JPH0782988B2 - 電子ビーム露光装置 - Google Patents
電子ビーム露光装置Info
- Publication number
- JPH0782988B2 JPH0782988B2 JP63165814A JP16581488A JPH0782988B2 JP H0782988 B2 JPH0782988 B2 JP H0782988B2 JP 63165814 A JP63165814 A JP 63165814A JP 16581488 A JP16581488 A JP 16581488A JP H0782988 B2 JPH0782988 B2 JP H0782988B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- electron beam
- correction
- correction data
- data
- storage device
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
Landscapes
- Electron Beam Exposure (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ この発明は、電子ビーム露光装置に関するものであり、
特に、使用される電子ビームの偏向歪みを的確に補正で
きるようにされた電子ビーム露光装置に関するものであ
る。
特に、使用される電子ビームの偏向歪みを的確に補正で
きるようにされた電子ビーム露光装置に関するものであ
る。
［従来の技術］ 例えば、超LSIの微細パターンの形成に適用されるよう
な電子ビーム露光装置においては、使用される電子ビー
ムの位置精度を最小誤差範囲内に維持すること、および
当該電子ビームを高速で走査することが必要とされてい
る。
な電子ビーム露光装置においては、使用される電子ビー
ムの位置精度を最小誤差範囲内に維持すること、および
当該電子ビームを高速で走査することが必要とされてい
る。
このような必要事項を充足するために、例えば特開昭52
−113168号には、次のような装置が開示されている。こ
れによれば、予め測定して得られた補正データを適当な
補正データ記憶装置に記憶させておき、必要に応じてこ
の補正データ記憶装置を直接アクセスすることにより、
何等の演算処理を施すことなく、ある所定のビーム位置
に対応する補正データを得ることができる。
−113168号には、次のような装置が開示されている。こ
れによれば、予め測定して得られた補正データを適当な
補正データ記憶装置に記憶させておき、必要に応じてこ
の補正データ記憶装置を直接アクセスすることにより、
何等の演算処理を施すことなく、ある所定のビーム位置
に対応する補正データを得ることができる。
第３図は、この従来の電子ビーム露光装置を示すブロッ
ク図である。この第３図において、（１）、（２）はそ
れぞれに電子ビーム位置のデータ線であって、パターン
・データ記憶装置またはパターン・データ発生装置（い
ずれも図示されない）に接続されている。そして、前者
のデータ線（１）からは、Ｘ軸方向での電子ビーム位置
データＸが供給され、また、後者のデータ線（２）から
は、Ｙ軸方向での電子ビーム位置データが供給される。
（３）は補正データ記憶装置であって、電子ビームの偏
向歪みを補正するために必要なデータが次のように書き
込まれている。即ち、対象とする電子ビームの偏向領域
を、X,Y軸方向にそれぞれ2n（ｎは正の整数）に等分割
し、これによって得られる（2n＋１）ｘ（2n＋１）個の
格子点を補正データ設定点として、それぞれに所定の測
定を行う。この測定で得られた補正データの中から、X,
Y軸側からそれぞれに任意の１線を除去することで選択
された2nx2n個の補正データについて、ｎビットのアド
レス・データを用いて所要の記憶位置に書き込むように
される。（４）、（５）はそれぞれにＸ加算器,Y加算器
であって、前者のＸ加算器（４）は電子ビーム位置デー
タＸと補正データ記憶装置（３）からの補正データとを
加算し、また、後者のＹ加算器（５）は電子ビーム位置
データＹと補正データ記憶装置（３）からの補正データ
とを加算する。（15）、（16）はそれぞれにDA変換器で
あって、前者のDA変換器（15）はＸ軸主偏向コイル（1
7）に接続されており、後者のDA変換器（16）はＹ軸主
偏向コイル（18）に接続されている。これらのX,Y軸主
偏向コイル（17）、（18）は、DA変換器（15）、（16）
からの出力データに基づいて電子ビームの偏向をさせ
る。なお、この第３図において、（21）、（22）は補正
データ記憶装置（３）に対するｎビットのアドレス・デ
ータ線であって、前者はＸアドレスのためのものであ
り、後者はＹアドレスのためのものである。また、（2
3）、（24）は補正データ記憶装置（３）からの補正デ
ータ出力線であって、前者はＸ軸での補正のためのもの
であり、後者はＹ軸での補正のためのものである。
ク図である。この第３図において、（１）、（２）はそ
れぞれに電子ビーム位置のデータ線であって、パターン
・データ記憶装置またはパターン・データ発生装置（い
ずれも図示されない）に接続されている。そして、前者
のデータ線（１）からは、Ｘ軸方向での電子ビーム位置
データＸが供給され、また、後者のデータ線（２）から
は、Ｙ軸方向での電子ビーム位置データが供給される。
（３）は補正データ記憶装置であって、電子ビームの偏
向歪みを補正するために必要なデータが次のように書き
込まれている。即ち、対象とする電子ビームの偏向領域
を、X,Y軸方向にそれぞれ2n（ｎは正の整数）に等分割
し、これによって得られる（2n＋１）ｘ（2n＋１）個の
格子点を補正データ設定点として、それぞれに所定の測
定を行う。この測定で得られた補正データの中から、X,
Y軸側からそれぞれに任意の１線を除去することで選択
された2nx2n個の補正データについて、ｎビットのアド
レス・データを用いて所要の記憶位置に書き込むように
される。（４）、（５）はそれぞれにＸ加算器,Y加算器
であって、前者のＸ加算器（４）は電子ビーム位置デー
タＸと補正データ記憶装置（３）からの補正データとを
加算し、また、後者のＹ加算器（５）は電子ビーム位置
データＹと補正データ記憶装置（３）からの補正データ
とを加算する。（15）、（16）はそれぞれにDA変換器で
あって、前者のDA変換器（15）はＸ軸主偏向コイル（1
7）に接続されており、後者のDA変換器（16）はＹ軸主
偏向コイル（18）に接続されている。これらのX,Y軸主
偏向コイル（17）、（18）は、DA変換器（15）、（16）
からの出力データに基づいて電子ビームの偏向をさせ
る。なお、この第３図において、（21）、（22）は補正
データ記憶装置（３）に対するｎビットのアドレス・デ
ータ線であって、前者はＸアドレスのためのものであ
り、後者はＹアドレスのためのものである。また、（2
3）、（24）は補正データ記憶装置（３）からの補正デ
ータ出力線であって、前者はＸ軸での補正のためのもの
であり、後者はＹ軸での補正のためのものである。
第４図は、上記従来例による補正動作の説明図である。
次に、上記従来例の動作について説明する。いま、デー
タ線（１）、（２）からの電子ビーム位置データX,Y
（第４図でA1として示されている）が補正データ記憶装
置（３）に加えられると、これに対応して読み出された
補正データが、X,Y加算器（４）、（５）において前記
電子ビーム位置データX,Yと加算されて、所要のデジタ
ル補正が施される（第４図でA2として示されている）。
この加算されたものはDA変換器（15）、（16）でアナロ
グ量に変換されてから、X,Y軸主偏向コイル（17）、（1
8）に加えられる。かくして、電子ビームの偏向歪みに
対する補正がなされる。そして、この偏向歪みの補正精
度は、電子ビームの偏向領域内での補正データ測定点の
個数を増加することで、更に向上させることができる。
タ線（１）、（２）からの電子ビーム位置データX,Y
（第４図でA1として示されている）が補正データ記憶装
置（３）に加えられると、これに対応して読み出された
補正データが、X,Y加算器（４）、（５）において前記
電子ビーム位置データX,Yと加算されて、所要のデジタ
ル補正が施される（第４図でA2として示されている）。
この加算されたものはDA変換器（15）、（16）でアナロ
グ量に変換されてから、X,Y軸主偏向コイル（17）、（1
8）に加えられる。かくして、電子ビームの偏向歪みに
対する補正がなされる。そして、この偏向歪みの補正精
度は、電子ビームの偏向領域内での補正データ測定点の
個数を増加することで、更に向上させることができる。
［発明が解決しようとする問題点］ 従来の電子ビーム露光装置は、上記されたように、その
補正データ記憶装置には2nx2n個の補正データが記憶さ
れている。
補正データ記憶装置には2nx2n個の補正データが記憶さ
れている。
ところで、例えばプリント基板に露光するようなときに
は、電子ビームに大振幅の偏向を与えることになるが、
このような場合には、簡単な関数形式で表現される補正
データが増加して、補正データ記憶装置に記憶される補
正データの大部分を占めることとなり、このために、複
雑な関数形式でしか表現されない補正データを含む全補
正データを用いて電子ビームの偏向精度を維持しようと
するときには、補正データの測定点を増加させることが
必要となり、結果的に使用される補正データ記憶装置の
記憶容量が増大して、補正データ記憶装置自体が大形化
するとともに、全体的な大形型や複雑化をもたらすとい
う問題点があった。
は、電子ビームに大振幅の偏向を与えることになるが、
このような場合には、簡単な関数形式で表現される補正
データが増加して、補正データ記憶装置に記憶される補
正データの大部分を占めることとなり、このために、複
雑な関数形式でしか表現されない補正データを含む全補
正データを用いて電子ビームの偏向精度を維持しようと
するときには、補正データの測定点を増加させることが
必要となり、結果的に使用される補正データ記憶装置の
記憶容量が増大して、補正データ記憶装置自体が大形化
するとともに、全体的な大形型や複雑化をもたらすとい
う問題点があった。
この発明は上記のような問題点を解決するためになされ
たもので、電子ビームにおける偏向歪みを補正するとき
に、簡単な関数形式で表現される補正は所定の演算で処
理し、複雑な関数形式で表現される補正は補正データ記
憶装置内に記憶させた補正データで処理するような分担
をさせることで、必要な補正データ測定点の個数を少な
くし、補正データ記憶装置の記憶容量を節減して小形化
を可能にした電子ビーム露光装置を得ることを目的とす
る。
たもので、電子ビームにおける偏向歪みを補正するとき
に、簡単な関数形式で表現される補正は所定の演算で処
理し、複雑な関数形式で表現される補正は補正データ記
憶装置内に記憶させた補正データで処理するような分担
をさせることで、必要な補正データ測定点の個数を少な
くし、補正データ記憶装置の記憶容量を節減して小形化
を可能にした電子ビーム露光装置を得ることを目的とす
る。
［問題点を解決するための手段］ この発明に係る電子ビーム露光装置は、３次以下の簡単
な関数形式では表現不可能な複雑な関数形式の補正デー
タを記憶させるための補正データ記憶装置、上記補正デ
ータ記憶装置からの補正データを、対応のX,Y軸方向の
電子ビーム位置データに加算にするための加算器、およ
び、上記加算器からの出力について、拡大、縮小、座標
軸回転、直交度、３次歪み等に対する補正を行うための
演算器を備えたものである。
な関数形式では表現不可能な複雑な関数形式の補正デー
タを記憶させるための補正データ記憶装置、上記補正デ
ータ記憶装置からの補正データを、対応のX,Y軸方向の
電子ビーム位置データに加算にするための加算器、およ
び、上記加算器からの出力について、拡大、縮小、座標
軸回転、直交度、３次歪み等に対する補正を行うための
演算器を備えたものである。
［作用］ この発明においては、例えば３次以下の簡単な関数形式
では表現できないような、複雑な関数形式で表現される
補正については、補正データ記憶装置から読み出した補
正データを用いて実行し、簡単な関数形式で表現される
補正については、演算器が分担して実行して、所要の電
子ビーム偏向精度を維持しながら的確な偏向歪みの補正
を実行する。
では表現できないような、複雑な関数形式で表現される
補正については、補正データ記憶装置から読み出した補
正データを用いて実行し、簡単な関数形式で表現される
補正については、演算器が分担して実行して、所要の電
子ビーム偏向精度を維持しながら的確な偏向歪みの補正
を実行する。
［実施例］ 以下、この発明の一実施例を図について説明する。第１
図は、この発明の一実施例である電子ビーム露光装置を
示すブロック図である。この第１図において、（１）、
（２）はそれぞれに電子ビーム位置のデータ線であっ
て、パターン・データ記憶装置またはパターン・データ
発生装置（いずれも図示されない）に接続されている。
そして、前者のデータ線（１）からは、Ｘ軸方向での電
子ビーム位置データＸが供給され、また、後者のデータ
線（２）からは、Ｙ軸方向での電子ビーム位置データが
供給される。（３）は補正データ記憶装置であり、電子
ビームの偏向歪みを補正するために必要なデータであっ
て、例えば３次以下の簡単な関数形式で表現される補正
データを除き、複雑な関数形式で表現される補正データ
だけが次のように書き込まれている。即ち、対象とする
電子ビームの偏向領域を、X,Y軸方向にそれぞれ2n（ｎ
は正の整数）に等分割し、これによって得られる（2n＋
１）ｘ（2n＋１）個の格子点からなる補正データ設定点
についてそれぞれに所定の測定を行う際に、予め偏向コ
イルの感度誤差に対するスケーリング補正量、偏向コイ
ルのX,Y軸のずれに対する座標軸回転量および直交度補
正量、ならびに、偏向の３次歪みによる誤差に対する補
正量を、それぞれ適宜に加減した補正データΔＸ、ΔＹ
が書き込まれている。そして、ある所定のビーム位置デ
ータX,Yに対応する補正データΔＸ、ΔＹを取り出すよ
うにされている。（４）、（５）はそれぞれにＸ加算
器,Y加算器であって、前者のＸ加算器（４）は電子ビー
ム位置データＸと補正データ記憶装置（３）からの補正
データΔＸとを加算し次の出力を得る。
図は、この発明の一実施例である電子ビーム露光装置を
示すブロック図である。この第１図において、（１）、
（２）はそれぞれに電子ビーム位置のデータ線であっ
て、パターン・データ記憶装置またはパターン・データ
発生装置（いずれも図示されない）に接続されている。
そして、前者のデータ線（１）からは、Ｘ軸方向での電
子ビーム位置データＸが供給され、また、後者のデータ
線（２）からは、Ｙ軸方向での電子ビーム位置データが
供給される。（３）は補正データ記憶装置であり、電子
ビームの偏向歪みを補正するために必要なデータであっ
て、例えば３次以下の簡単な関数形式で表現される補正
データを除き、複雑な関数形式で表現される補正データ
だけが次のように書き込まれている。即ち、対象とする
電子ビームの偏向領域を、X,Y軸方向にそれぞれ2n（ｎ
は正の整数）に等分割し、これによって得られる（2n＋
１）ｘ（2n＋１）個の格子点からなる補正データ設定点
についてそれぞれに所定の測定を行う際に、予め偏向コ
イルの感度誤差に対するスケーリング補正量、偏向コイ
ルのX,Y軸のずれに対する座標軸回転量および直交度補
正量、ならびに、偏向の３次歪みによる誤差に対する補
正量を、それぞれ適宜に加減した補正データΔＸ、ΔＹ
が書き込まれている。そして、ある所定のビーム位置デ
ータX,Yに対応する補正データΔＸ、ΔＹを取り出すよ
うにされている。（４）、（５）はそれぞれにＸ加算
器,Y加算器であって、前者のＸ加算器（４）は電子ビー
ム位置データＸと補正データ記憶装置（３）からの補正
データΔＸとを加算し次の出力を得る。
Ｘ′＝Ｘ＋ΔＸ また、後者のＹ加算器（５）は電子ビーム位置データＹ
と補正データ記憶装置（３）からの補正データΔＹとを
加算し次の出力を得る。
と補正データ記憶装置（３）からの補正データΔＹとを
加算し次の出力を得る。
Ｙ′＝Ｙ＋ΔＹ （６）は電子ビームの拡大・縮小補正回路であって、DA
変換器（15）、（16）およびそれぞれに対応の乗算器
（61）、（62）から構成されている。ここで乗算器（6
1）についてみると、Ｘ加算器（４）からの出力である
Ｘ′（＝Ｘ＋ΔＸ）がDA変換器（15）を介して加えられ
るとともに、適当なスケーリング係数Sxが加えられて、
両者の積が次のように得られる。
変換器（15）、（16）およびそれぞれに対応の乗算器
（61）、（62）から構成されている。ここで乗算器（6
1）についてみると、Ｘ加算器（４）からの出力である
Ｘ′（＝Ｘ＋ΔＸ）がDA変換器（15）を介して加えられ
るとともに、適当なスケーリング係数Sxが加えられて、
両者の積が次のように得られる。
Ｘ″＝SX・Ｘ′ また、乗算器（62）についてみると、Ｙ加算器（５）か
らの出力であるＹ′（＝Ｙ＋ΔＹ）がDA変換器（16）を
介して加えられるとともに、適当なスケーリング係数SY
が加えられて、両者の積が次のように得られる。
らの出力であるＹ′（＝Ｙ＋ΔＹ）がDA変換器（16）を
介して加えられるとともに、適当なスケーリング係数SY
が加えられて、両者の積が次のように得られる。
Ｙ″＝SY・Ｙ′ （９）は電子ビームの座標軸回転・直交度補正回路であ
って、乗算器（91）、（92）および加算器（93）、（9
4）から構成されている。ここで加算器（93）について
みると、電子ビーム拡大・縮小補正回路（６）内の乗算
器（61）からの出力Ｘ″（＝SX・Ｘ′）と、乗算器（9
2）からの出力であるＹ″・θｘとの和が取られて、次
の出力が得られる。
って、乗算器（91）、（92）および加算器（93）、（9
4）から構成されている。ここで加算器（93）について
みると、電子ビーム拡大・縮小補正回路（６）内の乗算
器（61）からの出力Ｘ″（＝SX・Ｘ′）と、乗算器（9
2）からの出力であるＹ″・θｘとの和が取られて、次
の出力が得られる。
Ｘ＝Ｘ″＋θＸ・Ｙ″ また、加算器（94）についてみると、電子ビーム拡大・
縮小補正回路（６）内の乗算器（62）からの出力Ｙ″
（＝SY・Ｙ′）と、乗算器（91）からの出力であるＸ″
・θＸとの和が取られて、次の出力が得られる。
縮小補正回路（６）内の乗算器（62）からの出力Ｙ″
（＝SY・Ｙ′）と、乗算器（91）からの出力であるＸ″
・θＸとの和が取られて、次の出力が得られる。
Ｙ＝Ｙ″＋θＹ・Ｙ″ ここに、θＸおよびθＹは座標軸回転係数である。（1
2）は３次歪み補正回路であって、電子ビームの座標軸
回転・直交度補正回路（９）からの出力データＸ,Y
について、それぞれに、３次歪み係数データ線（13）、
（14）からの対応の係数ax、aYを乗算することにより、
次の出力Ｘ′およびＹ′が得られる。
2）は３次歪み補正回路であって、電子ビームの座標軸
回転・直交度補正回路（９）からの出力データＸ,Y
について、それぞれに、３次歪み係数データ線（13）、
（14）からの対応の係数ax、aYを乗算することにより、
次の出力Ｘ′およびＹ′が得られる。
Ｘ′＝Ｘ−aXX（Ｘ２＋Ｙ２） Ｙ′＝Ｙ−aYY（Ｘ２＋Ｙ２） そして、これらの出力Ｘ′およびＹ′は、それぞれ
に、電力増幅器（19）、（20）を介して、対応の主偏向
コイル（17）、（18）に加えられる。
に、電力増幅器（19）、（20）を介して、対応の主偏向
コイル（17）、（18）に加えられる。
第２図は、上記実施例による補正動作の説明図である。
次に、第１図に示したこの発明の一実施例の動作につい
て説明する。いま、データ線（１）、（２）からの電子
ビーム位置データX,Y（第２図でB1として示されてい
る）が補正データ記憶装置（３）に加えられると、これ
に対応して読み出された複雑な関数形式で表現される補
正データΔＸ、ΔＹが読み出され、X,Y加算器（４）、
（５）において前記電子ビーム位置データX,Yと加算さ
れて、次のデータが出力される。
て説明する。いま、データ線（１）、（２）からの電子
ビーム位置データX,Y（第２図でB1として示されてい
る）が補正データ記憶装置（３）に加えられると、これ
に対応して読み出された複雑な関数形式で表現される補
正データΔＸ、ΔＹが読み出され、X,Y加算器（４）、
（５）において前記電子ビーム位置データX,Yと加算さ
れて、次のデータが出力される。
Ｘ′＝Ｘ＋ΔＸ Ｙ′＝Ｙ＋ΔＹ この出力データは、それぞれに、DA変換器（15）、（1
6）においてから対応のアナログ量に変換されてから、
電子ビーム拡大・縮小補正回路（６）内の乗算器（6
1）、（62）に加えられる。この電子ビーム拡大・縮小
補正回路（６）においては、対応のスケーリング係数
SX、SYとの乗算が行われて、電子ビームの拡大・縮小の
補正処理が施され、次のデータが出力される。
6）においてから対応のアナログ量に変換されてから、
電子ビーム拡大・縮小補正回路（６）内の乗算器（6
1）、（62）に加えられる。この電子ビーム拡大・縮小
補正回路（６）においては、対応のスケーリング係数
SX、SYとの乗算が行われて、電子ビームの拡大・縮小の
補正処理が施され、次のデータが出力される。
Ｘ″＝SX・Ｘ′ Ｙ″＝SY・Ｙ′ 次いで、これらの出力データＸ″、Ｙ″は次段の電子ビ
ームの座標軸回転・直交度補正回路（９）に加えられ
て、軸補正データ線（10）、（11）を介して加えられる
係数θＹ、θＸとの乗算がなされ、更に前記出力データ
Ｘ″、Ｙ″との所要の加算がなされることにより、電子
ビームに対する所要の座標軸回転・直交度補正がなされ
たデータＸ,Yが次のように出力される。
ームの座標軸回転・直交度補正回路（９）に加えられ
て、軸補正データ線（10）、（11）を介して加えられる
係数θＹ、θＸとの乗算がなされ、更に前記出力データ
Ｘ″、Ｙ″との所要の加算がなされることにより、電子
ビームに対する所要の座標軸回転・直交度補正がなされ
たデータＸ,Yが次のように出力される。
Ｘ＝Ｘ″＋θＸ・Ｙ″ Ｙ＝Ｙ″＋θＹ・Ｘ″ この補正の結果が、第２図のB2として示されている。
次に、前記出力データＸ,Yが３次歪み補正回路（1
2）に加えられ、３次歪み係数ax、aYとの間の所定の演
算が行われて、第２図のB3で示されているような、３次
歪み補正の施されたデータが次のように出力される。
2）に加えられ、３次歪み係数ax、aYとの間の所定の演
算が行われて、第２図のB3で示されているような、３次
歪み補正の施されたデータが次のように出力される。
Ｘ′＝Ｘ−aXX（Ｘ２＋Ｙ２） Ｙ′＝Ｙ−aYY（Ｘ２＋Ｙ２） そして、これらの出力データＸ′およびＹ′は、そ
れぞれに、電力増幅器（19）、（20）を介して主偏向コ
イル（17）、（18）に加えられて、第２図のB4で示され
ているような、所望の偏向歪みに対する補正処理が施さ
れたパターンが得られることになる。
れぞれに、電力増幅器（19）、（20）を介して主偏向コ
イル（17）、（18）に加えられて、第２図のB4で示され
ているような、所望の偏向歪みに対する補正処理が施さ
れたパターンが得られることになる。
なお、上記実施例の電子ビーム拡大・縮小補正回路にお
ける出力データＸ″、Ｙ″に対する座標軸回転の実施の
ために、 なる近似式が使用されているけれども、これに限定され
るものではない。
ける出力データＸ″、Ｙ″に対する座標軸回転の実施の
ために、 なる近似式が使用されているけれども、これに限定され
るものではない。
また、３次以下の簡単な関数形式のものに対する補正を
アナログ式の演算器によって行っているけれども、これ
に限らず、例えばデジタル式の演算器で実施することも
できる。なお、この場合には、DA変換器の配置をこのデ
ジタル式演算器の出力段側にすれば良い。更に、その補
正を施す順序は、補正データ記憶装置による補正、演算
器による補正の順序に限られるものではなく、その順序
を逆転させても同様な効果が得られるものである。
アナログ式の演算器によって行っているけれども、これ
に限らず、例えばデジタル式の演算器で実施することも
できる。なお、この場合には、DA変換器の配置をこのデ
ジタル式演算器の出力段側にすれば良い。更に、その補
正を施す順序は、補正データ記憶装置による補正、演算
器による補正の順序に限られるものではなく、その順序
を逆転させても同様な効果が得られるものである。
［発明の効果］ 以上説明したように、この発明によれば、電子ビームの
偏向歪みを補正するために、複雑な関数形式で表現され
る補正データだけを補正データ記憶装置に記憶させてお
き、３次以下の簡単な関数形式で表現される補正データ
については別に設けた演算器で処理できるように構成さ
れていることから、所望の電子ビームの精度を維持しな
がら、予め用意する測定点データの個数を減少させて、
補正データ記憶装置の記憶容量を大幅に節減し、結果的
に小型で安価となり、しかも、移動中の試料台がずれて
も電子ビームを確実に照射でき、その照射位置精度が向
上し、正しい露光が可能となり、また、溶接等にも有用
であるという効果がある。
偏向歪みを補正するために、複雑な関数形式で表現され
る補正データだけを補正データ記憶装置に記憶させてお
き、３次以下の簡単な関数形式で表現される補正データ
については別に設けた演算器で処理できるように構成さ
れていることから、所望の電子ビームの精度を維持しな
がら、予め用意する測定点データの個数を減少させて、
補正データ記憶装置の記憶容量を大幅に節減し、結果的
に小型で安価となり、しかも、移動中の試料台がずれて
も電子ビームを確実に照射でき、その照射位置精度が向
上し、正しい露光が可能となり、また、溶接等にも有用
であるという効果がある。
第１図は、この発明の一実施例である電子ビーム露光装
置を示すブロック図、第２図は、上記実施例による補正
動作の説明図、第３図は、従来の電子ビーム露光装置を
示すブロック図、第４図は、上記従来例による補正動作
の説明図である。 （１）は（Ｘ軸）ビーム位置データ線、 （２）は（Ｙ軸）ビーム位置データ線、 （３）は補正データ記憶装置、 （４）はＸ加算器、 （５）はＹ加算器、 （６）は電子ビーム拡大・縮小補正回路、 （９）は電子ビーム座標軸回転・直交度補正回路、 （12）は３次歪み補正回路。 なお、図中、同一符号は同一または相当部分を示す。
置を示すブロック図、第２図は、上記実施例による補正
動作の説明図、第３図は、従来の電子ビーム露光装置を
示すブロック図、第４図は、上記従来例による補正動作
の説明図である。 （１）は（Ｘ軸）ビーム位置データ線、 （２）は（Ｙ軸）ビーム位置データ線、 （３）は補正データ記憶装置、 （４）はＸ加算器、 （５）はＹ加算器、 （６）は電子ビーム拡大・縮小補正回路、 （９）は電子ビーム座標軸回転・直交度補正回路、 （12）は３次歪み補正回路。 なお、図中、同一符号は同一または相当部分を示す。
Claims (1)
- 【請求項１】パターン・データ記憶装置またはパターン
・データ発生装置からのX,Y軸方向の電子ビーム位置デ
ータを電子ビーム偏向手段に供給し、被露光材料の露光
を行うようにした電子ビーム露光装置において、 ３次以下の簡単な関数形式では表現不可能な複雑な関数
形式の補正データを記憶させるための補正データ記憶装
置、 上記補正データ記憶装置からの補正データを、対応のX,
Y軸方向の電子ビーム位置データに加算するための加算
器、および 上記加算器からの出力について、拡大、縮小、座標軸回
転、直交度、３次歪み等に対する補正を行うための演算
器、 が備えられていることを特徴とする電子ビーム露光装
置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63165814A JPH0782988B2 (ja) | 1988-07-05 | 1988-07-05 | 電子ビーム露光装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63165814A JPH0782988B2 (ja) | 1988-07-05 | 1988-07-05 | 電子ビーム露光装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0216718A JPH0216718A (ja) | 1990-01-19 |
| JPH0782988B2 true JPH0782988B2 (ja) | 1995-09-06 |
Family
ID=15819505
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63165814A Expired - Lifetime JPH0782988B2 (ja) | 1988-07-05 | 1988-07-05 | 電子ビーム露光装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0782988B2 (ja) |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS55102231A (en) * | 1979-01-27 | 1980-08-05 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | Method for correcting distortion of electron beam exposure device and circuit thereof |
-
1988
- 1988-07-05 JP JP63165814A patent/JPH0782988B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0216718A (ja) | 1990-01-19 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP2512184B2 (ja) | 荷電粒子線描画装置及び描画方法 | |
| JPS61143879A (ja) | 画素値を計算する方法と装置 | |
| JPH0326946B2 (ja) | ||
| US5329130A (en) | Charged particle beam exposure method and apparatus | |
| JPS6298724A (ja) | 電子線描画装置 | |
| US4879473A (en) | Electron-beam exposure apparatus | |
| JP2862532B2 (ja) | 荷電粒子線描画方法およびその装置 | |
| JPH0216718A (ja) | 電子ビーム露光装置 | |
| JPS6114553B2 (ja) | ||
| Cummings et al. | Using a neural network to proximity correct patterns written with a Cambridge electron beam microfabricator 10.5 lithography system | |
| US5177692A (en) | Method and apparatus for processing errors occurring upon division of pattern to be transferred | |
| JP3245201B2 (ja) | 電子ビーム露光装置 | |
| JP3468604B2 (ja) | 電子ビーム露光装置 | |
| JP2862825B2 (ja) | 荷電粒子線描画装置 | |
| JPS6292315A (ja) | 荷電ビ−ム照射位置補正方法および補正回路 | |
| JP3055024B2 (ja) | 画像デ―タの転送装置 | |
| JP3072564B2 (ja) | 荷電粒子ビーム露光方法における任意角図形発生方法 | |
| JP2553102B2 (ja) | 電子ビーム露光装置 | |
| JP2506122B2 (ja) | 電子ビ―ム露光方法 | |
| JP3458778B2 (ja) | 電子線描画装置および電子線を用いた描画方法 | |
| JP3169076B2 (ja) | 回路描画方法および装置、データ処理方法および装置、情報記憶媒体 | |
| JP2998689B2 (ja) | 画像データのマッピング方法 | |
| JPH05226235A (ja) | 電子ビ−ム描画のデ−タ変換方法 | |
| JP2697312B2 (ja) | Ｘ−Ｙ／ｒ−θ変換回路 | |
| JPS6149419A (ja) | 荷電ビ−ム露光方法 |