JPH0784403B2 - 新規イノソース誘導体 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明はα−グルコシダーゼ阻害作用を有し、人や動物
の過血糖症状およびそれに起因する種々の疾病、例え
ば、糖尿病，肥満症，脂肪過多症などの予防剤や治療剤
として有用な擬似アミノ糖およびその誘導体の新規製造
法並びにその擬似アミノ糖およびその誘導体の原料とな
りうる新規イノソース誘導体に関する。

従来の技術 本発明者らは先に擬似アミノ糖の一種であるバリオール
アミンおよびそのＮ−置換誘導体が強いα−グルコシダ
ーゼ阻害活性を示すことを見出すとともに、その製造法
として、バリオールアミンのアミノ基とアルデヒド類ま
たはケトン類とを反応させ、ついで還元反応に付す方法
や、バリオールアミンのアミノ基とオキシラン誘導体あ
るいはハロゲン誘導体とを反応させる方法（特開昭57−
200335,58−59946,58−162597,58−216149,59−73549,5
9−95297）を見出した。

発明が解決しようとする問題点 擬似アミノ糖の一種であるバリオールアミンのＮ−置換
誘導体のこれまでの製造方法はいずれも原料としてバリ
オールアミンを用いる方法であった。このバリオールア
ミンはストレプトミセス・ハイグロスコピクス・サブス
ピーシス・リモネウス（Streptomyces hygroscopicus
subsp.limoneus）の培養液から単離する方法（特開昭
57−169446）、あるいはバリダマイシンを分解反応に付
すことにより得られるバリエナミンあるいはバリダミン
を原料としてバリオールアミンを合成する方法（特開昭
57−179174,58−46044）等が知られている。前者の直接
発酵法による製造法は最も簡潔な方法ではあるが、現時
点ではまだ収量の面で工業的方法としては問題がある。
後者の方法のうち、特にバリエナミンを経由する方法
は、工業的製造法としても優れた方法であるが、後者の
方法の中間原料として用いるバリエナミン（あるいはバ
リダミン）の分子量がその出発原料であるバリダマイシ
ンの分子量の約1/2.7であるため得られるバリエナミン
が割高となる欠点がある。従って、Ｎ−置換バリオール
アミン誘電体のより有利な合成原料が望まれていた。

また、これまでバリオールアミンのＮ−置換誘電体を合
成するために、そのバリオールアミン部分を構築する原
料としてバリオールアミンそのものを用いる場合には、
そのＮ−置換基部分を構築する原料として、対応する構
造のアルデヒド類，ケトン類，オキシラン誘導体および
ハロゲン誘導体が用いられてきた。しかし、本発明者ら
は、もしバリオールアミン部分を構築する原料としてイ
ノソース誘導体を用いることができれば、Ｎ−置換基部
分を構築する原料として対応する第一アミンを用いるこ
とが可能であり、この第一アミンが対応するアルデヒド
類，ケトン類，オキシラン誘導体およびハロゲン誘導体
よりも有利に入手し得る場合には、バリオールアミンを
原料とする場合よりも有利に目的物を製造しうるのでは
ないかと考えた。

問題点を解決するための手段 そこで本発明者らは、前述の問題点を解決するため鋭意
研究を重ねた結果、セドヘプチュロース（Ｄ−アルトロ
−２−ヘプチュロース）の2,7−アンヒドロ糖であるセ
ドヘプチュローサン（2,7−アンヒドロ−β−Ｄ−アル
トロ−２−ヘプチュロピラノース）を原料として一般式 （式中、R¹は水酸基の保護基を示す。）で表わされる新
規イノソース誘導体を製造することに成功し、ついでこ
の一般式〔Ｉ〕の化合物と一般式R²−NH₂〔II〕（式
中、R²はアミン残基または水酸基を示す。）で表わされ
る第一アミンまたはヒドロキシルアミンとを反応させ、
ついで還元反応に付し、所望により脱保護基反応に付す
ことにより一般式 （式中、R³は水素原子または水酸基の保護基を示し、Ａ
はアミン残基または水素原子を示し、結合手はＲ配位
またはＳ配位の結合手を示す。）で表わされる擬似アミ
ノ糖またはその誘導体を製造することに成功した。

上記一般式〔II〕中、R²はアミン残基または水酸基であ
るが、アミン残基の代表的なものとしては保護されてい
てもよい水酸基および／または置換されていてもよいフ
ェニル基を有していてもよい炭素数１〜７の鎖状または
環状炭化水素基が挙げられる。

この一般式R²−NH₂で表わされる第一アミンの具体例と
しては例えば、エタノールアミン,3−アミノ−１−プロ
パノール,2−アミノ−１−プロパノール,2−アミノ−1,
3−プロパンジオール,1−アミノ−２−プロパノール,2
−アミノ−３−ヒドロキシ−１−ブタノール，トリス
（ヒドロキシメチル）アミノメタン,2−アミノ−２−メ
チル−1,3−プロパンジオール,2−アミノ−２−メチル
−１−プロパノール,2−アミノ−３−メチル−１−ブタ
ノール,3−アミノ−1,2−プロパンジオール,4−アミノ
−1,2−ブタンジオール,2−アミノ−１−ブタノール,2
−アミノ−1,4−ブタンジオール,2−アミノ−1,5−ペン
タンジオール,5−アミノ−１−ペンタノール,6−アミノ
−１−ヘキサノール，メチルアミン，エチルアミン，プ
ロピルアミン，ブチルアミン，ベンジルアミン，フェネ
チルアミン，アミノジフェニルメタン,2−アミノ−１−
フェニルエタノール,2−アミノ−２−フェニルエタノー
ル,2−アミノ−３−フェニル−１−プロパノール,2−ア
ミノ−３−ヒドロキシ−３−フェニル−１−プロパノー
ル,2−アミノ−３−（４−ヒドロキシフェニル）−１−
プロパノール，β−アミノ−α−メチルフェネチルアル
コール等の水酸基および／または置換されていてもよい
フェニル基を有していてもよい直鎖状アルキルアミン
類、例えば、１−アミノ−１−デオキシ−Ｄ−グルチト
ール,2−アミノ−２−デオキシ−Ｄ−グルチトール,1−
アミノ−１−デオキシ−Ｄ−マンニトール,2−アミノ−
２−デオキシ−Ｄ−ガラクチトール,1−アミノ−１−デ
オキシ−Ｄ−リビトール,4−アミノ−４−デオキシ−Ｄ
−エリスリトール等のアミノ−デオキシ−アルジトール
類、例えば、トランス−２−アミノシクロヘキサン−１
−オール，トランス−３−アミノシクロヘキサン−１−
オール，シス−３−アミノシクロヘキサン−１−オー
ル，トランス−２−アミノ−１−フェニルシクロヘキサ
ン−１−オール，シス−２−アミノ−１−フェニルシク
ロヘキサン−１−オール，シクロヘキシルアミン，シク
ロペンチルアミン,1−アミノ−１−シクロペンタンメタ
ノール,2−アミノシクロペンタノール等の水酸基および
／またはフェニル基で置換されていてもよい環状アルキ
ルアミン類、例えば、ミオ−イノサミン−1,ミオ−イノ
サミン−2,ミオ−イノサミン−4,ネオ−イノサミン−2,
エピ−イノサミン−2,ムコ−イノサミン−3,シロ−イノ
サミン等のイノサミン類、例えば、２−アミノメチル−
ミオイノシトール等のＣ−（アミノメチル）イノシトー
ル類、例えば、ストレプタミン，デオキシストレプタミ
ン，ホータミン，スポラミン，イスタミン等のジアミノ
シクリトール類、例えば、バリエナミン，バリダミン，
ヒドロキシバリダミン，バリオールアミン,2−ヒドロキ
シ−４−（ヒドロキシメチル）シクロペンチルアミン等
の擬似アミノ糖類等が挙げられる。又、上記の化合物の
水酸基は保護されていてもよい。

上記〔II〕および〔III〕式中、Ａで表わされるアミン
残基の具体的な例としては、上述のR²−NH₂で表わされ
る第一アミンの例として列記したアミン類のアミン残基
（すなわちR²）がすべて挙げられる。

上記〔Ｉ〕および〔III〕式中のR¹およびR³で示される
水酸基の保護基としては、糖の化学で水酸基の保護基と
して用いられる保護基、例えばアシル型保護基、エーテ
ル型保護基、アセタール型保護基、ケタール型保護基、
オルトエステル型保護基等が用いられる。

アシル型保護基としては例えば、ハロゲン，炭素数１〜
５の低級アルコキシル基，ハロゲンを有していてもよい
フェノキシ基で置換されていてもよい炭素数１〜５のア
ルカノイル基、ニトロ基，フェニル基，ハロゲンで置換
されていてもよい炭素数１〜５の低級アルキル基，炭素
数２〜６の低級アルキルオキシカルボニル基で置換され
ていてもよいベンゾイル基、ハロゲンで置換されていて
もよい炭素数２〜６のアルコキシカルボニル基、炭素数
３〜５のアルケニルオキシカルボニル基、炭素数１〜５
の低級アルコキシル基またはニトロ基で置換されていて
もよいベンジルオキシカルボニル基またはニトロ置換フ
ェノキシカルボニル基等が用いられる。

上記のハロゲンとしてはふっ素，塩素，臭素，よう素
が、炭素数１〜５のアルキル基としては、例えばメチ
ル，エチル，プロピル，イソプロピル，ブチル，イソブ
チル,sec−ブチル,tert−ブチル，ペンチル，イソペン
チル，ネオペンチル基等が、炭素数１〜５のアルカノイ
ル基としては、例えばホルミル，アセチル，プロピオニ
ル，ブチリル，イソブチリル，イソバレリル，ピバロイ
ル基等が炭素数１〜５のアルコキシル基としては例えば
ハロゲンで置換されていてもよいメトキシル，エトキシ
ル，プロポキシル，ブトキシル，ペンチルオキシ，ビニ
ルオキシ，アリルオキシ基等が用いられる。

上記の炭素数３〜５のアルケニルオキシカルボニル基に
おける炭素数２〜４のアルケニル基としてはビニル，ア
リル，イソプロペニル,1−プロペニル,1−ブテニル,2−
ブテニル,3−ブテニル等が用いられる。

アシル型保護基の例を更に具体的に示せば、ホルミル，
アセチル，クロロアセチル，ジクロロアセチル，トリク
ロロアセチル，トリフルオロアセチル，メトキシアセチ
ル，トリフェニルメトキシアセチル，フェノキシアセチ
ル,p−クロロフェノキシアセチル，プロピオニル，イソ
プロピオニル,3−フェニルプロピオニル，イソブチリ
ル，ピバロイル；ベンゾイル,p−ニトロベンゾイル,p−
フェニルベンゾイル,o−（ジブロモメチル）ベンゾイ
ル,o−（メトキシカルボニル）ベンゾイル,2,4,6−トリ
メチルベンゾイル；メトキシカルボニル，エトキシカル
ボニル,2,2,2−トリクロロエトキシカルボニル，イソブ
チルオキシカルボニル；ビニルオキシカルボニル，アリ
ルオキシカルボニル；ベンジルオキシカルボニル,p−メ
トキシベンジルオキシカルボニル,3,4−ジメトキシベン
ジルオキシカルボニル,p−ニトロベンジルオキシカルボ
ニル;p−ニトロフェノキシカルボニル等である。

エーテル型保護基としては例えば、ハロゲン，炭素数１
〜５の低級アルコキシル基，ベンジルオキシ基，フェニ
ル基で置換されていてもよい炭素数１〜５の低級アルキ
ル基；炭素数２〜４のアルケニル基；炭素数１〜５の低
級アルキル基，フェニル基，ベンジル基等が置換基であ
るトリ置換シリル基；炭素数１〜５の低級アルコキシル
基，ニトロ基で置換されていてもよいベンジル基；炭素
数１〜５の低級アルコキシル基，ハロゲンで置換されて
いてもよいテトラヒドロピラニル基またはテトヒドロフ
ラニル基等が用いられる。

上記のハロゲン、炭素数１〜５の低級アルキル基、炭素
数１〜５の低級アルコキシル基および炭素数２〜４のア
ルケニル基はアシル型保護基の場合と同様のものが用い
られる。

エーテル型保護基を更に具体的に示せば、メチル，メト
キシメチル，ベンジルオキシメチル,tert−ブトキシメ
チル,2−メトキシエトキシメチル,2,2,2−トリクロロメ
トキシメチル，エチル,1−エトキシエチル,1−メチル−
１−メトキシエチル,2,2,2−トリクロロエチル，プロピ
ル，イソプロピル，ブチル，イソブチル,sec−ブチル,t
ert−ブチル，エトキシエチル，トリフェニルメチル,p
−メトキシフェニルジフェニルメチル；アリル；トリメ
チルシリル,tert−ブチルジメチルシリル,tert−ブチル
ジフェニルシリル；ベンジル,p−メトキシベンジル,p−
ニトロベンジル,p−クロロベンジル；テトラヒドロピラ
ニル,3−ブロモテトラヒドロピラニル,4−メトキシテト
ラヒドロピラニル，テトラヒドロフラニル等である。

アセタール型，ケタール型およびオルトエステル型保護
基は好ましくは１〜10の炭素数からなる。その具体例を
示せば、メチレン，エチリデン,1−tert−ブチルエチリ
デン,1−フェニルエチリデン,2,2,2−トリクロロエチリ
デン；イソプロピリデン，ブチリデン，シクロペンチリ
デン，シクロヘキシリデン，シクロヘプチリデン；ベン
ジリデン,p−メトキシベンジリデン,2,4−ジブロモメト
キシベンジリデン,p−ジメチルアミノベンジリデン,o−
ニトロベンジリデン；メトキシメチレン，エトキシメチ
レン，ジメトキシメチレン,1−メトキシエチリデン,1,2
−ジメトキシエチリデン等である。

またジブチルスタニル，トリブチルスタニル等のスタン
オキサン型保護基，環状カルボナート型保護基，環状ボ
ロナート型保護基等も同様に用いられる。

化合物中のR¹およびR³で示される水酸基の保護基の種類
はすべて同じであってもよいし、２種以上の異なった保
護基を含んでいてもよい。また、例えば、環状アセター
ル型，環状ケタール型，環状オルトエステル型，環状カ
ルボナート型，環状ボロナート型，スタンオキサン型保
護基の場合のように２つの水酸基を一つの保護基で保護
してもよい。

化合物〔Ｉ〕の原料であるセド−ヘプチュロースはある
種の細菌や放線菌等の微生物の培養液中に蓄積されるこ
とが知られており〔例えば、ザ・ジャーナル・オブ・バ
イオケミストリー［J.Biochem.（Tokyo），第54巻,107
〜108頁（1963年）；特公昭57−5240参照］、これらの
微生物の培養液中からセド−ヘプチュロースを精製単離
することができる。更にセド−ヘプチュロースを希鉱酸
例えば希硫酸中で加熱することによって2,7−アンヒド
ロ糖であるセド−ヘプチュローサンを結晶として単離す
ることができる。セド−ヘプチュローサンよりＤ−イド
−ヘプチュローサン（2,7−アンヒドロ−β−Ｄ−イド
−２−ヘプチュロピラノース）の製造は、例えば以下に
示す反応工程、すなわち、ｉ）セド−ヘプチュローサン
の4,5位の水酸基を保護基、例えばイソプロピリデン基
で保護する工程.ii）1,3位の水酸基を保護基、例えばベ
ンゾイル基（Bz）で保護する工程.iii）4,5位の水酸基
の保護基を脱離させる工程.iv）４位の水酸基を保護
基、例えばベンゾイル基で保護する工程.v）５位の水酸
基を有機スルホニル化、例えばイミダゾリルスルホニル
化する工程.vi）アシルオキシアニオン、例えばベンゾ
イルオキシアニオンを反応させ、５位の水酸基の立体配
置を反転させる工程.vii）必要ならば水酸基の保護基を
脱離させる工程．を経て製造することができる。

またセドヘプチュローサンより2,7−アンヒドロ−β−
Ｄ−アルビノ−2,5−ヘプトジウロピラノースを経由す
るＤ−イド−ヘプチュローサン（2,7−アンヒドロ−β
−Ｄ−イド−２−ヘプチュロピラノース）およびその1,
3,4,5−テトラ−Ｏ−アセチル誘導体を製造する方法が
ヘインズ（K.Heyns）らによって報告されており〔ヒェ
ーミッシェ・ベリヒテ（Chem.Ber.），第108巻,3611〜3
618頁（1975年）〕、またＤ−グリコ−Ｄ−イド−ヘプ
チトールの微生物酸化反応を経由してＤ−イド−ヘプチ
ュロースおよび2,7−アンヒドロ−β−Ｄ−イド−ヘプ
チュロピラノースを製造する方法がプラット（J.W.Prat
t）らによって報告されている〔ジャーナル・オブ・ザ
・アメリカン・ケミカル・ソサエティ〔J.Am.Chem.So
c.），第74巻,2210−2214頁（1952年）〕ので、これら
の公知の方法を用いることによってもＤ−イド−ヘプチ
ュローサン（下記の式VIIにおいてR¹＝Ｈの化合物）お
よびその水酸基が水酸基の保護基で保護された化合物を
製造することができる。

以下に、水酸基が保護基で保護されているＤ−イド−ヘ
プチュローサン〔VII〕から化合物〔Ｉ〕を製造する方
法を詳細に説明する。なお下記の製造工程図の〔Ｉ〕〜
〔VII〕式において、R¹,R²,R³およびＡは前記と同義で
ありR⁴は水素原子またはアノメリック水酸基の保護基;X
はよう素，臭素，塩素，ふっ素等のハロゲン原子を意味
する。

製造工程１ 化合物〔VI〕は化合物〔VII〕の2,7−アンヒドロ結合の
開裂反応に付すことによって製造することができる。化
合物〔VI〕のR¹で示される水酸基の保護基の好ましい例
としてはベンゾイル基が挙げられる。このアンヒドロ結
合の開裂反応においては糖のアンヒドロ結合の開裂反応
として慣用の方法〔例えば、アドバンスズ・イン・カー
ボハイドレート・ケミストリー・アンド・バイオケミス
トリー（Adv.Carbohydr.Chem.Biochem.），第34巻,63−
69頁（1977年）に記載されているツェルニィーおよびス
タネク（Cerny and Stanek）の“アルドヘキソーズの1,
6−アンヒドロ誘導体”と題する総説参照〕が用いられ
る。アンヒドロ結合の開裂は、例えば酸の存在下で行な
われる。適当な酸としては硫酸，塩酸（塩化水素酸），
臭素水素酸（臭化水素），硝酸，過塩素酸等の無機酸;p
−トルエンスルホン酸，酢酸，無水酢酸，トリフルオロ
酢酸，無水トリフルオロ酢酸等の有機酸；三ふっ化ほう
素，三塩化ほう素，三臭化ほう素，塩化亜鉛，塩化アル
ミニウム，四塩化チタン，塩化第二すず，五塩化りん，
五臭化りん，五酸化りん等のルイス酸等があげられる。
これらの酸は単独で用いてもよいし、二種以上混合して
用いてもよい。本開裂反応は、通常、溶媒中で行なわれ
る。この場合溶媒としての機能と同時に反応試薬として
の機能を兼ねて用いることができる。溶媒としては水，
メタノール，エタノール，プロパノール，トリメトキシ
メタン，エチルエーテル，クロロホルム，ジクロロメタ
ン，アセトン，酢酸，トリフルオロ酢酸，無水酢酸，無
水トリフルオロ酢酸、その他この反応に悪影響を及ぼさ
ない溶媒が単独または混合溶媒として使用され得る。好
ましくはメタノール溶媒中、トリメトキシメタンおよび
塩化亜鉛と反応させる方法、トリメトキシメタン溶液
中、トリフルオロ酢酸及び無水トリフルオロ酢酸と反応
させる方法等が挙げられ、この場合にはR⁴がメチル基で
ある化合物が得られる。通常、反応温度は特に限定され
ず、冷却下、室温あるいは加温下に反応が行なわれる。

反応後必要ならばアノメリック水酸基を含む水酸基の保
護基の脱離および再導入を行なってもよい。

製造工程２ 化合物〔Ｖ〕は化合物〔VI〕をハロゲン化反応に付すこ
とによって製造することができる。（化合物〔Ｖ〕のＣ
−3,C−４およびＣ−５の二級水酸基は必ずしも保護さ
れていなくてもよいが、Ｃ−１の一級水酸基およびＣ−
２のアノメリック水酸基は保護されていることが望まし
い。） 該ハロゲン化反応は糖の水酸基のハロゲン化のために慣
用の方法〔例えば、アメリカ化学会刊：化学の進歩シリ
ーズ74（advances in chemistry series74）：デオキシ
糖（Deoxy Sugars）,159−201頁（1968年）に記載され
ているハネシアン（S.Hanessian）の“ハロデオキシ糖
の合成へのアプローチ”と題する総説，およびアドバン
スズ・イン・カーボハイドレート・ケミストリー・アン
ド・バイオケミストリー（Adv.Carbohydr.Chem.Bioche
m.），第28巻,225−306頁（1973年）に記載されている
スザレク（W.A.Szarek）の“デオキシハロゲノ糖”と題
する総説等参照〕を用いて行なうことができる。

このハロゲン化反応に適したハロゲン化の方法として
は、例えばトリフェニルホスフィンのようなりんを含む
試薬とＮ−ヨードこはく酸イミド,N−ブロモこはく酸イ
ミド,N−クロロこはく酸イミド等のＮ−ハロこはく酸イ
ミド類、好ましくはＮ−ヨードこはく酸イミドを反応さ
せる方法や、水酸基をｐ−トリルスルホニル，メチルス
ルホニル，トリフルオロメタンスルホニル，イミダゾリ
ルスルホニル基等の有機スルホニル基でスルホニル化し
て活性化した後、ハロゲン化金属MX（Ｍはリチウム，ナ
トリウム，カリウム等のアルカリ金属,Xはふっ素，塩
素，臭素，よう素等のハロゲン原子を示す）、好ましく
は、よう化ナトリウムを反応させる方法等が挙げられ
る。

該ハロゲン化反応は通常、溶媒中で行なわれる。溶媒と
してはN,N−ジメチルホルムアミド，ジメチルスルホキ
シド，ピリジン，アセトン,2,4−ペンタンジオン,2−ブ
タノン，エチレングリコール，メタノール，エタノー
ル，グリセロール，ジオキサン，テトラヒドロフラン，
クロロホルム，テトラクロロエタン，四塩化炭素，ベン
ゼン等が挙げられる。その他この反応に悪影響を及ぼさ
ない溶媒が単独または混合溶媒として使用され得る。通
常、反応温度は特に限定されず、冷却下、室温あるいは
加温下に反応が行なわれる。

製造工程３ 6,7−不飽和化合物〔IV〕は７−ハロゲノ化合物〔Ｖ〕
を脱ハロゲン化水素反応に付すことにより製造すること
ができる。このハロゲン化水素の脱離反応は不飽和糖の
製造法として慣用の方法〔例えば、アメリカ化学会刊：
化学の進歩シリーズ74（advances in chemistry series
74）：デオキシ糖（Deoxy Sugars）,120−140頁（1968
年）に記載されているホーク（L.Hough）らの“不飽和
糖の合成と反応”に関する総説等参照〕を用いて行なう
ことができる。この反応は好ましくは化合物〔Ｖ〕をピ
リジン溶媒中で無水のふっ化銀と反応させることによっ
て行なわれる。

製造工程４ 化合物〔Ｉ〕は化合物〔IV〕をシクロヘキサノン環形成
反応〔フェリア（R.J.Ferrier），ジャーナル・オブ・
ザ・ケミカル・ソサエティ・パーキンＩ（J.Chem.Soc.P
erkin Ｉ）,1455−1458頁（1979）参照〕に付すことに
よって得られる。例えば、化合物〔IV〕を含水アセトン
等の含水有機溶媒中で、塩化第二水銀，酢酸第二水銀，
トリフルオロ酢酸第二水銀，硫酸第二水銀等の第二水銀
塩と処理することによって化合物〔Ｉ〕を得ることがで
きる。反応温度は通常、10℃ないし反応溶媒の還流温度
の範囲であり、反応時間は反応温度によっても異なる
が、通常２ないし10時間の範囲である。

製造工程５ 一般式〔III〕（但し、式中、Ａはアミン残基を示す、R
³および結合手は前記と同意義。）で表わされる擬似
アミノ等誘導体は化合物〔Ｉ〕と一般式〔II〕（但し、
式中、R²はアミン残基を示す。）で表わされる第一アミ
ンとを反応させて得られるシッフ塩基を還元反応に付
し、所望により脱保護基反応に付すことによって製造す
ることができる。本反応において、化合物〔Ｉ〕と上記
の第一アミン〔II〕との縮合反応によるシッフ塩基形成
反応および形成されたシッフ塩基の還元反応は、同一の
反応容器中で連続的に行うこともできる。

化合物〔Ｉ〕と上記の第一アミン〔II〕との縮合反応お
よび得られるシッフ塩基の還元反応は一般に溶媒中で行
なわれる。適当な溶媒としては、水；メタノール，ブタ
ノール等のアルコール類；アセトニトリル；ジメチルス
ルホキシド;N,N−ジメチルホルムアミド,N−メチルアセ
トアミド等のアミド類；メチルセロソルブ，ジメチルセ
ロソルブ，ジエチレングリコールジメチルエーテル等の
グライム類；ジオキサン，テトラヒドロフラン，ジエチ
ルエーテル等のエーテル類、または、これらの混合溶媒
が用いられる。また、還元するシッフ塩基の種類によっ
ては、これらの溶媒とベンゼン，トルエン等の芳香族炭
化水素類または酢酸エチル等のエステル類との混合溶媒
を用いることができる。

該シッフ塩基の形成反応における反応温度は特に限定さ
れないが、通常、室温ないし100℃程度にまで加熱して
行なわれる。反応時間は反応温度により差異があるが、
通常、数分ないし24時間程度反応させることによって目
的を達することができる。

形成されたシッフ塩基の還元反応のためには各種の水素
化金属錯体還元剤、例えば水素化ほう素ナトリウム，水
素化ほう素カリウム，水素化ほう素リチウム，水素化ト
リメトキシほう素ナトリウム等の水素化ほう素アルカリ
金属、例えば、シアノ水素化ほう素ナトリウム等のシア
ノ水素化ほう素アルカリ金属、例えば水素化アルミニウ
ムリチウム等の水素化アルミニウムアルカリ金属、例え
ばジメチルアミンボラン等のジアルキルアミンボラン等
が有利に用いられる。なお、シアノ水素化ほう素アルカ
リ金属、例えばシアノ水素化ほう素ナトリウムを用いる
場合には、酸性の条件、例えば塩酸，酢酸等の存在下に
反応を行なうことが好ましい。

この還元反応の反応温度は特に限定されないが、通常、
室温、場合によっては、特に反応の初期においては氷冷
下に、また場合によっては100℃程度にまで加熱して行
なわれ、還元するシッフ塩基および還元剤の種類によっ
て差異がある。反応時間も反応温度により、また還元す
るシッフ塩基や還元剤の種類によって差異があるが、通
常、数分ないし24時間程度反応させることによって目的
を達することができる。

形成されたシッフ塩基の還元反応として接触還元の手段
を用いることもできる。すなわち、シッフ塩基を適当な
溶媒中で接触還元用触媒の存在下に水素気流中で振盪ま
たは撹拌することにより行なわれる。接触還元用触媒と
しては、例えば白金黒，二酸化白金，パラジウム黒，パ
ラジウムカーボン，ラネーニッケル等が用いられ、通常
用いられる溶媒としては、例えば、水；メタノール，エ
タノール等のアルコール類；ジオキサン，テトラヒドロ
フラン等のエーテル類、N,N−ジメチルホルムアミドま
たは、これらの混合溶媒等が用いられる。反応は通常、
室温常圧で行なわれるが、加圧下に行ってもよく、また
加温してもよい。

一般式〔III〕においてＡが水素原子である化合物は、
例えば化合物〔Ｉ〕と一般式〔II〕においてR²が水酸基
である化合物、すなわちヒドロキシルアミンを反応さ
せ、得られたオキシムを還元反応に付すことよって製造
することができる。またヒドロキシルアミンの代わりに
Ｏ−メチルヒドロキシルアミンやＯ−ベンジルヒドロキ
シルアミン等のＯ−置換ヒドロキシルアミンを化合物
〔Ｉ〕と反応させ、得られたＯ−アルキルオキシム類や
Ｏ−アラルキルオキシム類を還元反応に付すことによっ
ても製造することができる。得られたオキシム類のヒド
ロキシイミノ基のアミノ基への還元反応はシクリトール
部分の水酸基が保護された状態で行なってもよいし、あ
るいは水酸基の保護基を離脱させた後に行なってもよ
い。

還元反応は、例えば適当な溶媒中で酸化白金等の白金触
媒，パラジウムカーボン等のパラジウム触媒，ラネーニ
ッケル等のニツケル触媒，ロジウム炭素等のロジウム触
媒等を触媒とする接触還元に付すことにによって、ま
た、適当な溶媒中で、例えば、水素化アルミニウムリチ
ウム等の水素化アルミニウム誘導体を用いて、より好ま
しくは窒素，アルゴン等の不活性ガスの雰囲気中で還元
することによって行うことができる。また、一般式〔II
I〕においてＡが水素原子である化合物は、化合物〔II
I〕のうち、そのＡ部分が、例えばベンジル基,p−メト
キシベンジル基,3,4−ジメトキシベンジル基，ジ（ｐ−
メトキシフェニル）メチル基のような一般にアミノ基の
保護基としても用いられる基が置換分である化合物を化
合物〔Ｉ〕より合成した後、例えば接触還元による水素
化分解反応、液体アンモニア中金属ナトリウムとの反
応、酸（例えば濃硫酸−無水トリフルオロ酢酸，酢酸，
トリフルオロ酢酸，ぎ酸等）との反応等の一般にアミノ
基の保護基の脱離反応として用いられる反応に付すこと
によっても製造することができる。

化合物〔III〕が保護されている水酸基を有している場
合、水酸基の保護基の脱離反応はそれ自体公知の方法を
用いて行なうことができる。例えば、シクロヘキシリデ
ン基，イソプロピリデン基，ベンジリデン基などのアセ
タール型保護基やトリチル基などは塩酸，酢酸，スルホ
ン酸型樹脂などの酸で加水分解することによって、例え
ばアセチル基，ベンゾイル基などのアシル型保護基はア
ンモニア，水酸化ナトリウム，水酸化バリウム，ナトリ
ウムメトキシドなどのアルカリで加水分解することによ
って、また、ベンジル基,p−メトキシベンジル基などの
ベンジルエーテル型保護基は接触還元反応，接触・トラ
ンスファー・水素化（catalytic transfer hydrogenati
on）反応などの水素化分解反応あるいは液体アンモニア
中での金属ナトリウムによる還元分解反応等に付すこと
によって脱離することができる。

このようにして得られる化合物〔Ｉ〕，〔III〕および
それらの合成中間体などは自体公知の手段、例えば、ろ
過，遠心分離，濃縮，減圧濃縮，乾燥，凍結乾燥，吸
着，脱着，各種溶媒に対する溶解度の差を利用する方法
（例えば、溶媒抽出，転溶，沈殿，結晶化，再結晶化な
ど），クロマトグラフィー（例えば、イオン交換樹脂，
活性炭，ハイポーラスポリマー，セファデックス，セフ
ァデックスイオン交換体，セルローズ，イオン交換セル
ローズ，シリカゲル，アルミナなどを用いるクロマトグ
ラフィー）などにより単離、精製できる。

本発明に含まれる化合物〔III〕の塩としては、薬学的
に許容できる化合物〔III〕との塩が用いられる。この
ような塩としては、例えば塩酸，臭化水酸基，硫酸，り
ん酸，硝酸などの無機酸、例えば酢酸，りんご酸，くえ
ん酸，アスコルビン酸，マンデル酸，メタンスルホン酸
などの有機酸等との塩が用いられる。

なお、化合物〔III〕のうちR³が水素原子で、結合手
がＳ配位である化合物、すなわち 一般式 （式中、Ａは水素原子またはアミン残基を示す。）で表
わされるバリオールアミンおよびそのＮ−置換誘導体お
よびそれらの塩は毒性もほとんどなく（ラットLD₅₀500m
g/kg以上）、α−グルコシダーゼ阻害作用を有し、人間
および人間以外の動物の炭水化物の代謝を抑制するため
に、例えば血糖上昇抑制作用を有しており、過血糖症状
および過血糖に起因する種々の疾患、例えば糖尿病，前
糖尿病，肥満症，脂肪過多症，過脂肪血症（動脈硬化
症）および口腔微生物による糖代謝に帰因する疾病（例
えば、虫歯等）の治療および予防に有用な化合物であ
る。

発明の効果 化合物〔Ｉ〕は種々のＮ−置換バリオールアミン誘導体
やその他のバリオールアミン関連化合物の製造のための
中間原料化合物としてバリオールアミンに匹敵する有用
な化合物である。例えば、Ｎ−置換バリオールアミン誘
導体の合成において、Ｎ−置換基部分を構築する原料化
合物がアミノ化合物として入手しやすい場合には化合物
〔Ｉ〕を中間原料として用いる法がバリオールアミンを
中間原料として用いるよりも容易に目的物を合成するこ
とが可能である。

更に、化合物〔Ｉ〕の製造のための出発原料として用い
られるセドヘプチュロースは前記したようにある種の細
菌や放線菌等の培養液中に多量に蓄積されることが知ら
れており、発酵生産によって安価に製造することが可能
である。また、セドヘプチュローサンや2,7−アンヒド
ロ−β−イド−ヘプチュロピラノース（Ｄ−イドヘプチ
ュローサン）はセドヘプチュロースを原料として安価に
製造することが可能であるので、本発明の方法はＮ−置
換バリオールアミン誘導体の製造法として有用な方法で
ある。

その他、化合物［Ｉ］は、そのカルボニル基を水酸基へ
の還元反応に付し、所望により脱保護基反応に付すこと
によって、（１Ｓ）−（１（OH）,2,4,5/1,3）−１−Ｃ
−（ヒドロキシメチル）−1,2,3,4,5−シクロヘキサン
ペントール，（１Ｓ）−（１（OH）2,4/1,3,5）−１−
Ｃ−（ヒドロキシメチル）−1,2,3,4,5−シクロヘキサ
ンペントール，およびそれらのＯ−置換誘導体を合成す
るための原料としても有用な化合物である。これらのペ
ントール誘導体もまた化合物［III］およびその類縁化
合物の合成のための原料として用いることができる。

以下に、参考例および実施例を挙げて本発明を更に具体
的に説明するが本発明の範囲はこれに限定されるもので
はない。

参考例１ 4,5−Ｏ−イソプロピリデンセドヘプチュローサン セドヘプチュローサン（2,7−アンヒドロ−β−Ｄ−ア
ルトロ−２−ヘプチュロピラノース,25g）の結晶を粉末
化し、アセトン（320ml）に懸濁させ、濃硫酸（2.5ml）
を加え室温で18時間撹拌した。生じた結晶をろ取し、ア
セトンで洗浄して4,5−Ｏ−イソプロピリデンセドヘプ
チュローサン（28g）を得た。

元素分析:C₁₀H₁₆O₆ 計算値（％）:C,51.75;H,6.94 実験値（％）:C:51.58;H,6.97 参考例２ 1,3−ジ−Ｏ−ベンゾイル−4,5−Ｏ−イソプロピリデン
セドヘプチュローサン 4,5−Ｏ−イソプロピリデンセドヘプチュローサン（5.0
g）をN,N−ジメチルホルムアミド（DMF）（85ml）とピ
リジン（5ml）の混合溶媒に懸濁し、冷却下（約−30
℃）に塩化ベンゾイル（9ml）を滴下し、更に−５〜−1
0℃で2.5時間撹拌した。反応液を氷水（約200ml）中に
加え、生じた油状物を酢酸エチルで抽出した。酢酸エチ
ル抽出液を2N塩酸と飽和炭酸水素ナトリウム溶液で洗浄
し、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧下に溶媒を留去
した。残留物をシリカゲルのカラムクロマト（500ml）
に付し、トルエン−酢酸エチル（10:1v/v）で溶出し
た。溶出画分を減圧濃度乾固し、残留物を更に減圧下に
一夜乾燥して1,3−ジ−Ｏ−ベンゾイル−4,5−Ｏ−イソ
プロピリデンセドヘプチュローサンの白色粉末（8.8g）
を得た。

参考例３ 1,3−ジ−Ｏ−ベンゾイルセドヘプチュローサン 1,3−ジ−Ｏ−ベンゾイル−4,5−Ｏ−イソプロピリデン
セドヘプチュローサン（8.8g）を80％（v/v）酢酸（90m
l）に溶解し、70〜75℃で２時間撹拌した。反応液に水
（170ml）を加えて減圧濃縮した。残留物を酢酸エチル
に溶解し、飽和炭酸水素ナトリウム溶液で洗浄し、酢酸
エチル溶液を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧下に溶
媒を留去した。残留物にエチルエーテル−石油エーテル
（3:1v/v）（280ml）を加えて冷蔵庫中に一夜放置して
1,3−ジ−Ｏ−ベンゾイルセドヘプチュローサンの結晶
（7.3g）を得た。

参考例４ 1,3,4−トリ−Ｏ−ベンゾイルセドヘプチュローサン 1,3−ジ−Ｏ−ベンゾイルセドヘプチュローサン（14.1
g）のジクロロメタン（140ml）溶液にピリジン（4.7m
l）を加え、冷却下（−40℃以下）に塩化ベンゾイル
（5.64g）のジクロロメタン溶液（50ml）を滴下し、冷
却下（−40〜−30℃）に2.5時間撹拌した。反応液を氷
水中に加え、30分間撹拌後、ジクロロメタン層を分離
し、更に水層をジクロロメタンで抽出した。ジクロロメ
タン抽出液を2N塩酸と飽和炭酸水素ナトリウム溶液で洗
浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧下に溶媒を留
去した。残留物にエチルエーテル−石油エーテル（1:10
v/v）（１）を加えて冷蔵庫中に一夜放置すると1,3,4
−トリ−Ｏ−ベンゾイルセドヘプチュローサンの結晶
（17.5g）が得られた。

NMR（CDCl₃）δ:2.51（1H,d,J＝6Hz,−OH）,3.9〜4.25
（2H,m,7−CH₂）,4.25〜4.5〔1H,m,5−CH;D₂Oを加える
とδ4.38（dd,J＝3Hz,5Hz）に変化する〕,4.58（2H,s,1
−CH₂）,4.7〜4.9（1H,m,6−CH）,5.46（1H,dd,J＝3Hz,
9Hz,4−CH）,5.94（1H,d,J＝9Hz,3−CH）,7.1〜7.7（9
H,m）および7.8〜8.2（6H,m）（C₆H₅×３）． 元素分析:C₂₈H₂₄O₉ 計算値（％）:C,66.66;H,4.80 実験値（％）:C,67,04;H,4.74 参考例５ 1,3,4−トリ−Ｏ−ベンゾイル−５−Ｏ（イミダゾリル
スルホニル）セドヘプチュローサン 1,3,4−トリ−Ｏ−ベンゾイルセドヘプチュローサン
（9.48g）をDMF（100ml）に溶解し、−40℃以下に冷却
下に塩化スルフリル（3.2ml）を加えた後、約−40℃で2
0分間撹拌した。反応液を再び−40℃以下に冷却下にイ
ミダゾール（13.6g）を加えた後、冷却浴を除き、室温
で1.5時間撹拌した。反応液を氷水（300ml）中に加え、
生じた油状物を酢酸エチルで抽出した。酢酸エチル抽出
液を2N塩酸と飽和炭酸水素ナトリウム溶液で洗浄し、無
水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧下に溶媒を留去した。
残留物をシリカゲルのカラムクロマト（600ml）に付
し、トルエン−酢酸エチル（3:2v/v）で溶出した。溶出
画分を減圧濃縮し、残留物に石油エーテル（約100ml）
を加え冷蔵庫中に一夜放置して1,3,4−トリ−Ｏ−ベン
ゾイル−５−Ｏ−（イミダゾリルスルホニル）セドヘプ
チュローサンの白色粉末（9.5g）を得た。

NMR（CDCl₃）δ:4.04（1H,dd,J＝5Hz,J＝8Hz,7−CH）,
4.08（1H,d,J＝8Hz,7−CH）,4.59（2H,s,1−CH₂）,4.75
〜4.90（1H,m,6−CH）,5.27（1H,dd,J＝2.5Hz,4Hz,5−C
H）,5.49（1H,dd,J＝4Hz,9.5Hz,4−CH）,5.92（1H,d,J
＝9.5Hz,3−CH）,6.78,7.15および7.18（各1H,s,イミダ
ゾール）,7.2〜7.7（9H,m）および7.8〜8.2（6H,m）（C
₆H₅×３）． 元素分析:C₃₁H₂₆N₂O₁₁S 計算値（％）:C,58.67;H,4.13;N,4.41 実験値（％）;C,58.71;H,4.10;N,4.43 参考例６ 2,7−アンヒドロ−1,3,4,5−テトラ−Ｏ−ベンゾイル−
β−Ｄ−イド−２−ヘプチュロピラノース 1,3,4−トリ−Ｏ−ベンゾイル−５−Ｏ−（イミダゾリ
ルスルホニル）セドヘプチュローサン（9.5g）をトルエ
ン（140ml）に溶解し、安息香酸テトラ−ｎ−ブチルア
ンモニウム（11g）を加え、100℃で３時間撹拌した。減
圧下に反応液の溶媒を留去後、残留物を酢酸エチルと水
に分配し、水層を更に酢酸エチルで抽出した。酢酸エチ
ル層を集め2N塩酸と飽和炭酸水素ナトリウム溶液で洗浄
し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後溶媒を留去した。残留
物をシリカゲルカラムクロマト（１）に付し、トルエ
ン−酢酸エチル（19:1v/v）で溶出した。溶出画分を減
圧下に濃縮乾固して2,7−アンヒドロ−1,3,4,5−テトラ
−Ｏ−ベンゾイル−β−Ｄ−イド−２−ヘプチュロピラ
ノースの白色粉末（6.8g）を得た。

NMR（CDCl₃）δ:4.02（1H,dd,J＝4.5Hz,8Hz,7−CH）,4.
05（1H,d,J＝8Hz,7−CH）,4.60（2H,s,1−CH₂）,5.10
（1H,t,J＝4.5Hz,6−CH）,5.54（1H,dd,J＝4.5Hz,8.5H
z,5−CH）,5.80（1H,d,J＝8.5Hz,3−CH）,6.80（1H,t,J
＝8.5Hz,4−CH）,7.2〜7.7（12H,m）および7.8〜8.2（8
H,m）（C₆H₅×４）． 元素分析:C₃₅H₂₈O₁₀ 計算値（％）:C,69.07;H,4.64 実験値（％）;C,69.34;H,4.67 参考例７ メチル 1,3,4,5−テトラ−Ｏ−ベンゾイル−Ｄ−イド
−２−ヘプチュロピラノシド 2,7−アンヒドロ−1,3,4,5−テトラ−Ｏ−ベンゾイル−
β−Ｄ−イド−２−ヘプチュロピラノース（3.0g）をメ
タノール（30ml）をオルトぎ酸メチル（15ml）の混合液
に溶解し、塩化亜鉛（3.0g）を加えて室温で40時間撹拌
した。反応液を減圧濃縮し、残留物を酢酸エチルと水に
分配した。酢酸エチル層を2N塩酸と飽和炭酸水素ナトリ
ウム溶液で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後減圧下
に溶媒を留去した。残留物をシリカゲルのカラムクロマ
ト（200ml）に付し、トルエン−酢酸エチル（5:1v/v）
で溶出した。溶出画分を減圧下に濃縮乾固してメチル
1,3,4,5−テトラ−Ｏ−ベンゾイル−Ｄ−イド−２−ヘ
プチュロピラノシドの白色粉末（1.05g）を得た。

NMR（CDCl₃）δ:2.36（1H,ブロードs,−OH）,3.69（3H,
s,−OCH₃）,3.97（1H,dd,J＝6.5Hz,9.5Hz,7−CH）,4.21
（1H,dd,J＝7Hz,9.5Hz,7−CH）,4.56（2H,s,1−CH₂）,
4.60〜4.75（1H,m,6−CH）,5.31（1H,dd,J＝5Hz,8.5Hz,
5−CH）,5.82（1H,d,J＝8.5Hz,3−CH）,5.96（1H,t,J＝
8.5Hz,4−CH）,7.15〜7.7（12H,m）および7.8〜8.2（8
H,m）（C₆H₅×４）。

元素分析:C₃₆H₃₂O₁₁ 計算値（％）:C,67.49;H,5.03 実験値（％）:C,66.98;H,4.74 参考例８ メチル 1,3,4,5−テトラ−Ｏ−ベンゾイル−７−デオ
キシ−７−ヨード−Ｄ−イド−２−ヘプチュロピラノシ
ド メチル 1,3,4,5−テトラ−Ｏ−ベンゾイル−Ｄ−イド
−２−ヘプチュロピラノシド（950mg）をDMF（16ml）に
溶解し、トリフェニルホスフィン（1.65g）とＮ−ヨー
ドこはく酸イミド（1.2g）を加えて室温で一夜撹拌し
た。反応液を氷水（100ml）に加え、生じた油状物を酢
酸エチルで抽出した。酢酸エチル抽出液を飽和チオ硫酸
ナトリウム溶液、2N塩酸および飽和炭酸水素ナトリウム
溶液で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後減圧下に溶
媒を留去した。残留物をシリカゲルのカラムクロマト
（200ml）に付し、トルエン−酢酸エチル（10:1v/v）で
溶出した。溶出画分を減圧下に濃縮乾固してメチル1,3,
4,5−テトラ−Ｏ−ベンゾイル−７−デオキシ−７−ヨ
ード−Ｄ−イド−２−ヘプチュロピラノシドの白色粉末
（780mg）を得た。

参考例９ メチル 1,3,4,5−テトラ−Ｏ−ベンゾイル−７−デオ
キシ−Ｌ−キシロ−２−ヘプト−６−エノウロピラノシ
ド〔すなわち、メチル 1,3,4,5−テトラ−Ｏ−ベンゾ
イル−７−デオキシ−Ｄ−イド−２−ヘプト−６−エノ
ウロピラノシド〕 メチル 1,3,4,5−テトラ−Ｏ−ベンゾイル−７−デオ
キシ−７−ヨード−Ｄ−イド−２−ヘプチュロピラノシ
ド（500mg）をピリジン（5ml）に溶解し、ふっ化銀（1.
0g）を加えて室温で18時間撹拌した。反応液にエチルエ
ーテル（100ml）を加えて不溶物をろ過し、エチルエー
テルで洗浄した。ろ液と洗液を集めて減圧濃縮し、残留
物を酢酸エチルに溶解し、2N塩酸と飽和炭酸水素ナトリ
ウムで洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧下に
溶媒を留去した。残留物をシリカゲルのカラムクロマト
（100ml）に付し、トルエン−酢酸エチル（9:1v/v）で
溶出した。溶出画分を減圧下に濃縮乾固してメチル 1,
3,4,5−テトラ−Ｏ−ベンゾイル−７−デオキシ−Ｌ−
キシロ−２−ヘプト−６−エノウロピラノシドの白色粉
末（249mg）を得た。

NMR（CDCl₃）δ:3.68（3H,s,−OCH₃）,4,45（2H,ブロー
ドs,1−CH₂）,5.32（1H,d,J＝9Hz,5−CHまたは３−C
H）,5.64（1H,d,J＝9Hz,3−CHまたは５−CH）,5.81（1
H,t,J＝9Hz,4−CH）,5.91および6.03（各1H,s,7−C
H₂）,7.2〜7.7（12H,m）および7.8〜8.2（8H,m）（C₆H₅
×４）。

元素分析:C₃₆H₃₀O₁₀ 計算値（％）:C,69.56;H,4.86 実験値（％）;C,70.03;H,5.09 参考例10 （１Ｓ）−（１（OH）,2,4,5/1,3）−１−Ｃ−（ヒドロ
キシメチル）−1,2,3,4,5−シクロヘキサンペントール
および（１Ｓ）−（１（OH）,2,4/1,3,5）−１−Ｃ−
（ヒドロキシメチル）−1,2,3,4,5−シクロヘキサンペ
ントール 2D−2,4,5（OH）/3,5）−2,3,4−トリ−Ｏ−ベンゾイル
−５−（ベンゾイルオキシメチル）−2,3,4,5−テトラ
ヒドロキシシクロヘキサノン（1.0g）をメタノール−テ
トラヒドロフラン（1:1,30ml）に溶解し、氷水で冷却下
に水素化ほう素ナトリウム（250mg）を加え、同温度で
２時間攪拌した。反応液を減圧濃縮後、残留物を酢酸エ
チルと水に分配した。酢酸エチル層を2N塩酸と飽和炭酸
水素ナトリウム溶液で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾
燥後、減圧濃縮した。残留物をメタノール−アセトン−
2N水酸化ナトリウム（2:6:3,220ml）に溶解し、室温で
一夜攪拌した。反応液を減圧濃縮し、残留物に水（約50
ml）を加え濾過した。濾液をダウエックス50W×８（H⁺
型,250ml）のカラムクロマトに付し、水で溶出し、溶出
画分を減圧濃縮した。残留物をダウエックス１×２（OH
^-型,400ml）のカラムクロマトに付し、水で溶出した。
先に溶出された画分（570〜760ml）と後に溶出された画
分（765〜1050ml）に分離した。後に溶出された画分を
減圧濃縮し、残留物を再びダウエックス１×２（OH^-型,
600ml）のカラムクロマトに付し、水で溶出し、先に溶
出された画分（0.75〜1.03）と後に溶出された画分
（1.1〜1.4）に分離した。後に溶出された画分を減圧
濃縮後、凍結乾燥して（１Ｓ）−（１（OH）,2,4,5/1,
3）−１−Ｃ−（ヒドロキシメチル）−1,2,3,4,5−シク
ロヘキサンペントールの白色粉末（49mg）を得た。１回
目と２回目のダウエックス１×２のカラムクロマトで先
に溶出された画分を集め、減圧濃縮後、凍結乾燥して
（１Ｓ）−（１（OH）,2,4/1,3,5）−１−Ｃ−（ヒドロ
キシメチル）−1,2,3,4,5−シクロヘキサンペントール
の白色粉末（68mg）を得た。

（１Ｓ）−（１（OH）,2,4/1,3,5）−１−Ｃ−（ヒドロ
キシメチル）−1,2,3,4,5−シクロヘキサンペントール
（先に溶出された異性体）： NMR（D₂O）δ:1.63（1H,dd,J＝12Hz,14Hz）,2.14（1H,d
d,J＝5Hz,14Hz）,3.25〜4.1（6H,m）． （１Ｓ）−（１（OH）,2,4,5/1,3）−１−Ｃ−（ヒドロ
キシメチル）−1,2,3,4,5−シクロヘキサンペントール
（後に溶出された異性体）： NMR（D₂O）δ:1.79（1H,dd,J＝3Hz,15.5Hz）,2.12（1H,
dd,J＝4Hz,15.5Hz）,3.4〜4.45（6H,m）． 実施例１ 2D−（2,4,5（OH）/3,5）−2,3,4−トリ−Ｏ−ベンゾイ
ル−５−（ベンゾイルオキシメチル）−2,3,4,5−テト
ラヒドロキシシクロヘキサノン メチル 1,3,4,5−テトラ−Ｏ−ベンゾイル−７−デオ
キシ−Ｌ−キシロ−２−ヘプト−６−エノウロピラノシ
ド［すなわち、1,3,4,5−テトラ−Ｏ−ベーベンゾイル
−７−デオキシ−Ｄ−イド−２−ヘプト−６−エノウロ
ピラノシド］（620mg）を80％（v/v）アセトン水（40m
l）に溶解し、塩化第二水銀（275mg）を加えて室温で８
時間撹拌した。反応液を約20mlに減圧濃縮し、濃縮液に
酢酸エチル（100ml）と水（100ml）を加え、撹拌後、酢
酸エチル層を分離し、2N塩酸と飽和炭酸水素ナトリウム
溶液で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧下に
溶媒を留去した。残留物をシリカゲルのカラムクロマト
（60ml）に付し、トルエン−酢酸エチル（5:1v/v）で溶
出した。溶出画分を減圧下に濃縮乾固して2D−（2,4,5
（OH）/3,5）−2,3,4−トリ−Ｏ−ベンゾイル−５−
（ベンゾイルオキシメチル）−2,3,4,5−テトラヒドロ
キシシクロヘキサノンの白色粉末（248mg）を得た。

薄層クロマトグラフィー（TLC;シリカゲル60F−254,メ
ルク社製）：トルエン−酢酸エチル（2:1v/v）,Rf0.52;
トルエン−アセトン（9:1v/v）,Rf0.31;n−ヘキサン−
酢酸エチル（3:2v/v）,Rf0.38; 溶解性：メタノール，酢酸エチル，トルエン，アセト
ン，クロロホルムに可溶、水，石油エーテルに不溶； ▲〔α〕²² _D▼−28.2゜（ｃ＝1,CHCl₃）； NMR（CDCl₃）δ:2.38（1H,ブロードs,−OH）,2.88およ
び3.04（各1H,ABq,J＝14.5Hz,6−CH₂）,4.81（2H,s,−C
H₂O−）,5.43（1H,d,J＝10Hz,4−CH）,5.81（1H,t,J＝1
0Hz,3−CH）,6.11（1H,d,J＝10Hz,2−CH）,7.2〜7.7（2
H,m）および7.8〜8.3（8H,m）（C₆H₅×４）． 元素分析:C₃₅H₂₈O₁₀ 計算値（％）:C,69.07;H,4.64 実験値（％）;C,68.74 H,5.03 実施例２ （１Ｓ）−（１（OH）,2,4,5/1,3）−５−〔〔２−ヒド
ロキシ−１−（ヒドロキシメチル）エチル〕アミノ〕−
１−Ｃ−（ヒドロキシメチル）−1,2,3,4−シクロヘキ
サンテトロール 2D−（2,4,5（OH）/3,5）−2,3,4−トリ−Ｏ−ベンゾイ
ル−５−（ベンゾイルオキシメチル）−2,3,4,5−テト
ラヒドロキシシクロヘキサノン（410mg）と２−アミノ
−1,3−プロパンジオール（280mg）を酢酸−エタノール
（1:9v/v,15ml）に溶解し、室温で30分間撹拌後、シア
ノ水素化ほう素ナトリウム（300mg）を加えて室温で一
夜撹拌した。反応液を減圧下に濃縮乾固し、残留物をメ
タノール−アセトン−1N水酸化ナトリウム（1:1:2v/v,1
00ml）に溶解し、室温で5.5時間撹拌後、減圧下に有機
溶媒を留去した。濃縮液を2N塩酸でpH1に調節し、酢酸
エチルで洗浄後、ダウエックス50W×８（H⁺型,100ml）
を加えて30分間室温で撹拌した。この反応混合物をダウ
エックス50W×８（H⁺型,50ml）を充填したカラムの上に
加え、カラムを水洗後、0.5Nアンモニア水で溶出した。
溶出画分を減圧濃縮し、残留物をアンバ−ライトCG−50
（NH₄ ⁺型,250ml）のカラムクロマトに付し、水で溶出し
た。溶出画分を減圧濃縮し、残留物にエタノールを加え
て15分間過熱還流した後、減圧濃縮した。濃縮液（約2m
l）を一夜室温に放置すると（１Ｓ）−（１（OH）,2,4,
5/1,3）−５−〔〔２−ヒドロキシ−１−（ヒドロキシ
メチル）エチル〕アミノ〕−１−Ｃ−（ヒドロキシメチ
ル）−1,2,3,4−シクロヘキサンテトロールの白色粉末
が得られた。

▲〔α〕²⁴ _D▼＋26.9゜（Ｃ＝1,H₂O）； NMR（D₂O）δ:1.54（1H,dd,J＝3Hz,15Hz,6−CHax）,2.1
0（1H,dd,J＝3Hz,15Hz,6−CHeq）,2.90（1H,quint.,J＝
5Hz,−Ｎ−CH）,3.35〜4.0（10H,m）． 実施例３ （１Ｓ）−（１（OH）,2,4,5/1,3）−５−〔（２−ヒド
ロキシエチル）アミノ〕−１−Ｃ−（ヒドロキシメチ
ル）−1,2,3,4−シクロヘキサンテトロールおよび（１
Ｓ）−（１（OH）,2,4/1,3,5）−５−〔（２−ヒドロキ
シエチル）アミノ〕−１−Ｃ−（ヒドロキシメチル）−
1,2,3,4−シクロヘキサンテトロール 2D−（2,4,5（OH）/3,5）−2,3,4−トリ−Ｏ−ベンゾイ
ル−５−（ベンゾイルオキシメチル）−2,3,4,5−テト
ラヒドロキシシクロヘキサノン（880mg）とエタノール
アミン（1.0ml）をメタノール（50ml）に溶解し、シア
ノ水素化ほう素ナトリウム（1.0g）を加えて室温で一夜
撹拌した。反応液を減圧下に濃縮し、残留物を水（50m
l）と酢酸エチル（50ml）に分配させた。酢酸エチル層
を分取し、水層を更に酢酸エチルで抽出した。酢酸エチ
ル層を合わせて、飽和塩化ナトリウム溶液で洗浄し、無
水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧濃縮した。残留物をメ
タノール（130ml）に溶解し、1N水酸化ナトリウム（70m
l）を加えて室温で一夜撹拌した。反応液を2N塩酸でpH4
に調節後、減圧濃縮した。残留物を水（50ml）と酢酸エ
チル（50ml）に分配し、水層を分取し、更に酢酸エチル
で洗浄後、ダウエックス50W×８（H⁺型,400ml）のカラ
ムに吸着させ、カラムを水洗後、0.5Nアンモニア水で溶
出した。溶出画分を減圧濃縮し、アンバーライトCG−50
（NH₄ ⁺型,250ml）のカラムに吸着させ、カラムを水洗
後、0.1Nアンモニア水で溶出した。溶出画分を減圧下に
濃縮乾固し、残留物をダウエックス１×２（OH^-型,400m
l）のカラムクロマトに付し、水で溶出した。先に溶出
される画分（360〜480ml）を減圧濃縮後、凍結乾燥する
と（１Ｓ）−（１（OH）,2,4/1,3,5）−５−〔（２−ヒ
ドロキシエチル）アミノ）−１−Ｃ−（ヒドロキシメチ
ル）−1,2,3,4−シクロヘキサンテトロール（59mg）
が、後に溶出される画分（520〜680ml）を減圧濃縮後、
凍結乾燥すると（１Ｓ）−（１（OH）,2,4,5/1,3）−５
−〔（２−ヒドロキシエチル）アミノ）−１−Ｃ−（ヒ
ドロキシメチル）−1,2,3,4−シクロヘキサンテトロー
ル（228mg）が得られた。

（１Ｓ）−（１（OH）,2,4/1,3,5）−５−〔（２−ヒド
ロキシエチル）アミノ）−１−Ｃ−（ヒドロキシメチ
ル）−1,2,3,4−シクロヘキサンテトロール（先に溶出
された異性体）： NMR（D₂O）δ:1.16（1H,t,J＝12Hz,6−CHax）,2.50（1
H,dd,J＝4Hz,12Hz,6−CHeq）,2.50〜3.05（3H,m,5−CH,
N−CH₂）,3.25〜3.95（7H,m）． （１Ｓ）−（１（OH）,2,4,5/1,3）−５−〔（２−ヒド
ロキシエチル）アミノ）−１−Ｃ−（ヒドロキシメチ
ル）−1,2,3,4−シクロヘキサンテトロール（後に溶出
された異性体）： NMR（D₂O）δ:1.52（1H,dd,J＝3Hz,15Hz,6−CHax）,2.1
4（1H,dd,J＝3.5Hz,15Hz,6−CHeq）,2.25〜3.15（2H,m,
N−CH₂）,3.25（1H,q,J＝3Hz,5−CH）,3.35〜4.0（7H,
m）． 元素分析:C₉H₁₉NO₆ 計算値（％）:C,45.56;H,8.07;N,5.90 実験値（％）;C,45.59;H,8.03;N,5.99 実施例４ （１Ｓ）−（１（OH）,2,4,5/1,3）−５−〔〔（Ｒ）−
α−（ヒドロキシメチル）ベンジル〕アミノ〕−１−Ｃ
−（ヒドロキシメチル）−1,2,3,4−シクロヘキサンテ
トロール 2D−（2,4,5（OH）/3,5）−2,3,4−トリ−Ｏ−ベンゾイ
ル−５−（ベンゾイルオキシメチル）−2,3,4,5−テト
ラヒドロキシシクロヘキサノン（860mg）とＤ−フェニ
ルグリシノ−ル・酢酸塩（950mg）をDMF（45ml）に溶解
し、シアノ水素化ほう素ナトリウム（650mg）を加えて5
5℃で12時間撹拌した。反応液を減圧濃縮し、残留物を
酢酸エチル（100ml）と水（50ml）に分配した。酢酸エ
チル層を２％酢酸（v/v）および飽和炭酸水素ナトリウ
ム溶液で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後減圧濃縮
した。残留物をメタノール−アセトン（5:3v/v,80ml）
に溶解し、1N水酸化ナトリウム（20ml）を加えて室温で
3.5時間撹拌した。反応液を2N塩酸でpH3に調節後、減圧
濃縮した。残留物を水（100ml）と酢酸エチル（50ml）
に分配し、水層を分離し、酢酸エチルで洗浄後、ダウエ
ックス50W×８（H⁺型,150ml）のカラムクロマトに付
し、水洗後、0.5Nアンモニア水で溶出した。溶出画分を
減圧濃縮後、アンバ−ライトCG−50（NH₄ ⁺型,180ml）の
カラムクロマトに付し、水で溶出した。溶出画分を減圧
濃縮し、冷蔵庫中に放置するとＮ−〔（Ｒ）−α−（ヒ
ドロキシメチル）ベンジル〕バリオールアミンの白色結
晶（150mg）が得られた。融点 157−158℃； ▲〔α〕²⁴ _D▼−10.6゜（ｃ＝1,H₂O）， −6.5゜（ｃ＝1,0.1NHCl）； NMR（D₂O）δ:1.43（1H,dd,J＝3.5Hz,15Hz,6−CHax）,
1.73（1H,dd,J＝3.5Hz,15Hz,6−CHeq）,3.25−3.7（4H,
m）,3.7−4.0（5H,m）,7.58（5H,s,Ph）． 実施例５ （１Ｓ）−（１（OH）,2,4,5/1,3）−５−アミノ−１−
Ｃ−（ヒドロキシメチル）−1,2,3,4−シクロヘキサン
テトロール（バリオールアミン） ａ） 2D−（2,4,5（OH）/3,5）−2,3,4−トリ−Ｏ−ベ
ンゾイル−５−（ベンゾイルオキシメチル）−2,3,4,5
−テトラヒドロキシシクロヘキサノン（1.0g）のメタノ
ール溶液（200ml）に塩酸ヒドロキシルアミン（400mg）
およびピリジン（2ml）を加え、室温で一夜撹拌した。
反応液を減圧濃縮し、残留物に酢酸エチル（100ml）お
よび水（20ml）を加えて分配し、酢酸エチル層を分取し
た。酢酸エチル層を2N塩酸、飽和炭酸水素ナトリウム溶
液および水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥濃縮乾
固した。残留物をシリカゲル（約100ml）のカラムクロ
マトに付し、トルエン−酢酸エチル（10:1v/v）で洗浄
後、トルエン−酢酸エチル（5:1v/v）で溶出した。溶出
画分を減圧濃縮乾固して2D−（2,4,5（OH）/3,5）−2,
3,4−トリ−Ｏ−ベンゾイル−５−（ベンゾイルオキシ
メチル）−2,3,4,5−テトラヒドロキシシクロヘキサノ
ン オキシムの白色粉末（410mg）を得た。

ｂ） 上記のシクロヘキサノン オキシム（410mg）を
メタノール（20ml）に溶解し、濃アンモニア水（4ml）
を加え、室温で一夜撹拌した。反応液に水を加えて減圧
濃縮乾固し、更に水を加えて減圧濃縮した。濃縮液（約
50ml）に酢酸（2ml）を加え、酢酸エチルで洗浄し、水
層を減圧濃縮して有機溶媒を留去した後、再び水を加え
て約50mlとした。この水溶液に二酸化白金（200mg）を
加え、水素気流中、室温で４時間撹拌した。触媒をろ
去、水洗し、ろ液および洗液を減圧濃縮乾固した。残留
物をアンバ−ライトCG−50（NH₄ ⁺型,180ml）のカラムク
ロマトに付し、水（300ml）で洗浄後、0.05Nアンモニア
水で溶出した。溶出画分（1330〜1880ml）を減圧濃縮
後、凍結乾燥してバリオールアミンの白色粉末（69mg）
を得た。

実施例６ （１Ｓ）−（１（OH）,2,4,5/1,3）−2,3,4−トリ−Ｏ
−ベンジル−５−［［２−ヒドロキシ−１−（ヒドロキ
シメチル）エチル］アミノ］−１−Ｃ−（ベンジルオキ
シメチル）−1,2,3,4−シクロヘキサンテトロール （１Ｓ）−（１（OH）,2,4/1,3）−2,3,4−トリ−Ｏ−
ベンジル−１−Ｃ−（ベンジルオキシメチル）−５−オ
キソ−1,2,3,4−シクロヘキサンテトロール［本化合物
は白色結晶で、融点 84〜85℃； ▲［α］²² _D▼＋45.1゜（ｃ＝1,CHCl₃）； IR（KBr）:3440,1735cm^-1; NMR（CDCl₃）δ2.45（1H,d,J＝15Hz）,2.82（1H,d,J＝1
5Hz）,3.15（1H,d,J＝9Hz）,3.53（1H,d,J＝9Hz）,3.95
〜4.15（3H,m）,4.40〜5.05（8H,m）,7.05〜7.55（20H,
m）； 元素分析:C₃₅H₃₆O₆ 計算値（％）:C,76.06;H,6.57 実験値（％）:C,76.11;H,6.47 の物性を示す。］（600mg）と２−アミノ−1,3−プロパ
ンジオール（230mg）をメタノール（40ml）に溶解し、
室温で24時間攪拌後、氷水で冷却下に水素化ほう素ナト
リウム（1.0g）を加え、氷水で冷却下に16時間攪拌し
た。反応液を減圧濃縮し、残留物を酢酸エチル（140m
l）と水（50ml）に分配した。酢酸エチル層を分離し、
水洗し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧濃縮した。
残留物をシリカゲルのカラムクロマト（60ml）に付し、
酢酸エチルで溶出した。溶出画分を減圧濃縮し、更に減
圧下に乾燥して（１Ｓ）−（１（OH）,2,4,5/1,3）−2,
3,4−トリ−Ｏ−ベンジル−５−［［２−ヒドロキシ−
１−（ヒドロキシメチル）エチル］アミノ］−１−Ｃ−
（ベンジルオキシメチル）−1,2,3,4−シクロヘキサン
テトロールの白色粉末（380mg）を得た。

▲［α］²² _D▼＋30.0゜（ｃ＝1,CHCl₃）． 元素分析:C₃₈H₄₅NO₇ 計算値（％）:C,72.70;H,7.23;N,2.23 実験値（％）;C,72.43;H,7.27;N,2.31 実施例７ （１Ｓ）−（１（OH）,2,4,5/1,3）−５−［［２−ヒド
ロキシ−１−（ヒドロキシメチル）エチル］アミノ］−
１−Ｃ−（ヒドロキシメチル）−1,2,3,4−シクロヘキ
サンテトロール （１Ｓ）−（１（OH）,2,4,5/1,3）−2,3,4−トリ−Ｏ
−ベンジル−５−［［２−ヒドロキシ−１−（ヒドロキ
シメチル）エチル］アミノ］−１−Ｃ−（ベンジルオキ
シメチル）−1,2,3,4−シクロヘキサンテトロール（200
mg）を90％ぎ酸−メタノール（1:19v/v,20ml）に溶解
し、パラジウム黒（100mg）を加えて窒素気流中室温で
一夜攪拌した。触媒を濾過し、50％（v/v）メタノール
水で洗浄後、濾液と洗液を集め、減圧濃縮した。残留物
をダウエックス50W×８（H⁺型,70ml）のカラムクロマト
に付し、カラムを水洗後、0.5アンモニア水で溶出し
た。溶出画分を減圧濃縮し、残留物をアンバ−ライトCG
−50（Ｎ▲Ｈ⁺ ₄▼型,180ml）のカラムクロマトに付し、
水で溶出した。溶出画分を減圧濃縮乾固し、残留物にエ
タノール（10ml）を加えて約10分間加熱還流後、冷蔵庫
中に一夜放置して（１Ｓ）−（１（OH）,2,4,5/1,3）−
５−［［２−（ヒドロキシメチル）エチル］アミノ］−
１−（ヒドロキシメチル）−1,2,3,4−シクロヘキサン
テトロールの白色結晶（80mg）を得た。

実施例８ （１Ｓ）−（１（OH）,2,4/1,3）−2,3,4−トリ−Ｏ−
ベンジル−１−Ｃ−（ベンジルオキシメチル）−５−ヒ
ドロキシイミノ−1,2,3,4−シクロヘキサンテトロール （１Ｓ）−（１（OH）,2,4/1,3）−2,3,4−トリ−Ｏ−
ベンジル−１−Ｃ−（ベンジルオキシメチル）−５−オ
キソ−1,2,3,4−シクロヘキサンテトロール（500mg）を
メタノール（10ml）に溶液し、塩酸ヒドロキシルアミン
（1.0g）および酢酸ナトリウム（500mg）を加え、室温
で一夜攪拌した。反応液を減圧濃縮し、残留物に酢酸エ
チル（60ml）と水（25ml）を加えて攪拌した。酢酸エチ
ル層を分離し、2N塩酸と飽和炭酸水素ナトリウム溶液で
洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧濃縮した。
残留物をシリカゲルカラムクロマト（100ml）に付し、
トルエン−酢酸エチル（4:1v/v）で溶出した。

溶出画分を減圧濃縮乾固して（１Ｓ）−（１（OH）,2,4
/1,3）−2,3,4−トリ−Ｏ−ベンジル−１−Ｃ−（ベン
ジルオキシメチル）−５−ヒドロキシイミノ−1,2,3,4
−シクロヘキサンテトロール（420mg）を無色シロップ
として得た。

▲［α］²² _D▼＋61.7゜（ｃ＝1,CHCl₃）； NMR（CDCl₃＋D₂O）δ;2.29（1H,d,J＝15Hz）,3.24（1H,
d,J＝9Hz）,3.24（1H,d,J＝9Hz）,3.25（1H,d,J＝15H
z）,3.56（1H,d,J＝9Hz）,3.77（1H,d,J＝8Hz）,4.01
（1H,d,J＝8Hz）,4.4〜5.0（8H,m）,7.05〜7.5（20H,
m） 元素分析:C₃₅H₃₇NO₆ 計算値（％）:C,74.05;H,6.57;N,2.47 実験値（％）;C,73.77;H,6.62;N,2.72 実施例９ （１Ｓ）−（１（OH）,2,4,5/1,3）−５−アミノ−１−
Ｃ−（ヒドロキシメチル）−1,2,3,4−シクロヘキサン
テトロールおよび（１Ｓ）−（１（OH）,2,4/1,3,5）−
５−アミノ−１−Ｃ−（ヒドロキシメチル）−1,2,3,4
−シクロヘキサンテトロール （１Ｓ）−（１（OH）,2,4/1,3）−2,3,4−トリ−Ｏ−
ベンジル−１−Ｃ−（ベンジルオキシメチル）−５−ヒ
ドロキシイミノ−1,2,3,4−シクロヘキサンテトロール
（330mg）をメタノール（60ml）に溶解し、ラネーニッ
ケル（200mg）を加え、3.5〜3.9kg/cm²の加圧下に室温
で24時間接触還元した。触媒を濾過し、メタノールで洗
浄後、濾液と洗液を合わせ減圧濃縮した。残留物を90％
ぎ酸−メタノール（1:19v/v,20ml）に溶解し、パラジウ
ム黒（100mg）を加え、窒素気流中室温で40時間攪拌し
た。触媒を濾過し、水−メタノール（1:1v/v）で洗浄
後、濾液と洗液を合わせ減圧濃縮した。

残留物をアンバ−ライトCG−50（Ｎ▲Ｈ⁺ ₄▼型,100ml）
のカラムクロマトに付し、カラムを水洗後、0.1Nアンモ
ニア水で溶出した。先に溶出された画分（280〜380ml）
と後に溶出された画分（420〜600ml）に分離し、れぞれ
の溶出画分を減圧濃縮した。残留物をそれぞれダウエッ
クス１×２（OH^-型,150ml）のカラムクロマトに付し水
で溶出し、溶出画分を減圧濃縮した。アンバ−ライトCG
−50カラムクロマトで先に溶出された画分より（１Ｓ）
−（１（OH）,2,4/1,3,5）−５−アミノ−１−Ｃ−（ヒ
ドロキシメチル）−1,2,3,4−シクロヘキサンテトロー
ルの白色粉末（10mg）を、後に溶出された画分より（１
Ｓ）−（１（OH）,2,4,5/1,3）−５−アミノ−１−Ｃ−
（ヒドロキシメチル）−1,2,3,4−シクロヘキサンテト
ロール白色粉末（70mg）を得た。

（１Ｓ）−（１（OH）,2,4/1,3,5）−５−アミノ−１−
Ｃ−（ヒドロキシメチル）−1,2,3,4−シクロヘキサン
テトロール（先に溶出された異性体）； ▲［α］²⁵ _D▼＋19.0゜（ｃ＝0.3,H₂O）； NMR（D₂O）δ1.51（1H,dd,J＝11Hz,14Hz）,1.99（1H,d
d,J＝4.5Hz,14Hz）,2.85〜3.85（6H,m）． （１Ｓ）−（１（OH）,2,4,5/1,3）−５−アミノ−１−
Ｃ−（ヒドロキシメチル）−1,2,3,4−シクロヘキサン
テトロール（後に溶出された異性体）； ▲［α］²⁵ _D▼＋19.6゜（ｃ＝1,H₂O）； NMR（D₂O）δ1.74（1H,dd,J＝4Hz,15.5Hz）,2.00（1H,d
d,J＝3Hz,15.5Hz）,3.35〜3.72（5H,m）,3.91（1H,t,J
＝9.5Hz）． 元素分析 C₇H₁₅NO₅・H₂O 計算値（％）:C,39.80;H,8.11;N,6.63 実験値（％）;C,39.89;H,8.18;N,6.56

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】一般式 （式中、R¹は水酸基の保護基を示す。）で表わされる新
   規イノソース誘導体。