JPH0782187A - 1,4−ブタンジオールの製法 - Google Patents
1,4−ブタンジオールの製法Info
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- JPH0782187A JPH0782187A JP5228696A JP22869693A JPH0782187A JP H0782187 A JPH0782187 A JP H0782187A JP 5228696 A JP5228696 A JP 5228696A JP 22869693 A JP22869693 A JP 22869693A JP H0782187 A JPH0782187 A JP H0782187A
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- JP
- Japan
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- reaction
- rhenium
- butanediol
- compound
- zeolite
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- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/52—Improvements relating to the production of bulk chemicals using catalysts, e.g. selective catalysts
Landscapes
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】γ−ブチロラクトンを触媒を用いて水素化し
て、温和な反応条件下に高選択的に1,4−ブタンジオ
ールを製造する。 【構成】パラジウム金属とレニウム化合物からなる触媒
を用い、添加剤としてアミン化合物、アルカリ型ゼオラ
イト又は水を共存させてγ−ブチロラクトンの水素化反
応を行ない、1,4−ブタンジオールを製造する。
て、温和な反応条件下に高選択的に1,4−ブタンジオ
ールを製造する。 【構成】パラジウム金属とレニウム化合物からなる触媒
を用い、添加剤としてアミン化合物、アルカリ型ゼオラ
イト又は水を共存させてγ−ブチロラクトンの水素化反
応を行ない、1,4−ブタンジオールを製造する。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は1,4−ブタンジオール
の製法に関する。1,4−ブタンジオールは、ポリブチ
レンテレフタレート樹脂、ウレタンフォームやウレタン
系塗料、接着剤等の原料として、また有機合成用溶媒、
塩化ビニル系樹脂等の溶剤、ポリウレタン弾性繊維やポ
リエステルエラストマ−等の中間体として有用なテトラ
ヒドロフランの原料として非常に有用な物質である。
の製法に関する。1,4−ブタンジオールは、ポリブチ
レンテレフタレート樹脂、ウレタンフォームやウレタン
系塗料、接着剤等の原料として、また有機合成用溶媒、
塩化ビニル系樹脂等の溶剤、ポリウレタン弾性繊維やポ
リエステルエラストマ−等の中間体として有用なテトラ
ヒドロフランの原料として非常に有用な物質である。
【0002】
【従来の技術】従来、γ−ブチロラクトンを触媒を用い
て水素化し、1,4−ブタンジオールを製造する方法に
関しては、多くの提案がなされている。例えば、特開平
3ー178943号公報には、銅−クロム−マンガン−
バリウム触媒を用い、反応温度210℃、圧力60at
mで水素化する方法が記載されているが、触媒成分であ
る銅の凝集や、使用済み触媒中の重金属の処理の問題が
ある。また、特開平1−290640号公報には、Ru
−アルキルホスフィン錯体触媒を用い、反応温度200
℃、圧力50atmで水素化する方法が記載されている
が、満足な1,4−ブタンジオール収率が得られていな
い(23%)。更に、米国特許4,550,185号に
は、活性炭担持パラジウム−レニウム触媒を用い、反応
温度180℃、圧力170atmで水素化する方法が記
載されているが、厳しい高圧の条件下に1,4−ブタン
ジオールを得ている。
て水素化し、1,4−ブタンジオールを製造する方法に
関しては、多くの提案がなされている。例えば、特開平
3ー178943号公報には、銅−クロム−マンガン−
バリウム触媒を用い、反応温度210℃、圧力60at
mで水素化する方法が記載されているが、触媒成分であ
る銅の凝集や、使用済み触媒中の重金属の処理の問題が
ある。また、特開平1−290640号公報には、Ru
−アルキルホスフィン錯体触媒を用い、反応温度200
℃、圧力50atmで水素化する方法が記載されている
が、満足な1,4−ブタンジオール収率が得られていな
い(23%)。更に、米国特許4,550,185号に
は、活性炭担持パラジウム−レニウム触媒を用い、反応
温度180℃、圧力170atmで水素化する方法が記
載されているが、厳しい高圧の条件下に1,4−ブタン
ジオールを得ている。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】それ故、γ−ブチロラ
クトンを触媒を用いて水素化して、より温和な反応条件
下に高選択的に1,4−ブタンジオールを製造する方法
の開発が強く望まれていた。
クトンを触媒を用いて水素化して、より温和な反応条件
下に高選択的に1,4−ブタンジオールを製造する方法
の開発が強く望まれていた。
【0004】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記問題
点を解決するために鋭意研究を行った結果、アミン化合
物、アルカリ型ゼオライト又は水の共存下、周期律表第
VIII族の金属から選ばれた少なくとも一種以上の金
属とレニウム化合物からなる触媒を用いてγ−ブチロラ
クトンを水素化すると、より温和な条件下に高選択的に
1,4−ブタンジオールが得られることを見い出し本発
明を完成するに至った。
点を解決するために鋭意研究を行った結果、アミン化合
物、アルカリ型ゼオライト又は水の共存下、周期律表第
VIII族の金属から選ばれた少なくとも一種以上の金
属とレニウム化合物からなる触媒を用いてγ−ブチロラ
クトンを水素化すると、より温和な条件下に高選択的に
1,4−ブタンジオールが得られることを見い出し本発
明を完成するに至った。
【0005】即ち本発明は、γ−ブチロラクトンの水素
化により1,4−ブタンジオールを製造するにあたり、
周期律表第VIII族の金属から選ばれた少なくとも一
種以上の金属とレニウム化合物からなる触媒を用い、添
加剤として少なくともアミン化合物、アルカリ型ゼオラ
イト又は水を共存させて水素化反応を行なうことを特徴
とする1,4−ブタンジオールの製法に関するものであ
る。以下本発明について詳細に説明する。
化により1,4−ブタンジオールを製造するにあたり、
周期律表第VIII族の金属から選ばれた少なくとも一
種以上の金属とレニウム化合物からなる触媒を用い、添
加剤として少なくともアミン化合物、アルカリ型ゼオラ
イト又は水を共存させて水素化反応を行なうことを特徴
とする1,4−ブタンジオールの製法に関するものであ
る。以下本発明について詳細に説明する。
【0006】本発明においては、アミン化合物、アルカ
リ型ゼオライト又は水が原料及び触媒の存在下に添加剤
として共存させて使用される。
リ型ゼオライト又は水が原料及び触媒の存在下に添加剤
として共存させて使用される。
【0007】本発明で使用できるアミン化合物は、第一
アミン類、第二アミン類、第三アミン類、ピリジン化合
物などがあげられる。
アミン類、第二アミン類、第三アミン類、ピリジン化合
物などがあげられる。
【0008】第一アミン類は、RNH2で示されるモノ
アミン類であり、Rはアルキル基、アリール基、シクロ
アルキル基、ヒドロキシアルキル基等の置換基を示す。
第一アミン類としては、メチルアミン、エチルアミン、
n−プロピルアミン、i−プロピルアミン、n−ブチル
アミン、t−ブチルアミン、シクロヘキシルアミン、モ
ノエタノールアミン等が例示できる。これらのうちt−
ブチルアミンが好ましく用いられる。
アミン類であり、Rはアルキル基、アリール基、シクロ
アルキル基、ヒドロキシアルキル基等の置換基を示す。
第一アミン類としては、メチルアミン、エチルアミン、
n−プロピルアミン、i−プロピルアミン、n−ブチル
アミン、t−ブチルアミン、シクロヘキシルアミン、モ
ノエタノールアミン等が例示できる。これらのうちt−
ブチルアミンが好ましく用いられる。
【0009】第二アミン類は、R1R2NHで示されるジ
置換モノアミン類及びR1NH−(CH2)n−NHR
2(nは1〜6の整数)で示されるジ置換ジアミン類で
あり、R1,R2は、アルキル基、アリール基、シクロア
ルキル基、ヒドロキシアルキル基等の置換基を示す。ジ
置換モノアミン類としては、ジメチルアミン、ジエチル
アミン、ジプロピルアミン、メチルベンジルアミン、メ
チルシクロヘキシルアミン、ジエタノールアミン、ピペ
リジン等が例示できる。またジ置換ジアミン類として
は、N,N’−ジメチルエチレンジアミン、N,N’−
ジメチルプロパンジアミン、ピペラジン等が例示でき
る。これらのうちジプロピルアミンが好ましく用いられ
る。
置換モノアミン類及びR1NH−(CH2)n−NHR
2(nは1〜6の整数)で示されるジ置換ジアミン類で
あり、R1,R2は、アルキル基、アリール基、シクロア
ルキル基、ヒドロキシアルキル基等の置換基を示す。ジ
置換モノアミン類としては、ジメチルアミン、ジエチル
アミン、ジプロピルアミン、メチルベンジルアミン、メ
チルシクロヘキシルアミン、ジエタノールアミン、ピペ
リジン等が例示できる。またジ置換ジアミン類として
は、N,N’−ジメチルエチレンジアミン、N,N’−
ジメチルプロパンジアミン、ピペラジン等が例示でき
る。これらのうちジプロピルアミンが好ましく用いられ
る。
【0010】第三アミン類は、R1R2R3Nで示される
トリ置換モノアミン類、R1R2N−(CH2)n−NR3
R4(nは1〜6の整数)で示されるテトラ置換ジアミ
ン類であり、R1〜R4は、アルキル基、アリール基、シ
クロアルキル基、ヒドロキシアルキル基等の置換基を示
す。トリ置換モノアミン類としては、トリメチルアミ
ン、トリエチルアミン、トリプロピルアミン、ジメチル
ベンジルアミン、ジメチルシクロヘキシルアミン、メチ
ルジシクロヘキシルアミン、ジメチルオクチルアミン、
ジメチルドデシルアミン、メチルジエタノールアミン、
トリエタノールアミン、メチルジイソプロパノールアミ
ン、トリイソプロパノールアミン等が例示できる。テト
ラ置換ジアミン類としては、テトラメチルエチレンジア
ミン、テトラメチルプロパンジアミン、テトラメチルヘ
キサメチレンジアミン、トリエチレンジアミン、ビス
(ジメチルアミノエチル)エーテル、N,N’−ジメチ
ルピペラジン、テトラメチルトルエンジアミン等が例示
できる。これらのうち、トリメチルアミン、トリエチル
アミン、トリプロピルアミンがより好ましく用いられ
る。
トリ置換モノアミン類、R1R2N−(CH2)n−NR3
R4(nは1〜6の整数)で示されるテトラ置換ジアミ
ン類であり、R1〜R4は、アルキル基、アリール基、シ
クロアルキル基、ヒドロキシアルキル基等の置換基を示
す。トリ置換モノアミン類としては、トリメチルアミ
ン、トリエチルアミン、トリプロピルアミン、ジメチル
ベンジルアミン、ジメチルシクロヘキシルアミン、メチ
ルジシクロヘキシルアミン、ジメチルオクチルアミン、
ジメチルドデシルアミン、メチルジエタノールアミン、
トリエタノールアミン、メチルジイソプロパノールアミ
ン、トリイソプロパノールアミン等が例示できる。テト
ラ置換ジアミン類としては、テトラメチルエチレンジア
ミン、テトラメチルプロパンジアミン、テトラメチルヘ
キサメチレンジアミン、トリエチレンジアミン、ビス
(ジメチルアミノエチル)エーテル、N,N’−ジメチ
ルピペラジン、テトラメチルトルエンジアミン等が例示
できる。これらのうち、トリメチルアミン、トリエチル
アミン、トリプロピルアミンがより好ましく用いられ
る。
【0011】ピリジン化合物は、ピリジンまたはアルキ
ル基、アリール基、シクロアルキル基、ハロゲン、ヒド
ロキシル基、アルコキシ基、カルボキシル基等の置換基
を有するピリジン化合物である。これらの例としては、
ピリジン、ピコリン、ルチジン、フェニルピリジン、ニ
コチン酸、ピコリン酸及びビピリジル等が挙げられ、こ
れらのうちピリジンがより好ましい。
ル基、アリール基、シクロアルキル基、ハロゲン、ヒド
ロキシル基、アルコキシ基、カルボキシル基等の置換基
を有するピリジン化合物である。これらの例としては、
ピリジン、ピコリン、ルチジン、フェニルピリジン、ニ
コチン酸、ピコリン酸及びビピリジル等が挙げられ、こ
れらのうちピリジンがより好ましい。
【0012】本発明では、添加剤としてアルカリ型ゼオ
ライトを用いることもできる。ゼオライトは、M2/n・
T2O3・xSiO2と一般に表記される結晶性シリケー
トである。ここで、Tはゼオライト骨格中の元素で、ア
ルミニウム、鉄、ホウ素等の3価の金属が一般的であ
り、また、xは通常2以上の整数である。ゼオライト
は、TO4四面体とSiO4四面体がO/(Si+T)比
が2となるように、酸素原子を介して規則正しく三次元
的に配列した結晶性化合物である。Tが3価のカチオン
であるためTO4は負電荷を帯び、このためこの負電荷
を中和するために正の電荷をもつMが必要となる。した
がって、Mはゼオライトの骨格構造を維持するためには
カチオン種でありさえすればよく、プロトン、アルカリ
金属、アルカリ土類金属が一般的である。nはMが1価
のカチオンであれば1であり、2価、3価のカチオンで
あればそれぞれ2、3となる。このようにゼオライトの
基本構造は、TO4,SiO4四面体からなるものであ
り、Mはイオン交換することができる。
ライトを用いることもできる。ゼオライトは、M2/n・
T2O3・xSiO2と一般に表記される結晶性シリケー
トである。ここで、Tはゼオライト骨格中の元素で、ア
ルミニウム、鉄、ホウ素等の3価の金属が一般的であ
り、また、xは通常2以上の整数である。ゼオライト
は、TO4四面体とSiO4四面体がO/(Si+T)比
が2となるように、酸素原子を介して規則正しく三次元
的に配列した結晶性化合物である。Tが3価のカチオン
であるためTO4は負電荷を帯び、このためこの負電荷
を中和するために正の電荷をもつMが必要となる。した
がって、Mはゼオライトの骨格構造を維持するためには
カチオン種でありさえすればよく、プロトン、アルカリ
金属、アルカリ土類金属が一般的である。nはMが1価
のカチオンであれば1であり、2価、3価のカチオンで
あればそれぞれ2、3となる。このようにゼオライトの
基本構造は、TO4,SiO4四面体からなるものであ
り、Mはイオン交換することができる。
【0013】本発明の方法においてゼオライトを用いる
場合は、Mがアルカリ金属であるゼオライトを用いるこ
とのみが必須であり、Tやxには特に制限はない。アル
カリ金属の例としてはリチウム、ナトリウム、カリウ
ム、ルビジウム、セシウムを挙げることができる。本発
明の方法において、用いるゼオライトの結晶構造に特に
制限はない。具体的にはフィリップサイト、フォージャ
サイト、エリオナイト、オフレタイト、モルデナイト、
フェリエライト等の天然ゼオライトや、A型、X型、Y
型、USY型、L型、ZSM−5、モルデナイト、フェ
リエライト等の合成ゼオライトを挙げることができる。
なお、天然ゼオライトとして知られているものの中には
合成することができるものもあるが、合成されたものが
使用できることは言うまでもない。ゼオライトは一般に
アルカリ型ゼオライトとして入手されるため、本発明に
おいては、そのまま用いてもまた所望のアルカリカチオ
ンにイオン交換して用いても良い。
場合は、Mがアルカリ金属であるゼオライトを用いるこ
とのみが必須であり、Tやxには特に制限はない。アル
カリ金属の例としてはリチウム、ナトリウム、カリウ
ム、ルビジウム、セシウムを挙げることができる。本発
明の方法において、用いるゼオライトの結晶構造に特に
制限はない。具体的にはフィリップサイト、フォージャ
サイト、エリオナイト、オフレタイト、モルデナイト、
フェリエライト等の天然ゼオライトや、A型、X型、Y
型、USY型、L型、ZSM−5、モルデナイト、フェ
リエライト等の合成ゼオライトを挙げることができる。
なお、天然ゼオライトとして知られているものの中には
合成することができるものもあるが、合成されたものが
使用できることは言うまでもない。ゼオライトは一般に
アルカリ型ゼオライトとして入手されるため、本発明に
おいては、そのまま用いてもまた所望のアルカリカチオ
ンにイオン交換して用いても良い。
【0014】本発明の方法で用いるアルカリ型ゼオライ
ト中のアルカリの量は、T原子に対するアルカリ原子の
原子比として定義することができ、この原子比は好まし
くは0.05〜1.0、より好ましくは0.2〜1.0
である。アルカリ原子の量が少なすぎると、共存させる
効果が十分に発揮されない。
ト中のアルカリの量は、T原子に対するアルカリ原子の
原子比として定義することができ、この原子比は好まし
くは0.05〜1.0、より好ましくは0.2〜1.0
である。アルカリ原子の量が少なすぎると、共存させる
効果が十分に発揮されない。
【0015】所望のアルカリカチオン種及びアルカリカ
チオン量とするためのイオン交換の方法に特に制限はな
く、通常の方法で行うことができる。例えば最も一般的
な例として、所望の一種あるいは二種以上のアルカリ金
属を含む塩を所望量の水に溶解し、所定の温度で所定時
間イオン交換を行い、水洗、乾燥してアルカリ型ゼオラ
イトとすることができる。必要であれば、空気や不活性
ガス流通下で、熱処理したものも用いることができる。
熱処理の温度はアルカリ型ゼオライトが構造破壊を起こ
さなければ特に制限はなく、一般的には500℃までで
行われる。また、ゼオライトは同じ結晶構造を有してい
ても骨格のシリコン/アルミニウム比の異なるものが存
在するが、いずれのものでも用いることができる。
チオン量とするためのイオン交換の方法に特に制限はな
く、通常の方法で行うことができる。例えば最も一般的
な例として、所望の一種あるいは二種以上のアルカリ金
属を含む塩を所望量の水に溶解し、所定の温度で所定時
間イオン交換を行い、水洗、乾燥してアルカリ型ゼオラ
イトとすることができる。必要であれば、空気や不活性
ガス流通下で、熱処理したものも用いることができる。
熱処理の温度はアルカリ型ゼオライトが構造破壊を起こ
さなければ特に制限はなく、一般的には500℃までで
行われる。また、ゼオライトは同じ結晶構造を有してい
ても骨格のシリコン/アルミニウム比の異なるものが存
在するが、いずれのものでも用いることができる。
【0016】本発明の方法において添加剤として使用す
るアミン化合物、アルカリ型ゼオライトまたは水の添加
方法については特に制限はなく、各々単独で添加するこ
とができる。しかしより好ましくは、アミン化合物と
水、又はアルカリ型ゼオライトと水を組み合わせて添加
することである。
るアミン化合物、アルカリ型ゼオライトまたは水の添加
方法については特に制限はなく、各々単独で添加するこ
とができる。しかしより好ましくは、アミン化合物と
水、又はアルカリ型ゼオライトと水を組み合わせて添加
することである。
【0017】使用するアミン化合物、アルカリ型ゼオラ
イト及び水の量は特に限定されないが、原料に対しそれ
ぞれ0.1〜300重量%、好ましくは1〜250重量
%がよい。これより多くても効果は顕著には向上せず、
これより少ないと充分な活性が得られないことがある。
イト及び水の量は特に限定されないが、原料に対しそれ
ぞれ0.1〜300重量%、好ましくは1〜250重量
%がよい。これより多くても効果は顕著には向上せず、
これより少ないと充分な活性が得られないことがある。
【0018】本発明で用いる触媒は、周期律表第VII
I族の金属(以下、単にVIII族金属と略記する)と
レニウム化合物からなる触媒である。このうちVIII
族金属としては鉄、コバルト、ニッケル、ルテニウム、
ロジウム、パラジウム、オスミウム、イリジウム、白金
から選ばれた一種又は二種以上の混合物が例示でき、パ
ラジウム及びルテニウムがより好ましく用いられる。
I族の金属(以下、単にVIII族金属と略記する)と
レニウム化合物からなる触媒である。このうちVIII
族金属としては鉄、コバルト、ニッケル、ルテニウム、
ロジウム、パラジウム、オスミウム、イリジウム、白金
から選ばれた一種又は二種以上の混合物が例示でき、パ
ラジウム及びルテニウムがより好ましく用いられる。
【0019】本発明において、VIII族金属は、パウ
ダー状やペースト状の金属として、そのまま懸濁して用
いることもできるが、好ましくは担体に担持して用いら
れる。担体に担持して用いる場合、その調製方法に特に
制限はなく、例えば物理混合法、含浸法、イオン交換法
等公知の方法で調製したものを使用できる。
ダー状やペースト状の金属として、そのまま懸濁して用
いることもできるが、好ましくは担体に担持して用いら
れる。担体に担持して用いる場合、その調製方法に特に
制限はなく、例えば物理混合法、含浸法、イオン交換法
等公知の方法で調製したものを使用できる。
【0020】これら調製法のうち含浸法で調製する場合
には、VIII族金属の原料を適当な溶媒に溶解し、こ
れに担体を加え混合し、必要なら所定の時間静置した
後、乾燥する。その後、直接還元しても良いし、場合に
よっては焼成した後に還元しても構わない。還元方法に
特に制限はなく、例えば水素等を用いて気相で還元して
も、ヒドラジン等を用いて液相で還元しても構わない。
還元温度は原料が金属にまで還元されれば特に制限はな
いが、一般的に150〜500℃の温度で実施される。
またイオン交換法で調製する場合には、所望の濃度のV
III族金属の原料を用いてイオン交換し、その後は含
浸法と同様の方法で調製することができる。
には、VIII族金属の原料を適当な溶媒に溶解し、こ
れに担体を加え混合し、必要なら所定の時間静置した
後、乾燥する。その後、直接還元しても良いし、場合に
よっては焼成した後に還元しても構わない。還元方法に
特に制限はなく、例えば水素等を用いて気相で還元して
も、ヒドラジン等を用いて液相で還元しても構わない。
還元温度は原料が金属にまで還元されれば特に制限はな
いが、一般的に150〜500℃の温度で実施される。
またイオン交換法で調製する場合には、所望の濃度のV
III族金属の原料を用いてイオン交換し、その後は含
浸法と同様の方法で調製することができる。
【0021】VIII族金属を担体に担持して使用する
場合、担持量は特に制限されないが、VIII族金属と
して担体を含めた総重量当たり0.01〜20重量%と
することが好ましく、より好ましくは0.1〜10重量
%である。
場合、担持量は特に制限されないが、VIII族金属と
して担体を含めた総重量当たり0.01〜20重量%と
することが好ましく、より好ましくは0.1〜10重量
%である。
【0022】本発明において、触媒として使用するVI
II族金属の使用量は特に限定されないが、原料に対し
て0.01〜20重量%、好ましくは0.1〜10重量
%がよい。20重量%より多くなるとコスト的に不利で
あり、逆に0.01重量%より少ないと充分な活性が得
られないことがある。
II族金属の使用量は特に限定されないが、原料に対し
て0.01〜20重量%、好ましくは0.1〜10重量
%がよい。20重量%より多くなるとコスト的に不利で
あり、逆に0.01重量%より少ないと充分な活性が得
られないことがある。
【0023】本発明で用いられるVIII族金属の原料
は、本発明の水素化反応中あるいは担体に担持した後の
還元反応によって、金属に変化できるものであれば特に
制限はない。例えばコバルト化合物としては、塩化コバ
ルト、臭化コバルト、ヨウ化コバルト、硝酸コバルト、
硫酸コバルト、炭酸コバルト、ヘキサアンミンコバルト
臭化物等が挙げられ、ニッケル化合物としては、炭酸ニ
ッケル、塩化ニッケル、水酸化ニッケル、硝酸ニッケ
ル、酸化ニッケル、硫酸ニッケル、酢酸ニッケル、シュ
ウ酸ニッケル等が挙げられる。
は、本発明の水素化反応中あるいは担体に担持した後の
還元反応によって、金属に変化できるものであれば特に
制限はない。例えばコバルト化合物としては、塩化コバ
ルト、臭化コバルト、ヨウ化コバルト、硝酸コバルト、
硫酸コバルト、炭酸コバルト、ヘキサアンミンコバルト
臭化物等が挙げられ、ニッケル化合物としては、炭酸ニ
ッケル、塩化ニッケル、水酸化ニッケル、硝酸ニッケ
ル、酸化ニッケル、硫酸ニッケル、酢酸ニッケル、シュ
ウ酸ニッケル等が挙げられる。
【0024】ルテニウム化合物としては、塩化ルテニウ
ム酸アンモニウム、過ルテニウム酸カリウム、臭化ルテ
ニウム、塩化ルテニウム、ヨウ化ルテニウム、硝酸ニト
ロシルルテニウム、酸化ルテニウム、ヘキサアンミンル
テニウム塩化物、ヘキサカルボニルテトラクロロジルテ
ニウム、トリス(アセチルアセトナト)ルテニウム、ト
リカルボニルビス(トリフェニルホスフィン)ルテニウ
ム、ジクロロトリス(トリフェニルホスフィン)ルテニ
ウム等のルテニウム化合物が挙げられる。
ム酸アンモニウム、過ルテニウム酸カリウム、臭化ルテ
ニウム、塩化ルテニウム、ヨウ化ルテニウム、硝酸ニト
ロシルルテニウム、酸化ルテニウム、ヘキサアンミンル
テニウム塩化物、ヘキサカルボニルテトラクロロジルテ
ニウム、トリス(アセチルアセトナト)ルテニウム、ト
リカルボニルビス(トリフェニルホスフィン)ルテニウ
ム、ジクロロトリス(トリフェニルホスフィン)ルテニ
ウム等のルテニウム化合物が挙げられる。
【0025】またパラジウム化合物としては、ジニトロ
ジアミンパラジウム、臭化パラジウム、クロロカルボニ
ルパラジウム、塩化パラジウム、ヨウ化パラジウム、硝
酸パラジウム、酸化パラジウム、硫酸パラジウム、酢酸
パラジウム、テトラクロロパラジウム酸カリウム、ヘキ
サクロロパラジウム酸ナトリウム、テトラアンミンパラ
ジウム塩化物、テトラアンミンパラジウム硝酸塩、ジク
ロロビス(トリフェニルホスフィン)パラジウム、テト
ラキス(トリフェニルホスフィン)パラジウム等のパラ
ジウム化合物が挙げられる。
ジアミンパラジウム、臭化パラジウム、クロロカルボニ
ルパラジウム、塩化パラジウム、ヨウ化パラジウム、硝
酸パラジウム、酸化パラジウム、硫酸パラジウム、酢酸
パラジウム、テトラクロロパラジウム酸カリウム、ヘキ
サクロロパラジウム酸ナトリウム、テトラアンミンパラ
ジウム塩化物、テトラアンミンパラジウム硝酸塩、ジク
ロロビス(トリフェニルホスフィン)パラジウム、テト
ラキス(トリフェニルホスフィン)パラジウム等のパラ
ジウム化合物が挙げられる。
【0026】更にイリジウム化合物としては、ヘキサク
ロロイリジウム酸アンモニウム、臭化イリジウム、塩化
イリジウム、酸化イリジウム、ヘキサクロロイリジウム
酸カリウム、クロロペンタアンミンイリジウム塩化物、
ドデカカルボニルテトライリジウム等が挙げられ、白金
化合物としては、テトラクロロ白金酸アンモニウム、ジ
ニトロジアミン白金、ヘキサブロモ白金酸、ヘキサクロ
ロ白金酸、ヘキサヒドロキシ白金酸、臭化白金、塩化白
金、ヨウ化白金、酸化白金、ヘキサブロモ白金酸カリウ
ム、テトラブロモ白金酸カリウム、テトラアンミン白金
塩化物、テトラアンミン白金水酸化物、テトラキス(ト
リフェニルホスフィン)白金等が挙げられる。
ロロイリジウム酸アンモニウム、臭化イリジウム、塩化
イリジウム、酸化イリジウム、ヘキサクロロイリジウム
酸カリウム、クロロペンタアンミンイリジウム塩化物、
ドデカカルボニルテトライリジウム等が挙げられ、白金
化合物としては、テトラクロロ白金酸アンモニウム、ジ
ニトロジアミン白金、ヘキサブロモ白金酸、ヘキサクロ
ロ白金酸、ヘキサヒドロキシ白金酸、臭化白金、塩化白
金、ヨウ化白金、酸化白金、ヘキサブロモ白金酸カリウ
ム、テトラブロモ白金酸カリウム、テトラアンミン白金
塩化物、テトラアンミン白金水酸化物、テトラキス(ト
リフェニルホスフィン)白金等が挙げられる。
【0027】本発明においては、VIII族金属を担体
に担持して使用する場合、担体は多孔質の物質であれば
よく、例えばシリカ、アルミナ、シリカアルミナ、ゼオ
ライト、珪藻土、シリカマグネシア、シリカジルコニ
ア、マグネシア、ジルコニア、チタニア等結晶性または
非結晶性の金属酸化物あるいはそれらの複合酸化物、テ
ニオライト、ヘクトライト等の層状粘土化合物、活性炭
等が挙げられる。これらのうち活性炭が特に好ましい。
担体の形状には特に制限はなく、反応形式に応じて粉末
のまま、もしくは成形して用いることができる。懸濁床
では粉末あるいは顆粒状のものが、固定床ではタブレッ
トの打錠成形品、球状あるいは棒柱状の押し出し成形品
等が好ましく用いられる。
に担持して使用する場合、担体は多孔質の物質であれば
よく、例えばシリカ、アルミナ、シリカアルミナ、ゼオ
ライト、珪藻土、シリカマグネシア、シリカジルコニ
ア、マグネシア、ジルコニア、チタニア等結晶性または
非結晶性の金属酸化物あるいはそれらの複合酸化物、テ
ニオライト、ヘクトライト等の層状粘土化合物、活性炭
等が挙げられる。これらのうち活性炭が特に好ましい。
担体の形状には特に制限はなく、反応形式に応じて粉末
のまま、もしくは成形して用いることができる。懸濁床
では粉末あるいは顆粒状のものが、固定床ではタブレッ
トの打錠成形品、球状あるいは棒柱状の押し出し成形品
等が好ましく用いられる。
【0028】本発明において触媒はVIII族金属とレ
ニウム化合物からなる。ここで使用できるレニウム化合
物は0価の金属そのもの、公知の2価から7価の酸化物
及び/又はレニウムの各種塩である。例えばレニウム金
属としては、レニウム黒、レニウム酸化物としては七酸
化二レニウム、三酸化レニウム、二酸化レニウム等が挙
げられ、公知のレニウム化合物としては、例えば七硫化
二レニウム、二硫化レニウム、七フッ化レニウム、六フ
ッ化レニウム、四フッ化レニウム、五塩化レニウム、四
塩化レニウム、三塩化レニウム、三臭化レニウム、塩化
三酸化レニウム、過レニウム酸、過レニウム酸アンモニ
ウム、テトラブチルアンモニウムレニウムオキシド、過
レニウム酸カリウム、過レニウム酸ナトリウム、ジレニ
ウムデカカルボニル、クロロペンタカルボニルレニウ
ム、ペンタカルボニルメチルレニウム、ヨウ化レニウム
カルボニル、レニウムエトキシド、七酸化二レニウムエ
ーテル錯体等が挙げられる。
ニウム化合物からなる。ここで使用できるレニウム化合
物は0価の金属そのもの、公知の2価から7価の酸化物
及び/又はレニウムの各種塩である。例えばレニウム金
属としては、レニウム黒、レニウム酸化物としては七酸
化二レニウム、三酸化レニウム、二酸化レニウム等が挙
げられ、公知のレニウム化合物としては、例えば七硫化
二レニウム、二硫化レニウム、七フッ化レニウム、六フ
ッ化レニウム、四フッ化レニウム、五塩化レニウム、四
塩化レニウム、三塩化レニウム、三臭化レニウム、塩化
三酸化レニウム、過レニウム酸、過レニウム酸アンモニ
ウム、テトラブチルアンモニウムレニウムオキシド、過
レニウム酸カリウム、過レニウム酸ナトリウム、ジレニ
ウムデカカルボニル、クロロペンタカルボニルレニウ
ム、ペンタカルボニルメチルレニウム、ヨウ化レニウム
カルボニル、レニウムエトキシド、七酸化二レニウムエ
ーテル錯体等が挙げられる。
【0029】本発明においては、レニウム化合物の使用
方法については特に制限はなく、単独でもしくは必要に
応じて二種以上混合して使用しても構わない。また、反
応の形態に応じて使用するレニウム化合物は、原料及び
/又は溶媒に均一に溶解していても不均一に混合されて
いても構わない。また、前記VIII族金属と同様に、
レニウム化合物を担体に担持されたものを使用しても構
わない。担体に担持する場合は、レニウム化合物単独で
担持してもよいし、前記VIII族金属が担持されてい
る同一担体にレニウム化合物を担持してもよい。レニウ
ム化合物単独あるいはレニウム化合物とVIII族金属
を担体に担持する場合、その担持方法に特に制限はな
い。例えばレニウム化合物を前記例示のVIII族金属
と同様にして担持することができる。またレニウム化合
物とVIII族金属とを担体に担持する場合、VIII
族金属を先に担体上に形成させ、しかる後にレニウム化
合物を担持してもよいし、逆にレニウム化合物を先に担
持した後、VIII族金属を担体上に形成させても構わ
ない。さらにVIII族金属とレニウム化合物を同時に
担体に担持させても差し支えない。
方法については特に制限はなく、単独でもしくは必要に
応じて二種以上混合して使用しても構わない。また、反
応の形態に応じて使用するレニウム化合物は、原料及び
/又は溶媒に均一に溶解していても不均一に混合されて
いても構わない。また、前記VIII族金属と同様に、
レニウム化合物を担体に担持されたものを使用しても構
わない。担体に担持する場合は、レニウム化合物単独で
担持してもよいし、前記VIII族金属が担持されてい
る同一担体にレニウム化合物を担持してもよい。レニウ
ム化合物単独あるいはレニウム化合物とVIII族金属
を担体に担持する場合、その担持方法に特に制限はな
い。例えばレニウム化合物を前記例示のVIII族金属
と同様にして担持することができる。またレニウム化合
物とVIII族金属とを担体に担持する場合、VIII
族金属を先に担体上に形成させ、しかる後にレニウム化
合物を担持してもよいし、逆にレニウム化合物を先に担
持した後、VIII族金属を担体上に形成させても構わ
ない。さらにVIII族金属とレニウム化合物を同時に
担体に担持させても差し支えない。
【0030】レニウム化合物が担体に担持して使用され
る場合、担持量は特に制限されないが、レニウム金属と
して担体を含めた総重量当たり0.01〜20重量%、
好ましくは0.1〜10重量%である。
る場合、担持量は特に制限されないが、レニウム金属と
して担体を含めた総重量当たり0.01〜20重量%、
好ましくは0.1〜10重量%である。
【0031】本発明においては、触媒として使用するレ
ニウム化合物の使用量は特に限定されないが、原料に対
して好ましくは0.01〜20重量%、より好ましくは
0.1〜10重量%である。これより多くなるとコスト
的に不利であり、逆に少ないと充分な活性が得られない
ことがある。
ニウム化合物の使用量は特に限定されないが、原料に対
して好ましくは0.01〜20重量%、より好ましくは
0.1〜10重量%である。これより多くなるとコスト
的に不利であり、逆に少ないと充分な活性が得られない
ことがある。
【0032】本発明においては、原料として、γ−ブチ
ロラクトンを用いる。
ロラクトンを用いる。
【0033】本発明の方法においては、必要に応じて溶
媒を使用することができる。溶媒としては水素化反応に
不活性であり、また生成物である1,4−ブタンジオー
ルと反応しないものであれば特に制限はなく、例えばジ
エチルエーテル、ジメトキシエタン、ジグライム、トリ
グライム、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテ
ル類、メタノール、エタノール、n−ブタノール、i−
ブタノール、tーブタノール、1,4−ブタンジオール
等のアルコール類、n−ヘキサン、シクロヘキサン等の
脂肪族炭化水素、2−メチルピロリドン、N−メチルピ
ロリドン等の酸アミド類等が挙げられる。これらのうち
比較的低沸点で回収の容易なジメトキシエタン、テトラ
ヒドロフランもしくは溶媒回収を必要としない1,4−
ブタンジオールが好ましく用いられる。
媒を使用することができる。溶媒としては水素化反応に
不活性であり、また生成物である1,4−ブタンジオー
ルと反応しないものであれば特に制限はなく、例えばジ
エチルエーテル、ジメトキシエタン、ジグライム、トリ
グライム、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテ
ル類、メタノール、エタノール、n−ブタノール、i−
ブタノール、tーブタノール、1,4−ブタンジオール
等のアルコール類、n−ヘキサン、シクロヘキサン等の
脂肪族炭化水素、2−メチルピロリドン、N−メチルピ
ロリドン等の酸アミド類等が挙げられる。これらのうち
比較的低沸点で回収の容易なジメトキシエタン、テトラ
ヒドロフランもしくは溶媒回収を必要としない1,4−
ブタンジオールが好ましく用いられる。
【0034】溶媒の使用量に特に制限はない。またこれ
ら溶媒は使用前に特に乾燥させる必要はなく、逆に原料
に対して1モル%程度であれば水が共存していても構わ
ない。また、添加剤として水を用いる場合には、溶媒中
の水分も含めて反応に用いる全水分量が先に示したよう
に原料に対し0.1〜300重量%であれば良く、好ま
しくは1〜250重量%である。
ら溶媒は使用前に特に乾燥させる必要はなく、逆に原料
に対して1モル%程度であれば水が共存していても構わ
ない。また、添加剤として水を用いる場合には、溶媒中
の水分も含めて反応に用いる全水分量が先に示したよう
に原料に対し0.1〜300重量%であれば良く、好ま
しくは1〜250重量%である。
【0035】本発明においては、反応は懸濁床による回
分、半回分、連続式でも、また固定床流通式でも実施で
きる。
分、半回分、連続式でも、また固定床流通式でも実施で
きる。
【0036】本発明の方法による反応は加温、水素加圧
下で実施される。反応温度は通常50〜230℃、好ま
しくは120〜220℃が選ばれる。これより温度を高
くすると副反応の進行が増すおそれがあり、低くすると
反応速度の点で不利になる。また水素の圧力は、通常1
0〜150kg/cm2G、好ましくは15〜120k
g/cm2Gが選ばれ、本発明の方法ではこの範囲内で
望むべき反応が充分進行する。
下で実施される。反応温度は通常50〜230℃、好ま
しくは120〜220℃が選ばれる。これより温度を高
くすると副反応の進行が増すおそれがあり、低くすると
反応速度の点で不利になる。また水素の圧力は、通常1
0〜150kg/cm2G、好ましくは15〜120k
g/cm2Gが選ばれ、本発明の方法ではこの範囲内で
望むべき反応が充分進行する。
【0037】反応時間は温度、圧力、触媒量の設定の仕
方あるいは反応方式によって変わるため一概にその範囲
を決めることは困難であるが、回分式、半回分式におい
ては通常1時間以上が必要で、好ましくは1〜20時間
が良い。また、懸濁床による連続式反応あるいは固定床
流通式反応においては、滞留時間は0.1〜15時間で
よい。これより長いと更に反応が進行し、副生成物が生
成する場合がある。一方、この範囲より短い時間では、
高い収率が得られない場合がある。
方あるいは反応方式によって変わるため一概にその範囲
を決めることは困難であるが、回分式、半回分式におい
ては通常1時間以上が必要で、好ましくは1〜20時間
が良い。また、懸濁床による連続式反応あるいは固定床
流通式反応においては、滞留時間は0.1〜15時間で
よい。これより長いと更に反応が進行し、副生成物が生
成する場合がある。一方、この範囲より短い時間では、
高い収率が得られない場合がある。
【0038】
【実施例】以下、本発明を実施例によりさらに詳しく説
明するが、本発明がこれら実施例のみに限定されるもの
ではないことは言うまでもない。
明するが、本発明がこれら実施例のみに限定されるもの
ではないことは言うまでもない。
【0039】なお、実施例の表中で用いた記号は次の通
りである。
りである。
【0040】BDO:1,4−ブタンジオール TH
F:テトラヒドロフラン BuOH:ブタノール Pd:5%Pd/
活性炭 Ru:5%Ru/活性炭 ReCO:ジレニ
ウムデカカルボニル TBRe:テトラブチルアンモニウムレニウムオキシド (1):トリエチルアミン (2):水 (3):t−ブチルアミン (4):ジ(n−
プロピル)アミン (5):ピリジン (6):トリ(i
−ブチル)アミン (7):モレキュラーシーブ3A (8):Na型モ
ルデナイト 実施例1 10mlのステンレス製オートクレーブに、γ−ブチロ
ラクトン86mg(1mmol)、5%Pd/活性炭
(アルドリッチケミカル社製)21mg、テトラブチル
アンモニウムレニウムオキシド(Bu4NReO4;アル
ドリッチケミカル社製)3mg、トリエチルアミン10
mg及びジメトキシエタン1mlを仕込み、系内を水素
で充分置換した後、50Kg/cm2Gになるように水
素を圧入した。加熱攪拌しながら180℃に昇温し、1
6時間水素化反応を行った。
F:テトラヒドロフラン BuOH:ブタノール Pd:5%Pd/
活性炭 Ru:5%Ru/活性炭 ReCO:ジレニ
ウムデカカルボニル TBRe:テトラブチルアンモニウムレニウムオキシド (1):トリエチルアミン (2):水 (3):t−ブチルアミン (4):ジ(n−
プロピル)アミン (5):ピリジン (6):トリ(i
−ブチル)アミン (7):モレキュラーシーブ3A (8):Na型モ
ルデナイト 実施例1 10mlのステンレス製オートクレーブに、γ−ブチロ
ラクトン86mg(1mmol)、5%Pd/活性炭
(アルドリッチケミカル社製)21mg、テトラブチル
アンモニウムレニウムオキシド(Bu4NReO4;アル
ドリッチケミカル社製)3mg、トリエチルアミン10
mg及びジメトキシエタン1mlを仕込み、系内を水素
で充分置換した後、50Kg/cm2Gになるように水
素を圧入した。加熱攪拌しながら180℃に昇温し、1
6時間水素化反応を行った。
【0041】反応終了後、オートクレーブを室温まで冷
却し、続いて水素をパージし反応液を取りだした。触媒
等をろ別してから、ろ液をガスクロマトグラフィーによ
り分析した。反応結果を表1に示す。
却し、続いて水素をパージし反応液を取りだした。触媒
等をろ別してから、ろ液をガスクロマトグラフィーによ
り分析した。反応結果を表1に示す。
【0042】実施例2 トリエチルアミンの代わりに水18mgを用いた以外は
実施例1と同様にして反応及び分析を行った。反応結果
を表1に示す。
実施例1と同様にして反応及び分析を行った。反応結果
を表1に示す。
【0043】実施例3 トリエチルアミンの代わりにt−ブチルアミン7mgを
用いた以外は実施例1と同様にして反応及び分析を行っ
た。反応結果を表1に示す。
用いた以外は実施例1と同様にして反応及び分析を行っ
た。反応結果を表1に示す。
【0044】実施例4 トリエチルアミンの代わりにジ(n−プロピル)アミン
10mgを用いた以外は実施例1と同様にして反応及び
分析を行った。反応結果を表1に示す。
10mgを用いた以外は実施例1と同様にして反応及び
分析を行った。反応結果を表1に示す。
【0045】実施例5 トリエチルアミンの代わりにピリジン8mgを用いた以
外は実施例1と同様にして反応及び分析を行った。反応
結果を表1に示す。
外は実施例1と同様にして反応及び分析を行った。反応
結果を表1に示す。
【0046】実施例6 トリエチルアミンの代わりにトリ(i−ブチル)アミン
18mgを用いた以外は実施例1と同様にして反応及び
分析を行った。反応結果を表1に示す。
18mgを用いた以外は実施例1と同様にして反応及び
分析を行った。反応結果を表1に示す。
【0047】比較例1 トリエチルアミンを用いなかった以外は実施例1と同様
にして反応及び分析を行った。反応結果を表1に示す。
にして反応及び分析を行った。反応結果を表1に示す。
【0048】
【表1】
【0049】実施例7 10mlのステンレス製オートクレーブに、γ−ブチロ
ラクトン86mg(1mmol)、5%Ru/活性炭
(エヌ・イーケムキャット(株)製)20mg、ジレニ
ウムデカカルボニル(Re2(CO)10;エヌ・イーケ
ムキャット(株)製)3mg、トリエチルアミン10m
g及びジメトキシエタン1mlを仕込み、系内を水素で
充分置換した後、50Kg/cm2Gになるように水素
を圧入した。加熱攪拌しながら150℃に昇温し、16
時間水素化反応を行った。
ラクトン86mg(1mmol)、5%Ru/活性炭
(エヌ・イーケムキャット(株)製)20mg、ジレニ
ウムデカカルボニル(Re2(CO)10;エヌ・イーケ
ムキャット(株)製)3mg、トリエチルアミン10m
g及びジメトキシエタン1mlを仕込み、系内を水素で
充分置換した後、50Kg/cm2Gになるように水素
を圧入した。加熱攪拌しながら150℃に昇温し、16
時間水素化反応を行った。
【0050】反応終了後、オートクレーブを室温まで冷
却し、続いて水素をパージし反応液を取りだした。触媒
等をろ別してから、ろ液をガスクロマトグラフィーによ
り分析した。反応結果を表2に示す。
却し、続いて水素をパージし反応液を取りだした。触媒
等をろ別してから、ろ液をガスクロマトグラフィーによ
り分析した。反応結果を表2に示す。
【0051】実施例8 トリエチルアミンの代わりにモレキュラーシーブ3A
(カリウム型のA型ゼオライト;アルドリッチケミカル
社製)10mgを用いた以外は実施例7と同様にして反
応及び分析を行った。反応結果を表2に示す。
(カリウム型のA型ゼオライト;アルドリッチケミカル
社製)10mgを用いた以外は実施例7と同様にして反
応及び分析を行った。反応結果を表2に示す。
【0052】実施例9 トリエチルアミンの代わりにNa型モルデナイト(東ソ
ー(株)製;TSZ640NAA)10mgを用いた以
外は実施例7と同様にして反応及び分析を行った。反応
結果を表2に示す。
ー(株)製;TSZ640NAA)10mgを用いた以
外は実施例7と同様にして反応及び分析を行った。反応
結果を表2に示す。
【0053】比較例2 トリエチルアミンを用いなかった以外は実施例7と同様
にして反応及び分析を行った。反応結果を表2に示す。
にして反応及び分析を行った。反応結果を表2に示す。
【0054】実施例10 トリエチルアミンの代わりに水180mgを使用し、反
応温度を170℃にした以外は実施例7と同様にして反
応及び分析を行った。反応結果を表2に示す。 実施例11 トリエチルアミンの他に水180mgを使用し、反応温
度を170℃にした以外は実施例7と同様にして反応及
び分析を行った。反応結果を表2に示す。
応温度を170℃にした以外は実施例7と同様にして反
応及び分析を行った。反応結果を表2に示す。 実施例11 トリエチルアミンの他に水180mgを使用し、反応温
度を170℃にした以外は実施例7と同様にして反応及
び分析を行った。反応結果を表2に示す。
【0055】比較例3 水を使用しなかった以外は実施例10と同様にして反応
及び分析を行った。反応結果を表2に示す。
及び分析を行った。反応結果を表2に示す。
【0056】実施例12 10mlのステンレス製オートクレーブに、γ−ブチロ
ラクトン86mg(1mmol)、5%Ru/活性炭
(エヌ・イーケムキャット(株)製)20mg、ジレニ
ウムデカカルボニル(Re2(CO)10;エヌ・イーケ
ムキャット(株)製)3mg、モレキュラーシーブ3A
10mgと水144mg及びジメトキシエタン1mlを
仕込み、系内を水素で充分置換した後、100Kg/c
m2Gになるように水素を圧入した。加熱攪拌しながら
160℃に昇温し、16時間水素化反応を行った。
ラクトン86mg(1mmol)、5%Ru/活性炭
(エヌ・イーケムキャット(株)製)20mg、ジレニ
ウムデカカルボニル(Re2(CO)10;エヌ・イーケ
ムキャット(株)製)3mg、モレキュラーシーブ3A
10mgと水144mg及びジメトキシエタン1mlを
仕込み、系内を水素で充分置換した後、100Kg/c
m2Gになるように水素を圧入した。加熱攪拌しながら
160℃に昇温し、16時間水素化反応を行った。
【0057】反応終了後、オートクレーブを室温まで冷
却し、続いて水素をパージし反応液を取りだした。触媒
等をろ別してから、ろ液をガスクロマトグラフィーによ
り分析した。反応結果を表2に示す。
却し、続いて水素をパージし反応液を取りだした。触媒
等をろ別してから、ろ液をガスクロマトグラフィーによ
り分析した。反応結果を表2に示す。
【0058】比較例4 モレキュラーシーブ3A及び水を使用しなかった以外は
実施例12と同様にして反応及び分析を行った。反応結
果を表2に示す。
実施例12と同様にして反応及び分析を行った。反応結
果を表2に示す。
【0059】
【表2】
【0060】
【発明の効果】本発明によれば、γ−ブチロラクトンを
水素化するにあたり、VIII族金属とレニウム化合物
とからなる触媒の存在下、アミン化合物、アルカリ型ゼ
オライト及び/又は水を共存させて水素化反応を行なう
ことにより、従来の反応条件と比較し温和な条件で高選
択的に1,4−ブタンジオールを製造することができ
る。
水素化するにあたり、VIII族金属とレニウム化合物
とからなる触媒の存在下、アミン化合物、アルカリ型ゼ
オライト及び/又は水を共存させて水素化反応を行なう
ことにより、従来の反応条件と比較し温和な条件で高選
択的に1,4−ブタンジオールを製造することができ
る。
Claims (2)
- 【請求項1】γ−ブチロラクトンの水素化により1,4
−ブタンジオールを製造するにあたり、周期律表第VI
II族の金属から選ばれた少なくとも一種以上の金属と
レニウム化合物からなる触媒を用い、添加剤として少な
くともアミン化合物、アルカリ型ゼオライト又は水を共
存させて水素化反応を行なうことを特徴とする1,4−
ブタンジオールの製法。 - 【請求項2】添加剤として、アミン化合物と水、又はア
ルカリ型ゼオライトと水を共存させる、請求項1に記載
の1,4−ブタンジオールの製法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5228696A JPH0782187A (ja) | 1993-09-14 | 1993-09-14 | 1,4−ブタンジオールの製法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5228696A JPH0782187A (ja) | 1993-09-14 | 1993-09-14 | 1,4−ブタンジオールの製法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0782187A true JPH0782187A (ja) | 1995-03-28 |
Family
ID=16880370
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5228696A Pending JPH0782187A (ja) | 1993-09-14 | 1993-09-14 | 1,4−ブタンジオールの製法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0782187A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2013005748A1 (ja) * | 2011-07-04 | 2013-01-10 | 三菱化学株式会社 | 1,4-ブタンジオールの製造方法 |
| JP2013116883A (ja) * | 2011-07-28 | 2013-06-13 | Mitsubishi Chemicals Corp | 炭素原子数4の不飽和化合物を原料とする水素化物の製造方法 |
| US9522897B2 (en) | 2011-07-20 | 2016-12-20 | Mitsubishi Chemical Corporation | Method for producing hydride using unsaturated compound having carbon number of 4 as raw material |
-
1993
- 1993-09-14 JP JP5228696A patent/JPH0782187A/ja active Pending
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2013005748A1 (ja) * | 2011-07-04 | 2013-01-10 | 三菱化学株式会社 | 1,4-ブタンジオールの製造方法 |
| JP2013032350A (ja) * | 2011-07-04 | 2013-02-14 | Mitsubishi Chemicals Corp | 1,4−ブタンジオールの製造方法 |
| US10144687B2 (en) | 2011-07-04 | 2018-12-04 | Mitsubishi Chemical Corporation | Method for producing 1,4-butanediol |
| US9522897B2 (en) | 2011-07-20 | 2016-12-20 | Mitsubishi Chemical Corporation | Method for producing hydride using unsaturated compound having carbon number of 4 as raw material |
| US10065938B2 (en) | 2011-07-20 | 2018-09-04 | Mitsubishi Chemical Corporation | Method for producing hydride using unsaturated compound having carbon number of 4 as raw material |
| JP2013116883A (ja) * | 2011-07-28 | 2013-06-13 | Mitsubishi Chemicals Corp | 炭素原子数4の不飽和化合物を原料とする水素化物の製造方法 |
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