JPS6310740A - 新規イノソース誘導体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 配漿九Δ机且分肛 本発明はα−グルコンダーゼ阻害作用をａし、人や動物
の過血糖症状およびそれに起因ずろ種々の疾病、例えば
、糖尿病、肥満症、脂肪忌多庁などの予防剤や治療剤と
して有用な擬似アミノ糖およびその誘導体の新規製造法
並びにその擬似アミノ糖およびその誘導体の原料となり
うる新規イノソース誘導体に関する。

従来の技術 本発明者らは先に擬似アミノ糖の一種であるパリオール
アミンおよびそのＮ−置換誘導体が強いα−グルコシダ
ーゼ阻害活性を示すことを見出すとともに、その製造法
として、パリオールアミンのアミノ基とアルデヒド類ま
たはケトン類とを反応させ、ついで還元反応に付す方法
や、パリオールアミンのアミノ基とオキシラン誘導体あ
るいはハロゲン誘導体とを反応させる方法（特開昭５７
−２００３３５．５８−５９９４６．５８−１６２５９
７．５８−２１６１４９．５９−７３５４９゜５９−９
５２９７）を見出した。

３明が解決しようとする問題点 擬似アミノ糖の一種であるパリオールアミンのＮ−置換
誘導体のこれまでの製造方法はいずれも原料としてパリ
オールアミンを用いる方法であった。このパリオールア
ミンはストレプトミセス・ハイグロスコピクス・サブス
ピーシス・リモネウス（Ｓｔｒｅｐｔｏｍｙｃｅｓ　ｈ
ｙｇｒｏｓｃｏｐｔｃｕｓ　５ｕｂｓｐ。

１ｉｍｏｎｅｃ＋ｓ）の培養液から単離する方法（特開
昭５７−１６９４４６）、あるいはバリダマイシンを分
解反応に付すことにより得られるバリエナミンあるいは
バリダミンを原料としてパリオールアミンを合成する方
法（特開昭５７−１７９１７４．５８−４６０４４）等
が知られている。前者の直接発酵法による製造法は最も
簡潔な方法ではあるが、現時点ではまだ収量の面で工業
的方法としては問題がある。後者の方法のうち、特にパ
リエナミンを経由する方法は、工業的製造法としても優
れた方法であるが、後者の方法の中間原料として用いる
バリエナミン（あるいはバリダミン）の分子量がその出
発原料であるバリダマイシンの分子量の約１／２．７で
あるため得られるバリエナミンが割高となる欠点がある
。従って、Ｎ−置換パリオールアミン誘導体のより有利
な合成原料が望まれていた。

また、これまでパリオールアミンのＮ−置換誘導体を合
成するために、そのパリオールアミン部分を構築する原
料としてパリオールアミンそのものを用いる場合には、
そのＮ−置換基部分を構築する原料として、対応する構
造のアルデヒド類。

ケトン類、オキシラン誘導体およびハロゲン誘導体が用
いられてきた。しかし、本発明者らは、もしパリオール
アミン部分を構築する原料としてイノソース誘導体を用
いることができれば、Ｎ−置換基部分を構築する原料と
して対応する第一アミンを用いることが可能であり、こ
の第一アミンが対応するアルデヒド類、ケトン類、オキ
シラン誘導体およびハロゲン誘導体よりも有利に人手し
得ろ場合には、パリオールアミンを原料とする場合より
も有利に目的物を製造しうるのではないかと考えた。

問題点を解決するための手段 そこで本発明者らは、前述の問題点を解決するため鋭意
研究を重ねた結果、セドヘプチュロース（Ｄ−アルドロ
ー２−へプチュロース）の２．７＝アンヒドロ糖である
セドヘプチュローサン（２，７−アンヒドロ−β−Ｄ−
アルドロー２−へプチュロビラノース）を原料として一
般式 （式中、Ｒ１は水酸基の保護基を示す。）で表わされる
新規イノソース誘導体を製造することに成功し、ついで
この一般式（１）の化合物と一般式Ｒ”−Ｎｏ、（ＩＩ
　）（式中、Ｒ１はアミン残基または水酸基を示す。）
で表わされる第一アミンまたはヒドロキシルアミンとを
反応させ、ついで還元反応に付し、所望により脱保護基
反応に付すことにより一般式 （式中、Ｒ３は水素原子または水酸基の保護基を示し、
Ａはアミン残基または水素原子を示し、結合手■いはＲ
配位またはＳ配位の結合手を示す。）で表わされる擬似
アミノ糖またはその誘導体を製造することに成功した。

上記一般式（ｎ）中、Ｒ″はアミン残基または水酸基で
あるが、アミン残基の代表的なしのとしては保護されて
いてもよい水酸基および／または置換されていてもよい
フェニル基を有していてもよい炭素数１〜７の鎖状また
は環状炭化水素基が挙げられる。

この一般式Ｒ”−ＮＨｔで表わされる第一アミンの具体
例としては例えば、エタノールアミン、３−アミノ−１
−プロパツール、２−アミノ−１−プロパツール、２−
アミノ−１，３−プロパンジオール、ｌ−アミノ−２−
プロパツール、２−アミノ−３−ヒドロキシ−１−ブタ
ノール、トリス（ヒドロキシメチル）アミノメタン、２
−アミノ−２−メチル−１，３−プロパンジオール、２
−アミノ−２−メチル−１−プロパツール、２−アミノ
−３−メチル−１−ブタノール、３−アミノ−１，２−
プロパンジオール、４−アミノ−１，２−ブタンジオー
ル、２−アミノ−１−ブタノール。

２−アミノ−１，４−ブタンジオール、２−アミノ−１
，５−ベンタンジオール、５−アミノ−１−ペンタノー
ル、６−アミノ−！−ヘキサノール。

メチルアミン、エチルアミン、プロピルアミン。

ブチルアミン、ベンジルアミン、フェネチルアミン、ア
ミノジフェニルメタン、２−アミノ−１−フェニルエタ
ノール、２−アミノ−２−フェニルエタノール、２−ア
ミノ−３−フェニル−１−プロパツール、２−アミノ−
３−ヒドロキシ−３−フェニル−１−プロパツール、２
−アミノ−３−（４−ヒドロキシフェニル）＝１−プロ
パツール。

β−アミノ−α−メチルフェネチルアルコール等の水酸
基および／または置換されていてもよいフェニル基を有
していてもよい直鎖状アルキルアミン類、例えば、【−
アミノ−１−デオキシ−Ｄ−グルチトール、２−アミノ
ー２−デオキシ−Ｄ−グルヂトール、ｌ−アミノー１−
デオキシ−Ｄ−マンニトール、２−アミノ−２−デオキ
シ−Ｄ−ガラクチトール、ｌ−アミノ−１−デオキシ−
Ｄ−リビトール、４−アミノ−４−デオキシ−Ｄ−エリ
スリトール等のアミノーデオキシーアルジトール類、例
えば、トランス−２−アミノシクロヘキサン−１−オー
ル、トランス−３−アミノシクロヘキサン−１−オール
、シス−３−アミノシクロヘキサン−１−才一ル、トラ
ンス−２−アミノ−１−フェニルシクロヘキサン−１−
オール、シス−２−アミノ−１−フェニルシクロヘキサ
ン−１−オール、シクロヘキシルアミン、シクロペンチ
ルアミン、！−アミノー１−シクロペンタンメタノール
、２−アミノシクロペンタノール等の水酸基および／ま
たはフェニル基で置換されていてもよい環状アルキルア
ミン類、例えば、ミオ−イノサミン−１，ミオ−イノサ
ミン−２，ミオ−イノサミン−４，ネオ−イノサミン−
２，エピ−イノサミン−２，ムコ−イノサミン−３，ジ
ローイノサミン等のイノサミン類、例えば、２−アミノ
メチル−ミオイノシトール等のＣ−（アミノメチル）イ
ノシトール類、例えば、ストレブタミン、デ才キシスト
レブタミン、ホータミン、スボラミン。

イスタミン等のジアミノシクリトール類、例えば、バリ
エナミン、バリダミン、ヒドロキシバリダミン、パリオ
ールアミン、２−ヒドロキシ−４−（ヒドロキシメチル
）シクロペンチルアミン等の擬似アミノ糖類等が挙げら
れる。又、上記の化合物の水酸基は保護されていてもよ
い。

上記（ＩＩ）および（［１）式中、Ａで表わされるアミ
ン残基の具体例な例としては、上述のＲ’−Ｎ　Ｈ、で
表わされる第一アミンの例として列記したアミン類のア
ミン残基（すなわちＲ２）がすべて挙げられる。

上記ＣＩ）および（１）式中のＲ１およびＲ３で示され
る水酸基の保護基としては、糖の化学で水酸基の保護基
として用いられる保護基、例えばアシル型保護基、エー
テル型保護基、アセタール型保護基、ケタール型保護基
、オルトエステル型保護基等が用いられる。

アシル型保護基としては例えば、ハロゲン、炭素数ｉ〜
５の低級アルコキシル基、ハロゲンを有していてもよい
フェノキン基で置換されていてもよい炭素数１〜５のア
ルカノイル基、ニトロ基。

フェニル基、ハロゲンで置換されていてもよい炭素数１
〜５の低級アルキル基、炭素数２〜６の低級アルキルオ
キシカルボニル基で置換されていてもよいベンゾイル基
、ハロゲンで置換されていてらよい炭素数２〜６のアル
コキシカルボニル基、。

炭素数３〜５のアルケニルオキシカルボニル基、炭素数
Ｉ〜５の低級アルコキシル基またはニトロ基で置換され
ていてもよいベンジルオキシカルボニル基またはニトロ
置換フェノキシカルボニル基等が用いられる。

上記のハロゲンとしてはふっ素、塩素、臭素。

よう素が、炭素数１〜５のアルキル基としては、例えば
メチル、エチル、プロピル、イソプロピル。

ブヂル、イソブチル、　ｓ’ｅｃ−ブチル、　ｔｅｒｔ
−ブチル、ペンチル、イソペンチル、ネオペンチル基等
が、炭素数１〜５のアルカノイル基としては、例えばホ
ルミル、アセチル、プロピオニル、ブチリル、イソブチ
リル、イソバレリル、ピバロイル基等が、−炭素数１〜
５のアルコキシル基としては例えばハロゲンで置換され
ていてもよいメトキシル。

エトキシル、プロポキシル、ブトキンル、ペンチルオキ
シ、ビニルオキシ、アリルオキシ基等が用いられる。

上記の炭素数３〜５のアルケニルオキシカルボニル基に
おける炭素数２〜４のアルケニル基としてはビニル、ア
リル、イソプロペニル、１−プロペニル、！−ブテニル
、２−ブテニル、３−ブテニル等が用いられる。

アシル型保護基の例を更に具体的に示仕ば、ホルミル、
アセチル、クロロアセチル、ジクロロアセチル、トリク
ロロアセチル、トリフルオロアセデル、メトキシアセチ
ル、トリフェニルメトキンアセチル、フェノキンアセチ
ル、ｐ−クロロフェノキシアセチル、プロピオニル、イ
ソプロピオニル、３−フェニルプロピオニル、イソブチ
リル。

ピバロイル；ベンゾイル、ｐ−二トロベンゾイル。

ｐ−フェニルベンゾイル、０−（ノブロモメチル）ベン
ゾイル、０−（メトキシカルボニル）ベンゾイル、２，
４．６−ドリメチルベンゾイル；メトキンカルボニル、
エトキシカルボニル、２，２．２−トリクロロエトキン
カルボニル、イソブチルオキノカルボニル：ビニルオキ
シカルボニル、アリルオキシカルボニル；ベンジルオキ
シカルボニル、ｐ−メトキシベンジルオキシカルボニル
、３゜４−ジメトキシベンジルオキシカルボニル、ｐ−
ニトロペンジルオキシカルボニル；ｐ−ニトロフェノキ
シカルボニル等である。

エーテル型保護基としては例えば、ハロゲン。

炭素数１〜５の低級アルコキシル基、ペンジルオキン基
、フェニル基で置換されていてもよい炭素数１〜５の低
級アルキル基；炭素数２〜４のアルケニル基；炭素数！
〜５の低級アルキル基。

フェニル基、ベンジル基等が置換基であるトリ置換シリ
ル基、炭素数１〜５の低級アルコキシル基、ニトロ基で
置換されていてもよいベンジル基、炭素数１〜５の低級
アルコキシル基、ハロゲンで置換されていてもよいテト
ラヒドロピラニル基またはテトラヒドロフラニル基等が
用いられる。

上記のハロゲン、炭素数１〜５の低級アルキル基、炭素
数１〜５の低級アルコキシル基および炭素数２〜４のア
ルケニル基はアシル型保護基の場合と同様のものが用い
られる。

エーテル型保護基を更に具体的に示せば、メヂル、メト
キシメチル、ベンジルオキシメチル。

ｔｅｒｔ−ブトキシメチル、２−メトキシエトキシメチ
ル、２，２．２−トリクロロメトキンメチル、エチル、
ｌ−エトキシエチル、■−メチルー１−メトキシエチル
、２，２．２−トリクロロエチル、プロピル、イソプロ
ピル、ブチル、イソブチル。

５ｅｃ−ブチル、　ｔｅｒｔ−ブチル、エトキシエチル
。

トリフェニルメチル、ｐ−メトキシフェニルノフェニル
メチル；アリル；　トリメチルシリル、ｔｅｒｔ＝プチ
ルジメヂルシリル、　ｔｅｒｔ−プチルジフェニルンリ
ル；ベンジル、ｐ−メトキシベンジル、ｐ−ニトロベン
ジル、ｐ−クロロベンジル；テトラヒドロピラニル１３
−プロモテトラヒド口ビラニル、４−メトキンテトラヒ
ドロピラニル、テトラヒドロフラニル等である。

アセタール型、ケタール型およびオルトエステル型保護
基は好ましくは１−１０の炭素数からなる。その具体例
を示せば、メトキンエチリデン。

１−ｔｅｒｔ−ブチルエチリデン、Ｉ−フェニルエヂリ
デン、２，２．２−トリクロロエチリデン；イソプロピ
リデン、ブチリデン、シクロペンチリデン、シクロへキ
シリデン、シクロへブチリデン、ベンジリデン、ｐ−メ
トキノベンジリデン、２゜４−ジブロモメトキシベンジ
リデン、ｐ−ジメチルアミノベンジリデン、０−ニトロ
ベンジリデン：メトキシメチレン、エトキシメチレン、
ジメトキシメチレン、１−メトキンエチリデン、１．２
−ジメトキシエチリデン等である。

またジブチルスタニル、トリブチルスタニル等のスタン
オキサン型保護基、環状カルボナート型保護基、環状ボ
ロナート型保護基等も同様に用いられる。

化合物中のＲ１およびＲ３で示される水酸基の保護基の
種類はすべて同じであってらよいし、２種以上の異なっ
た保護基を含んでいてもよい。また、例えば、環状アセ
タール型、環状ケタール型、環状オルトエステル型、環
状カルボナート型、環状ボロナート型、スタンオキサン
型保護基の場合のように２つの水酸基を一つの保護基で
保護してもよい。

化合物（１）の原料であるセドーヘブヂュロースはある
種の細菌や放線菌等の微生物の培養液中に蓄積されるこ
とが知られており〔例えば、ザ・ジャーナル・オブ・バ
イオケミストリー［Ｊ、Ｂｉ。

ｃｈｅｍ、　（Ｔｏｋｙｏ）、第５４巻、　Ｉ　Ｏ７〜
ｌ　０８Ｎ（１９６３年）；特公昭５７−５２４０参照
］、これらの微生物の培養液中からセドーヘブヂュロー
スを精製単離することができる。更にセドーヘプチュロ
ースを希鉱酸例えば希硫酸中で加熱することによって２
．７−アンヒドロ糖であるセドーｌ＼ブヂコローサンを
結晶として単離することができる。セドーヘプチュロー
サンよりＤ−イドーヘプチュローサン（２，７−アンヒ
ドロ−β−Ｄ−イドー２−ヘプチュロビラノース）の製
造は、例えば以下に示す反応工程、すなわち、ｉ）セド
ーヘプチュローサンの４，５位の水酸基を保護基、例え
ばイソプロピリデン基で保護する工程、１ｉ）１．３位
の水酸基を保護基、例えばベンゾイル基（Ｂｚ）で保護
する工程、１ｉｉ）４．５位の水酸基の保護基を脱離さ
せる工程、１ｖ）４位の水酸基を保護基、例えばベンゾ
イル基で保護する工程、■）５位の水酸基を有機スルホ
ニル化、例えばイミダゾリルスルホニル化する工程、ｖ
ｌ）アシルオキンアニオン、例えばベンゾイルオキシア
ニオンを反応させ、５位の水酸基の立体配置を反転させ
る工程、ｖｉ）必要ならば水酸基の保護基を脱離させる
工程、を経て製造することができる。

（以下余白） Ｈ またセドヘブチュローサンより２．７−アンヒドロ−β
−Ｄ−アラビノー２，５−ヘプトジウロピラノースを経
由するＤ−イドーヘプチュローザン（２，７−アンヒド
ロ−β−イド−２−ｔ＼ブチュロピラノース）およびそ
の１，３，４．５−テトラ−０−アセチル誘導体を製造
する方法かヘインズ（Ｋ。

１（ｅｙｎｓ）らによって報告されており〔ヒエーミッ
シェ”ベリヒテ（ＣｈｅＩＩｌ、　Ｂｅｒ、）、第１０
８巻。

３６１１〜３６１８頁（１９７５年）〕、また〕Ｄ−グ
ルコーＤ−イドーヘプチトーの微生物酸化反応を経由し
てＤ−イドーヘプチュロースおよび２゜７−アンヒドロ
−β−Ｄ−イドーヘプチュロピラノースを製造する方法
がプラット（Ｊ　、Ｗ、ＰｒａＬｔ）らによって報告さ
れている〔ジャーナル・オブ・ザ・アメリカン・ケミカ
ル・ソサエティ（Ｊ、Ａｍ。

Ｃｈｅｍ、　Ｓｏｃ、　）、第７４巻、２２１０−２２
１４頁（１９５２年）〕ので、これらの公知の方法を用
いることによってもＤ−イドーヘプチュローサン（下記
の式■においてＲ’＝Ｈの化合物）およびその水酸基が
水酸基の保護基で保護された化合物を製造することがで
きる。

以下に、水酸基が保護基で保護されているＤ−イドーヘ
プチュローサン〔■〕から化合物（１）を製造する方法
を詳細に説明する。なお下記の製造工程図のＣＩ）〜〔
■〕式において、ＲＩ　、　ｎ　２゜Ｒ３およびＡは前
記と同義でありＲ４は水素原子またはアノメリック水酸
基の保護基；Ｘはよう素、臭素、塩素、ふっ素等のハロ
ゲン原子を意味する。

〔■〕　　　　　　　　　　〔■〕 （Ｖ）　　　　　　　　　　　　　（ＩＶ）［１］　　
　　　　　　　　　　　　　（ＩＩＩ）製造工程ｌ 化合物（Ｖｌ）は化合物〔■〕の２．７−アンヒドロ結
合の開裂反応に付すことによって製造することができる
。化合物（Ｖｌ）のＲＩで示される水酸基の保護基の好
ましい例としてはベンゾイル基が挙げられる。このアン
ヒドロ結合の開裂反応においては糖のアンヒドロ結合の
開裂反応として慣用の方法〔例えば、アトパンスズ・イ
ン・カーボハイドレート・ケミストリー・アンド・バイ
オケミストリー（Ａ　ｄｖ、　Ｃａｒｂｏｈｙｄｒ、　
Ｃｈｅｍ、　Ｂ　ｉｏｃｈｅｍ、）　。

第３４巻、６３−６９頁（１９７７年）に記載されてい
るツエルニイーおよびスタネク（Ｃｅｒｎｙａｎｄ　５
ｔａｎｅｋ）の“アルドヘキソーズの１．６−アンヒド
ロ誘導体”と題する総説参照〕が用いられる。

アンヒドロ結合の開裂は、例えば酸の存在下で行なわれ
る。適当な酸としては硫酸、塩酸（塩化水素酸）、臭素
水素酸（臭化水素）、硝酸、過塩素酸等の無機酸；ｐ−
トルエンスルホン酸、酢酸、無水酢酸、トリフルオロ酢
酸、無水トリフルオロ酢酸等の有機酸；三ふり化はう素
、三塩化はう素。

三臭化はう素、塩化亜鉛、塩化アルミニウム、四塩化チ
タン、塩化第二すず、五塩化りん、五臭化りん、五酸化
りん等のルイス酸等があげられる。

これらの酸は単独で用いてもよいし、二種以上混合して
用いてもよい。　本開裂反応は、通常、溶媒中で行なわ
れる。この場合溶媒としての機能と同時に反応試薬とし
ての機能を兼ねて用いることができる。溶媒としては水
、メタノール、エタノール、プロパツール、トリメトキ
シメタン、エチルエーテル５クロロホルム、ジクロロメ
タン、アセトン、酢酸、トリフルオロ酢酸、無水酢酸、
無水トリフルオロ酢酸、その他この反応に悪影響を及ぼ
さない溶媒が単独または混合溶媒として使用され得る。

好ましくはメタノール溶媒中、トリメトキシメタンおよ
び塩化亜鉛と反応させる方法、トリメトキンメタン溶液
中、トリフルオロ酢酸及び無水トリフルオロ酢酸と反応
させる方法等が挙げられ、この場合にはＲ４がメチル基
である化合物が得られる。通常、反応温度は特に限定さ
れず、冷却下、室温あるいは加温下に反応が行なわれる
。

反応後必要ならばアノメリック水酸基を含む水酸基の保
護基の脱離および再導入を行なってもよい。

製造工程２ 化合物（Ｖ）は化合物（”／Ｉ）をハロゲン化反応に付
すことによって製造することができる。（化合物（Ｖ）
のＣ−３，Ｃ−４お上びＣ−５の二級水酸基は必ずしも
保護されていなくてもよいが、Ｃ−１の一級水酸基およ
びＣ−２のアノメリック水酸基は保護されていることが
望ましい。）該ハロゲン化反応は糖の水酸基のハロゲン
化のために慣用の方法〔例えば、アメリカ化学会刊：化
学の進歩シリーズ７４　（ａｄｖａｎｃｅｓ　ｉｎ　ｃ
ｈｅ＋＋＋１ｓｔｒｙｓｅｒｉｅｓ　７４）　：デオキ
シ糖（Ｄｅｏｘｙ　Ｓｕｇａｒｓ）。

１５９−２０１頁（１９６８年）に記載されているハネ
シアン（Ｓ　、　Ｈａｎｅｓｓｉａｎ）の“ハロデオキ
シ糖の合成へのアプローチ”と題する総説、およびアト
パンスズ・イン・カーボハイドレート・ケミストリー・
アンド・バイオケミストリー（Ａｄｖ。

Ｃａｒｂｏｈｙｄｒ、　Ｃｈｅｍ、　１３ｉｏｃｈｅｍ
、　）、第２８巻、２２５−３０６頁（１９７３年）に
記載されているスザレク（Ｗ、　Ａ、　５ｚａｒｅｋ）
の　“デオキシハロゲノ糖”と題する総説等参照〕を用
いて行なうことができる。

このハロゲン化反応に適したハロゲン化の方法としては
、例えばトリフェニルホスフィンのようなりんを含む試
薬とＮ−ヨードこはく酸イミド。

Ｎ−ブロモこはく酸イミド、Ｎ−クロロこはく酸イミド
等のＮ−ハロこはく酸イミド類、好ましくはＮ−ヨード
こはく酸イミドを反応させる方法や、水酸基をｐ−）ジ
ルスルホニル。メチルスルホニル、トリフルオロメタン
スルホニル、イミダゾリルスルボニル基等の有機スルホ
ニル基でスルボニル化して活性化した後、ハロゲン化金
属Ｍ　Ｘ　（Ｍはリチウム、ナトリウム、カリウム等の
アルカリ金属、Ｘはふっ素、塩素、臭素、よう素等のハ
ロゲン原子を示す）、好ましくは、よう化ナトリウムを
反応させる方法等が挙げられる。

該ハロゲン化反応は通常、溶媒中で行なわれる。

溶媒としてはＮ、Ｎ−ジメチルホルムアミド、ジメチル
スルホキシド、ピリジン、アセトン、２゜４−ベンタン
ジオン、２−ブタノン、エチレングリコール、メタノー
ル、エタノール、グリセロール、ジオキサン、テトラヒ
ドロフラン、クロロホルム、テトラクロロエタン、四塩
化炭素、ベンゼン等が挙げられる。その他この反応に悪
影響を及ぼさない溶媒が単独または混合溶媒として使用
され得る。通常、反応温度は特に限定されず、冷却下、
室温あるいは加温下に反応が行なわれる。

製造工程３ ６．７−不飽和化合物（ＩＶ）は７−ハロゲノ化合物（
Ｖ）を脱ハロゲン化水素反応に付すことにより製造する
ことができる。このハロゲン化水素の脱離反応は不飽和
糖の製造法として慣用の方法〔例えば、アメリカ化学会
刊：化学の進歩シリーズ７４　（ａｄｖａｎｃｅｓ　　
ｉｎ　　ｃｈｅＩＩｌｉｓｔｒｙ　　５ｅｒｉｅｓ　　
７４　）：デオキシ糖（Ｄｅｏｘｙ　ｓｕｇａｒｓ）、
　１２０−１４０頁（１９６８年）に記載されているホ
ーク（Ｌ　、　Ｈｏｕｇｈ）らの“不飽和糖の合成と反
応°に関する総説等参照〕を用いて行なうことができる
。この反応は好ましくは化合物（Ｖ）をピリジン溶媒中
で無水のふっ化銀と反応させることによって行なわれる
。

製造工程４ 化合物〔！〕は化合物〔■〕をシクロヘキサノン環形成
反応〔フェリア（Ｒ８Ｊ、Ｆｅｒｒｉｅｒ）。

ジャーナル・オブ・ザ・ケミカル・ソサエティ・パーキ
ン（（Ｊ、　Ｃｈｅ！Ｉ１．　Ｓｏｃ、　Ｐｅｒｋｉｎ
　　Ｉ　　）。

１４５５−１４５８頁（１９７９）参照〕に付すことに
よって得られる。例えば、化合物（ＩＶ）を含水アセト
ン等の含水有機溶媒中で、塩化第二水銀。

酢酸第二水銀、トリフルオロ酢酸第二水銀、硫酸第二水
銀等の第二水銀塩と処理することによって化合物〔１〕
を得ろことができる。反応温度は通常、１０℃ないし反
応溶媒の還流温度の範囲であり、反応時間は反応温度に
よっても異なるが、通常２ないし１０時間の範囲である
。

製造工程５ 一般式〔■〕（但し、式中、Ａはアミン残基を示す、Ｒ
′および結合手酪萌は前記と同Ｃ義。）で表わされる擬
似アミノ等誘導体は化合物（１）と一般式〔■〕（但し
、式中、Ｒ２はアミン残基を示す。）で表わされる第一
アミンとを反応させて得られるシップ塩基を還元反応に
付し、所望により脱保護基反応に付すことによって製造
することができる。　本反応において、化合物（１）と
上記の第一アミン〔ＩＩ）との縮合反応によるシッフ塩
基形成反応および形成されたシッフ塩基の還元反応は、
同一の反応容器中で連続的に行うこともできる。

化合物ＣＩ）と上記の第一アミン（Ｉｆ）との縮合反応
および得られるシッフ塩基の還元反応は一般に溶媒中で
行なわれる。適当な溶媒としては、水；メタノール、ブ
タノール等のアルコール類；アセトニトリル；ジメチル
スルホキシド；Ｎ。

Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ−メチルアセトアミド等
のアミド類；メチルセロソルブ、ジメチルセロソルブ、
ジエチレングリコールジメチルエーテル等のグライム類
；ジオキサン、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル
等のエーテル類、また゛よ、これらの混合溶媒が用いら
れる。また、還元するシップ塩基の種類によっては、こ
れらの溶媒とベンゼン、トルエン等の芳香族炭化水素類
または酢酸エチル等のエステル類との混合溶媒を用いる
ことができろ。

該シッフ塩基の形成反応における反応温度は特に限定さ
れないが、通常、室温ないし１００℃程度にまで加熱し
て行なわれる。反応時間は反応温度により差異があるが
、通常、数分ないし２・１時間程度反応させることによ
って目的を達することかできる。

形成されたシッフ塩基の還元反応のためには各種の水素
化金属錯体還元剤、例えば水素化はう素ナトリウム、水
素化はう素カリウム、水素化はう素リチウム、水素化ト
リメトキシはう素ナトリウム等の水素化はう素アルカリ
金属、例えば、シアノ水素化はう素ナトリウム等のシア
ノ水素化はう素アルカリ金属、例えば水素化アルミニウ
ムリチウム等の水素化アルミニウムアルカリ金属、例え
ばジメチルアミンボラン等のジアルキルアミンボラン等
が有利に用いられる。なお、シアノ水素化はう素アルカ
リ金属、例えばシアノ水素化はう素ナトリウムを用いる
場合には、酸性の条件、例えば塩酸、酢酸等の存在下に
反応を行なうことが好ましい。

この還元反応の反応温度は特に限定されないが、通常、
室温、場合によっては、特に反応の初期においては水冷
下に、また場合によっては！００６Ｃ程度にまで加熱し
て行なわれ、還元するシッフ塩基および還元剤の種類に
よって差異がある。反応時間も反応温度により、また還
元するシッフ塩基や還元剤の種類によって差異があるが
、通常、数分ないし２４４時間程反応さけることによっ
て目的を達することができる。

形成されたシッフ塩基の還元反応として接触還元の手段
を用いることもできる。すなわち、シッフ塩基を適当な
溶媒中で接触還元用触媒の存在下に水素気流中で振盪ま
たは攪拌することにより行なわれる。接触還元用触媒と
しては、例えば白金黒、二酸化白金、パラジウム黒、パ
ラジウムカーホン、ラネーニッケル等が用いられ、通常
用いられる溶媒としては、例えば、水；メタノール。

エタノール等のアルコール類；ジオキサン、テトラヒド
ロフラン等のエーテル類、Ｎ　、　Ｎ−ジメチルホルム
アミドまたは、これらの混合溶媒等が用いられろ。反応
は通常、室温常圧で行なわれるが、加圧下に行ってもよ
く、また加温してもよい。

一般式（ＩＩＩ）においてＡが水素原子である化合物は
、例えば化合物（１，）と一般式（［１）においてＲ２
が水酸基である化合物、すなわちヒドロキシルアミンを
反応させ、得られたオキシムを還元反応に付すことよっ
て製造することができる。またヒドロキシルアミンの代
わりにＯ−メチルヒドロキシルアミンや０−ベンジルヒ
ドロキシルアミン等の〇−置換ヒドロキシルアミンを化
合物（１）と反応させ、得られたＯ−アルキルオキシム
類やＯ−アラルキルオキシム類を還元反応に付すことに
よってら製造することができる。得られｆこオキシム類
のヒドロキノイミノ基のアミン基へのぶ元反応はシクリ
トール部分の水酸基が保護された状態で行なってもよい
し、あるいは水酸基の保護基を脱離させた後に行なって
もよい。

還元反応は、例えば適当な溶媒中で酸化白金等の白金触
媒、パラジウムカーボン等のパラジウム触媒、ラネーニ
ッケル等のニッケル触媒、ロジウム炭素等のロジウム触
媒等を触媒とする接触還元に付すことにによって、また
、適当な溶媒中で、例えば、水素化アルミニウムリチウ
ム等の水素化アルミニウム誘導体を用いて、より好まし
くは窒素。

アルゴン等の不活性ガスの雰囲気中で還元すること１こ
よって行うことができる。また、一般式（Ｉ［ｌ）にお
いてＡが水素原子である化合物は、化合物（［１’）の
うち、そのＡ部分が、例えばベンジル基、ｐ−メトキシ
ベンジル基、３．４−ジメトキシベンジル基、ジ（ｐ−
メトキシフェニル）メチル基のような一般にアミノ基の
保護基としても用いられる基が置換分である化合物を化
合物（１）より合成した後、例えば接触還元による水素
化分解反応、液体アンモニア中金属ナトリウムとの反応
、酸（例えば濃硫酸−無水トリフルオロ酢酸、酢酸。

トリフルオロ酢酸、ぎ酸等）との反応等の一般にアミノ
基の保護基の脱離反応として用いられる反応に付すこと
によっても製造することができる。

化合物（Ｉ［Ｉ］が保護されている水酸基を有している
場合、水酸基の保護基の脱離反応はそれ自体公知の方法
を用いて行なうことができる。例えば、ンクロへキシリ
デン基、イソプロピリデン基、ベンジリデン基などのア
セタール型保護基やトリチル基などは塩酸、酢酸、スル
ホン酸型樹脂などの酸で加水分解することによって、例
えばアセチル基。

ベンゾイル基などのアシル型保護基はアンモニア。

水酸化ナトリウム、水酸化バリウム、ナトリウムメトキ
シドなどのアルカリで加水分解することによって、また
、ベンジル基、ｐ−メトキシベンジル基などのベンジル
エーテル型保護基は接触還元反応、接触・トランスファ
ー・水素化（ｃａｔａｌｙｔ　１ｃｔｒａｎｓｒｅｒ　
ｈｙｄｒｏｇｅｎａｔｉｏｎ　）反応などの水素化分解
反応あるいは液体アンモニア中での金属ナトリウムによ
る還元分解反応等に付すことによって脱離することがで
きる。

このようにして得られる化合物（Ｉｉ、（ＩＩＩ）およ
びそれらの合成中間体などは自体公知の手段、例えば、
ろ過、遠心分離、濃縮、減圧塁縮、乾燥、凍結乾燥、吸
着、脱着、各種溶媒に対する溶解度の差を利用する方法
（例えば、溶媒抽出、転溶、沈殿、結晶化、再結晶化な
ど）、クロマトグラフィー（例えば、イオン交換樹脂、
活性炭、ハイポーラスポリマー。

セファデックス、セファデックスイオン交換体、セルロ
ーズ、イオン交換セルローズ、シリカゲル、アルミナな
どを用いるクロマトグラフィー）などにより単離、精製
できる。

本発明に含まれる化合物（ＩＩＩ）の塩としては、薬学
的に許容できる化合物（ＩＩＩ）との塩が用いられる。

このような塩としては、例えば塩酸、臭化水素酸、硫酸
、りん酸、硝酸などの無機酸１、例えば酢酸、りんご酸
、くえん酸、アスコルビン酸。

マンデル酸、メタンスルホン酸などの有機酸等との塩が
用いられる。

なお、化合物ＣＩＩＩ）のうちＲ３が水素原子で、結合
手ｍがＳ配位である化合物、すなわち一般式 （式中、Ａは水素原子またはアミン残基を示す。）で表
わされるパリオールアミンおよびそのＮ−置換誘導体お
よびそれらの塩は毒性もほとんどなく（ラットＬＤｓｏ
５００ｍｇ／ｋｇ以上）、α−グルコシダーゼ阻害作用
を有し、人間および人間以外の動物の炭水化物の代謝を
抑制するために、例えば血糖上昇抑制作用を有しており
、過血糖症状および過血糖に起因する種々の疾患、例え
ば糖尿病、前糖尿病、肥満症、脂肪過多症、過脂肪血症
（動脈硬化症）および口腔微生物による糖代謝に帰因す
る疾病（例えば、虫歯等）の治療および予防に有用な化
合物である。

発明の効果 化合物ＣＩ）は種々のＮ　−Ｗ、換パリオールアミン誘
導体やその他のパリオールアミン関連化合物の製造のた
めの中間原料化合物としてパリオールアミンに匹敵する
有用な化合物である。例えば、Ｎ−Ｆｆｔ換パリオール
アミン誘導体の合成において、Ｎ−置換基部分を構築す
る原料化合物がアミノ化合物として入手しやすい場合に
は化合物（１）を中間原料として用いる方がパリオール
アミンを中間原料として用いるよりも容易に目的物を合
成することが可能である。

更に、化合物（１）の製造のための出発原料として用い
られるセドヘプチュロースは前記したようにある種の細
菌や放線菌等の培養液中に多量に蓄積されろことが知ら
れており、発酵生産によって安価に製造することが可能
である。また、セドヘプチュローサンや２．７−アンヒ
ドロ−β−イドーヘプチュロピラノース（Ｄ−イドヘプ
チュローサン）はセドヘプチュロースを原料として安価
に製造することが可能であるので、本発明の方法はＮ−
置換バリオールアミン誘導体の製造法として有用な方法
である。

その他、化合物［（］は、そのカルボニル基を水酸基へ
の還元反応に付し、所望により脱保護基反応に付すこと
によって、（ｌ宅）−（＋（ＯＨ）、２゜４．５／ｌ、
３）−１−Ｃ−（ヒドロキシメチル）−Ｉ、２，３，４
．５−シクロヘキサンベントール、（ｌ主）−（１（Ｏ
Ｈ）２．４／１．’３．５）−１−Ｃ−（ヒドロキシメ
チル）　−１，２，３，４，５−シクロヘキサンベント
ール、およびそれらの〇−置換誘導体を合成するための
原料としてし有用な化合物である。これらのベントール
誘導体もまた化合物［Ｉ［［］およびその類縁化合物の
合成のための原料として用いることができる。

以下に、参考例および実施例を挙げて本発明を更に具体
的に説明するが本発明の範囲はこれに限定されるもので
はない。

参考例！ ４．５−０−イソプロビリデンセドへプチュローサン セドヘブチュローサン（２，７−アンヒドロ−β−Ｄ−
アルドロー２−へプチュロビラノース。

２５ｇ）の結晶を粉末化し、アセトン（３２０ｍＧに懸
濁させ、濃硫酸（２，５ｄ）を加え室温で１８時間攪拌
した。生じた結晶をろ取し、アセトンで洗浄して４．５
−０−イソブロピリデンセドへプチュローサン（２８ｇ
）を得た。

元素分析値：　Ｃ＋ｏ　Ｈａｓ　Ｏｓ 計算値（％）：Ｃ，５１，７２；　Ｉｌ、６．９４実験
値（％）：Ｃ：５１．５８：　Ｈ，６，９７参考例２ １．３−ジー０−ベンゾイル−４，５−０−イソブロピ
リデンセドへブチュローサン ４．５−０−イソプロビリデンセドへプチュローサン（
５，０ｇ）をＮ、Ｎ−ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）
（８５ｄ）とピリジン（５ｄ）の混合溶媒に懸濁し、冷
却下（約−３０℃）に塩化ベンゾイル（９−）を滴下し
、更に−５〜−１０℃で２．５時間攪拌した。反応液を
氷水（約２００ｄ）中に加え、生じた油状物を酢酸エチ
ルで抽出した。酢酸エチル抽出液を２Ｎ塩酸と飽和炭酸
水素ナトリウム溶液で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾
燥し、減圧下に溶媒を留去した。残留物をシリカゲルの
カラムクロマト（５００Ｍ１）に付し、トルエン−酢酸
エチル（１０：Ｉｖ／ｖ）で溶出した。溶出画分を減圧
濃縮乾固し、残留物を更に減圧下に一夜乾燥してｌ。

３−ジー〇−ベンゾイルー４．５−０−イソブロビリデ
ンセドへプチュローサンの白色粉末　　（８，８ｇ）を
得た。

参考例３ １．３−ジー０−ペンゾイルセドへプチュローサン １．３−ジー０−ベンゾイル−４，５−０−イソブロビ
リデンセドへプヂュローサン（８，８ｇ）を８０％（ｖ
／ｖ）酢酸（９０滅）に溶解し、７０〜７５℃で２時間
攪拌した。反応液に水（１７０戒）を加えて減圧ａ縮し
た。残留物を酢酸エチルに溶解し、飽和炭酸水素ナトリ
ウム溶液で洗浄し、酢酸エチル溶液を無水硫酸ナトリウ
ムで乾燥後、減圧下に溶媒を留去した。残留物にエチル
エーテル−石油エーテル（３：　ｌ　ｖ／ｖ）（２８０
旙）を加えて冷蔵庫中に一夜放置して１．３−ノー０−
ペンゾイルセドへプチュローサンの結晶（７，，３ｇ）
を得た。

参考例４ １，３．４−トリー〇−ペンゾイルセドへプチュローサ
ン １．３−ジー０−ペンゾイルセドへプチュローサン（１
４，１ｇ）のジクロロメタン（１４０ｔ＋２）溶液にピ
リジン（４，７滅）を加え、冷却下（−４０’Ｃ以下）
に塩化ベンゾイル（５，６４ｇ）のジクロロメタン溶液
（５０成）を滴下し、冷却下（−４０〜−３０℃）に２
．５時間攪拌した。反応液を氷水中に加え、３０分間攪
拌後、ジクロロメタン層を分離し、更に水層をジクロロ
メタンで抽出した。ジクロロメタン抽出液を２Ｎ塩酸と
飽和炭酸水素ナトリウム溶液で洗浄し、無水硫酸ナトリ
ウムで乾燥後、減圧下に溶媒を留去した。残留物にエチ
ルエーテル−石油エーテル（１：　ｌ　Ｏｖ／ｖ）（１
（Ｄを加えて冷蔵庫中に一夜放置すると１．３．４−）
ソー０−ペンゾイルセドへプチュローサンの結晶（ｔ７
．５ｇ）が得られ几。

Ｎ　Ｍ　ｎ　（ＣＤＣ１３）δ：　２．５１（ＩＨ，ｄ
、Ｊ＝６１１ｚ、−０Ｈ）、　３．９〜４．２５（２１
１，ｍ、　？　−ＣＩ、）　、　４．２５〜４．５　（
１８，ｍ、　５−ＣＨ；Ｄ＊０を加えると６４．３ｇ（
ｄｄ、Ｊ＝３ｔｌｚ、５１１ｚ）に変化する〕。

４、５８（２１＋、　ｓ　、　１−ＣＩ！、）　、　４
．７〜４　、９（ＬＨ，ｍ、　６−Ｃ１１）　、　５．
４６（ＬＨ。

ｄｄ、　Ｊ　＝　３Ｈｚ、９１１ｚ、　４−ＣＨｔ）、
　５．９４（ＬＨ，ｄ、　Ｊ　＝　９１（ｚ、　３−Ｃ
Ｉり　。

７．１〜７．７（９Ｈ，ｍ）および７．８〜８．２（６
ｔＬｍＸＣ，ｉｌ、ｘ　３）。

元素分析：ＣｔｓＨｔ４０ｓ 計算値（％）：Ｃ，６６，６６、Ｈ，４，８０実験値（
％）：Ｃ，６７，０４；　Ｈ，４，７４参考例５ １．３．４−トリー〇−ベンゾイル−５−０−（イミダ
ゾリルスルホニル）セドヘプチュローザン１．３．４−
トリー〇−ペンゾイルセドへブチュローサン（９，４８
ｇ）をＤＭＦ（１００ｄ）に溶解し、−４０℃以下に冷
却下に塩化スルフリル（３，２ｙ７）を加えた後、約−
４０℃で２０分間攪拌した。反応液を再び一４０℃以下
に冷却下にイミダゾール（１３，６ｇ）を加えた後、冷
却浴を除き、室温で１５時間攪拌した。反応液を氷水（
３００ｄ）中に加え、生じた油状物を酢酸エチルで抽出
した。

酢酸エチル抽出液を２Ｎ塩酸と飽和炭酸水素ナトリウム
溶液で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧下に
溶媒を留去した。残留物をシリカゲルのカラムクロマト
（６００Ｍ１）に付し、トルエン−酢酸エチル（３：２
ｖ／ｖ）で溶出した。溶出画分を減圧濃縮し、残留物に
石油エーテル（約１００ｄ）を加え冷蔵庫中に一夜放置
して１，３．４−トリー〇−ベンゾイル−５−０−（イ
ミダゾリルスルホニル）セドヘブチュローサンの白色粉
末（９゜５ｇ）を得た。

Ｎ　Ｍ　Ｒ（ＣＤＣＩｓ）δ：　４．０４（ＩＨ，ｄｄ
、Ｊ＝５Ｈｚ、Ｊ＝８Ｈｚ、７−ＣＨ）　、　４．．０
８（ＩＩＩ、ｄ、　Ｊ　＝　８Ｈｚ、　？　−ＣＩ）　
、　４．５９（２１，ｓ、　１−ＣＨｔ）　。

４．７５〜４．９０（ＩＨ，ｍ、６−ＣＨ）、５．２７
（ＩＨ，ｄｄ、Ｊ＝　２．５Ｈｚ。

４Ｈｚ、５−Ｃ１ｌ）　、　５．４９（ＩＨ，ｄｄ、　
Ｊ　＝　４Ｈｚ、　９．５Ｈｚ、　４−ＣＩ）　、　５
．９２（ＩＩＩ、ｄ、Ｊ＝　９．５１１ｚ、３−ＣＩ）
、６．７８，７．１５および７．１８　（各１１１、ｓ
、イミダゾール）、７．２〜．７．７（９１，ｍ）およ
び７．８〜８．２（６１１，ｍ）（Ｃ１１１１ｓＸ３）
。

元素分析：　Ｃｓ　ｒ　Ｈｔ　ａ　Ｎ　ｔ　Ｏ＋　ｔ　
Ｓ計算値（％）：Ｃ，５ｇ、６７、　Ｈ，４，１３，Ｎ
、４．４１実験値（％）：Ｃ，５８，７１；　Ｈ，４，
１０；　！ｉ、４．４３参考例６ ２．７−アンヒドロ−１，３，４，５−テトラ−０−ベ
ンゾイル−β−Ｄ−イドー２−ヘプヂュロピラノース １．３．４−）ソー０−ベンゾイル−５−０−（イミダ
ゾリルスルホニル）セドヘプチュローサン（９゜５ｇ）
をトルエン（１４０ｍ）に溶解し、安息香酸テトラ−ｎ
−ブチルアンモニウム（ｌ１ｇ）を加え、１００℃で３
時間攪拌した。減圧下に反応液の溶媒を留去後、残留物
を酢酸エチルと水に分配し、水層を更に酢酸エチルで抽
出した。酢酸エチル層を集め２Ｎ塩酸と飽和炭酸水素ナ
トリウム溶液て洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後溶
媒を留去した。残留物をシリカゲルカラムクロマト（１
ｇ）に付し、トルエン−酢酸エチル（１９：　Ｉ　ｖ／
ｖ）で溶出した。溶出画分を減圧下に濃縮乾固して２゜
７−アンヒドロ−１，３，４，５−テトラ−Ｏ−ベンゾ
イル−β−Ｄ−イドー２−へブヂュロピラノースの白色
粉末（６，８ｇ）を得た。

Ｎ　Ｍ　Ｒ（ＣＤＣＩりδ：４．０２（ｌＩｌ、ｄｄ、
　Ｊ　＝　４．５１１ｚ、　８Ｈｚ、　７−ＣＨ）、　
４．５０（１１１，ｄ、Ｊ＝８１１ｚ、７−ＣＨ）、４
．６０（２１１，ｓ、１−ＣｔｌＪ、５゜１０（ＩＩＩ
、ｔ、Ｊ＝４．５Ｈｚ、６−Ｃｔ（）、　５．５４（ｌ
１１．ｄｄ、Ｊ＝４．５１！ｚ。

１３、５Ｈｚ、　５−ＣＨ）　、　５．８０（ＩＩＩ、
　ｄ、　Ｊ　＝　８．５１１ｚ、　３−ＣＨ）　、　６
．８０　（ＩＨ。

ｔ、Ｊ＝　８．５［１ｚ、４−Ｃ１１）、７．２〜７．
７（１２）１．ｍ）および７，８〜８．２（８Ｈ，ｍ）
（ＣｅｔｌｓＸ４）。

元素分析：　Ｃ３５Ｈ２ｓ　Ｑ　＋　。

計算値（％）：Ｃ，６９，０７；　ＩＩ、４．６４実験
値（％）：Ｃ，６９，３４：　Ｈ，４，６７参考例７ メチル　１，３，４．５−テトラ−Ｏ−ベンゾイル−Ｄ
−イド−２−へプチュロビラノシド２．７−アンヒドロ
−１，３，４，５−テトラ−０−ベンゾイル−β−Ｄ−
イドー２−へプチュロピラノース（３，０ｇ）をメタノ
ール（３０，ｄ）とオルトぎ酸メチル（１５Ｔｎ１．）
の混合液に溶解し、塩化亜鉛（３，０ｇ）を加えて室温
で４０時間攪拌した。反応液を減圧濃縮し、残留物を酢
酸エチルと水に分配した。酢酸エチル層を２Ｎ塩酸と飽
和炭酸水素ナトリウム溶液で洗浄し、無水硫酸ナトリウ
ムで乾燥後減圧下に溶媒を留去した。残留物をシリカゲ
ルのカラムクロマト（２００ｄ）に付し、トルエン−酢
酸エチル（５：Ｌｖ／ｖ）で溶出した。溶出両分を減圧
下に濃縮乾固してメチル　１．３．４．５−テトラ−０
−ベンゾイル−Ｄ−イド−２−へプチュロピラノシドの
白色粉末（１，０５ｇ）を得た。

Ｎ　Ｍ　Ｒ（ＣＤＣｌ２）δ：　２．３６（ＬＨ，ブロ
ードｓ　、　−０ｉｌ）　、　３．６９（３１１，ｓ、
　−０ＣＩＩ３）　、　３．９７（ＩＩＩ、　ｄｄ、　
Ｊ　＝　６．５１１ｚ、　９．５１１ｚ、　７−Ｃｌｉ
）　。

４、２１（ＩＩＩ、ｄｄ、　Ｊ　＝　７１！ｚ、　９．
５Ｈｚ、　？　−ＣＩり　、　４．５６（２１（、ｓ　
、　１−Ｃ１１ｚ）　、　４　、６０〜４．７５（ｉｌ
ｌ、　ｍ、　６−ＣＩり　、　５．３１（ｌｉｔ、　ｄ
ｄ、　Ｊ＝　５１ｉｚ、　８゜５１１ｚ、５−Ｃ１ｌ）
　、　５．８２（ＩＩＩ、　ｄ、　Ｊ　＝　８．５１１
ｚ、　３−Ｃ１１）　、５．９６（ＩＨ，ｔ　。

Ｊ＝８．５１１ｚ、４−ＣｔＤ、７．１５〜７．７（１
２Ｈ，ｍ）および７．８〜８゜２（８Ｈ，ｍＸｃｅＨｓ
Ｘ　４）。

元素分析：Ｃ３ｅＨｚｘＯｘ 計算値（％）：Ｃ，６７，４９；　１１，５．０３実験
値（％）：Ｃ，６６，９８；　ＩＩ、４．７４参首例８ メチル　１，３．４．５−テトラ〜○−ベンゾイル−７
−デオキンー７−ヨードー〇−イド−２−ヘプチュロピ
ラノシド メチル　１．３，４．５−テトラ−０−ベンゾイル−Ｄ
−イド−２−へプチュロピラノンド（９５０ｍｇ）をＤ
ＭＦ（１６１ｎｆｌ）に溶解し、トリフェニルホスフィ
ン（１，６５，ｇ）とＮ−ヨードこはく酸イミド（＋、
２ｇ）を加えて室温で一夜攪拌した。反応液を氷水（１
００ｄ）に加え、生じた油状物を酢酸エチルで抽出した
。酢酸エチル抽出液を飽和チオ硫酸ナトリウム溶液、２
Ｎ塩酸および飽和炭酸水素すトリウム溶液で洗浄し、無
水硫酸ナトリウムで乾燥後減圧下に溶媒を留去した。残
留物をシリカゲルのカラムクロマト（’２００ｄ）に付
し、トルエン−酢酸エチル（１０：Ｉｖ／りで溶出した
。溶出画分を減圧下に濃縮乾固してメチル１，３，４．
５−テトラ−Ｏ−ベンゾイル−７−ゾオキシー７−ヨー
ドーＤ−イド−２−へプチュロピラノシドの白色粉末（
７８０ｍｇ）を得た。

参考例９ メチル　１，３，４．５−テトラ−Ｏ−ベンゾイル−７
−ジオキシ−し一キシロー２−ヘプト−６−エノウロピ
ラノンド　〔すなわち、メチルＩ、３゜４．５−テトラ
−０−ベンゾイル−７−ゾオキシーＤ−イト−２−ヘプ
ト−６−エノウロピラノシド〕 メチル　１．．３，４．５−テトラ−０−ベンゾイル−
７−ゾオキシー７−ヨードーＤ−イド−２−へプチュロ
ピラノシド（５００ｍｇ）をピリジン（５ｄ）に溶解し
、ふっ化銀（１，０ｇ）を加えて室温で１８時間攪拌し
た。反応液にエチルエーテル（＋００ｄ）を加えて不溶
物をろ過し、エチルエーテルで洗浄した。ろ液と洗液を
集めて減圧濃縮し、残留物を酢酸エチルに溶解し、２Ｎ
塩酸と飽和炭酸水素ナトリウムで洗浄し、無水硫酸ナト
リウムで乾燥後、減圧下に溶媒を留去した。残留物をシ
リカゲルのカラムクロマト（、ｌ００Ｔｎ１）に付し、
トルエン−酢酸エチル（９：１ｖ／ｖ）で溶出した。溶
出画分を減圧下に濃縮乾固してメチル　Ｉ　、３．４　
。

５−テトラ−Ｏ−ベンゾイル−７−デオキンーし一キシ
ロー２−ヘプト−６−エノウロピラノンドの白色粉末（
２４９ｍｇ）を得た。

Ｎ　Ｍ　Ｒ（ＣＤＣｌ２）δ：３．６８（３１１，ｓ、
−０ＣＨ３＞、４．４５（２１１゜ブロードｓ、　ｌ　
−Ｃｌｌｚ）　、　５．３２（ｌ１１．ｄ、　Ｊ　＝　
９１１ｚ、５−ＣＩまたは３−Ｃｌ１）、５．６４（ｌ
Ｈ，ｄ、Ｊ＝　９１１ｚ、３−Ｃ１１または５−Ｃｔｌ
）、５．８１（１１１，ｔ、Ｊ＝９１１ｚ、４−Ｃ１１
）、５．９１およびｅ、ｏ３＜各１１１．ｓ、７−ＣＨ
ｔ）、７．２〜７．７（１２Ｈ，ｍ）および７．８〜８
．２（８Ｈ，ｍ）（Ｃ，ｎ５Ｘ　４）。

元素分析：　Ｃｓａｏ　３００　ｔ。

計算値（％）：Ｃ，６９，５６；　Ｈ，４，８６実験値
（％）：Ｃ，７０，０３；　Ｈ，５，０９参考例ｌ０ （ｌΣ）−（１（ＯＨ）、２，４．５／１．３）−１−
Ｃ−（ヒドロキシメチル）−１，２，３，４，５−シク
ロヘキサンペントールおよび（１Σ）−（１（ｏＨ）。

２．１１／１，３．５）−１−Ｃ−（ヒドロキシメチル
）−１，２，３，４，５−シクロヘキサンペントール２
Ｄ−（２，４，，５（ＯＨ）／３．５）−２，３，４−
トリー〇−ベンゾイル−５−（ベンゾイルオキツメチル
）−２，３，４，５−テトラヒドロキシシクロヘキサノ
ン（ｉ、Ｏｇ）をメタノール−テトラヒドロフラン（１
：　　１．３０４）に溶解し、氷水で冷却下に水素化は
う素ナトリウム（２５０ｍｇ）を加え、同温度で２時間
撹拌した。反応液を減圧濃縮後、残留物を酢酸エチルと
水に分配した。　酢酸エチル層を２Ｎ塩酸と飽和炭酸水
素ナトリウム溶液で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥
後、減圧濃縮した。残留物をメタノール−アセトン−２
Ｎ水酸化ナトリウムＣ２：６：３．２２０滅）に溶解し
、室温で一夜撹拌した。反応液を減圧濃縮し、残留物に
水（約５０−）を加えて濾過した。　濾液をダウエック
ス５０ｗｘ８（）（“型、２５０滅）のカラムクロマト
に付し、水で溶出し、溶出画分を減圧濃縮した。残留物
をダウエックスｌＸ２（ＯＨ−型。

４００ｍ１）のカラムクロマトに付し、水で溶出した。

先に溶出された両分（５７０〜７６０ｄ）と後に溶出さ
れた両分（７６５〜１０５０ｄ）に分離した。後に溶出
された両分を減圧濃縮し、残留物を再びダウエックスＩ
ｘ２（ＯＨ−型、６００旋）のカラムクロマトに付し、
水で溶出し、先に溶出された両分（０７５〜１，０３ρ
）と後に溶出された両分（１，１〜１．４ｆ２）に分離
しｆこ。後に溶出された両分を減圧濃縮後、凍結乾燥し
て（ｌ　５）−（１（ＯＨ）、２，４，５７１，３）−
１−Ｃ−（ヒドロキシメチル）−１，２，３，４，５−
シクロヘキサンペントールの白色粉末（４９ｍｇ）を得
た。１回目と２回目のダウエックスｌｘ２のカラムクロ
マトで先に溶出された両分を集め、減圧濃縮後、凍結乾
燥して（ｌβ−）−（１（ＯＨ）、２，４．／１，３゜
５）−１−Ｃ−（ヒドロキシメチル）−１，２，３゜４
．５−シクロヘキサンペントールの白色粉末（６８ｍｇ
）を得た。

（ｌジ）−（１（ＯＨ）、２．４／１，３．５）−１−
Ｃ−（ヒドロキシメチル）−１，２，３，４，５＝シク
ロヘキサンベントール（先に溶出された異性体）： Ｎ　Ｍ　Ｒ（Ｄ２０）δ：　１．６３　（１８，ｄｄ、
　Ｊ＝１２Ｈｚ、　１４１１ｚ）。

２．１４（１）１．　ｄｄ、　Ｊ＝５１１ｚ、１４Ｈｚ
）、３．２５〜４．１（６Ｈ，ｍ）。

（Ｉジ）−（１（ＯＨ）、２，４．．５／１．３）−１
−Ｃ−（ヒドロキシメチル）−１，２，３，４，５−シ
クロヘキサンペントール（後に溶出された異性体）； Ｎ　ＭＲ（ＤｔＯ）δ：１．７９　（１８，ｄｄ、　Ｊ
＝　３Ｈｚ、　１５．５１１ｚ）。

２．１２（ｉｌｌ、　ｄｄ、Ｊ＝４１１ｚ、１５．５Ｈ
ｚ）、　３．４〜４．４５（ａｌｌ、　ｍ）。

実施例１ ２Ｄ−（２，＝１．５（ＯＨ）／３，５）−２，３，４
−トリー〇−ベンゾイル−５−（ベンゾイルオキツメチ
ル）−２，３，４，５−テトラヒドロキシシクロヘキサ
ノン メチル　１，３，４．５−テトラ〜Ｏ−ヘンシイルー７
−ゾオキシーし一キシロー２−ヘプト−６−エノウロビ
ラノシド［すなわち、Ｉ、３，４゜５−テトラ−０−ベ
ーベンゾイル−７−デ才キシーＤ−イド−２−ヘプト−
６−エノウロビラノンド］（６２０ｍｇ）を８０％（ｖ
／　ｖ）アセトン水（４０旋）に溶解し、塩化第二水銀
（２７５ｍｇ）を加えて室温で８時間攪拌した。反応液
を約２０滅に減圧濃縮し、濃縮液に酢酸エチル（１００
Ｍｌ）と水（１００滅）を加え、攪拌後、酢酸エチル層
を分離し、２Ｎ塩酸と飽和炭酸水素ナトリウム溶液で洗
浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧下に溶媒を留
去した。残留物をシリカゲルのカラムクロマト（６０祿
）に付し、トルエン−酢酸エチル（５：　！　ｖ／ｖ）
で溶出した。溶出画分を減圧下に濃縮乾固して２Ｄ−（
２，４，５（Ｏｌ−Ｉ）／３．５）−２，３，４−トリ
ー〇−ベンゾイル−５−（ペンゾイルオキンメチル）−
２，３，４，５−テトラヒドロキシシクロヘキサノンの
白色粉末（２４８ｍｇ）を得た。

薄層クロマトグラフィー（Ｔ　Ｌ　Ｃ、シリカゲル６０
Ｆ−２５４，メルク社製）：トルエンー酢酸エチル（２
：ｌｖ／ｖ）、Ｒｆ　Ｏ，５２：）ルエンーアセトン（
９：Ｉｖ／ｖ）、　ＲｒＯ，３１；ｎ−ヘキサン−酢酸
エチル（３：２ｖ／ｖ）、ＲｒＯ，３８；溶解性：メタ
ノール、酢酸エチル、トルエン。

アセトン、クロロホルムに可溶、水９石油エーテルに不
溶： Ｎ　Ｍ　Ｒ（ＣＤＣＩ　ｓ　）δ：　２．３８（１Ｂ、
ブロードｓ、−０［（）、２．８８および３．０４（各
ＩＨ，ＡＢＱｊ＝　１４．５Ｈｚ、６−ＣＨ，）、４．
８１（２１゜ｓ　、　−ＣＩＩｔＯ−）　、　５．４３
（ＬＨ，ｄ、　Ｊ　＝　ＩＱＩ（ｚ、　４−Ｃ１１）、
　５．８１（ＩＨ，ｔ　。

Ｊ＝１０１１ｚ、３−ＣＨ）、　６．１１（ＬＨ，ｄ、
Ｊ＝ｌＧＨｚ、２−ＣＩ）、７．２〜７．７（２１１，
ｍ）および７．８〜８．３（ｌｌｌＨ，ｆ！１）（ｃ＠
Ｈ，Ｘ　４）。

元素分析：（，１ｓＨｔｓＯｔ。

計算値（％）：Ｃ，６９，０７；　１１，４．６４実験
値（％）：Ｃ，６８，７４Ｈ，５，０３実施例２ （ｌジ）−（１（ＯＨ）、２，４．５／１．３）−５−
（〔２−ヒドロキシ−１−（ヒドロキシメチル）エチル
コアミノ）−１−Ｃ−（ヒドロキシメチル）−１゜２．
３．４−シクロヘキサンテトロール２Ｄ−（２，４，５
（ＯＨ）／３．５）−２，３，４−トリー〇−ベンゾイ
ル−５−（ベンゾイルオキシメチル）−２，３，４゜５
−テトラヒドロキシシクロヘキサノン（４１０＋ａｇ）
と２−アミノ−１，３−プロパンジオール（２８０ｍｇ
）を酢酸−エタノール（１：９ｖ／ｖ、　１５Ｍ１）に
溶解し、室温で３０分間攪拌後、シアノ水素化はう素ナ
トリウム（３００ｍｇ）を加えて室温で一夜ｍ拌した。

反応液を減圧下に濃縮乾固し、残留物をメタノール−ア
セトン−１Ｎ水酸化ナトリウム（１：１　：２ｖ／ｖ、
Ｉ　Ｏ（ＩＦｎＩｌ）に溶解し、室温で５．５時間攪拌
後、減圧下に有機溶媒を留去した。濃縮液を２Ｎ塩酸で
Ｉ）Ｈｌに調節し、酢酸エチルで洗浄後、ダウエックス
５０Ｗｘ８（Ｈ中型、１００ｄ）を加えて３０分間室温
で攪拌した。この反応混合物をダウエックス５０Ｗｘ８
（Ｈ中型、５０ｄ）を充填したカラムの上に加え、カラ
ムを水洗後、０．５Ｎアンモニア水で溶出した。溶出画
分を減圧濃縮し、残留物をアンバーライトＣＧ−５０（
ＮＨ，中型、２５０ｄ）のカラムクロマトに付し、水で
溶出した。溶出画分を減圧濃縮し、残留物にエタノール
を加えて１５分間過熱還流した後、減圧濃縮した。濃縮
液（約２１ｎｌ）を−夜室温に放置すると（■主）−（
＋　（ＯＨ）、　２　。

４．５／１．３）−５−（（２−ヒドロキシ−１−（ヒ
ドロキシメチル）干チル〕アミノ）−ｔ−Ｃ−（ヒドロ
キシメチル）−１，２，３，４−シクロヘキサンテトロ
ールの白色粉末が得られた。　　、〔α）、　＋２６．
９°（Ｃ＝　１．８．Ｏ）　；Ｎ　Ｍ　Ｒ（Ｄ＊Ｏ）δ
：１−、５４′（ｊＨ，ｄｄ、Ｊ＝　３１１ｚ、１５１
１ｚ、６−ＣＨａｘ）。

、’　　　　２．１０（１１１，ｄｄ、、Ｊ＝３１１ｚ
、ｌ５１１ｚ、　６−Ｃ１１ｅｑ）、　２．９０　（Ｉ
ＩＩ’、　　’ｑｕｉｎｔ、、Ｊ＝　５Ｈｚ’、　−Ｎ
−ＣＨ）、３．３５〜４．０（１０ｔｌ、ｍ）。

実施例３ （ｌジ）−（１（ＯＨ）、２，４．５／１．３）　−５
−（（２−ヒドロキシメチル）アミノ）−１−Ｃ−（ヒ
ドロキシメチル）−１，２，３，４−シクロヘキサンテ
トロールおよび（ｌ且）−（１（ＯＨ）、２．４／ｌ。

３．５）−５−（（２−ヒドロキシメチル）アミノ〕−
Ｉ−Ｃ−Ｃヒドロキシメチル）−１，２，３，４−シク
ロヘキサンテトロール ２Ｄ−（２，４，５（ＯＨ）／３．５）−２，３，４−
トリー〇−ベンゾイル−５−（ベンゾイルオキシメチル
）−２，３，４，５−テトラヒドロキシシクロヘキサノ
ン（８８０ｍｇ）とエタノールアミン（１，０１ｎ１．
）をメタノール（５０ｄ）に溶解し、シアノ水素化はう
素ナトリウム（１，０ｇ）を加えて室温で一夜５−律し
た。反応液を減圧下に濃縮し、残留物を　　　・水（５
０ｄ）と酢酸エチル（５０ｄ）に分配させた。酢酸エチ
ル層を分取し、水層萎更に酢酸エーチ゛ルで抽　　″　
　　−出した。酢酸エチル層を合わせて、飽和塩化ナト
リウム溶液で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減
圧濃縮した。残留物をメタノール（１３〇−）に溶解し
、ＩＮ水酸化ナトリウム（７０ｔｎ１）を加えて室温で
一夜攪拌した。反応液を２Ｎ塩酸でｐＨ４に調節後、減
圧濃縮した。残留物を水（５０最）と酢酸エチル（５０
ｄ）に分配し、水層を分取し、更に酢酸エチルで洗浄後
、ダウエックス５０Ｗ×８（Ｈ中型、４００ｄ）のカラ
ムに吸着させ、カラムを水洗後、０．５Ｎアンモニア水
で溶出した。

溶出画分を減圧濃縮し、アンバーライトＣＧ−５０（Ｎ
Ｈ，小型、２５０ｄ）のカラムに吸着させ、カラムを水
洗後、０．ＩＮアンモニア水で溶出した。溶出画分を減
圧下に濃縮乾固し、残留物をダウエックスｌＸ２（ＯＨ
−型、４００ｄ）のカラムクロマトに付し、水で溶出し
た。先（ど溶出される両分（３６０〜４８０ｄ）を減圧
濃縮後、凍結乾燥すると（ｌΣ）−（１（ＯＨ）、２．
４／１，３．５）−５−〔（２−ヒドロキシエチル）ア
ミノ）−１−Ｃ−（ヒドロキシメチル）−１，２，３，
４−シクロヘキサンテトロール（５９ｍｇ）が、後に溶
出される両分（５２０〜６８Ｑｄ）を減圧濃縮後、凍結
乾燥すると（ｌ　５）−（１（ＯＨ）、２，４．５／１
．３）−５−〔（２−ヒドロキシエチル）アミノ）　−
１−Ｃ−（ヒドロキシメチル）−１，２，３，４−シク
ロヘキサンテトロール（２２８ａ＋ｇ）が得られた。

（Ｉ　５）−（１（ＯＨ）、２．４／　１．３．５）−
５−〔（２−ヒドロキシエチル）アミノ）−１−Ｃ−（
ヒドロキシメチル）−１，２，３，４−シクロヘキサン
テトロール（先に溶出された異性体）：Ｎ　Ｍ　ｎ　Ｃ
ＤｔＯ”）δ：　１．１６（ｌｉｔ、ｔ、Ｊ＝　１２１
１ｚ、６−ＣＨａｘ）。

２、５０（ｉｌｌ、ｄｄ　、　Ｊ　＝　４Ｈｚ　、　１
２１１ｚ、　６−ＣＩＩｅＱ）　、　２．５０〜３．０
５（３Ｈ。

ｍ、５−Ｃｌ１．Ｎ−Ｃ１１ｔ）、３．２５〜３．９５
（７１１，ｍ）。

（ｌ影）（１（ＯＨ）、２，４．５／１．３）　−５−
〔（２−ヒドロキシエチル）アミノ）−１−Ｃ−（ヒド
ロキシメチル）−１，２，３，４−シクロヘキサンテト
ロール（後に溶出された異性体）：Ｎ　Ｍ　Ｒ（Ｄ、Ｏ
）δ：１．５２（ＬＨ，ｄｄｊ＝　３Ｈｚ、　１５Ｈｚ
、６−ＣＩｌａｘ）。

２、１４（ＩＨ，ｄｄ、Ｊ　＝　３．５Ｈｚ、　１５１
１ｚ、　６−Ｃ１［ｅｑ）　、　２．２５〜３．１５（
２Ｉｔ、ｍ、Ｎ−ＣＨＪ、３．２５（１１１，ｑ、Ｊ＝
３１１ｚ、５−Ｃ１１）、　３．３５〜４．０（７１１
，ａ＋）。

元素分析：ＣｓＨ＋ｅＮＯｅ 計算値（％）：Ｃ，４５，５６；　Ｉ＋、８．０７．　
Ｎ、５．９０実験値（％）：Ｃ，４５，５９；　１１．
８．０３；　Ｎ、５．９９実施例４ （１ジ）−（１（ＯＨ）、２，４．５／１．３）−５−
（（（Ｒ）−ａ−（ヒドロキシメチル）ベンジルコアミ
ノ）−１−Ｃ−（ヒドロキシメチル）−１，２，３゜４
−シクロヘキサンテトロール ２Ｄ−（２，４，５（ＯＨ）／３．５）−２，３，４，
−トリー０−ベンゾイル−５−（ベンゾイルオキシメチ
ル）−２，３，４，５−テトラヒドロキシシクロヘキサ
ノン（８６０ｍｇ）とＤ−フェニルグリシツール・酢酸
塩（９５０ｎ＋ｇ）をＤ　Ｍ　Ｆ　（４５ｄ）に溶解し
、シアノ水素化はう素ナトリウム（６５０ｍｇ）を加え
て５５℃で１２時間攪拌した。反応液を減圧濃縮し、残
留物を酢酸エチル（１００ｄ）と水（５０ｄ）に分配し
た。酢酸エチル層を２％酢酸（Ｖ＃）および飽和炭酸水
素ナトリウム溶液で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥
後減圧濃縮した。残留物をメタノール−アセトン（５：
３　ｖ／ｖ、　８０ｄ）に溶解し、ＩＮ水酸化ナトリウ
ム（２０ｄ）を加えて室温で３゜５時間攪拌した。反応
液を２Ｎ塩酸でｐＨ３に調節後、減圧濃縮した。残留物
を水（１００−）と酢酸エチル（５０ｄ）に分配し、水
層を分離し、酢酸エチルで洗浄後、ダウエックス５０Ｗ
Ｘ８（Ｈ”型、１５０ｄ）のカラムクロマトに付し、水
洗後、０．５Ｎアンモニア水で溶出した。溶出画分を減
圧濃縮後、アンバーライトＣＧ−５０（ＮＨ４＋型。

１８０１ｎ１）のカラムクロマトに付し、水で溶出した
。溶出画分を減圧濃縮し、冷蔵厘中に放置するとＮ−（
（Ｒ）−α−（ヒドロキシメチル）ベンジルコパリオー
ルアミンの白色結晶（１５０ｍｇ）が得られた。融点　
１５７−１５８℃ニ ー６．５°（ｃ＝１．０．１ＮＨＣｆｆ）；Ｎ　Ｍ　Ｒ
（ｏｔｏ）δ　：　１，４３（ＩＨ，ｄｄ、Ｊ＝３．５
１１ｚ、　１５１１ｚ。

６−　Ｃ１１ａｘ）、　１．７３（ｉｌｌ、ｄｄ、Ｊ＝
３．５Ｈｚ、１５　Ｈｚ、６−Ｃｌ１ｅｑ）。

３．２５−３．７（４１１，ｍ）　、　３．７−４．０
（５１Ｌ　ｍ）　、　７．５８（５１１，ｓ　、Ｐｈ）
　。

実施例５ （ｌジ）−（１（ＯＨ）、２．’４．５／１．３）−５
−アミノ−１−Ｃ−（ヒドロキシメチル）−１，２，３
゜４−シクロヘキサンテトロール　（パリオールアミ　
ン） ａ）　　　２Ｄ−（２，４，５（ＯＩＯ／３．５）−２
，３゜４−トリー〇−ベンゾイル−５−（ベンゾイルオ
キシメチル）−２，３，４，５−テトラヒドロキシシク
ロヘキサノン（ｔ、Ｏｇ）のメタノール溶液（２００轍
）に塩酸ヒドロキシルアミン（４００ｍｇ）およびピリ
ジン（２滅）を加え、室温で一夜攪拌した。

反応液を減圧濃縮し、残留物に酢酸エチル（１００７ｎ
Ｉｌ）および水（２０ｄ）を加えて分配し、酢酸エチル
層を分取した。酢酸エチル層を２Ｎ塩酸、飽和炭酸水素
ナトリウム溶液および水で洗浄後、無水硫酸ナトリウム
で乾燥濃縮乾固した。残留物をシリカゲル（約１００−
）のカラムクロマトに付し、トルエン−酢酸エチル（１
０：　１　ｖ／ｖ）で洗浄後、トルエン−酢酸エチル（
５：　１　ｖ／ｖ）で溶出した。

溶出画分を減圧濃縮乾固して２Ｄ−（２，４，５（ＯＨ
）／３．５）−２，３，４−）ソー０−ベンゾイル−５
−（ベンゾイルオキシメチル）−２，３，４゜５−テト
ラヒドロキシシクロへキサノン　オキシムの白色粉末（
４１０ｍｇ）を得た。

ｂ）　　上記のシクロへキサノン　オキシム（４１０ｍ
ｇ）をメタノール（２０ｄ）に溶解し、濃アンモニア水
（４滅）を加え、室温で一夜攪拌した。

反応液に水を加えて減圧濃縮乾固し、更に水を加えて減
圧濃縮した。濃縮液（約５０旙）に酢酸（２蔵）を加え
、酢酸エチルで洗浄し、水層を減圧濃縮して有機溶媒を
留去した後、再び水を加えて約５０滅とした。この水溶
液に二酸化白金（２００ｍｇ）を加え、水素気流中、室
温で４時間攪拌した。

触媒をろ去、水洗し、ろ液および洗液を減圧濃縮乾固し
た。残留物をアンバーライトＣＧ−５０（ＮＨ串型、１
８０ｄ）のカラムクロマトに付し、水（３００ｄ）で洗
浄後、０．０５Ｎアンモニア水で溶出した。溶出画分（
１３３０〜１８８０１ｎｉ）を減圧濃縮後、凍結乾燥し
てパリオールアミンの白色粉末（６９ｍｇ）を得た。

実施例６ ”（Ｉ　５）−（１（Ｏｆ−（）、２，４．５／１．３
）−２゜３．４−１リ−０−ベンジル−５−［Ｃ２−ヒ
ドロキシ−１−（ヒドロキシメチル）エチルコアミノ］
−Ｉ−Ｃ−（ベンジルオキシメチル）−１，２，３゜４
−シクロヘキサンテトロール （ｌ影）−（１（ＯＨ）、２．４／１．３）−２，３゜
４−トリー〇−ベンジル−１−Ｃ−（ベンジルオキシメ
チル）−５−オキソ−１，２，３，４−シクロヘキサン
テトロール［本化合物は白色結晶で、融点　８４〜８５
°Ｃ： ＩＲ（ＫＢｒ）　：　３４４０．１７３５　ｃｍ−’　
　；ＮＭＲ（ＣＤＣＱ、）６２．４５（ｉｌｌ、ｄ、Ｊ
＝１５Ｈｚ）、　２．８２（ｌ１１．ｄ、Ｊ＝１５１１
ｚ）、　３．１５（ＩＨ，ｄ、　Ｊ＝９Ｈｚ）、　３．
５３（１１゜ｄ、Ｊ＝９１１ｚ）、　３．９５〜４．１
５（３）１．ｍ）、４．４０〜５．０５（８Ｂ、ｍ）。

７．０５〜７．５５（２０１１，ｍ）　：元素分析値：
　Ｃ３５Ｈ３８０１１ 計算値（％）：　Ｃ，７６，０６、Ｈ，６，５７実験値
（％’）：　Ｃ，７６，１１：Ｈ，６，４７の物性を示
す、］（６００ｍｇ）と２−アミノ−Ｉ。

３〜プロパンジオール（２３０ｍｇ）をメタノール（４
０ｙ、ｆｆ１）に溶解し、室温で２４時間撹拌後、氷水
で冷却下に水素化はう素ナトリウム（１，０ｇ）を加え
、氷水で６却下に１６時間撹拌した。反応液を減圧濃縮
し、残留物を酢酸エチル（１４０ｄ）と水（５０ｄ）に
分配した。酢酸エチル層を分離し、水洗し、無水硫酸ナ
トリウムで乾燥後、減圧濃縮した。

残留物をシリカゲルのカラムクロマト（６０ｄ）に付し
、酢酸エチルで溶出した。溶出画分を減圧濃縮し、更に
減圧下に乾燥して（ｌΣ）−（１（ＯＨ）。

２．４．５／１．３）−２，３，４−）リーＯ−ベンジ
ル−５−［［２−ヒドロキシ−１−（ヒドロキシメチル
）エチルコアミノ］−１−Ｃ−（ベンジルオキシメチル
）−１，２，３，４−シクロヘキサンテトロールの白色
粉末（３８０ｍｇ）を得た。

［α戸？）＋３ｏ、ｏｏ（Ｃ＝　１　、　ＣＨＣＣａ）
。

元素分析値：　Ｃｓ５Ｈ４ｓＮＯｙ 計算値（％）：　Ｃ，７２，７０、Ｉ−Ｉ、７．２３　
　。

Ｎ、２．２３ 実験値（％）：　Ｃ，７２，４３；　Ｈ，７，２７。

Ｎ、２．３１ 実施例７ （ＩＳ）−（１（ＯＨ）、２，４．５／１．３）−５−
４［２−ヒドロキシ−１−（ヒドロキシメチル）エチル
コアミノ］−ｘ−ｃ−（ヒドロキシメチル）−１゜２．
３．４−シクロヘキサンテトロール（Ｉ　５）−（１（
Ｏ）（）、２，４．５／Ｉ、３）−２゜３．４−トリー
〇−ベンジル−５−［［２−ヒドロキシ−１−（ヒドロ
キシメチル）エチルコアミノ］−１−Ｃ−（ベンジルオ
キシメチル）−１，２，３゜４−シクロヘキサンテトロ
ール（２００ｍｇ）を９０％ぎ酸−メタノール（１：　
　１９ｖ／ｖ、２０Ｍ１）に溶解し、パラジウム黒（１
００ｍｇ）を加えて窒素気流中室温で一夜撹拌した。触
媒を濾過し、５０％（ｖ／ｖ）メタノール水で洗浄後、
濾液と洗液を集め、減圧濃縮した。残留物をダウエック
ス５０ＷＸ８（Ｈ串型、７０ｄ）のカラムクロマトに付
し、カラムを水洗後、０．５アンモニア水で溶出した。

溶出画分を減圧濃縮し、残留物をアンバーライトＣＧ−
（ＮＨ＋型、１８０ｄ）のカラムクロマトに付し、水で
溶出した。溶出画分を減圧濃縮乾固し、残留物にエタノ
−、ル（１０７＋１１りを加えて約１０分間加熱還流後
、冷蔵庫中に一夜放置して（１ジ）−（１（ＯＨ）、２
．４．５／１．３）−５−ＥＥ２−（ヒドロキシメチル
）エチルコアミノ］−１−（ヒドロキシメチル）−１，
２，３，４−シクロヘキサンテトロールの白色結晶（８
０＋ｎｇ）を得た。

実施例８ （Ｉｓ）−（１（ＯＨ）、２．４／１．３）−２，３゜
４−トリー〇−ベンジル−１−Ｃ−（ベンジルオキシメ
チル）−５−ヒドロキシイミノ−１，２，３゜４−シク
ロヘキサンテトロール （ｉｓ）−（１（ＯＨ）、２．４／ｌ、３’）−２，３
，４−トリー〇−ベンジル−１−Ｃ−（ベンジルオキシ
メチル）−５−オキソ−１，２，３，４−シクロヘキサ
ンテトロール（５００ｍｇ）をメタノール（１０１ｎｆ
／、）に溶液し、塩酸ヒドロキシルアミン（１゜０ｇ）
および酢酸ナトリウム（５００ｍｇ）を加え、室温で一
夜撹拌した。反応液を減圧濃縮し、残留物に酢酸エチル
（６０ｄ）と水（２５７１ｆｔ）を加えてｔ５１拌した
。酢酸エチル層を分離し、２Ｎ塩酸と飽和炭酸水素ナト
リウム溶液で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減
圧濃縮した。残留物をシリカゲルカラムクロマト（ｌ　
ＯＯｄ）に付し、トルエン−酢酸エチル（４：　　１　
　ｖ／ｖ）で溶出した。

溶出画分を減圧濃縮乾固して（Ｉ　５）−（１（ＯＨ）
。

２．４／１．３）−２，３，４−トリー〇−ベンジル−
１−Ｃ−（ベンジルオキシメチル）−５−ヒドロキシイ
ミノ−１，２，３，４−シクロヘキサンテトロール（４
２０ｍｇ）を無色シロップとして得た。

ＮＭＲ（ＣＤＣＣ，＋Ｄ、０）δ：２．２９（ＩＨ，ｄ
、　Ｊ＝１５１１ｚ）、　３．２４（ＬＨ，ｄ、　Ｊ−
９Ｈｚ）、　３．２４（ＩＨ，ｄ、　Ｊ＝９Ｈｚ）、　
３．２５（ｌ）ｌ、　ｄＪ＝１５）１ｚ）、　３．５６
（１Ｂ、　ｄ、　Ｊ＝９Ｈｚ）。

３．７７（ＩＨ，ｄ、　Ｊ＝８Ｈｚ）、　４，０ｆ（Ｉ
ｎ、ｄ、Ｊ＝８Ｈｚ）、　４．４〜５．０（８Ｈｚ、　
ｍ）、　７．０５〜７．５（２０１１ｚ、　ｍ）元素分
析値：　Ｃ３５Ｈ３７Ｎ　Ｏｅ 計算値（％）：　Ｃ，７４，０５、Ｈ，６，５７。

Ｎ、２．４７ 実験値（％）：　Ｃ，７３，７７、Ｈ，６，６２。

Ｎ、２．７２ 実施例９ （Ｉ　５）−（１（ＯＨ）、２，４．５／１．３）−５
−アミノ−１−Ｃ−（ヒドロキシメチル）−１，２，３
゜４−シクロヘキサンテトロールおよび（ＩＳ）−（１
（ＯＨ）、２．４／１，３．５）−５−アミノ−１−〇
−（ヒドロキシメチル）−１，２，３，４−シクロヘキ
サンテトロール （Ｉ　５）−（１（ＯＨ）、２．４／１．３）−２，３
，４−トリー〇−ベンジル−ｔ−Ｃ−（ベンジルオキシ
メチル）−５−ヒドロキシイミノ−１，２，３，４−シ
クロヘキサンテトロール（３３０ｍｇ）をメタノール（
６０滅）に溶解し、ラネーニッケル（２００ｍｇ）を加
え、３．５〜３．９ｋｇ／ｃｍ’の加圧下に室温で２４
時間接接触光した。触媒を濾過し、メタノールで洗浄後
、濾液と洗液を合わせ減圧濃縮した。

残留物を９０％ぎ酸−メタノール（１：　　Ｉ　９ｖ／
ｖ。

２０滅）に溶解し、パラジウム黒（１００ｍｇ）を加え
、窒素気流中室温で４０時間撹拌しｆ：ｏ触媒を濾過し
、水−メタノール（１：　　ｌ　　ｖ／ｖ）で洗浄後、
濾液と洗液を合わせ減圧濃縮した。

残留物をアンバーライトＣＧ−５０（Ｎｌｑ型。

１００Ｍ１）のカラムクロマトに付し、カラムを水洗後
、０．ＩＮアンモニア水で溶出した。　先に溶出された
両分（２８０〜３８０ｒｎ１）と後に溶出された画分（
４２０〜６００ｄ）に分離し、れぞれの溶出画分を減圧
濃縮した。残留物をそれぞれダウエックス１ｘ２（ＯＨ
″″型、１５０ｄ）のカラムクロマトに付し水で溶出し
、溶出画分を減圧濃縮した。アンバーライトＣＧ−５０
カラムクロマトで先に溶出された両分より　（ｌジ）−
（１（ＯＨ）、２゜４、／１．３．５）−５−アミノ−
１−Ｃ−（ヒドロキシメチル）−１，２，３，４−シク
ロヘキサンテトロールの白色粉末（１０ｍｇ）を、後に
溶出された両分より（１旦）−（１（ＯＨ）、２，４゜
５／１．３）−５−アミノ−１−Ｃ−（ヒドロキシメチ
ル）−１，２゜３．４−シクロヘキサンテトロールの白
色粉末（７０ｍｇ）を得た。

（ｌジ）−（１（ＯＨ）、２，４．／１，３．５）−５
−アミノ−１−Ｃ’−（ヒドロキシメチル）−１，２，
３゜４−シクロヘキサンテトロール（先に溶出された異
性体）： ＮＭＲ（Ｄ、Ｏ）δ　１．５１（１１１，ｄｄ、Ｊ＝　
１１Ｈｚ、１４１１ｚ）。

１．９９（ＩＨ，ｄｄ、　Ｊ　＝４．５）１ｚ、１４Ｈ
ｚ）、２．８５〜３．８５（６Ｈ，ｍ）。

（ｌ主）−（１（ＯＨ）２，４．５／１．３）−５−ア
ミノ−ｔ−Ｃ−（ヒドロキシメチル）−１，２，３゜４
−シクロヘキサンテトロール（後に溶出された異性体）
： Ｎ　Ｍ　Ｒ（Ｄ　＊　０　）δ１．７４（ＩＨ，ｄｄ、
Ｊ＝　４Ｈ２，１５，５１１２）。

２．００（１１１，ｄｄ、　Ｊ　＝　３１１ｚ、　１５
．５１１ｚ）、　３．３５〜３．７２（５１１，ｍ）　
。

３．９１（１＋１．ｔｊ＝９．５Ｈｚ）。

元素分析値　Ｃ７ＨＩｓ　Ｎ　Ｏｓ・Ｈ１Ｏ計算値（％
）：　Ｃ，３９，８０；Ｈ，８，１１：Ｎ、６．６３ 実験値（％）：　Ｃ，３９，８９，Ｈ，８，１Ｂ。

Ｎ、６．５６

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ （式中、Ｒ＾１は水酸基の保護基を示す。）で表わされ
   る新規イノソース誘導体。 ２、一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ （式中、Ｒ＾１は水酸基の保護基を示す。）で表わされ
   る化合物と一般式Ｒ＾２−ＮＨ＿２（式中、Ｒ＾２はア
   ミン残基または水酸基を示す。）で表わされる第一アミ
   ンまたはヒドロキシルアミンとを反応させ、ついで還元
   反応に付し、所望により脱保護基反応に付すことを特徴
   とする一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ （式中、Ｒ＾３は水素原子または水酸基の保護基を、Ａ
   はアミン残基または水素原子を、結合手■はＲ配位また
   はＳ配位の結合手を示す。）で表わされる擬似アミノ糖
   またはその誘導体の製造法。