JPH0784434B2 - （α−アルキルチオビニル）アリ−ルスルホンとその製法 - Google Patents
（α−アルキルチオビニル）アリ−ルスルホンとその製法Info
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- 125000005362 aryl sulfone group Chemical group 0.000 title claims description 9
- 238000000034 method Methods 0.000 title description 2
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 15
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 claims description 8
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 claims description 8
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims description 8
- 238000005984 hydrogenation reaction Methods 0.000 claims description 2
- -1 carbon anions Chemical group 0.000 description 19
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 18
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 14
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 14
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 12
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 8
- DSYUXSFEDOLHRY-UHFFFAOYSA-N 1-methyl-4-(1-methylsulfanylethenylsulfonyl)benzene Chemical compound CSC(=C)S(=O)(=O)C1=CC=C(C)C=C1 DSYUXSFEDOLHRY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000005160 1H NMR spectroscopy Methods 0.000 description 6
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- KEAYESYHFKHZAL-UHFFFAOYSA-N Sodium Chemical compound [Na] KEAYESYHFKHZAL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 6
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 6
- 238000004440 column chromatography Methods 0.000 description 6
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000012044 organic layer Substances 0.000 description 6
- 239000000741 silica gel Substances 0.000 description 6
- 229910002027 silica gel Inorganic materials 0.000 description 6
- 239000012312 sodium hydride Substances 0.000 description 6
- 229910000104 sodium hydride Inorganic materials 0.000 description 6
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 6
- 230000002140 halogenating effect Effects 0.000 description 5
- HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N Chloroform Chemical compound ClC(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000002516 radical scavenger Substances 0.000 description 4
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 4
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZAFNJMIOTHYJRJ-UHFFFAOYSA-N Diisopropyl ether Chemical compound CC(C)OC(C)C ZAFNJMIOTHYJRJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- CSNNHWWHGAXBCP-UHFFFAOYSA-L Magnesium sulfate Chemical compound [Mg+2].[O-][S+2]([O-])([O-])[O-] CSNNHWWHGAXBCP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 3
- FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M Sodium chloride Chemical class [Na+].[Cl-] FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N Triethylamine Chemical compound CCN(CC)CC ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000004414 alkyl thio group Chemical group 0.000 description 3
- 125000004391 aryl sulfonyl group Chemical group 0.000 description 3
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 3
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 3
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 3
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 3
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 3
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 3
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 3
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 3
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- KZHBTICUIHILHL-UHFFFAOYSA-N 1-(1-chloro-1-methylsulfanylethyl)sulfonyl-4-methylbenzene Chemical compound CSC(C)(Cl)S(=O)(=O)C1=CC=C(C)C=C1 KZHBTICUIHILHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PIVJJDMQJQYJHH-UHFFFAOYSA-N 1-methyl-4-(1-methylsulfanyltridecylsulfonyl)benzene Chemical compound CCCCCCCCCCCCC(SC)S(=O)(=O)C1=CC=C(C)C=C1 PIVJJDMQJQYJHH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LVZWSLJZHVFIQJ-UHFFFAOYSA-N Cyclopropane Chemical compound C1CC1 LVZWSLJZHVFIQJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N Ethene Chemical compound C=C VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N Pyridine Chemical compound C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003905 agrochemical Substances 0.000 description 2
- 125000004390 alkyl sulfonyl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 2
- 238000006704 dehydrohalogenation reaction Methods 0.000 description 2
- 238000000921 elemental analysis Methods 0.000 description 2
- 238000000605 extraction Methods 0.000 description 2
- 239000012433 hydrogen halide Substances 0.000 description 2
- 229910000039 hydrogen halide Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- 125000002816 methylsulfanyl group Chemical group [H]C([H])([H])S[*] 0.000 description 2
- 239000003607 modifier Substances 0.000 description 2
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 2
- BWHMMNNQKKPAPP-UHFFFAOYSA-L potassium carbonate Chemical compound [K+].[K+].[O-]C([O-])=O BWHMMNNQKKPAPP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 2
- NDVLTYZPCACLMA-UHFFFAOYSA-N silver oxide Chemical compound [O-2].[Ag+].[Ag+] NDVLTYZPCACLMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YBBRCQOCSYXUOC-UHFFFAOYSA-N sulfuryl dichloride Chemical compound ClS(Cl)(=O)=O YBBRCQOCSYXUOC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000010792 warming Methods 0.000 description 2
- XAARLLNXZJTFPQ-UHFFFAOYSA-N 1-methyl-4-(methylsulfanylmethylsulfonyl)benzene Chemical compound CSCS(=O)(=O)C1=CC=C(C)C=C1 XAARLLNXZJTFPQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004179 3-chlorophenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(*)=C([H])C(Cl)=C1[H] 0.000 description 1
- 125000004172 4-methoxyphenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(OC([H])([H])[H])=C([H])C([H])=C1* 0.000 description 1
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical compound [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000002292 Radical scavenging effect Effects 0.000 description 1
- 239000000538 analytical sample Substances 0.000 description 1
- 150000001450 anions Chemical class 0.000 description 1
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N benzophenone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)C1=CC=CC=C1 RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012965 benzophenone Substances 0.000 description 1
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 1
- GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N bromine Substances BrBr GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052794 bromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 1
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 229940079593 drug Drugs 0.000 description 1
- 239000003814 drug Substances 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000002330 electrospray ionisation mass spectrometry Methods 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 150000002431 hydrogen Chemical class 0.000 description 1
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 1
- 150000007529 inorganic bases Chemical class 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000011987 methylation Effects 0.000 description 1
- 238000007069 methylation reaction Methods 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012299 nitrogen atmosphere Substances 0.000 description 1
- 150000007530 organic bases Chemical class 0.000 description 1
- 125000001037 p-tolyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(=C([H])C([H])=C1*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- 229910000027 potassium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N pyridine Natural products COC1=CC=CN=C1 UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001953 recrystallisation Methods 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
- 238000007086 side reaction Methods 0.000 description 1
- 229910001923 silver oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000000472 sulfonyl group Chemical group *S(*)(=O)=O 0.000 description 1
- 238000013022 venting Methods 0.000 description 1
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 1
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 1
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 1
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- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本発明は（α−アルキルチオビニル）アリールスルホン
誘導体及びその製法に関する。さらに詳しくは，本発明
は，一般式〔Ｉ〕 〔式中,Aは （R1は水素原子，低級アルキル基，アルコキシ基または
ハロゲン原子を示す）を,Rは低級アルキル基を示す〕で
表される（α−アルキルチオビニル）アリールスルホン
誘導体および，一般式〔II〕 〔式中,Aは （R1は水素原子，低級アルキル基，アルコキシ基または
ハロゲン原子を示す）を,Rは低級アルキル基を示す〕で
表される（α−アルキルチオエチル）アリールスルホン
誘導体をハロゲン化した後，脱ハロゲン化水素させるこ
とを特徴とする一般式〔Ｉ〕 〔式中,Aは （R1は水素原子，低級アルキル基，アルコキシ基または
ハロゲン原子を示す）を,Rは低級アルキル基を示す〕で
表される（α−アルキルチオビニル）アリールスルホン
誘導体の製法に関する。
誘導体及びその製法に関する。さらに詳しくは，本発明
は，一般式〔Ｉ〕 〔式中,Aは （R1は水素原子，低級アルキル基，アルコキシ基または
ハロゲン原子を示す）を,Rは低級アルキル基を示す〕で
表される（α−アルキルチオビニル）アリールスルホン
誘導体および，一般式〔II〕 〔式中,Aは （R1は水素原子，低級アルキル基，アルコキシ基または
ハロゲン原子を示す）を,Rは低級アルキル基を示す〕で
表される（α−アルキルチオエチル）アリールスルホン
誘導体をハロゲン化した後，脱ハロゲン化水素させるこ
とを特徴とする一般式〔Ｉ〕 〔式中,Aは （R1は水素原子，低級アルキル基，アルコキシ基または
ハロゲン原子を示す）を,Rは低級アルキル基を示す〕で
表される（α−アルキルチオビニル）アリールスルホン
誘導体の製法に関する。
本発明の前記一般式〔Ｉ〕で表される化合物は，医薬，
農薬の中間体としてだけでなく，高分子の改質や，感熱
材への利用等も考えられる有用な化合物である。
農薬の中間体としてだけでなく，高分子の改質や，感熱
材への利用等も考えられる有用な化合物である。
（従来の技術及び問題点） この様に有用な化合物であるにも係わらず，前記一般式
〔Ｉ〕で表される化合物は従来知られておらず，そのた
め，この化合物に期待される多くの用途も確認できなか
った。
〔Ｉ〕で表される化合物は従来知られておらず，そのた
め，この化合物に期待される多くの用途も確認できなか
った。
（解決した発明の内容とその態様） 本発明者は従来より一般式〔III〕 〔式中,Aは （R1は水素原子，低級アルキル基，アルコキシ基または
ハロゲン原子を示す）を,Rは低級アルキル基を示す〕で
表される（α−アルキルチオメチル）アリールスルホン
誘導体の合成研究を幅広く続けている（例えば，有機化
学合成協会誌，第42巻,1152頁（1984）；特開昭58−18
3,667;特開昭59−164,766;特開昭60−190,757;等。）。
ハロゲン原子を示す）を,Rは低級アルキル基を示す〕で
表される（α−アルキルチオメチル）アリールスルホン
誘導体の合成研究を幅広く続けている（例えば，有機化
学合成協会誌，第42巻,1152頁（1984）；特開昭58−18
3,667;特開昭59−164,766;特開昭60−190,757;等。）。
本発明は，この一連の研究の中で見出された。即ち，一
般式〔II〕で表される（α−アルキルチオエチル）アリ
ールスルホン誘導体をハロゲン化した後，脱ハロゲン化
水素させることによって，本発明の一般式〔Ｉ〕で表さ
れる（α−アルキルチオビニル）アリールスルホン誘導
体を得ることに初めて成功した。
般式〔II〕で表される（α−アルキルチオエチル）アリ
ールスルホン誘導体をハロゲン化した後，脱ハロゲン化
水素させることによって，本発明の一般式〔Ｉ〕で表さ
れる（α−アルキルチオビニル）アリールスルホン誘導
体を得ることに初めて成功した。
一般式〔II〕で表される（α−アルキルチオエチル）ア
リールスルホン誘導体のアリール基（式中のＡ）として
は， （R1は水素原子，低級アルキル基，アルコキシ基または
ハロゲン原子を示す）が用いられ，さらに具体的にはフ
ェニル基,p−トリル基,m−クロロフェニル基,p−メトキ
シフェニル基等が用いられる。
リールスルホン誘導体のアリール基（式中のＡ）として
は， （R1は水素原子，低級アルキル基，アルコキシ基または
ハロゲン原子を示す）が用いられ，さらに具体的にはフ
ェニル基,p−トリル基,m−クロロフェニル基,p−メトキ
シフェニル基等が用いられる。
この一般式〔II〕で表される化合物は，一般式〔III〕
で表される（α−アルキルチオメチル）アリールスルホ
ン誘導体のメチル化等によって容易に得られる。
で表される（α−アルキルチオメチル）アリールスルホ
ン誘導体のメチル化等によって容易に得られる。
化合物のハロゲン化は，塩素，塩化スルフリルあるいは
臭素の如き一般的なハロゲン化剤を用いることができ
る。
臭素の如き一般的なハロゲン化剤を用いることができ
る。
使用するハロゲン化剤の量は化合物に対して等モル量で
よいが，やや過剰に用いることは差支えない。反応は０
℃から室温の温度範囲で，クロロホルムやジクロロメタ
ンなど，通常ハロゲン化剤と反応しない溶媒中で好適に
行える。
よいが，やや過剰に用いることは差支えない。反応は０
℃から室温の温度範囲で，クロロホルムやジクロロメタ
ンなど，通常ハロゲン化剤と反応しない溶媒中で好適に
行える。
このようにして得られたハロゲン化化合物の脱ハロゲン
化水素は，ピリジンやトリエチルアミンの如き有機塩基
や酸化銀や炭酸カリウムの如き無機塩基の作用によって
も円滑に進行するが、更に本ハロゲン化化合物を単に加
熱することによっても脱ハロゲン化水素反応を行うこと
ができる。この製造法は，特別な塩基の使用を必要とせ
ず，経済的に有利である。この脱ハロゲン化水素を100
℃から200℃の範囲で行うのが，反応の円滑さならびに
収率の点から好ましい。この反応温度を達成し，制御を
容易にするために，この温度範囲内に沸点を有し，かつ
生成するハロゲン化水素と反応しない溶媒，例えば，ト
ルエンやキシレンの如き芳香族炭化水素中，その溶媒の
還流温度で反応を行うのが好ましい実施態様である。ま
た，窒素を通気することによって，発生したハロゲン化
水素を系外に追出し，反応をさらに加速することもでき
る。
化水素は，ピリジンやトリエチルアミンの如き有機塩基
や酸化銀や炭酸カリウムの如き無機塩基の作用によって
も円滑に進行するが、更に本ハロゲン化化合物を単に加
熱することによっても脱ハロゲン化水素反応を行うこと
ができる。この製造法は，特別な塩基の使用を必要とせ
ず，経済的に有利である。この脱ハロゲン化水素を100
℃から200℃の範囲で行うのが，反応の円滑さならびに
収率の点から好ましい。この反応温度を達成し，制御を
容易にするために，この温度範囲内に沸点を有し，かつ
生成するハロゲン化水素と反応しない溶媒，例えば，ト
ルエンやキシレンの如き芳香族炭化水素中，その溶媒の
還流温度で反応を行うのが好ましい実施態様である。ま
た，窒素を通気することによって，発生したハロゲン化
水素を系外に追出し，反応をさらに加速することもでき
る。
（発明の効果） 本発明の前記一般式〔Ｉ〕で表される化合物は，エテン
の一方の炭素にアルキルチオ基とアリールスニホニル基
を有することを特徴としている。この両基はともに隣接
する炭素陰イオンを安定化でき，従って、炭素陰イオン
の捕捉剤として機能する（参考例１〜３）。本発明中の
アリールスルホニル基は，アルキルスルホニル基よりそ
の隣接炭素陰イオン安定化能が著しく，炭素陰イオン捕
捉剤としての機能が高められる。さらにアルキルスルホ
ニル基とは異なり，スルホニル基に直結したアリール基
自体に陰イオンを生成することはなく，副反応を抑制で
き，極めて良好な炭素イオン捕捉剤となる。本発明の前
記一般式〔II〕で表される化合物は，ラジカル捕捉剤と
しても機能できる（参考例４）。これはアルキルチオ基
の隣接炭素陽イオン安定化能とアリールスルホニル基の
隣接炭素陰イオン安定化能が相乗されたことに基づく。
これらの捕捉剤としての著しい機能は，本発明の前記一
般式〔Ｉ〕で表される化合物の構造的特徴によってい
る。すなわち，エテンの一方の炭素のみにアルキルチオ
基とアリールスルホニル基を有し，かつ他方の炭素は水
素のみで置換され，捕捉されるべき炭素陰イオンやラジ
カルの攻撃が円滑に行なえる。これらの機能を有する本
発明化合物は，医薬，農薬の合成中間体としてばかりで
なく，高分子の改質や感熱材として利用できる。
の一方の炭素にアルキルチオ基とアリールスニホニル基
を有することを特徴としている。この両基はともに隣接
する炭素陰イオンを安定化でき，従って、炭素陰イオン
の捕捉剤として機能する（参考例１〜３）。本発明中の
アリールスルホニル基は，アルキルスルホニル基よりそ
の隣接炭素陰イオン安定化能が著しく，炭素陰イオン捕
捉剤としての機能が高められる。さらにアルキルスルホ
ニル基とは異なり，スルホニル基に直結したアリール基
自体に陰イオンを生成することはなく，副反応を抑制で
き，極めて良好な炭素イオン捕捉剤となる。本発明の前
記一般式〔II〕で表される化合物は，ラジカル捕捉剤と
しても機能できる（参考例４）。これはアルキルチオ基
の隣接炭素陽イオン安定化能とアリールスルホニル基の
隣接炭素陰イオン安定化能が相乗されたことに基づく。
これらの捕捉剤としての著しい機能は，本発明の前記一
般式〔Ｉ〕で表される化合物の構造的特徴によってい
る。すなわち，エテンの一方の炭素のみにアルキルチオ
基とアリールスルホニル基を有し，かつ他方の炭素は水
素のみで置換され，捕捉されるべき炭素陰イオンやラジ
カルの攻撃が円滑に行なえる。これらの機能を有する本
発明化合物は，医薬，農薬の合成中間体としてばかりで
なく，高分子の改質や感熱材として利用できる。
（実施例） 以下，実施例および参考例を挙げて本発明をさらに詳細
に説明するが，本発明はこれらによって限定されるもの
ではない。
に説明するが，本発明はこれらによって限定されるもの
ではない。
実施例.1 １−クロロ−１−メチルチオ−１−（ｐ−トリルスルホ
ニル）エタンの合成 １−メチルチオ−１−（ｐ−トリルスルホニル）エタン
976mgを無水クロロホルム20mlにとかし，氷冷下攪拌し
ながら塩化スルフリル0.43mlを３分かけて滴下した。さ
らに氷冷下で２時間，室温で２時間攪拌したのち，減圧
濃縮して淡黄色油状物1.217gを得た。これをカラムクロ
マトグラフィー（シリカゲル；ベンゼン：ヘキサン＝2:
1）で分離し１−クロロ−１−メチルチオ−１−（ｐ−
トリルスルホニル）エタン991mgを得た。
ニル）エタンの合成 １−メチルチオ−１−（ｐ−トリルスルホニル）エタン
976mgを無水クロロホルム20mlにとかし，氷冷下攪拌し
ながら塩化スルフリル0.43mlを３分かけて滴下した。さ
らに氷冷下で２時間，室温で２時間攪拌したのち，減圧
濃縮して淡黄色油状物1.217gを得た。これをカラムクロ
マトグラフィー（シリカゲル；ベンゼン：ヘキサン＝2:
1）で分離し１−クロロ−１−メチルチオ−１−（ｐ−
トリルスルホニル）エタン991mgを得た。
収率88％。1 H−NMR（CDCl3）：δ（ppm） 7.92（d,2H,J＝8.4Hz）,7.40（d,2H,J＝8.4Hz）,2.49
（s,3H,SCH3,s,3H）,2.01（s,3H）， IR（液膜）:2940,1598,1440,1327,1153,1070,820,720,6
40cm-1 実施例.2 １−メチルチオ−１−（ｐ−トリルスルホニル）エテン
の合成 １−クロロ−１−メチルチオ−１−（ｐ−トリルスルホ
ニル）エタン775mgを無水トルエン25mlにとかし，乾燥
窒素雰囲気下,32時間加熱還流した。減圧濃縮したのち
カラムクロマトグラフィー（シリカゲル；ベンゼン）で
分離して,1−メチルチオ−１−（ｐ−トリルスルホニ
ル）エテンを無色結晶として567mgを得た。
（s,3H,SCH3,s,3H）,2.01（s,3H）， IR（液膜）:2940,1598,1440,1327,1153,1070,820,720,6
40cm-1 実施例.2 １−メチルチオ−１−（ｐ−トリルスルホニル）エテン
の合成 １−クロロ−１−メチルチオ−１−（ｐ−トリルスルホ
ニル）エタン775mgを無水トルエン25mlにとかし，乾燥
窒素雰囲気下,32時間加熱還流した。減圧濃縮したのち
カラムクロマトグラフィー（シリカゲル；ベンゼン）で
分離して,1−メチルチオ−１−（ｐ−トリルスルホニ
ル）エテンを無色結晶として567mgを得た。
収率85％。融点:85〜86℃1 H−NMR（CDCl3）：δ（ppm） 7.84（d,2H,J＝8.4Hz）,7.33（d,2H,J＝8.4Hz）,6.56
（d,1H,J＝1.8Hz）,5.69（d,1H,J＝1.8Hz）,2.44（s,3
H）,2.29（s,3H） IR（KBr）:3010,1593,1307,1155,1115,1075,899,812,70
2,652cm-1 MS（E.I.）:m/e 228（M+,25）,140（12）,139（63）,138（13）,92（1
1）,91（33）,89（10）,75（10）,73（100）,65（32）,
63（12）,58（27）,45（33）,39（18） 参考例.1 １−エチル−1,2−ビス（メチルチオ）−２−（ｐ−ト
リスルホニル）シクロプロパンの合成（炭素陰イオン捕
捉の例） １−メチルチオ−１−（ｐ−トリルスルホニル）プロパ
ン92.4mgをN,N−ジメチルホルムアミド2mlにとかし，氷
冷下で水素化ナトリウム（60％含有,18.3mg）を加え氷
冷下で３分攪拌した。室温に上昇し,1時間攪拌した後ふ
たたび氷冷し１−メチルチオ−１−（ｐ−トリルスルホ
ニル）エテン91.0mgを加えた。同温で１時間攪拌した。
室温で上昇し３時間攪拌した。さらに水素化ナトリウム
21.5mgを加え,19時間攪拌した。反応混合物に水5ml加
え，イソプロピルエーテル（20ml×４）で抽出し，有機
層を飽和食塩水（3ml×２）で洗浄した。有機層を無水
硫酸マグネシウムで乾燥し，減圧濃縮して赤茶色油状物
143mgを得た。これをカラムクロマトグラフィー（シリ
カゲル；ベンゼン）で分離し１−エチル−1,2−ビス
（メチルチオ）−２−（ｐ−トリルスルホニル）シクロ
プロパン85.2mgを得た。収率71％。
（d,1H,J＝1.8Hz）,5.69（d,1H,J＝1.8Hz）,2.44（s,3
H）,2.29（s,3H） IR（KBr）:3010,1593,1307,1155,1115,1075,899,812,70
2,652cm-1 MS（E.I.）:m/e 228（M+,25）,140（12）,139（63）,138（13）,92（1
1）,91（33）,89（10）,75（10）,73（100）,65（32）,
63（12）,58（27）,45（33）,39（18） 参考例.1 １−エチル−1,2−ビス（メチルチオ）−２−（ｐ−ト
リスルホニル）シクロプロパンの合成（炭素陰イオン捕
捉の例） １−メチルチオ−１−（ｐ−トリルスルホニル）プロパ
ン92.4mgをN,N−ジメチルホルムアミド2mlにとかし，氷
冷下で水素化ナトリウム（60％含有,18.3mg）を加え氷
冷下で３分攪拌した。室温に上昇し,1時間攪拌した後ふ
たたび氷冷し１−メチルチオ−１−（ｐ−トリルスルホ
ニル）エテン91.0mgを加えた。同温で１時間攪拌した。
室温で上昇し３時間攪拌した。さらに水素化ナトリウム
21.5mgを加え,19時間攪拌した。反応混合物に水5ml加
え，イソプロピルエーテル（20ml×４）で抽出し，有機
層を飽和食塩水（3ml×２）で洗浄した。有機層を無水
硫酸マグネシウムで乾燥し，減圧濃縮して赤茶色油状物
143mgを得た。これをカラムクロマトグラフィー（シリ
カゲル；ベンゼン）で分離し１−エチル−1,2−ビス
（メチルチオ）−２−（ｐ−トリルスルホニル）シクロ
プロパン85.2mgを得た。収率71％。
なお，このものは，ほぼ１種のジアステレオマーであ
り，分析サンプルはエタノールからの再結晶により無色
結晶として得た。1 H−NMR（CDCl3）：δ（ppm） 7.85（d,2H,J＝8.4Hz）,7.33（d,2H,J＝8.4Hz）,2.45
（s,3H）,2.5〜2.2（m,2H）,2.27（d,1H,J＝7.2Hz）,2.
12（s,3H）,2.07（s,3H）,1.44（d,1H,J＝7.2Hz）,1.24
（t,3H,J＝6.6Hz） IR（KBr）:2920,1593,1420,1313,1281,1138,1081,812,7
08,679cm-1 元素分析:C14H20O2S3として 計算値 C:53.13％ H:6.37％ 実測値 53.25％ 6.38％ 融点 133.5〜134.2℃ 参考例.2 １−ドデシル−1,2−ビス（メチルチオ）−２−（ｐ−
トリルスルホニル）シクロプロパンの合成（炭素陰イオ
ン捕捉の例） １−メチルチオ−１−（ｐ−トリルスルホニル）トリデ
カン139mgをN,N−ジメチルホルムアミド2mlにとかし，
氷冷下で水素化ナトリウム（60％含有,32.8mg）を加え
氷冷下で４分攪拌した。室温に上昇し,1時間攪拌した後
ふたたび氷冷し１−メチルチオ−１−（ｐ−トリルスル
ホニル）エテン86.2mgを加えた。同温で１時間攪拌し
た。さらに室温に上昇し４時間攪拌した後水素化ナトリ
ウム12.3mgを加え,13時間攪拌した。反応混合物に水2ml
を加え，イソプロピルエーテル（20ml×４）で抽出し，
有機層を飽和食塩水（3ml×２）で洗浄した。有機層を
無水硫酸マグネシウムで乾燥し，減圧濃縮してカラムク
ロマトグラフィー（シリカゲル；ベンゼン：ヘキサン＝
2:1）で分離し１−ドデシル−1,2−ビス（メチルチオ）
−２−（ｐ−トリルスルホニル）シクロプロパン108.8m
gを得た。
り，分析サンプルはエタノールからの再結晶により無色
結晶として得た。1 H−NMR（CDCl3）：δ（ppm） 7.85（d,2H,J＝8.4Hz）,7.33（d,2H,J＝8.4Hz）,2.45
（s,3H）,2.5〜2.2（m,2H）,2.27（d,1H,J＝7.2Hz）,2.
12（s,3H）,2.07（s,3H）,1.44（d,1H,J＝7.2Hz）,1.24
（t,3H,J＝6.6Hz） IR（KBr）:2920,1593,1420,1313,1281,1138,1081,812,7
08,679cm-1 元素分析:C14H20O2S3として 計算値 C:53.13％ H:6.37％ 実測値 53.25％ 6.38％ 融点 133.5〜134.2℃ 参考例.2 １−ドデシル−1,2−ビス（メチルチオ）−２−（ｐ−
トリルスルホニル）シクロプロパンの合成（炭素陰イオ
ン捕捉の例） １−メチルチオ−１−（ｐ−トリルスルホニル）トリデ
カン139mgをN,N−ジメチルホルムアミド2mlにとかし，
氷冷下で水素化ナトリウム（60％含有,32.8mg）を加え
氷冷下で４分攪拌した。室温に上昇し,1時間攪拌した後
ふたたび氷冷し１−メチルチオ−１−（ｐ−トリルスル
ホニル）エテン86.2mgを加えた。同温で１時間攪拌し
た。さらに室温に上昇し４時間攪拌した後水素化ナトリ
ウム12.3mgを加え,13時間攪拌した。反応混合物に水2ml
を加え，イソプロピルエーテル（20ml×４）で抽出し，
有機層を飽和食塩水（3ml×２）で洗浄した。有機層を
無水硫酸マグネシウムで乾燥し，減圧濃縮してカラムク
ロマトグラフィー（シリカゲル；ベンゼン：ヘキサン＝
2:1）で分離し１−ドデシル−1,2−ビス（メチルチオ）
−２−（ｐ−トリルスルホニル）シクロプロパン108.8m
gを得た。
収率66％。
また,25.1mgの１−メチルチオ−１−（ｐ−トリルスル
ホニル）トリデカンが回収された。
ホニル）トリデカンが回収された。
なお，このものは、ほぼ１種のジアステレオマーであっ
た。無色油状物質。1 H−NMR（CDCl3）：δ（ppm） 7.83（d,2H,J＝8.2Hz）,7.33（d,2H,J＝8.2Hz）,2.45
（s,3H）,2.18（d,1H,J＝6.2Hz）,2.10（s,3H）,2.08
（s,3H）,1.44（d,1H,J＝6.2Hz）,1.4〜1.2（br,22H）,
0.88（t,3H,J＝6.7Hz） IR（液膜）:2920,2850,1597,1461,1300,1140,813,685cm
-1 参考例.3 1,3−ビス（メチルチオ）−1.3−ビス（ｐ−トリルスル
ホニル）プロパンの合成（炭素陰イオン捕捉の例） メチルチオメチルｐ−トリルスルホン83.9mgをN,N−ジ
メチルホルムアミド2mlにとかし，氷冷下で水素化ナト
リウム（60％含有,19.6mg）を加え氷冷下で５分攪拌し
た。室温に上昇し,1時間攪拌した後ふたたび氷冷し１−
メチルチオ−１−（ｐ−トリルスルホニル）エテン94.3
mgを加えた。同温で３時間攪拌した。さらに室温に上昇
し３時間攪拌した。次に水素化ナトリウム7.2mgを加え,
14時間攪拌した。反応混合物に水2mlを加え，イソプロ
ピルエーテル（20ml×４）で抽出し，有機層を飽和食塩
水（3ml×２）で洗浄した。有機層を無水硫酸マグネシ
ウムで乾燥し，減圧濃縮しカラムクロマトグラフィー
（シリカゲル；ベンゼン：酢酸エチル＝35:1）で分離し
1,3−ビス（メチルチオ）−1.3−ビス（ｐ−トリルスル
ホニル）プロパン71.1mgを得た。収率41％。
た。無色油状物質。1 H−NMR（CDCl3）：δ（ppm） 7.83（d,2H,J＝8.2Hz）,7.33（d,2H,J＝8.2Hz）,2.45
（s,3H）,2.18（d,1H,J＝6.2Hz）,2.10（s,3H）,2.08
（s,3H）,1.44（d,1H,J＝6.2Hz）,1.4〜1.2（br,22H）,
0.88（t,3H,J＝6.7Hz） IR（液膜）:2920,2850,1597,1461,1300,1140,813,685cm
-1 参考例.3 1,3−ビス（メチルチオ）−1.3−ビス（ｐ−トリルスル
ホニル）プロパンの合成（炭素陰イオン捕捉の例） メチルチオメチルｐ−トリルスルホン83.9mgをN,N−ジ
メチルホルムアミド2mlにとかし，氷冷下で水素化ナト
リウム（60％含有,19.6mg）を加え氷冷下で５分攪拌し
た。室温に上昇し,1時間攪拌した後ふたたび氷冷し１−
メチルチオ−１−（ｐ−トリルスルホニル）エテン94.3
mgを加えた。同温で３時間攪拌した。さらに室温に上昇
し３時間攪拌した。次に水素化ナトリウム7.2mgを加え,
14時間攪拌した。反応混合物に水2mlを加え，イソプロ
ピルエーテル（20ml×４）で抽出し，有機層を飽和食塩
水（3ml×２）で洗浄した。有機層を無水硫酸マグネシ
ウムで乾燥し，減圧濃縮しカラムクロマトグラフィー
（シリカゲル；ベンゼン：酢酸エチル＝35:1）で分離し
1,3−ビス（メチルチオ）−1.3−ビス（ｐ−トリルスル
ホニル）プロパン71.1mgを得た。収率41％。
なお，このものは,1種のジアステレオマーからなってい
た。無色結晶1 H−NMR（CDCl3）：δ（ppm） 7.81（d,4H,J＝8.4Hz）,7.39（d,4H,J＝8.4Hz）,3.95〜
4.23（m,2H）,2.00〜2.66（m,2H）,2.47（s,6H）,2.19
（s,6H） IR（KBr）:1592,1300,1286,1140,1080,814,738,688,568
cm-1 元素分析:C19H24O4S4として 計算値 C:51.32％ H:5.44％ 実測値 51.31％ 5.41％ 融点 125.7〜126.3℃ 参考例.4 ２−メチル−４−メチルチオ−４−（ｐ−トリルスルホ
ニル）−２−ブタノールの合成（ラジカル捕捉の例） １−メチルチオ−１−（ｐ−トリルスルホニル）エテン
220mgとベンゾフェノン178mgをイソプロピルアルコール
70mlにとかし，乾燥窒素雰囲気下これを高圧水銀灯（72
90nm）によって30分光照射した。減圧濃縮し，黄色油状
物500mgを得た。これをカラムクロマトグラフィー（シ
リカゲル；ベンゼン：酢酸エチル＝3:1）で分離し,2−
メチル−４−メチルチオ−４−（ｐ−トリルスルホニ
ル）−２−ブタノール272mgを得た。収率98％。無色油
状物質1 H−NMR（CDCl3）：δ（ppm） 7.86（d,2H,J＝8.4Hz）,7.36（d,2H,J＝8.4Hz）,4.00
（dd,1H,J＝2.4Hz,9.6Hz）,2.55（br,1H,OH）,2.47（s,
3H）,2.25（s,3H,SCH3）,2.1〜1.5（m,2H）,1.28（s,6
H） IR（液膜）:3510,2980,1596,1436,1376,1288,1200,114
0,1085,907,816,733,650cm-1
た。無色結晶1 H−NMR（CDCl3）：δ（ppm） 7.81（d,4H,J＝8.4Hz）,7.39（d,4H,J＝8.4Hz）,3.95〜
4.23（m,2H）,2.00〜2.66（m,2H）,2.47（s,6H）,2.19
（s,6H） IR（KBr）:1592,1300,1286,1140,1080,814,738,688,568
cm-1 元素分析:C19H24O4S4として 計算値 C:51.32％ H:5.44％ 実測値 51.31％ 5.41％ 融点 125.7〜126.3℃ 参考例.4 ２−メチル−４−メチルチオ−４−（ｐ−トリルスルホ
ニル）−２−ブタノールの合成（ラジカル捕捉の例） １−メチルチオ−１−（ｐ−トリルスルホニル）エテン
220mgとベンゾフェノン178mgをイソプロピルアルコール
70mlにとかし，乾燥窒素雰囲気下これを高圧水銀灯（72
90nm）によって30分光照射した。減圧濃縮し，黄色油状
物500mgを得た。これをカラムクロマトグラフィー（シ
リカゲル；ベンゼン：酢酸エチル＝3:1）で分離し,2−
メチル−４−メチルチオ−４−（ｐ−トリルスルホニ
ル）−２−ブタノール272mgを得た。収率98％。無色油
状物質1 H−NMR（CDCl3）：δ（ppm） 7.86（d,2H,J＝8.4Hz）,7.36（d,2H,J＝8.4Hz）,4.00
（dd,1H,J＝2.4Hz,9.6Hz）,2.55（br,1H,OH）,2.47（s,
3H）,2.25（s,3H,SCH3）,2.1〜1.5（m,2H）,1.28（s,6
H） IR（液膜）:3510,2980,1596,1436,1376,1288,1200,114
0,1085,907,816,733,650cm-1
Claims (2)
- 【請求項１】一般式〔Ｉ〕 〔式中,Aは （R1は水素原子，低級アルキル基，アルコキシ基または
ハロゲン原子を示す）を,Rは低級アルキル基を示す〕で
表される（α−アルキルチオビニル）アリールスルホン
誘導体 - 【請求項２】一般式〔II〕 〔式中,Aは （R1は水素原子，低級アルキル基，アルコキシ基または
ハロゲン原子を示す）を,Rは低級アルキル基を示す〕で
表される（α−アルキルチオエチル）アリールスルホン
誘導体をハロゲン化した後，脱ハロゲン化水素させるこ
とを特徴とする一般式〔Ｉ〕 〔式中,Aは （R1は水素原子，低級アルキル基，アルコキシ基または
ハロゲン原子を示す）を,Rは低級アルキル基を示す〕で
表される（α−アルキルチオビニル）アリールスルホン
誘導体の製法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5107087A JPH0784434B2 (ja) | 1987-03-05 | 1987-03-05 | （α−アルキルチオビニル）アリ−ルスルホンとその製法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5107087A JPH0784434B2 (ja) | 1987-03-05 | 1987-03-05 | （α−アルキルチオビニル）アリ−ルスルホンとその製法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63216860A JPS63216860A (ja) | 1988-09-09 |
| JPH0784434B2 true JPH0784434B2 (ja) | 1995-09-13 |
Family
ID=12876543
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5107087A Expired - Fee Related JPH0784434B2 (ja) | 1987-03-05 | 1987-03-05 | （α−アルキルチオビニル）アリ−ルスルホンとその製法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0784434B2 (ja) |
-
1987
- 1987-03-05 JP JP5107087A patent/JPH0784434B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS63216860A (ja) | 1988-09-09 |
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