毒をすること」と義
務付けられているので、遊離塩素の監視は不可欠である
。
道法では「給水せんにおけろ水が、遊離残留塩素を０．
ｌｐｐｍ以上保持するように塩素消毒をすること」と義
務付けられているので、遊離塩素の監視は不可欠である
。
遊離塩素の存在割合、つまり塩素１次亜塩素酸。
次亜塩素酸イオンの存在割合は試料水のｐＨの影響を大
きく受ける。ｐＨを通常のｐＨ範囲、例えば飲料水基準
のｐＨ＝５．８〜８．６に限定してみても次亜塩素酸と
次亜塩素酸イオンが魂柱している領域であり、その割合
は大きく異なる。したがって塩素殺菌を行う場合には次
亜塩素酸１次亜塩素酸イオンの各濃度、あるいはその合
計濃度を知ることが重要である。
きく受ける。ｐＨを通常のｐＨ範囲、例えば飲料水基準
のｐＨ＝５．８〜８．６に限定してみても次亜塩素酸と
次亜塩素酸イオンが魂柱している領域であり、その割合
は大きく異なる。したがって塩素殺菌を行う場合には次
亜塩素酸１次亜塩素酸イオンの各濃度、あるいはその合
計濃度を知ることが重要である。
このための手段が実公昭５９−４２６９３号公報および
特開昭６３−２７７４５号公報に開示されている。
特開昭６３−２７７４５号公報に開示されている。
大公［５９−４２６９３号公報に開示された考案は式（
２）の解離平衡がｐＨに依存するとともに、その解離定
数は水温が既知になれば定まることに着目し、隔膜式次
亜塩素酸電極で試料水中の次亜塩素酸濃度を測定すると
同時に試料水のｐＨ及び水温を検出し、下記の式（３） ％式％ により演算で次亜塩素酸イオン濃度を求め、これにより
次亜塩素酸と次亜塩素酸イオンとの合計濃度を求める。
２）の解離平衡がｐＨに依存するとともに、その解離定
数は水温が既知になれば定まることに着目し、隔膜式次
亜塩素酸電極で試料水中の次亜塩素酸濃度を測定すると
同時に試料水のｐＨ及び水温を検出し、下記の式（３） ％式％ により演算で次亜塩素酸イオン濃度を求め、これにより
次亜塩素酸と次亜塩素酸イオンとの合計濃度を求める。
特開昭６３−２７７４５号公報に開示された発明は、試
料水のｐＨが３〜５であれば遊離塩素はほぼ１００％次
亜塩素酸の形態で存在することに着目したもので、試料
水を実質的に希釈することなくｐＨを３〜５に調整し、
この試料水中の次亜塩素酸を隔膜式次亜塩素酸電極で測
定し、全遊離塩素濃度を求めるものである。
料水のｐＨが３〜５であれば遊離塩素はほぼ１００％次
亜塩素酸の形態で存在することに着目したもので、試料
水を実質的に希釈することなくｐＨを３〜５に調整し、
この試料水中の次亜塩素酸を隔膜式次亜塩素酸電極で測
定し、全遊離塩素濃度を求めるものである。
実公昭５９−４２６９３号公報に開示された考案及び特
開昭６３−２７７４５号公報に開示された発明のいずれ
も、試料水中の次亜塩素酸の測定に隔膜式次亜塩素酸電
極を用いている。この隔膜式次亜塩素酸電極は電解液が
封入され、一部に次亜塩素酸を透過する隔膜（例えば、
多孔質テフロン膜（テフロンはデュポンの商品名））を
持ち、内部にアノード及びカソードが収容された構造の
ものである。
開昭６３−２７７４５号公報に開示された発明のいずれ
も、試料水中の次亜塩素酸の測定に隔膜式次亜塩素酸電
極を用いている。この隔膜式次亜塩素酸電極は電解液が
封入され、一部に次亜塩素酸を透過する隔膜（例えば、
多孔質テフロン膜（テフロンはデュポンの商品名））を
持ち、内部にアノード及びカソードが収容された構造の
ものである。
この隔膜は試料水に浸漬されている内に、試料水中の微
粒子の隔膜内の細孔への侵入や表面への汚れの付着によ
り次第に汚染される。このため試料水中の次亜塩素酸の
隔膜の透過特性が変化し、測定誤差が生じるという問題
がある。さらに隔膜式次亜塩素酸電極は定期的に内部電
解液の交換を行わなければならないという問題もある。
粒子の隔膜内の細孔への侵入や表面への汚れの付着によ
り次第に汚染される。このため試料水中の次亜塩素酸の
隔膜の透過特性が変化し、測定誤差が生じるという問題
がある。さらに隔膜式次亜塩素酸電極は定期的に内部電
解液の交換を行わなければならないという問題もある。
この発明は上述の点に鑑みなされ、その目的は汚染され
ることがない次亜塩素酸の検知手段を用いることにより
、信頼性に優れる全遊離塩素測定装置を提供することに
ある。
ることがない次亜塩素酸の検知手段を用いることにより
、信頼性に優れる全遊離塩素測定装置を提供することに
ある。
上述の目的はこの発明によれば、
１）試料水中の次亜塩素酸を気相に移行させて行う遊離
塩素測定装置において、 （１）試料水中の次亜塩素酸を気相に移行させる気相抽
出手段１．２，３．４と、 （２）気相に移行した次亜塩素酸を検知して試料水中の
次亜塩素酸濃度（ＨＯＣＩ）を測定する半導体式ガス検
知手段１５と、 して試料水中のＩ）Ｈを検知する手段５と、（４）試料
水の温度（Ｔ）を測定する手段６と、（５）次亜塩素酸
イオン濃度を（ＯＣＩ−）、Ｋｔ（Ｔ）を温度によって
決まる酸解離定数とするときに次式 ％式％） および（ＯＣＩ−）＋ （ＨＯＣＩ）の計算を行う演算
部９、とを備えること、または ２）試料水中の次亜塩素酸を気相に移行させて行う遊離
塩素測定装置において、 − （１）試料水中の次亜塩素酸を気相に移行させる気相抽
出手段１，２，３．４と、 （２）気相に移行した次亜塩素酸を検知して試料水中の
次亜塩素酸濃度を測定する半導体式ガス検知手段１５と
、 して試料水中の次亜塩素酸濃度を（ＣＩ−）とするとき
に試料水のｐＨを下記範囲内にするｐＨｌ整手段３１．
３３ 、とを備えることにより達成される。
塩素測定装置において、 （１）試料水中の次亜塩素酸を気相に移行させる気相抽
出手段１．２，３．４と、 （２）気相に移行した次亜塩素酸を検知して試料水中の
次亜塩素酸濃度（ＨＯＣＩ）を測定する半導体式ガス検
知手段１５と、 して試料水中のＩ）Ｈを検知する手段５と、（４）試料
水の温度（Ｔ）を測定する手段６と、（５）次亜塩素酸
イオン濃度を（ＯＣＩ−）、Ｋｔ（Ｔ）を温度によって
決まる酸解離定数とするときに次式 ％式％） および（ＯＣＩ−）＋ （ＨＯＣＩ）の計算を行う演算
部９、とを備えること、または ２）試料水中の次亜塩素酸を気相に移行させて行う遊離
塩素測定装置において、 − （１）試料水中の次亜塩素酸を気相に移行させる気相抽
出手段１，２，３．４と、 （２）気相に移行した次亜塩素酸を検知して試料水中の
次亜塩素酸濃度を測定する半導体式ガス検知手段１５と
、 して試料水中の次亜塩素酸濃度を（ＣＩ−）とするとき
に試料水のｐＨを下記範囲内にするｐＨｌ整手段３１．
３３ 、とを備えることにより達成される。
試料水中の次亜塩素酸はキャリアガスとの接触により気
相に移行する。試料水から気相に移行した次亜塩素酸は
、そのままの形であるいは分解した状態で半導体式ガス
センサの抵抗を変化させるものと推定される。
相に移行する。試料水から気相に移行した次亜塩素酸は
、そのままの形であるいは分解した状態で半導体式ガス
センサの抵抗を変化させるものと推定される。
請求項１に係る発明においては半導体式ガスセンサで次
亜塩素酸濃度が測定され、この次亜塩素酸濃度と試料水
のｐＨと試料水の温度Ｔとから計算によって次亜塩素酸
イオン濃度が求められるので（ＨＯＣＩ） ＋（ＯＣＩ
−）により遊離塩素の総量が求まる。
亜塩素酸濃度が測定され、この次亜塩素酸濃度と試料水
のｐＨと試料水の温度Ｔとから計算によって次亜塩素酸
イオン濃度が求められるので（ＨＯＣＩ） ＋（ＯＣＩ
−）により遊離塩素の総量が求まる。
請求項２に係る発明においては試料水を所定のｐＨにす
ると遊離塩素のうち次亜塩素酸の占める割合が９５％以
上になる。
ると遊離塩素のうち次亜塩素酸の占める割合が９５％以
上になる。
以下にこの発明の実施例を図面に基づいて説明する。
第１図は請求項１の発明の実施例に係る装置の槽底を示
す配置図である。第１図において、１は清浄な除湿空気
を得るための活性炭とシリカゲルが充填されたフィルタ
、２及び３はそれぞれ乾燥ガス、キャリアガス用の流量
計、４は抽出槽で内部に試料水があり、Ｉ）Ｈ計５及び
水温計６が試料水中に浸漬されている。７は気相部の次
亜塩素酸を検出するための半導体式ガスセンサを内蔵し
た測定チャンバ、８は乾燥ガス及びキャリアガスを吸引
するためのエアポンプ、９は演算装置、１０はサンプリ
ングポンプである。測定チャンバ７に内蔵された半導体
式ガスセンサ１５の詳細が第２図に示される。半導体式
ガスセンサは電気絶縁性基板、例えばアル果す基板１１
、アル果す基板１１の表面に蒸着により形成されたＩｎ
Ｊｓを主成分とする金属酸化物半導体薄膜１２、半導体
薄膜１２の抵抗変化を測定するｐｔｔ電極１３Ａ、１３
Ｂ 、アルξす基板１１の裏面に形成された気相中の水
分、油脂分による感度の経時的劣化を避けるためのｐｔ
膜上ヒータ１４より槽底される。
す配置図である。第１図において、１は清浄な除湿空気
を得るための活性炭とシリカゲルが充填されたフィルタ
、２及び３はそれぞれ乾燥ガス、キャリアガス用の流量
計、４は抽出槽で内部に試料水があり、Ｉ）Ｈ計５及び
水温計６が試料水中に浸漬されている。７は気相部の次
亜塩素酸を検出するための半導体式ガスセンサを内蔵し
た測定チャンバ、８は乾燥ガス及びキャリアガスを吸引
するためのエアポンプ、９は演算装置、１０はサンプリ
ングポンプである。測定チャンバ７に内蔵された半導体
式ガスセンサ１５の詳細が第２図に示される。半導体式
ガスセンサは電気絶縁性基板、例えばアル果す基板１１
、アル果す基板１１の表面に蒸着により形成されたＩｎ
Ｊｓを主成分とする金属酸化物半導体薄膜１２、半導体
薄膜１２の抵抗変化を測定するｐｔｔ電極１３Ａ、１３
Ｂ 、アルξす基板１１の裏面に形成された気相中の水
分、油脂分による感度の経時的劣化を避けるためのｐｔ
膜上ヒータ１４より槽底される。
次に第１図、第２図に示した装置において、どのように
して遊離塩素の測定が行われるかについて述べる。
して遊離塩素の測定が行われるかについて述べる。
エアポンプ８によって周囲空気が装置内に吸引される。
この空気はフィルタ１で除湿、清浄化され、一方は流量
計２を通って乾燥ガスに、もう−方は流量計３を通って
キャリアガスになる。キャリアガスは抽出槽４内の気相
部に流入し、試料水中の次亜塩素酸は水面から気相に拡
散してくる。
計２を通って乾燥ガスに、もう−方は流量計３を通って
キャリアガスになる。キャリアガスは抽出槽４内の気相
部に流入し、試料水中の次亜塩素酸は水面から気相に拡
散してくる。
この気相には次亜塩素酸だけでなく、水蒸気も拡散して
くる。抽出槽４から９ ９ 測定チャンバ７に至る配管の温度が低ければこの水蒸気
は凝縮し、液滴になる。このようにして液滴ができれば
、気相に抽出された次亜塩素酸が液滴部分で再び気液平
衡を起こし気相部の次亜塩素酸濃度が変化するから、測
定誤差の原因になる。
くる。抽出槽４から９ ９ 測定チャンバ７に至る配管の温度が低ければこの水蒸気
は凝縮し、液滴になる。このようにして液滴ができれば
、気相に抽出された次亜塩素酸が液滴部分で再び気液平
衡を起こし気相部の次亜塩素酸濃度が変化するから、測
定誤差の原因になる。
この装置では水蒸気が凝縮しないように、抽出槽４から
測定チャンバ７に至る配管の途中で、流量計２を経由し
てきた乾燥ガスと混合している。この混合する箇所は抽
出槽４になるべく近いところが望ましい。
測定チャンバ７に至る配管の途中で、流量計２を経由し
てきた乾燥ガスと混合している。この混合する箇所は抽
出槽４になるべく近いところが望ましい。
乾燥ガスと混合された次亜塩素酸を含有するキャリアガ
スは、ついで測定チャンバ７に導かれて半導体式ガスセ
ンサ１５で次亜塩素酸濃度が測定され、その濃度は演算
装置９に入力される。演算装置９にはさらに、抽出槽４
内の試料水のｐＨおよび水温がそれぞれｐＨ計５、水温
計６から入力される。
スは、ついで測定チャンバ７に導かれて半導体式ガスセ
ンサ１５で次亜塩素酸濃度が測定され、その濃度は演算
装置９に入力される。演算装置９にはさらに、抽出槽４
内の試料水のｐＨおよび水温がそれぞれｐＨ計５、水温
計６から入力される。
演算装置９では次亜塩素酸濃度＋ｐＨ＋水温から次亜塩
素酸イオン濃度さらには全遊離塩素濃度の演算を行う。
素酸イオン濃度さらには全遊離塩素濃度の演算を行う。
以下に演算内容を説明する。
１〇−
式（２）の解離平衡は平衡定数をＫｔ（’ｒ）とすると
次の式で示される。
次の式で示される。
（ＨＯ，ＣＩ）
解離定数に！（Ｔ）は水温Ｔの関数であり、−１・ｇ
Ｋ ｔ（Ｔ）ζ５０９７／ Ｔ −９２，７７＋ ３３
．６３ホｋｇ Ｔである。
Ｋ ｔ（Ｔ）ζ５０９７／ Ｔ −９２，７７＋ ３３
．６３ホｋｇ Ｔである。
また〔Ｈ″″〕とｐＨの間には、ｐＨ＝−１ｏｇ（Ｈ”
〕の関係がある。よって式（４）より（ＯＣＩ−）は以
下のように表現できる。
〕の関係がある。よって式（４）より（ＯＣＩ−）は以
下のように表現できる。
（ＯＣｌ−）＝Ｋｇ（Ｔ）傘（ＨＯＣＩ）＊１０ｐＨ＋
５１したがって次亜塩素酸濃度＋ ｐＨ＋水温が測定
されれば、演算により次亜塩素酸イオン濃度が求まり、
さらには次亜塩素酸と次亜塩素酸イオンの合計濃度、つ
まり全遊離塩素濃度が求まる。
５１したがって次亜塩素酸濃度＋ ｐＨ＋水温が測定
されれば、演算により次亜塩素酸イオン濃度が求まり、
さらには次亜塩素酸と次亜塩素酸イオンの合計濃度、つ
まり全遊離塩素濃度が求まる。
以上、この実施例では試料水中の次亜塩素酸の抽出方法
としてヘッドスペース法を用いた測定方ヱ 法について説明しカきたが、この発明の抽出方法はヘッ
ドスペース法に限定されるものではなく、試料水中の次
亜塩素酸を気相中に拡散させ抽出する方法であればその
方法を問わない。
としてヘッドスペース法を用いた測定方ヱ 法について説明しカきたが、この発明の抽出方法はヘッ
ドスペース法に限定されるものではなく、試料水中の次
亜塩素酸を気相中に拡散させ抽出する方法であればその
方法を問わない。
第３図には抽出方法としてバブリング法を用いたときの
装置構成を示した。エアポンプ８でガスを吸引すると抽
出槽４内は減圧になるから、ボールデイフユーザ−２１
からキャリアガスが試料水中に吹き込まれ、試料水中の
次亜塩素酸は気相部に抽出される。したがって第１図に
示した装置と同様に試料水中の次亜塩素酸濃度が測定さ
れる。このバブリング法は試料水中に強制的にキャリア
ガスを吹き込んでいることから、応答速度が速く、低濃
度まで測定可能であるという利点がある。
装置構成を示した。エアポンプ８でガスを吸引すると抽
出槽４内は減圧になるから、ボールデイフユーザ−２１
からキャリアガスが試料水中に吹き込まれ、試料水中の
次亜塩素酸は気相部に抽出される。したがって第１図に
示した装置と同様に試料水中の次亜塩素酸濃度が測定さ
れる。このバブリング法は試料水中に強制的にキャリア
ガスを吹き込んでいることから、応答速度が速く、低濃
度まで測定可能であるという利点がある。
第４図は請求項２の発明の実施例に係る装置の構成を示
す配置図である。この発明は試料水に緩衝液を注入して
次亜塩素酸の存在割合をほぼ１００％にしてから次亜塩
素酸を測定するもので、緩衝液３３を試料水に注入する
ための薬液ポンプ３１を備え、さらに演算の必要がない
ため測定チャンバ７内の半導体式ガスセンサの出力は直
接レコーダ３２に接続されている。
す配置図である。この発明は試料水に緩衝液を注入して
次亜塩素酸の存在割合をほぼ１００％にしてから次亜塩
素酸を測定するもので、緩衝液３３を試料水に注入する
ための薬液ポンプ３１を備え、さらに演算の必要がない
ため測定チャンバ７内の半導体式ガスセンサの出力は直
接レコーダ３２に接続されている。
この装置において、抽出槽４内の試料水には薬液ポンプ
３１によって緩衝液が添加され、ｐＨの上限が６．１５
、下限が水素イオン濃度と次亜塩素酸濃度の積（Ｈ”
）＊ （Ｃ，１−）がａ、ｓ４＊ｉｏ −’になるよ
うに調節される。この条件を満たせば試料水中の遊離塩
素の９５％以上か次亜塩素酸として存在する。
３１によって緩衝液が添加され、ｐＨの上限が６．１５
、下限が水素イオン濃度と次亜塩素酸濃度の積（Ｈ”
）＊ （Ｃ，１−）がａ、ｓ４＊ｉｏ −’になるよ
うに調節される。この条件を満たせば試料水中の遊離塩
素の９５％以上か次亜塩素酸として存在する。
理由を以下に説明する。式（１）１式（２）の解離平衡
は第５図のようになり、次亜塩素酸としてほぼ１００％
存在するためにはｐＨは所定の範囲に限定される。いま
上限、下限を次亜塩素酸として９５％以上存在する範囲
と定義する。次亜塩素酸として９５％以上存在するため
には、上限は次式を満たせばよい。
は第５図のようになり、次亜塩素酸としてほぼ１００％
存在するためにはｐＨは所定の範囲に限定される。いま
上限、下限を次亜塩素酸として９５％以上存在する範囲
と定義する。次亜塩素酸として９５％以上存在するため
には、上限は次式を満たせばよい。
（ＨＯＣＩ） 十（ＯＣＩ−）
（ＯＣＩ−）は、
であるから、式（７）を式（６）に代入して整理すると
、〔Ｈ４〕 ２１９傘Ｋｇ（Ｔ）
＋８１となる。通常、上下水道水、工業用水、河川水等
３− の水温は０〜２５℃であるから、式（８）に結果的に値
が大きくなるＫｌ（２５） ＝３．７＊１０−”を代入
すると、〔Ｈ“〕≧７．０寧１０− 、ｐＨで表わす
と６．１５以下にすればよい。
、〔Ｈ４〕 ２１９傘Ｋｇ（Ｔ）
＋８１となる。通常、上下水道水、工業用水、河川水等
３− の水温は０〜２５℃であるから、式（８）に結果的に値
が大きくなるＫｌ（２５） ＝３．７＊１０−”を代入
すると、〔Ｈ“〕≧７．０寧１０− 、ｐＨで表わす
と６．１５以下にすればよい。
一方、下限は次の条件を満たす必要がある。
（ＨＯＣＩ）＋２＊ （Ｃ１ｇ ）（ｃｌｇ）は、
Ｋｌ（Ｔ）
Ｋｌ（Ｔ） ４式（１）の平衡定数
であるから、弐〇のを式（９）に代入して整理すると、
（Ｈ”）＊ （Ｃ１−） ≦２．６ｈｌＯ−”
傘に、（Ｔ） （１１）となる。上限を求め
た時と同様に、上下水道水。
（Ｈ”）＊ （Ｃ１−） ≦２．６ｈｌＯ−”
傘に、（Ｔ） （１１）となる。上限を求め
た時と同様に、上下水道水。
工業用水、河川水等の水温は０〜２５℃であるから結果
的に値が小さくなるに＋（０） ”１．４６＊１０−’
を代入して、（Ｈ”）＊ （ＣＩ−）≦３．ｓ４＊ｔ
ｏ −’となる。
的に値が小さくなるに＋（０） ”１．４６＊１０−’
を代入して、（Ｈ”）＊ （ＣＩ−）≦３．ｓ４＊ｔ
ｏ −’となる。
よってｐＨ≦６．１５でかつ（Ｈ”３本 （ＣＩ−）≦
３．ｓ４＊ｔｏ−ｈの条件を満たせば、遊離塩素は常に
４ 次亜塩素酸の形態で９５％以上が存在する。したがって
、このように調整された試料水の次亜塩素酸を測定すれ
ば、試料水中の次亜塩素酸と次亜塩素酸イオンの合計濃
度が求まる。
３．ｓ４＊ｔｏ−ｈの条件を満たせば、遊離塩素は常に
４ 次亜塩素酸の形態で９５％以上が存在する。したがって
、このように調整された試料水の次亜塩素酸を測定すれ
ば、試料水中の次亜塩素酸と次亜塩素酸イオンの合計濃
度が求まる。
第４図の実施例では次亜塩素酸の抽出方法としてヘッド
スペース法を示したが、請求項１の発明と同様にこれに
限定されるものではなく、バブリング法を用いてもよい
。
スペース法を示したが、請求項１の発明と同様にこれに
限定されるものではなく、バブリング法を用いてもよい
。
この発明によれば、
１）試料水中の次亜塩素酸を気相に移行させて行う遊離
塩素測定装置において、 （１）試料水中の次亜塩素酸を気相に移行させる気相抽
出手段と、 （２）気相に移行した次亜塩素酸を検知して試料水中の
次亜塩素酸濃度（ＨＯＣＩ）を測定する半導体式ガス検
知手段と、 して試料水中のｐＨを検知する手段と、（４）試料水の
温度（Ｔ）を測定する手段と、（５）次亜塩素酸イオン
濃度を（ＱＣｌ−）、に！（Ｔ）を温度によって決まる
酸解離定数とするときに次式 ％式％ および（ＱＣｌ−）＋ （ＨＯＣ１） の計算を行う演
算部、とを備え、または ２）試料水中の次亜塩素酸を気相に移行させて行う遊離
塩素測定装置において、 ＋１１試料水中の次亜塩素酸を気相に移行させる気相抽
出手段と、 （２）気相に移行した次亜塩素酸を検知して試料水中の
次亜塩素酸濃度を測定する半導体式ガス検知手段と、 して試料水中の次亜塩素酸濃度を（Ｃ１−）とするとき
に試料水のｐＨを下記範囲内にするｐＨ調整手段、とを
備えるので、 イ）試料水中の次亜塩素酸は汚染を受けることのない半
導体式ガスセンサによって高信頼性の測定がなされる。
塩素測定装置において、 （１）試料水中の次亜塩素酸を気相に移行させる気相抽
出手段と、 （２）気相に移行した次亜塩素酸を検知して試料水中の
次亜塩素酸濃度（ＨＯＣＩ）を測定する半導体式ガス検
知手段と、 して試料水中のｐＨを検知する手段と、（４）試料水の
温度（Ｔ）を測定する手段と、（５）次亜塩素酸イオン
濃度を（ＱＣｌ−）、に！（Ｔ）を温度によって決まる
酸解離定数とするときに次式 ％式％ および（ＱＣｌ−）＋ （ＨＯＣ１） の計算を行う演
算部、とを備え、または ２）試料水中の次亜塩素酸を気相に移行させて行う遊離
塩素測定装置において、 ＋１１試料水中の次亜塩素酸を気相に移行させる気相抽
出手段と、 （２）気相に移行した次亜塩素酸を検知して試料水中の
次亜塩素酸濃度を測定する半導体式ガス検知手段と、 して試料水中の次亜塩素酸濃度を（Ｃ１−）とするとき
に試料水のｐＨを下記範囲内にするｐＨ調整手段、とを
備えるので、 イ）試料水中の次亜塩素酸は汚染を受けることのない半
導体式ガスセンサによって高信頼性の測定がなされる。
半導体式ガスセンサで検知されない次亜塩素酸イオンは
試料水のｐＨと温度をもとにして計算され、これらの結
果として遊離塩素を高いＩＩＩ性で測定することが可能
となる。
試料水のｐＨと温度をもとにして計算され、これらの結
果として遊離塩素を高いＩＩＩ性で測定することが可能
となる。
口）試料水のｐＨが所定範囲に調整されると、遊離塩素
の９５％・以上が次亜塩素酸となり、半導体式ガスセン
サによりこれを検知して遊離塩素を高い（ＩＩＩ性で測
定することができる。
の９５％・以上が次亜塩素酸となり、半導体式ガスセン
サによりこれを検知して遊離塩素を高い（ＩＩＩ性で測
定することができる。
第１図は請求項１の発明の実施例に係る遊離塩素測定装
置を示す配置図、第２図は請求項１または２の発明の実
施例に係る装置のうちの半導体式ガスセンサを示し、第
２図ｆａ）は斜視図、第２図（ｂｌは断面図、第３図は
請求項１の発明の異なる実施例に係る遊離塩素測定装置
を示す配置図、第４図は請求項２の発明の実施例に係る
遊離塩素測定装置を示す配置図、第５図は試料水ｐ）（
とＨＯＣ１存在割合を示す線図である。 １：フィルタ、２．３二流量針、４：抽出槽、５：ｐＨ
計、６：水温計、７：測定チャンバ、８：エアポンプ、
９：演算装置、３１：薬液ポンプ、＝１７＝ １８
置を示す配置図、第２図は請求項１または２の発明の実
施例に係る装置のうちの半導体式ガスセンサを示し、第
２図ｆａ）は斜視図、第２図（ｂｌは断面図、第３図は
請求項１の発明の異なる実施例に係る遊離塩素測定装置
を示す配置図、第４図は請求項２の発明の実施例に係る
遊離塩素測定装置を示す配置図、第５図は試料水ｐ）（
とＨＯＣ１存在割合を示す線図である。 １：フィルタ、２．３二流量針、４：抽出槽、５：ｐＨ
計、６：水温計、７：測定チャンバ、８：エアポンプ、
９：演算装置、３１：薬液ポンプ、＝１７＝ １８
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １）試料水中の次亜塩素酸を気相に移行させて行う遊離
塩素測定装置において、 （１）試料水中の次亜塩素酸をキャリアガス中に移行さ
せる気相抽出手段と、 （２）キャリアガス中に移行した次亜塩素酸を検知して
試料水中の次亜塩素酸濃度〔ＨＯＣｌ〕を測定する半導
体式ガス検知手段と、 （３）試料水のｐＨを検知する手段と、 （４）試料水の温度（Ｔ）を測定する手段と、（５）次
亜塩素酸イオン濃度を〔ＯＣｌ＾−〕、Ｋ＿２（Ｔ）を
温度によって決まる酸解離定数とするときに次式 〔ＯＣｌ＾−〕＝Ｋ＿２（Ｔ）＊〔ＨＯＣｌ〕＊１０＾
ｐ＾Ｈおよび〔ＯＣｌ＾−〕＋〔ＨＯＣｌ〕の計算を行
う演算部、とを備えることを特徴とする遊離塩素測定装
置。 ２）試料水中の次亜塩素酸を気相に移行させて行う遊離
塩素測定装置において、 （１）試料水中の次亜塩素酸をキャリアガス中に移行さ
せる気相抽出手段と、 （２）キャリアガス中に移行した次亜塩素酸を検知して
試料水中の次亜塩素酸濃度を測定する半導体式ガス検知
手段と、 （３）試料水の塩素イオン濃度を〔Ｃｌ＾−〕とすると
きに試料水のｐＨを下記範囲内にする −ｌｏｇ（３．８４＊１０＾−＾６／〔Ｃｌ＾−〕）≦
ｐＨ≦６．１５ｐＨ調整手段、とを備えることを特徴と
する遊離塩素測定装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17594589A JPH0782005B2 (ja) | 1989-07-07 | 1989-07-07 | 遊離塩素測定装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17594589A JPH0782005B2 (ja) | 1989-07-07 | 1989-07-07 | 遊離塩素測定装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0341360A true JPH0341360A (ja) | 1991-02-21 |
| JPH0782005B2 JPH0782005B2 (ja) | 1995-09-06 |
Family
ID=16005003
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP17594589A Expired - Lifetime JPH0782005B2 (ja) | 1989-07-07 | 1989-07-07 | 遊離塩素測定装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0782005B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN111135332A (zh) * | 2019-12-23 | 2020-05-12 | 浙江吉叶生物科技有限公司 | 消毒液消毒效果的测试方法及系统 |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS58169049A (ja) * | 1982-03-31 | 1983-10-05 | Kanegafuchi Chem Ind Co Ltd | 液中濃度測定法及び同用装置 |
-
1989
- 1989-07-07 JP JP17594589A patent/JPH0782005B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS58169049A (ja) * | 1982-03-31 | 1983-10-05 | Kanegafuchi Chem Ind Co Ltd | 液中濃度測定法及び同用装置 |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN111135332A (zh) * | 2019-12-23 | 2020-05-12 | 浙江吉叶生物科技有限公司 | 消毒液消毒效果的测试方法及系统 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0782005B2 (ja) | 1995-09-06 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US5439569A (en) | Concentration measurement and control of hydrogen peroxide and acid/base component in a semiconductor bath | |
| JPH0196546A (ja) | 吸引式オゾンガス検知器 | |
| US5346605A (en) | Apparatus for quantitative determination of chemical oxidizing or reducing agents in a fluid environment | |
| Jin et al. | A miniaturized FIA system for the determination of residual chlorine in environmental water samples | |
| US4460448A (en) | Calibration unit for gases | |
| US3960673A (en) | Technique for continuously analyzing the concentration of ozone dissolved in water | |
| JP3339651B2 (ja) | 定電位電解式酸性ガスセンサー | |
| JPH0341360A (ja) | 遊離塩素測定装置 | |
| US6330819B1 (en) | Method and apparatus for calibrating a dissolved oxygen analyzer | |
| JP4232186B2 (ja) | 超純水中の溶存窒素濃度測定装置及び測定方法 | |
| US3573174A (en) | Process for the detection or determination of fluorine | |
| JP4166104B2 (ja) | 定電位電解式酸性ガス検出器 | |
| JP3307827B2 (ja) | 定電位電解式アンモニアガス検出器 | |
| US20060175208A1 (en) | Water-conductivity CO2 sensor | |
| CN107636454A (zh) | 一种浸水式检测器 | |
| US20070227908A1 (en) | Electrochemical cell sensor | |
| JPS6276445A (ja) | 二酸化炭素測定電極 | |
| US20060163088A1 (en) | Amperometric sensor with counter electrode isolated from fill solution | |
| JPH02285259A (ja) | 試料水中の遊離塩素の測定装置 | |
| Matuszewski et al. | Continuous monitoring of gas-phase species at trace levels with electrochemical detectors: Part 2. Detection of chlorine and hydrogen chloride | |
| JPH01239446A (ja) | ガスセンサー | |
| JPH0778478B2 (ja) | 試料水中の遊離塩素の測定方法 | |
| US5904833A (en) | Method and apparatus for measuring the content of dissolved carbon dioxide in an aqueous medium | |
| JPH04337457A (ja) | 水質分析計 | |
| JPS6327745A (ja) | 残留塩素測定装置 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20070906 Year of fee payment: 12 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080906 Year of fee payment: 13 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080906 Year of fee payment: 13 |
|
| S533 | Written request for registration of change of name |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080906 Year of fee payment: 13 |
|
| R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080906 Year of fee payment: 13 |
|
| S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313117 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080906 Year of fee payment: 13 |
|
| R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080906 Year of fee payment: 13 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090906 Year of fee payment: 14 |
|
| EXPY | Cancellation because of completion of term |