JPH0783007B2

JPH0783007B2 - ウエツトエツチング装置

Info

Publication number: JPH0783007B2
Application number: JP61115930A
Authority: JP
Inventors: 俊孝武居; 恒男藤井
Original assignee: Daikin Industries Ltd
Current assignee: Daikin Industries Ltd
Priority date: 1986-05-20
Filing date: 1986-05-20
Publication date: 1995-09-06
Anticipated expiration: 2010-09-06
Also published as: JPS62272542A

Description

【発明の詳細な説明】（産業上の利用分野）本発明はウエットエッチング装置、詳しくはレジスト現
像が施された後の半導体ウエハ、半導体マスク、光ディ
スク等の被エッチング体におけるレジスト保護膜以外の
部分、例えば酸化膜や金属膜等のエッチングを行なうウ
エットエッチング装置に関する。

（従来の技術）従来、この種のウエットエッチング装置としては、昭和
58年12月10日、（株）オーム社発行「LSIプロセス工
学」４章５節エッチング技術に記載の如くのもの、すな
わち、エッチング液を封入した容器内に被エッチング体
を浸漬せしめてエッチングを行なう所謂浸漬法によるも
のが広く用いられていた。

ところが、上記浸漬法のものでは、前記被エッチング体
を前記エッチング液に浸漬せしめるに際しては、前記エ
ッチング体の端部から順に前記エッチング液に浸漬せし
めることゝなるのであるから、最先にエッチング液と接
触する部分と、後にエッチング液と接触する部分とでは
エッチングの程度が異なってしまうという問題が生じる
のであるし、また、エッチング処理に伴なってサイドエ
ッチング或いはアンダーカットと呼ばれるレジスト保護
膜の下側にもエッチングが進行してしまうという問題が
生じるのであり、さらに、エッチング液の疲労によるエ
ッチングのバラつきや処理時間の遅滞等も問題となり、
従って、高精度な微細パターンの形成には限界があっ
た。

そこで最近では、LSI等におけるサブミクロン単位のパ
ターンの微細化に対応すべく、スピンチャック等による
被エッチング体の回転と、スプレーノズル等による前記
被エッチング体へのエッチング液の放出とを組合わせ、
前記被エッチング体に常時均一かつ適正なるエッチング
液を作用せしめると共に、被エッチング体の回転とエッ
チング液の放出とによるエッチング液の被エッチング体
上における物理的な流れによりエッチング処理を促進さ
せる如くしたスプレー方式のエッチング装置が用いられ
るようになった。

このスプレー方式のエッチング装置は、前記スプレーノ
ズル等による放出手段の他に、一般に、該放出手段から
のエッチング液の放出を出停する制御弁、エッチング液
中に含まれる微小なゴミを除去するためのストレーナ等
を備え、これら放出手段、制御弁、ストレーナ及びこれ
らの接続配管等により、エッチング液を封入する容器か
らのエッチング液を前記被エッチング体に供給するため
の制御手段を構成するのであり、この制御手段により前
記エッチング体に前記容器からのエッチング液を的確に
供給できるようにしているのである。

尚、前記したエッチング液は、前記被エッチング体にお
けるエッチング材を溶解するものであって、この所謂エ
ッチング液の他に、該エッチング液の放出に先立ち前記
被エッチング体の経時変化によるエッチングのバラつき
を除去するための前処理液及び前記エッチング液の放出
後に前記被エッチング体を洗浄するための後処理液等が
用いられる場合もあり、この場合前記エッチング液にこ
れら前処理液及び後処理液等を含めた３種類の液によ
り、エッチング処理に供される薬液を構成するのであ
り、これら各薬液に対応して前記した制御手段が設けら
れるのである。

（発明が解決しようとする問題点）所で、一方で、エッチング速度は、温度により大きく影
響することが知られており、従って、エッチングによる
形成パターンの精度も、温度により大きくバラつきが生
じてしまうことゝなるのであって、パターンの微細化と
その製品歩留とに十分対応するには、エッチング処理の
温度を高精度に温度制御する必要がある。

すなわち、エッチング速度と温度との関係は、昭和58年
８月10日（株）フジ・テクノシステム発行「半導体工業
における化学物質の取扱いとその安全管理技術資料集
成」第４節エッチング技術に記載され、また第８図に示
す如く変化するものであって、温度１℃変化すると、エ
ッチング速度は薬10％程度も変化してしまうことゝとな
り、従って、例えば１μのパターンサイズをエッチング
する場合で、生産ライン上で設定されるエッチング時間
が10分間であるとすると、１℃の温度変化があれば、0.
1μのエッチング誤差が生じてしまい、その形成パター
ンの精度が大きくバラついてしまうことゝとなるのであ
る。尚、第８図のものは、熱酸化SiO₂膜におけるエッチ
ング速度の温度依存性を示し、エッチング液として49％
フッ酸と40％フッ化アンモニウム水溶液との混合液（混
合比10対１）を用いている。

しかしながら、従来のスプレー方式のエッチング装置に
あっては、エッチング温度を高精度に制御できるように
したものは未だ提案されておらず、従って、精度のよい
微細パターンを得るという要求に十分に対応できていな
い問題があった。

すなわち、前記スプレー方式のエッチング装置は、被エ
ッチング体とエッチング液等の薬液を封入する薬液容器
との間に、前記制御手段を介在せしめて、該制御手段に
より、被エッチング体へ前記薬液を供給することにより
エッチング処理を行なうためのものであるため、その装
置の構造上、たとえ前記薬液容器で薬液の温度を正確に
調整する如くしても、前記制御手段の部分において、詳
しくは該制御手段を構成する前記放出手段、制御弁、ス
トレーナ等の各制御要素と、該各制御要素を相互に接続
する配管及び、前記制御要素と前記薬液容器とを接続す
る配管等の部分において、外気の影響を顕著に受けてし
まうことゝなるのであり、従って、前記制御手段からの
薬液供給による前記被エッチング体における実際のエッ
チング温度は高精度に制御できない問題が起こるのであ
る。

つまり、前記放出手段、制御弁、ストレーナ等の各制御
要素は熱容量が大きく、しかもエッチング処理に供され
る前記薬液は前記被エッチング体に対し間欠的に供給さ
れるため、前記薬液の供給が停止されている間に前記し
た制御手段を構成する各制御要素が周囲の空気（外気）
と熱交換し、外気に近い温度になってしまうのである。
また、上記各制御要素を相互に接続する配管、及び前記
薬液容器との接続配管等においても、外気の影響を受け
てしまうのは勿論である。

このため、次のステップで薬液を前記被エッチング体に
対して供給しようとすると、前記薬液は外気と熱交換し
た前記各制御要素及び配管部分での熱影響を顕著に受け
て、設定値とは異なる温度に変動してしまうことゝなる
のである。

本発明の目的、上記問題点を解決し、制御手段から供給
されるエッチング処理に供される薬液の温度を任意の設
定温度に高精度に制御できるようにし、もって、被エッ
チング体におけるパターンの微細化とその製品歩留の向
上とを実現したウエットエッチング装置を提供する点に
ある。

（問題点を解決するための手段）そこで本発明は、エッチング槽（１）のエッチング室
（10）に、被エッチング体（Ｗ）の保持手段を回転自由
に設けると共に、この保持手段で保持されて回転する被
エッチング体（Ｗ）にエッチング処理のためのエッチン
グ液を供給するための制御手段（Ａ）を設け、この制御
手段（Ａ）を、薬液容器（３）に接続してなるウエット
エッチング装置において、前記エッチング室（10）の内
壁面に、エッチング液に対する耐腐食性を有する樹脂層
を設ける一方、恒温熱媒体を発生する恒温熱媒発生装置
（７）を形成すると共に、この発生装置（７）で発生す
る恒温熱媒体を収容するチャンバー（30）を形成して、
このチャンバー（30）に、前記制御手段（Ａ）を熱交換
可能に付設したのである。

（作用）前記制御手段（Ａ）を、前記恒温熱媒発生装置（７）で
発生される恒温熱媒体を収容するチャンバー（30）に付
設することにより、被エッチング体（Ｗ）に供給される
薬液が外気の影響を受けるのをなくすることができ、前
記薬液の温度を設定値に高精度に制御できるのである。

（実施例）第１図において（１）はエッチング槽であって、このエ
ッチング槽（１）は二重壁構造とした胴体（11）と、底
壁（12）及び蓋体（13）とから成り、内部にエッチング
室（10）を形成すると共に、前記胴体（11）の二重壁構
造により、前記エッチング室（10）を取囲む熱交換チャ
ンバー（14）を形成するのである。

また、前記底壁（12）には支持筒（15）を立設して、そ
の内部に、上端に被エッチング体として例えば半導体ウ
エハ（Ｗ）を固定状に保持するスピンチャック（16）を
もった回転軸（17）を回転自由に支持するのであり、ま
た、前記蓋体（13）には、前記チャック（16）に保持さ
れる前記ウエハ（Ｗ）に、エッチング処理のために用い
られるエッチング液を放出する例えばスプレーノズル等
の放出手段（２）を配設するのである。

この放出手段（２）は、詳しくは後記する温調器（50
0）を介して加圧タンクを構成する薬液容器の一つであ
るエッチング液容器（３）に接続され、前記温調器（50
0）により温度調整されたエッチング液を、送液管
（６）を介して前記放出手段（２）に導き、該放出手段
（２）から前記ウエハ（Ｗ）に薬液（エッチング液）を
例えば噴射により放出するようにしている。

更に、送液管（６）には、エッチング槽（１）への薬液
（エッチング液）の出停を制御するための制御弁（61）
及び薬液（エッチング液）中の微小なゴミを除去するた
めのストレーナ（62）を介装しており、これら放出手段
（２）、制御弁（61）及びストレーナ（62）等により制
御手段（Ａ）（これらを接続する送液管（６）を含む）
を構成している。

なお、制御手段（Ａ）としては、送液管（６）を用いず
に放出手段（２）、制御弁（61）及びストレーナ（62）
等を一体成形したものでもよく、この制御手段（Ａ）に
より、エッチング液を前記ウエハ（Ｗ）に的確に供給す
ることができるのである。

そして、以上のように構成するウエットエッチング装置
において、恒温熱媒体を発生する恒温熱媒発生装置
（７）を形成すると共に、この発生装置（７）で発生す
る恒温熱媒体を収容するチャンバー（30）を形成して、
このチャンバー（30）に、前記制御手段（Ａ）を熱交換
可能に付設したのである。

具体的には、前記チャンバー（30）は、二重壁構造とす
るカップ状のジャケット（31）で構成するのであり、か
く構成するチャンバー（30）に、前記恒温熱媒体の発生
装置（７）を、配管（76）（77）を介して連結するので
ある。

そして、前記チャンバー（30）を、前記エッチング槽
（１）の上部に取付けて、前記チャンバー（30）のカッ
プ状の内部空間に恒温槽（35）を形成するのであって、
このチャンバー（30）による恒温槽（35）に、前記制御
手段（Ａ）を収納するのである。

また、前記エッチング槽（１）と前記温調器（500）と
が離れているため、前記送液管（６）の一部すなわち、
前記チャンバー（30）と前記温調器（500）との間は断
熱構造とした二重管（40）を用いて接続するのであっ
て、該二重管（40）の内管（41）に前記エッチング液
を、また外管（42）に恒温熱媒体を通しているのであ
る。尚、前記二重管（40）は、恒温熱媒体の戻配管（7
7）及び断熱材（43）と共に１本の複合管（44）を形成
している。

次に恒温熱媒体の発生装置（７）について説明する。
尚、この実施例では、恒温熱媒体として恒温水を用いて
いる。

この発生装置（７）は、断熱構造とした恒温槽（70）
に、ヒータ（71）及び冷凍装置の蒸発器（72）を内装し
て構成するのであって、熱媒ポンプ（75）により前記二
重管（40）の外管（42）に恒温水（恒温熱媒体）を供給
すると共に、前記戻配管（77）からの恒温水（恒温熱媒
体）を前記恒温槽（70）内に戻すようにしている。

また、前記恒温槽（70）内に、前記薬液容器を構成する
エッチング液容器（３）から延びるコイル状の熱交換器
（550）を配設することにより、前記した薬液の一つで
あるエッチング液の温調器（500）を前記発生装置
（７）と一体に構成するのであって、この温調器（50
0）により前記恒温水（恒温熱媒体）と同じ温度に設定
されるエッチング液を、前記容器（３）の加圧作用によ
り前記二重管（40）の内管（41）に供給するようにして
いる。尚、前記熱交換器（550）の内部の容積は、１回
のエッチングに用いる液量概ね200〜400cc以上にするの
が好ましい。

そして前記恒温槽（70）に内装する前記ヒータ（71）及
び蒸発器（72）の運転は、前記チャンバー（30）内の水
温（熱媒温度）などを検出し、予じめ任意に設定した設
定温度との比較を行なうコントローラ（８）により制御
されるのであって、前記ヒータ（71）及び蒸発器（72）
の運転制御により５℃乃至40℃で誤差±0.1℃の一定の
恒温水（恒温熱媒体）を形成できるのである。

さらに、前記蒸発器（72）に対応する冷凍装置における
凝縮器（78）は、圧縮機と共にコンデンシングユニット
（９）に設けるのであって、前記蒸発器（72）の運転制
御は前記圧縮機の発停又は容量制御により行なうのであ
る。

かくして、前記恒温熱媒体の発生装置（７）からの恒温
熱媒体は、前記熱交換チャンバー（14）と前記チャンバ
ー（30）とに直列に循環させるのであり、前記恒温熱媒
体は、前記二重管（40）の外管（42）から第１連絡管
（80）を介して前記エッチング槽（１）を取囲む熱交換
チャンバー（14）に一旦開放され、該熱交換チャンバー
（14）から第２連絡管（90）を介して前記チャンバー
（30）に供給されるのであって、これら一連の通路（4
2）（80）（14）（90）より成る送配管（76）及び前記
戻配管（77）により、前記チャンバー（30）に恒温熱媒
体を循環させているのである。

このとき、前記チャンバー（30）内には前記恒温槽（3
5）が形成されるのであり、該恒温槽（35）により覆わ
れる前記放出手段（２）及び該放出手段（２）を接続す
る送液管（６）、また前記ストレーナ（61）及び制御弁
（62）は、外気の影響を受けることはないのである。従
って、前記放出手段（２）から放出するエッチング液の
温度は設定値に高精度に制御できるのである。

また、前記熱交換チャンバー（14）にも恒温熱媒体を循
環させているで、前記エッチング室（10）内の温度も設
置温度に保持できるのである。

しかも、この設定温度は、前記コントローラ（８）の入
力器により任意に設定できるし、任意に選択した設定温
度に正確に制御できるのである。

尚、第１図において（20）は、前記エッチング槽（１）
の胴体（11）に設けるウエハ出入口であって、この出入
口（20）には扉（21）を開閉自由に取付けている。

また、前記放出手段（２）から噴射するエッチング液
は、前記した如くSiO₂膜を被エッチング材とする場合の
フッ酸とフッ化アンモニウム水溶液の混合液がある他、
前記ウエハ（Ｗ）の表面に形成する被エッチング材によ
り種々のものが用いられるのである。例えば、シリコン
を被エッチング材とする場合には、フッ酸・硝酸・水の
混合液またはフッ酸・硝酸・酢酸の混合液などが、ま
た、アルミニウムを被エッチング材とする場合には、リ
ン酸・硝酸・酢酸の混合水溶液などが、また、クロムを
被エッチング材とする場合には、第２硝酸セリウム・ア
ンモニウムを主成分とする混合水溶液などが一般に用い
られるのであり、それぞれの金属合金に適したエッチン
グ液が用いられるのである。

ところで、前記した如くのエッチング液は、非常に腐蝕
性が強く、殆んどの金属を腐蝕させる性質を有している
ため、前記放出手段（２）におけるエッチング液の流通
路や、前記エッチング槽（１）におけるエッチング室
（10）の内壁面などのエッチング液とを接触する部分に
は、フッ素樹脂や、塩ビ、ポリエチレン、ポリプロピレ
ン等でコーティングやライニングするなどして、耐腐蝕
性機能をもたせることは云うまでもない。また、前記エ
ッチング槽（１）などを上記材質で構成する如くしても
よい。

尚、第１図に示した実施例では、前記チャンバー（30）
を、二重壁構造とするカップ状のジャケット（31）で構
成し、このチャンバー（30）のカップ状の内部空間に形
成する空気の恒温槽（35）に、前記制御手段（Ａ）を収
容せしめて、該制御手段（Ａ）を前記チャンバー（30）
により間接的に温調する如くしたが、第２図に示す如
く、恒温熱媒体が循環するチャンバー（30）の内部に、
制御手段（Ａ）を浸漬せしめて、該制御手段（Ａ）を直
接的に温調する如くしてもよい。

この場合には、第２図の如く一重壁構造とするカップ状
のカバー（32）をエッチング槽（１）の上部に取付ける
ことにより、前記カバー（32）の内側と前記エッチング
槽（１）の蓋体（13）とで形成される空間に、前記チャ
ンバー（30）を形成するのであり、このチャンバー（3
0）の内部に恒温熱媒体の発生装置（７）からの恒温熱
媒体を循環させるのである。この第２図のものによれ
ば、前記制御手段（Ａ）に恒温熱媒体が直接接触するこ
とになるのであり、この制御手段（Ａ）への恒温熱媒体
の接触により、前記制御手段（Ａ）が外気の影響を受け
るのをより確実に防止できるのである。

また、第１図及び第２図の実施例では、前記チャンバー
（30）を、前記エッチング槽（１）の上部に構成した
が、第３図の如くエッチング槽（１）と独立に構成して
もよい。

この第３図のものは、チャンバー（30）を箱形本体（3
3）で構成し、該本体（33）の内部に、制御手段（Ａ）
のうち放出手段（２）を除く制御弁（61）及びストレー
ナ（62）を収容する如くしたものである。また、このチ
ャンバー（30）は、エッチング室（10）の雰囲気温度を
調節する熱交換チャンバー（14）と配管（76）（77）に
より並列に接続され、恒温熱媒発生装置（７）からの恒
温熱媒体を、前記両チャンバー（30）（14）に並列に循
環させている。

尚、第３図では、温調器（５）を前記発生装置（７）と
別体に形成しており、また、薬液容器（３）の薬液はポ
ンプにて送出するようにしている。さらに蓋体（13）に
ファン（22）を取付けて、該ファン（22）の攪拌によ
り、前記エッチング室（10）の室内を、前記放出手段
（２）から放出される薬液で迅速に飽和させる如くして
いる。

以上の第１図から第３図の実施例では、また、恒温熱媒
体を前記チャンバー（30）だけでなく、前記熱交換チャ
ンバー（14）にも循環させているが、該熱交換チャンバ
ー（14）は設けずに、前記チャンバー（30）のみに恒温
熱媒体を循環させてもよい。

また、第１図から第３図までの実施例では、前記チャン
バー（30）により、前記制御手段（Ａ）を構成する各制
御要素、すなわち、放出手段（２）、制御弁（61）、ス
トレーナ（62）を主に温調する如くし、これら各制御要
素の接続配管となる送液管（６）を付随的に温調する如
くしているが、第４図に示す如く、前記した各制御要素
と共に制御手段（Ａ）を構成する送液管（６）を積極的
に温調する如くしてもよい。

以下第４図の実施例について説明する。

第４図に示すものは、枠組したフレーム（100）の上部
にエッチング槽（１）を支持し、下方に恒温熱媒体発生
装置（７）を収納したものである。

前記エッチング槽（１）は二重壁構造としたドーム状の
ケーシング（11）と、底壁（12）及び天井板（13）とを
備え、内部にエッチング室（10）を形成すると共に、前
記ケーシング（11）の二重壁構造により、制御手段
（Ａ）及び前記エッチング室（10）を温調するチャンバ
ー（30）を形成するのである。

そして、前記制御手段（Ａ）を構成する送液管（６）の
一部をコイル状と成して薬液熱交換器（５）を形成し、
該熱交換器（５）を前記チャンバー（30）の円筒内部に
配設するのである。

前記熱交換器（５）の内部容積は、１回のエッチングに
用いられるエッチング液の分量、おおむね200〜400cc程
度以上とするのが好ましい。かくすれば、前記した温調
器（500）を不要とすることができる。

尚、第４図のおいて、（200）は前記フレーム（100）の
上面に設ける架台（201）に載置するウエハカセットで
あり、又、（Ｍ）は前記エッチング槽（１）に内装する
スピンチャック（16）の回転軸（17）を駆動させるモー
タであって、前記回転軸（17）とはベルト伝動手段（10
1）により連動している。

尚、第４図の実施例では、エッチング処理に供される薬
液としてエッチング液のみを取上げ、エッチング液の温
調用熱交換器（５）１本を前記チャンバー（30）の内部
に配設したが、第５図に示す如くエッチング液を温調す
る熱交換器（5a）と、エッチング液の前に放出される前
処理液を温調する熱交換器（5b）とを前記チャンバー
（30）の内部に配設してもよいのである。

また、後処理液を温調する熱交換器（図示せず）をも前
記チャンバー（30）の内部に配設してもよいのはもちろ
んである。

さらに、第４図及び第５図の実施例では、エッチング槽
（１）のケーシング（11）を二重壁構造とすることによ
り、チャンバー（30）を形成し、該チャンバー（30）の
円筒状の内部空間にコイル状の薬液熱交換器（５）を配
設したが、第６図に示すように、一重壁構造のエッチン
グ槽（1A）の外壁面又は内壁面の何れか一方に、パイプ
（80）をコイル状に巻付けると共に、該パイプ（80）を
前記壁面にペーストハンダ或いは接着剤等を用いて熱伝
導密に固着することによりチャンバー（30）を形成し、
このコイル状のチャンバー（30）の内部に、該チャンバ
ー（30）を構成する前記パイプ（80）よりも小径のパイ
プ（50）を挿入せしめて前記パイプ（80）に沿ったコイ
ル状と成すことにより、薬液熱交換器（５）を形成する
如くしてもよい。

この場合、前記パイプ（80）の断面形状を例えば扁平楕
円形状にして、前記壁面との接触面積を大きくするのが
好ましい。また、前記パイプ（80）の前記胴体（1A）へ
の巻付けピッチは密にするのが好ましいが、安価にする
ためには、粗にしてもよい。

さらにまた、上記第４図乃至第６図の実施例では、薬液
熱交換器（５）をチャンバー（30）の内部に配設した
が、第７図に示すように、チャンバー（30）外側または
内側に、薬液熱交換器（５）をコイル状に巻付けてもよ
い。この場合、図示する如く断熱材（90）を添設するの
が好ましい。

（発明の効果）以上のように本発明によれば、エッチング槽（１）のエ
ッチング室（10）に、被エッチング体（Ｗ）の保持手段
を回転自由に設けると共に、この保持手段で保持されて
回転する被エッチング体（Ｗ）にエッチング処理のため
のエッチング液を供給するための制御手段（Ａ）を設
け、この制御手段（Ａ）を、薬液容器（３）に接続して
なるウエットエッチング装置において、前記エッチング
室（10）の内壁面に、エッチング液に対する耐腐食性を
有する樹脂層を設ける一方、恒温熱媒体を発生する恒温
熱媒発生装置（７）を形成すると共に、この発生装置
（７）で発生する恒温熱媒体を収容するチャンバー（3
0）を形成して、このチャンバー（30）に、前記制御手
段（Ａ）を熱交換可能に付設したことを特徴とするもの
であるから、前記制御手段（Ａ）から供給される前記薬
液の温度を任意に設定できると共に、設定した温度に高
精度に保持できるのである。

従って、エッチング温度の変化による形成パターン精度
のバラつきを最小限に抑制でき、半導体ウエハ等の被エ
ッチング体のパターンの微細化とその製品歩留とを向上
できるのである。

【図面の簡単な説明】第１図は本発明エッチング装置の第１実施例を示す概略
説明図、第２図は第２実施例を示す概略説明図、第３図
は第３実施例を示す概略説明図、第４図は第４実施例を
示す概略説明図、第５図は第４実施例の変形を示す要部
のみの説明図、第６図は同じく第４実施例の他の変形を
示す要部のみの説明図、第７図は同じく第４実施例のそ
の他の変形を示す要部のみの説明図、第８図はエッチン
グ速度と温度の関係を示す特性図である。（１）……エッチング槽（３）……薬液容器（７）……恒温熱媒発生装置（30）……チャンバー（Ａ）……制御手段

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】エッチング槽（１）のエッチング室（10）
に、被エッチング体（Ｗ）の保持手段を回転自由に設け
ると共に、この保持手段で保持されて回転する被エッチ
ング体（Ｗ）にエッチング処理のためのエッチング液を
供給するための制御手段（Ａ）を設け、この制御手段
（Ａ）を、薬液容器（３）に接続してなるウエットエッ
チング装置であって、前記エッチング室（10）の内壁面に、エッチング液に対
する耐腐食性を有する樹脂層を設ける一方、恒温熱媒体
を発生する恒温熱媒発生装置（７）を形成すると共に、
この発生装置（７）で発生する恒温熱媒体を収容するチ
ャンバー（30）を形成して、このチャンバー（30）に、
前記制御手段（Ａ）を熱交換可能に付設したことを特徴
とするウエットエッチング装置。