JPH0783859A - 局所的光電子検出装置 - Google Patents
局所的光電子検出装置Info
- Publication number
- JPH0783859A JPH0783859A JP5226194A JP22619493A JPH0783859A JP H0783859 A JPH0783859 A JP H0783859A JP 5226194 A JP5226194 A JP 5226194A JP 22619493 A JP22619493 A JP 22619493A JP H0783859 A JPH0783859 A JP H0783859A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- probe
- sample
- auxiliary electrode
- photoelectrons
- voltage
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】高い空間分解能かつ高いS/N比で局所的な光
電子検出を行うことのできる検出装置を提供する。 【構成】探針の周囲に探針とは別の補助電極を設け、こ
の補助電極を探針の周囲に入射する光電子を遮蔽する手
段として構成した。試料4からの光電子を受容する探針
1と、探針1の周囲に設けられた補助電極3と、試料4
に対して探針1と補助電極3とを相対的に移動させる移
動手段50と、探針1と試料4との間及び補助電極3と
試料4との間に各々電圧を印加する電圧印加手段60
と、探針1の受容する試料4からの光電子により探針1
と試料4との間に流れる電流を検出する電流検出手段7
0と、電流検出手段7により検出された電流の情報を表
示する表示手段80とを有する。
電子検出を行うことのできる検出装置を提供する。 【構成】探針の周囲に探針とは別の補助電極を設け、こ
の補助電極を探針の周囲に入射する光電子を遮蔽する手
段として構成した。試料4からの光電子を受容する探針
1と、探針1の周囲に設けられた補助電極3と、試料4
に対して探針1と補助電極3とを相対的に移動させる移
動手段50と、探針1と試料4との間及び補助電極3と
試料4との間に各々電圧を印加する電圧印加手段60
と、探針1の受容する試料4からの光電子により探針1
と試料4との間に流れる電流を検出する電流検出手段7
0と、電流検出手段7により検出された電流の情報を表
示する表示手段80とを有する。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は光電子分析装置、特に局
所的に光電子を検出するための装置に関する。
所的に光電子を検出するための装置に関する。
【0002】
【従来の技術】物質表面にその物質の仕事関数よりも大
きなエネルギーを持つ光を照射すると、表面から光電子
が飛び出してくるという現象が知られている。この現象
を表面分析に利用することが知られており、例えば、Ob
servation of local Photoemission using a scanning
tunneling microscope J.K.Gimzewski 他 Ultramicro
scopy 42-44(1992)366-370に報告されている。すなわ
ち、超高真空中において光をスポットに絞って試料表面
に当て、出てくる光電子をSTM(走査型トンネル顕微
鏡)の探針により局所的に捕獲して表面の仕事関数の違
いに由来する像を得るという報告がなされている。この
報告においては、STM探針の周囲を先端部を除いて絶
縁体でコートすることにより、空間分解能を高める手法
が提案されている。
きなエネルギーを持つ光を照射すると、表面から光電子
が飛び出してくるという現象が知られている。この現象
を表面分析に利用することが知られており、例えば、Ob
servation of local Photoemission using a scanning
tunneling microscope J.K.Gimzewski 他 Ultramicro
scopy 42-44(1992)366-370に報告されている。すなわ
ち、超高真空中において光をスポットに絞って試料表面
に当て、出てくる光電子をSTM(走査型トンネル顕微
鏡)の探針により局所的に捕獲して表面の仕事関数の違
いに由来する像を得るという報告がなされている。この
報告においては、STM探針の周囲を先端部を除いて絶
縁体でコートすることにより、空間分解能を高める手法
が提案されている。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上述し
た局所的光電子分析法にあっては、期待されるほど空間
分解能が得られず、バックグラウンドノイズも大きいと
いう問題があった。本発明は、このような問題点に鑑み
てなされたもので、高い空間分解能かつ高いS/N比で
局所的な光電子検出を行うことのできる検出装置を提供
することを目的としている。
た局所的光電子分析法にあっては、期待されるほど空間
分解能が得られず、バックグラウンドノイズも大きいと
いう問題があった。本発明は、このような問題点に鑑み
てなされたもので、高い空間分解能かつ高いS/N比で
局所的な光電子検出を行うことのできる検出装置を提供
することを目的としている。
【0004】
【課題を解決するための手段】上記目的のために、本発
明者らは、従来の検出法では期待される空間分解能が得
られず、バックグラウンドノイズも大きいという現象に
ついて、その原因を究明した。その結果、STM探針に
コートした絶縁体に光電子が飛び込むことによる絶縁体
のチャージアップやこのチャージが絶縁体表面で拡散す
るといった新たな問題が生じていることが分かった。
明者らは、従来の検出法では期待される空間分解能が得
られず、バックグラウンドノイズも大きいという現象に
ついて、その原因を究明した。その結果、STM探針に
コートした絶縁体に光電子が飛び込むことによる絶縁体
のチャージアップやこのチャージが絶縁体表面で拡散す
るといった新たな問題が生じていることが分かった。
【0005】そこで本発明では、探針の周囲に探針とは
別の補助電極を設け、この補助電極を探針の周囲に入射
する光電子を遮蔽する手段として構成したものである。
具体的には、図1に示す如く、試料4からの光電子を受
容する探針1と、探針1の周囲に設けられた補助電極3
と、試料4に対して探針1と補助電極3とを相対的に移
動させる移動手段50と、探針1と試料4との間及び補
助電極3と試料4との間に各々電圧を印加する電圧印加
手段60と、探針1の受容する試料4からの光電子によ
り探針1と試料4との間に流れる電流を検出する電流検
出手段70と、電流検出手段7により検出された電流の
情報を表示する表示手段80とを有する光電子検出装置
である。
別の補助電極を設け、この補助電極を探針の周囲に入射
する光電子を遮蔽する手段として構成したものである。
具体的には、図1に示す如く、試料4からの光電子を受
容する探針1と、探針1の周囲に設けられた補助電極3
と、試料4に対して探針1と補助電極3とを相対的に移
動させる移動手段50と、探針1と試料4との間及び補
助電極3と試料4との間に各々電圧を印加する電圧印加
手段60と、探針1の受容する試料4からの光電子によ
り探針1と試料4との間に流れる電流を検出する電流検
出手段70と、電流検出手段7により検出された電流の
情報を表示する表示手段80とを有する光電子検出装置
である。
【0006】
【作用】上記の如き本発明の局所的光電子検出装置にお
いては、探針1の周囲に電気的に独立な補助電極3が設
けられ、好ましくは探針1と補助電極3にはそれぞれ独
立に試料に対して正の電位が与えられるため、試料4表
面の探針1の先端に対向する領域から発した光電子が探
針1に取り込まれる。そして、光5の照射により、探針
1の先端に対向する領域の周囲で発生した光電子は補助
電極3を通じて排出されるため、探針1の先端に対向す
る領域のみから発した光電子が探針1に受容される。従
って、従来の如く、探針の周囲に設けられる絶縁体のチ
ャージアップや絶縁体表面の電子の拡散といった問題は
解決され、探針1の鋭さに応じた高い空間分解能で光電
子を検出することが可能となる。
いては、探針1の周囲に電気的に独立な補助電極3が設
けられ、好ましくは探針1と補助電極3にはそれぞれ独
立に試料に対して正の電位が与えられるため、試料4表
面の探針1の先端に対向する領域から発した光電子が探
針1に取り込まれる。そして、光5の照射により、探針
1の先端に対向する領域の周囲で発生した光電子は補助
電極3を通じて排出されるため、探針1の先端に対向す
る領域のみから発した光電子が探針1に受容される。従
って、従来の如く、探針の周囲に設けられる絶縁体のチ
ャージアップや絶縁体表面の電子の拡散といった問題は
解決され、探針1の鋭さに応じた高い空間分解能で光電
子を検出することが可能となる。
【0007】上記の如き本発明の基本構成において、表
示手段80としては、電流検出手段70により検出され
た電流に対応する信号と移動手段50による前記探針1
と試料4との位置関係に対応する信号とを記憶する記憶
手段と、前記記憶手段に記憶された各信号に基づいて試
料面上の光電子量を表示するモニター手段とを有する構
成とすることが望ましい。この構成によれば、試料面上
の光電子発生の分布を検出することができ、試料4につ
いての光電子による2次元的評価が可能となる。
示手段80としては、電流検出手段70により検出され
た電流に対応する信号と移動手段50による前記探針1
と試料4との位置関係に対応する信号とを記憶する記憶
手段と、前記記憶手段に記憶された各信号に基づいて試
料面上の光電子量を表示するモニター手段とを有する構
成とすることが望ましい。この構成によれば、試料面上
の光電子発生の分布を検出することができ、試料4につ
いての光電子による2次元的評価が可能となる。
【0008】また、電圧印加手段として、探針1と試料
4との間の印加電圧、及び補助電極3と試料4との間の
印加電圧のうちの少なくとも一方の電圧を変化させ、探
針と補助電極との各試料に対する電位を相対的に変化す
るための電圧可変手段を設けることも可能である。この
ような構成によれば、探針1に受容される光電子と探針
の周囲の補助電極3に受容される光電子とのバランスを
変えることができ、探針による光電子検出領域を制御で
き、実質的な分解能を変えることが可能となる。
4との間の印加電圧、及び補助電極3と試料4との間の
印加電圧のうちの少なくとも一方の電圧を変化させ、探
針と補助電極との各試料に対する電位を相対的に変化す
るための電圧可変手段を設けることも可能である。この
ような構成によれば、探針1に受容される光電子と探針
の周囲の補助電極3に受容される光電子とのバランスを
変えることができ、探針による光電子検出領域を制御で
き、実質的な分解能を変えることが可能となる。
【0009】
【実施例】以下に本発明の実施例について詳述する。図
2は、本実施例の局所的光電子分析装置の構成を示すブ
ロック図である。本発明の局所的光電子分析装置におい
て、探針1はタングステン(W)製であり、探針1の周
囲に酸化ケイ素(SiO2)からなる絶縁膜2を介して形成
されたアルミニウム製の補助電極3が設けられている。
試料4と探針1との間に所定の電圧V1が第1電圧印加
手段10により印加され、試料4と補助電極3との間に
所定の電圧V2が第2電圧印加手段11により印加され
る。
2は、本実施例の局所的光電子分析装置の構成を示すブ
ロック図である。本発明の局所的光電子分析装置におい
て、探針1はタングステン(W)製であり、探針1の周
囲に酸化ケイ素(SiO2)からなる絶縁膜2を介して形成
されたアルミニウム製の補助電極3が設けられている。
試料4と探針1との間に所定の電圧V1が第1電圧印加
手段10により印加され、試料4と補助電極3との間に
所定の電圧V2が第2電圧印加手段11により印加され
る。
【0010】試料4はアクチュエータ7上に載置されて
おり、アクチュエータ7は上下及びXY平面内で移動可
能な移動ステージ8上に搭載されている。移動ステージ
8の上下移動により試料4が探針1に対してほぼ適切な
間隙をもって配置され、アクチュエータ7により試料4
は探針1に対して水平方向及び垂直方向に微小に移動さ
れる。アクチュエータ7は第1駆動手段13により駆動
制御され、移動ステージ8は第2駆動手段14により駆
動制御される。他方、探針保持手段9は探針1及び補助
電極3を保持すると共に、第3駆動手段15により水平
面内でXおよびY方向に移動させる。そして、これら3
つの駆動手段13、14、15を演算制御手段(コンピ
ュータ)16により制御することによって、探針1は試
料4に対して適切な間隙を維持して配置され、試料4上
の任意の位置に探針1を設定することが可能である。
おり、アクチュエータ7は上下及びXY平面内で移動可
能な移動ステージ8上に搭載されている。移動ステージ
8の上下移動により試料4が探針1に対してほぼ適切な
間隙をもって配置され、アクチュエータ7により試料4
は探針1に対して水平方向及び垂直方向に微小に移動さ
れる。アクチュエータ7は第1駆動手段13により駆動
制御され、移動ステージ8は第2駆動手段14により駆
動制御される。他方、探針保持手段9は探針1及び補助
電極3を保持すると共に、第3駆動手段15により水平
面内でXおよびY方向に移動させる。そして、これら3
つの駆動手段13、14、15を演算制御手段(コンピ
ュータ)16により制御することによって、探針1は試
料4に対して適切な間隙を維持して配置され、試料4上
の任意の位置に探針1を設定することが可能である。
【0011】このよう構成において、試料4上に光を照
射したときに発生する光電子により、探針1と試料4と
の間に流れる電流が電流測定手段12により測定され
る。そして、探針1の試料4に対する位置情報と、該位
置において電流測定手段12で測定された電流値とに基
づいて、試料表面より飛び出してくる光電子数の情報
が、演算制御手段16において記憶され、その記憶情報
がCRT17にて試料の光電子検出像として表示され
る。
射したときに発生する光電子により、探針1と試料4と
の間に流れる電流が電流測定手段12により測定され
る。そして、探針1の試料4に対する位置情報と、該位
置において電流測定手段12で測定された電流値とに基
づいて、試料表面より飛び出してくる光電子数の情報
が、演算制御手段16において記憶され、その記憶情報
がCRT17にて試料の光電子検出像として表示され
る。
【0012】第1駆動手段13、第2駆動手段14およ
び第3駆動手段15は、それぞれGPIBケーブルを通
して演算制御手段16によって制御される。そして、探
針1の試料4に対する位置は、アクチュエータ7および
移動ステージ8の移動量をもとに演算制御手段16によ
って算出される。また、本実施例では、アクチュエータ
7によって、探針1と試料4との間を所定の間隔に維持
した状態で試料4を探針1に対してXY方向に走査させ
る。この走査させる速度および走査範囲は、演算制御手
段16から第1駆動手段13に指令を出し、第1駆動手
段13よりアクチュエータ7に送られる走査信号(三角
波)の周波数と振幅を変えることで適宜設定できる。
び第3駆動手段15は、それぞれGPIBケーブルを通
して演算制御手段16によって制御される。そして、探
針1の試料4に対する位置は、アクチュエータ7および
移動ステージ8の移動量をもとに演算制御手段16によ
って算出される。また、本実施例では、アクチュエータ
7によって、探針1と試料4との間を所定の間隔に維持
した状態で試料4を探針1に対してXY方向に走査させ
る。この走査させる速度および走査範囲は、演算制御手
段16から第1駆動手段13に指令を出し、第1駆動手
段13よりアクチュエータ7に送られる走査信号(三角
波)の周波数と振幅を変えることで適宜設定できる。
【0013】図3は、本実施例の局所的光電子検出装置
の全体構造を示す概略図である。この局所的光電子検出
装置は、導電性を有する探針1、探針1に絶縁膜2を介
して設けられた補助電極3、探針1を保持する探針保持
具9、探針保持具9をXY方向に位置調整する駆動装置
25、基台20、探針保持具9を保持するための基台2
0に形成された支持台20a、試料4、試料ホルダー2
6、試料ホルダー26をXYZ方向に移動させる3次元
アクチュエータ7、アクチュエータ7が設置された移動
ステージ8、光源21と光源21からの光5を集光する
レンズ22を備えている。
の全体構造を示す概略図である。この局所的光電子検出
装置は、導電性を有する探針1、探針1に絶縁膜2を介
して設けられた補助電極3、探針1を保持する探針保持
具9、探針保持具9をXY方向に位置調整する駆動装置
25、基台20、探針保持具9を保持するための基台2
0に形成された支持台20a、試料4、試料ホルダー2
6、試料ホルダー26をXYZ方向に移動させる3次元
アクチュエータ7、アクチュエータ7が設置された移動
ステージ8、光源21と光源21からの光5を集光する
レンズ22を備えている。
【0014】試料4は、アルミニウム基板に金を200nm
蒸着し、さらにその上にセシウムを10〜50nm蒸着して作
成した。試料4はアースに接続されており、試料ホルダ
ー26には接着により取り付けられている。アクチュエ
ータ7は、ピエゾ素子を用いたチューブスキャナ型と呼
ばれるもので、ピエゾ素子に適当な電圧を印可すること
で試料4を探針1に対してXY方向に走査させる。この
アクチュエータ7は試料をZ方向に変位させる際に微動
機構としても機能する。さらに、アクチュエータ7は移
動ステージ8に設置され、この移動ステージ8はアクチ
ュエータ7ごと試料4をZ方向に移動させる。移動ステ
ージ8は、軸受23およびねじ24を介してねじ部24
aで支持されている。ねじ部24aは、ねじ山のピッチ
が0.3mm に設定され、基台20に形成された支持部20
bに設けられためねじ20cと螺合している。図示して
いない駆動機構によってねじ24を回転させると移動ス
テージ8はZ方向に移動する。この移動ステージ8は、
試料4を探針1に接近させる際に粗動機構として機能す
る。
蒸着し、さらにその上にセシウムを10〜50nm蒸着して作
成した。試料4はアースに接続されており、試料ホルダ
ー26には接着により取り付けられている。アクチュエ
ータ7は、ピエゾ素子を用いたチューブスキャナ型と呼
ばれるもので、ピエゾ素子に適当な電圧を印可すること
で試料4を探針1に対してXY方向に走査させる。この
アクチュエータ7は試料をZ方向に変位させる際に微動
機構としても機能する。さらに、アクチュエータ7は移
動ステージ8に設置され、この移動ステージ8はアクチ
ュエータ7ごと試料4をZ方向に移動させる。移動ステ
ージ8は、軸受23およびねじ24を介してねじ部24
aで支持されている。ねじ部24aは、ねじ山のピッチ
が0.3mm に設定され、基台20に形成された支持部20
bに設けられためねじ20cと螺合している。図示して
いない駆動機構によってねじ24を回転させると移動ス
テージ8はZ方向に移動する。この移動ステージ8は、
試料4を探針1に接近させる際に粗動機構として機能す
る。
【0015】探針保持具9は、支持台20aにより基台
20に支持されている。駆動装置25は、XおよびY方
向に取り付けられており、探針1および探針保持具9を
XおよびY方向に位置調整することができ、光源21か
らの光5の試料4上の照射位置に探針1を位置合わせす
る。光源21は、633nm (He−Neレーザー)の光5
を発し、この光5はレンズ22により試料4上で約1mm
径のスポットとして集光され、試料4を照射する。
20に支持されている。駆動装置25は、XおよびY方
向に取り付けられており、探針1および探針保持具9を
XおよびY方向に位置調整することができ、光源21か
らの光5の試料4上の照射位置に探針1を位置合わせす
る。光源21は、633nm (He−Neレーザー)の光5
を発し、この光5はレンズ22により試料4上で約1mm
径のスポットとして集光され、試料4を照射する。
【0016】図4は、本実験例で用いたチューブスキャ
ナ型アクチュエータの概念斜視図である。アクチュエー
タ7は、円筒上の厚電セラミックス30の外周面にX方
向走査用の厚電素子に対する電極31a,31bおよび
Y方向走査用の厚電素子に対する電極32a,32b
が、それぞれX方向同士、Y方向同士で対向するように
設けられている。厚電セラミックス30の内周面には、
各電極31a、31b、32a、32bに対する共通電
極33が設けられている。XY方向に走査するときは、
それぞれの方向の各電極間に大きさが同じで符号の異な
る電位を印加する。また、Z方向に移動させるときは、
正負どちらか一方の電圧を設定して、この電圧をX、Y
全ての外周面の各電極と共通電極33との間にそれぞれ
等しく印加することで、素子をZ方向に伸縮させる。
ナ型アクチュエータの概念斜視図である。アクチュエー
タ7は、円筒上の厚電セラミックス30の外周面にX方
向走査用の厚電素子に対する電極31a,31bおよび
Y方向走査用の厚電素子に対する電極32a,32b
が、それぞれX方向同士、Y方向同士で対向するように
設けられている。厚電セラミックス30の内周面には、
各電極31a、31b、32a、32bに対する共通電
極33が設けられている。XY方向に走査するときは、
それぞれの方向の各電極間に大きさが同じで符号の異な
る電位を印加する。また、Z方向に移動させるときは、
正負どちらか一方の電圧を設定して、この電圧をX、Y
全ての外周面の各電極と共通電極33との間にそれぞれ
等しく印加することで、素子をZ方向に伸縮させる。
【0017】補助電極3は、探針1に酸化ケイ素(SiO
2)からなる絶縁膜2を介して設けられいるが、以下に
図5を用いて探針1に絶縁膜2と補助電極3を形成した
過程を説明する。 (1) まず、太さ1mmのタングステン製のワイヤーをその
一端から5mmまでエッチング液(NaOH水溶液)に浸
す。そして、ワイヤーを徐々に引き上げて液浸部分をエ
ッチングにより除去する。引き上げ後、ワイヤーの一端
は、先端半径が50〜100nm の鋭い針状に形成される。こ
の後、所定の長さ20mmとなるようにワイヤーの他端側を
切断して探針1を得る。 (図5a) (2) 次に、この探針1の先端約10mmの表面部分にPVD
法(物理的気層成長法)により約50nm厚の酸化ケイ素膜
(絶縁膜)2を成膜し、さらに、酸化ケイ素膜上にアル
ミニウム膜3を約200nm 厚で成膜する。(図5b) (3) この後、酸化ケイ素膜2およびアルミニウム膜3が
形成された探針1先端部のさらにその先端側を、フッ化
水素(HF)水溶液40に浸す。(図5c)そして、タン
グステンの探針1が先端に現れるまで液浸部分の酸化ケ
イ素の絶縁膜2およびアルミニウム膜3をエッチングす
ることで、探針1と電気的に絶縁された補助電極3を形
成する。(図5d) 以下、再び図2を用いて本実施例の局所的光電子検出装
置による表面分析過程を説明する。
2)からなる絶縁膜2を介して設けられいるが、以下に
図5を用いて探針1に絶縁膜2と補助電極3を形成した
過程を説明する。 (1) まず、太さ1mmのタングステン製のワイヤーをその
一端から5mmまでエッチング液(NaOH水溶液)に浸
す。そして、ワイヤーを徐々に引き上げて液浸部分をエ
ッチングにより除去する。引き上げ後、ワイヤーの一端
は、先端半径が50〜100nm の鋭い針状に形成される。こ
の後、所定の長さ20mmとなるようにワイヤーの他端側を
切断して探針1を得る。 (図5a) (2) 次に、この探針1の先端約10mmの表面部分にPVD
法(物理的気層成長法)により約50nm厚の酸化ケイ素膜
(絶縁膜)2を成膜し、さらに、酸化ケイ素膜上にアル
ミニウム膜3を約200nm 厚で成膜する。(図5b) (3) この後、酸化ケイ素膜2およびアルミニウム膜3が
形成された探針1先端部のさらにその先端側を、フッ化
水素(HF)水溶液40に浸す。(図5c)そして、タン
グステンの探針1が先端に現れるまで液浸部分の酸化ケ
イ素の絶縁膜2およびアルミニウム膜3をエッチングす
ることで、探針1と電気的に絶縁された補助電極3を形
成する。(図5d) 以下、再び図2を用いて本実施例の局所的光電子検出装
置による表面分析過程を説明する。
【0018】まず、試料4上に光を集光した状態で、第
3駆動手段15により探針1の先端を試料4上の光の照
射位置に合わせる。この時、電流測定手段12で測定さ
れる電流値をモニターすることにより、探針1は光電子
6を十分に取り込む位置にあることを確認する。次に、
光を試料4に照射しない状態で、電流測定手段12によ
り探針1と試料4との間に流れる電流を測定しながら、
演算制御手段16によって第2駆動手段14を制御して
移動ステージ8を探針1に向けて移動させる。この時、
探針1には第1電圧印加手段10により試料4に対して
+5Vのバイアス電圧を印加しておく。また、補助電極
3は、第2電圧印加手段11により探針1と同電位にし
ておく。電流測定手段12によって探針1と試料4との
間に電界放射による電流が検出されたら移動ステージ8
を停止させる。その後、探針1および補助電極3の電位
を試料4に対して+0.5Vに設定し、第1の駆動制御
手段13を介してアクチュエータ7を駆動し試料4を探
針1に接近させ、トンネル電流が検出されたら試料4を
停止させる。この後、アクチュエータ7により試料4を
探針1から離れる方向に約50nm移動させる。以上の操作
により、探針1と試料4との距離が設定される。
3駆動手段15により探針1の先端を試料4上の光の照
射位置に合わせる。この時、電流測定手段12で測定さ
れる電流値をモニターすることにより、探針1は光電子
6を十分に取り込む位置にあることを確認する。次に、
光を試料4に照射しない状態で、電流測定手段12によ
り探針1と試料4との間に流れる電流を測定しながら、
演算制御手段16によって第2駆動手段14を制御して
移動ステージ8を探針1に向けて移動させる。この時、
探針1には第1電圧印加手段10により試料4に対して
+5Vのバイアス電圧を印加しておく。また、補助電極
3は、第2電圧印加手段11により探針1と同電位にし
ておく。電流測定手段12によって探針1と試料4との
間に電界放射による電流が検出されたら移動ステージ8
を停止させる。その後、探針1および補助電極3の電位
を試料4に対して+0.5Vに設定し、第1の駆動制御
手段13を介してアクチュエータ7を駆動し試料4を探
針1に接近させ、トンネル電流が検出されたら試料4を
停止させる。この後、アクチュエータ7により試料4を
探針1から離れる方向に約50nm移動させる。以上の操作
により、探針1と試料4との距離が設定される。
【0019】この状態で探針1に試料4に対して+2V
の電圧をかけ、両者の間に電流が流れない事が確認でき
た。従って、探針1で試料4を走査する際に電流測定手
段12で測定される電流値は、光の照射によって試料4
より発生する光電子6の数と対応することになる。探針
1と試料4との距離が設定されたら、第1の電圧印可手
段10により、探針1の試料4に対する電位(V1)を
+0.1 〜2.0 Vに設定する。また、第2電圧印可手段1
1により、補助電極3の試料4に対する電位(V2)を
V1と等しい値に設定する。この後、演算制御手段16
により走査領域を設定し、アクチュエータ7で試料4を
XY方向に移動させることにより、探針1に対して試料
4を走査をさせる。
の電圧をかけ、両者の間に電流が流れない事が確認でき
た。従って、探針1で試料4を走査する際に電流測定手
段12で測定される電流値は、光の照射によって試料4
より発生する光電子6の数と対応することになる。探針
1と試料4との距離が設定されたら、第1の電圧印可手
段10により、探針1の試料4に対する電位(V1)を
+0.1 〜2.0 Vに設定する。また、第2電圧印可手段1
1により、補助電極3の試料4に対する電位(V2)を
V1と等しい値に設定する。この後、演算制御手段16
により走査領域を設定し、アクチュエータ7で試料4を
XY方向に移動させることにより、探針1に対して試料
4を走査をさせる。
【0020】なお、試料4は充分平坦に形成されている
ので、探針1をXY方向に走査する際は、Z方向に対す
るフィードバック制御は行わなくてよい。走査中は、電
流測定手段12によって探針1と試料4との間に流れる
電流を測定する。演算制御手段16は、試料4上での探
針1の位置(XY平面での位置)と、この位置での電流
測定手段12による測定結果とを対応させて、試料4よ
り発生した光電子6数のデータを取り込む。このデータ
はCRT17に送られ、試料4の光電子検出像として画
面上に表示される。
ので、探針1をXY方向に走査する際は、Z方向に対す
るフィードバック制御は行わなくてよい。走査中は、電
流測定手段12によって探針1と試料4との間に流れる
電流を測定する。演算制御手段16は、試料4上での探
針1の位置(XY平面での位置)と、この位置での電流
測定手段12による測定結果とを対応させて、試料4よ
り発生した光電子6数のデータを取り込む。このデータ
はCRT17に送られ、試料4の光電子検出像として画
面上に表示される。
【0021】以上の過程により試料4の分析を行ったと
ころ、高空間分解能かつ高S/N比の像が得られた。こ
れは、試料4における探針1の先端付近から発生した光
電子6のみが探針1に取り込まれた為である。第1電圧
印可手段10により試料4に対する探針1の電位(V
1)を+ 0.1〜2.0 Vに、第2電圧印可手段11により
試料4に対する補助電極3の電位(V2)をV1より0.
1 〜1.0 V程度高く設定したところ、V2の電位を高く
するに従い電流測定手段12により測定される電流値が
減少するのが確認された。これは、試料4における探針
1先端付近以外で発生した光電子6はほとんどが補助電
極3に取り込まれ、探針1には試料4における探針1先
端の極近傍で発生した光電子6のみが取り込まれるよう
なったことを意味している。この状態で試料4を探針1
に対して走査させたところ、V1とV2が同電位の時よ
りも高い空間分解能の像を得ることができた。尚、上記
実施例の構成においては、全て超高真空中で行うことが
望ましい。
ころ、高空間分解能かつ高S/N比の像が得られた。こ
れは、試料4における探針1の先端付近から発生した光
電子6のみが探針1に取り込まれた為である。第1電圧
印可手段10により試料4に対する探針1の電位(V
1)を+ 0.1〜2.0 Vに、第2電圧印可手段11により
試料4に対する補助電極3の電位(V2)をV1より0.
1 〜1.0 V程度高く設定したところ、V2の電位を高く
するに従い電流測定手段12により測定される電流値が
減少するのが確認された。これは、試料4における探針
1先端付近以外で発生した光電子6はほとんどが補助電
極3に取り込まれ、探針1には試料4における探針1先
端の極近傍で発生した光電子6のみが取り込まれるよう
なったことを意味している。この状態で試料4を探針1
に対して走査させたところ、V1とV2が同電位の時よ
りも高い空間分解能の像を得ることができた。尚、上記
実施例の構成においては、全て超高真空中で行うことが
望ましい。
【0022】
【発明の効果】以上のように本発明によれば、STM探
針の周囲に、STM探針とは電気的に絶縁された補助電
極を設けたので、試料表面のSTM探針先端に対向する
位置以外の領域から発した光電子はこの補助電極に取り
込まれ、排出される。そのため、STM探針には探針先
端の極近傍の狭い領域からの光電子のみが取り込まれ、
また、絶縁体の光電子によるチャージアップや絶縁体表
面の電子の拡散の問題も起こらない。したがって、空間
分解能およびS/N比が改善される。また、STM探針
に対する補助電極の電位を適宜設定することで、測定時
の検出感度や空間分解能を変えることができる。
針の周囲に、STM探針とは電気的に絶縁された補助電
極を設けたので、試料表面のSTM探針先端に対向する
位置以外の領域から発した光電子はこの補助電極に取り
込まれ、排出される。そのため、STM探針には探針先
端の極近傍の狭い領域からの光電子のみが取り込まれ、
また、絶縁体の光電子によるチャージアップや絶縁体表
面の電子の拡散の問題も起こらない。したがって、空間
分解能およびS/N比が改善される。また、STM探針
に対する補助電極の電位を適宜設定することで、測定時
の検出感度や空間分解能を変えることができる。
【0023】そして、上述の如き本発明の局所的光電子
検出装置によれば、種々の薄膜の膜圧の測定を高分解能
で行うことが可能となる。例えば、金の表面にセシウム
を蒸着する場合、蒸着するセシウムを厚くするに従って
表面の仕事関数が徐々に減少するため、表面からの光電
子の発生量を本発明の装置によって検出することによっ
て、セシウム蒸着層の厚さの情報を得ることができ、蒸
着層の均一性や局所的欠陥などを極めて高い分解能にて
検出することが可能になる。
検出装置によれば、種々の薄膜の膜圧の測定を高分解能
で行うことが可能となる。例えば、金の表面にセシウム
を蒸着する場合、蒸着するセシウムを厚くするに従って
表面の仕事関数が徐々に減少するため、表面からの光電
子の発生量を本発明の装置によって検出することによっ
て、セシウム蒸着層の厚さの情報を得ることができ、蒸
着層の均一性や局所的欠陥などを極めて高い分解能にて
検出することが可能になる。
【図1】本発明による局所的光電子検出装置の概略構成
図。
図。
【図2】本発明の実施例の概略構成を示すブロック図。
【図3】本発明の実施例の全体構造を示す概略構成図。
【図4】本発明の実施例に用いるアクチュエーターの概
略斜視図。
略斜視図。
【図5】本発明の実施例に用いる探針の製造過程を示す
概略図。
概略図。
1・・・探針 20・・・基台 2・・・絶縁膜 20a・・支持台 3・・・補助電極 20b・・支持部 4・・・試料 20c・・・めねじ 5・・・光 21・・・光源 6・・・光電子 22・・・集光レン
ズ 7・・・アクチュエータ 23・・・軸受け 8・・・移動ステージ 24・・・ねじ 9・・・探針保持具 24a・・ねじ部 10・・・第1電圧印可手段 25・・・駆動装
置 11・・・第2電圧印可手段 26・・・試料ホ
ルダー 12・・・電流測定手段 30・・・厚電セ
ラミックス 13・・・第1駆動手段 31a、31b・
・・X方向走査用電極 14・・・第2駆動手段 32a,32b・
・・Y方向走査用電極 15・・・第3駆動手段 33・・・共通電
極 16・・・演算制御手段 40・・・フッ化
水素水溶液 17・・・CRT 50・・・移動手
段 60・・・電圧印加手段 70・・・電流検出手段 80・・・表示手段
ズ 7・・・アクチュエータ 23・・・軸受け 8・・・移動ステージ 24・・・ねじ 9・・・探針保持具 24a・・ねじ部 10・・・第1電圧印可手段 25・・・駆動装
置 11・・・第2電圧印可手段 26・・・試料ホ
ルダー 12・・・電流測定手段 30・・・厚電セ
ラミックス 13・・・第1駆動手段 31a、31b・
・・X方向走査用電極 14・・・第2駆動手段 32a,32b・
・・Y方向走査用電極 15・・・第3駆動手段 33・・・共通電
極 16・・・演算制御手段 40・・・フッ化
水素水溶液 17・・・CRT 50・・・移動手
段 60・・・電圧印加手段 70・・・電流検出手段 80・・・表示手段
Claims (3)
- 【請求項1】試料からの光電子を受容する探針と、該探
針の周囲に設けられた補助電極部材と、前記探針と前記
補助電極とをを試料に対して相対的に移動させる移動手
段と、前記探針と前記試料との間及び前記補助電極と前
記試料との間に各々電圧を印加する電圧印加手段と、前
記探針の受容する光電子により該探針と前記試料との間
に流れる電流を検出する電流検出手段と、前記電流検出
手段により検出された電流の情報を表示する表示手段と
を有することを特徴とする局所的光電子検出装置。 - 【請求項2】前記表示手段は、前記電流検出手段により
検出された電流に対応する信号と前記走査手段による前
記探針と試料との位置関係に対応する信号とを記憶する
記憶手段と、前記記憶手段に記憶された各信号に基づい
て試料面上の光電子量を表示するモニター手段とを有し
ていることを特徴とする請求項1記載の局所的光電子検
出装置。 - 【請求項3】前記電圧印加手段は、前記探針と前記試料
との間の印加電圧、及び前記補助電極と前記試料との間
の印加電圧のうちの少なくとも一方の電圧を変化させ、
前記探針と前記補助電極との各試料に対する電位を相対
的に変化するための電圧可変手段を有していることを特
徴とする請求項1記載の局所的光電子検出装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5226194A JPH0783859A (ja) | 1993-09-10 | 1993-09-10 | 局所的光電子検出装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5226194A JPH0783859A (ja) | 1993-09-10 | 1993-09-10 | 局所的光電子検出装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0783859A true JPH0783859A (ja) | 1995-03-31 |
Family
ID=16841368
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5226194A Pending JPH0783859A (ja) | 1993-09-10 | 1993-09-10 | 局所的光電子検出装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0783859A (ja) |
-
1993
- 1993-09-10 JP JP5226194A patent/JPH0783859A/ja active Pending
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US7476872B2 (en) | Method and apparatus for observing inside structures, and specimen holder | |
| US20040185586A1 (en) | Preparation of sample chip, method of observing wall surface thereof and system therefor | |
| US20020008200A1 (en) | Correction method of scanning electron microscope | |
| JP3266995B2 (ja) | 導電性部材の観察・計測方法及びその装置 | |
| JP4520905B2 (ja) | 解析装置、プローブの制御方法および解析システム | |
| JPH0783859A (ja) | 局所的光電子検出装置 | |
| JPH0982771A (ja) | 半導体材料の評価方法およびその装置 | |
| JP2004108979A (ja) | 走査電子顕微鏡を用いた検査方法および装置 | |
| JP3068959B2 (ja) | 表面検査装置および表面検査方法 | |
| JPH0216403A (ja) | 顕微鏡装置 | |
| JPH0766250A (ja) | 半導体表面薄膜の評価方法 | |
| JPH0850872A (ja) | 試料表面の観察方法、原子間力顕微鏡、微細加工方法および微細加工装置 | |
| JPH07181150A (ja) | 表面凹凸像同時計測型光電子検出装置及び検出方法 | |
| JPH07120418A (ja) | 局所的光電子検出装置及び検出方法 | |
| JP4795308B2 (ja) | 内部構造観察用及び電子顕微鏡用試料ホルダー | |
| JP2789244B2 (ja) | 微小プローブの形成方法 | |
| JPH0720299A (ja) | 撮像装置 | |
| JP2770537B2 (ja) | 走査トンネル顕微鏡 | |
| JPH07170456A (ja) | 撮像装置 | |
| JP3597613B2 (ja) | 走査型プローブ顕微鏡 | |
| JPH06129847A (ja) | 原子間力顕微鏡装置 | |
| JPH02245602A (ja) | 走査型顕微鏡用探針の製造方法 | |
| JP2000010009A (ja) | 走査電子顕微鏡およびその観察方法 | |
| JPH1048223A (ja) | 走査型プローブ顕微鏡 | |
| JPH05141912A (ja) | 表面測定装置及び表面加工装置 |