JPH0785444A - 磁気記録媒体及びその製造方法 - Google Patents
磁気記録媒体及びその製造方法Info
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- JPH0785444A JPH0785444A JP23042993A JP23042993A JPH0785444A JP H0785444 A JPH0785444 A JP H0785444A JP 23042993 A JP23042993 A JP 23042993A JP 23042993 A JP23042993 A JP 23042993A JP H0785444 A JPH0785444 A JP H0785444A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 走行性が良く、かつ、帯電防止効果に優れ、
そしてドロップアウトが少なく、再生特性に優れた磁気
記録媒体を提供することである。 【構成】 支持体の一面側に磁性金属薄膜が、他面側に
非磁性金属薄膜が設けられてなる金属薄膜型の磁気記録
媒体であって、前記非磁性金属薄膜形成材料としてＣｕ
−Ａｌ−Ｘ（但し、ＸはＭｎ，Ｆｅ，Ｎｉの群の中から
選ばれる一つ、若しくは二つ以上）系合金が用いられて
なる磁気記録媒体。
そしてドロップアウトが少なく、再生特性に優れた磁気
記録媒体を提供することである。 【構成】 支持体の一面側に磁性金属薄膜が、他面側に
非磁性金属薄膜が設けられてなる金属薄膜型の磁気記録
媒体であって、前記非磁性金属薄膜形成材料としてＣｕ
−Ａｌ−Ｘ（但し、ＸはＭｎ，Ｆｅ，Ｎｉの群の中から
選ばれる一つ、若しくは二つ以上）系合金が用いられて
なる磁気記録媒体。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、磁気記録媒体及びその
製造方法に関するものである。
製造方法に関するものである。
【０００２】
【発明の背景】磁気テープ等の磁気記録媒体には、非磁
性支持体であるフィルム上に磁性粉やバインダを溶剤中
に分散させた磁性塗料を塗布してなる塗布型のものと、
バインダを用いず、磁性金属粒子をフィルム上に堆積さ
せてなる金属薄膜型のものがある。
性支持体であるフィルム上に磁性粉やバインダを溶剤中
に分散させた磁性塗料を塗布してなる塗布型のものと、
バインダを用いず、磁性金属粒子をフィルム上に堆積さ
せてなる金属薄膜型のものがある。
【０００３】これらの中、金属薄膜型の磁気記録媒体
は、磁性層にバインダを含まないことから、磁性材料の
充填密度が高く、高密度記録に適したものであると言わ
れている。ところで、現在発売又は開発されている金属
薄膜型の磁気記録媒体は、図５に示される構成のものと
なっている。図５中、３１は厚さが２〜５０μｍのポリ
エチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム、３２は、
例えば真空蒸着法を用いて構成された厚さが１５００Å
のＣｏ−Ｎｉ（８０％−２０％）合金磁性膜、３３は潤
滑剤の膜、３４はバックコート層である。尚、このバッ
クコート層３４は、粒径が１０〜１００ｎｍのカーボン
とバインダ樹脂とを塗料中に分散させ、グラビア法、リ
バース法又はダイ塗工方式で、乾燥後の厚さが０．４〜
１．０μｍになるよう塗布することによって構成された
ものである。
は、磁性層にバインダを含まないことから、磁性材料の
充填密度が高く、高密度記録に適したものであると言わ
れている。ところで、現在発売又は開発されている金属
薄膜型の磁気記録媒体は、図５に示される構成のものと
なっている。図５中、３１は厚さが２〜５０μｍのポリ
エチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム、３２は、
例えば真空蒸着法を用いて構成された厚さが１５００Å
のＣｏ−Ｎｉ（８０％−２０％）合金磁性膜、３３は潤
滑剤の膜、３４はバックコート層である。尚、このバッ
クコート層３４は、粒径が１０〜１００ｎｍのカーボン
とバインダ樹脂とを塗料中に分散させ、グラビア法、リ
バース法又はダイ塗工方式で、乾燥後の厚さが０．４〜
１．０μｍになるよう塗布することによって構成された
ものである。
【０００４】ここで、バックコート層の役割は次のよう
な点にある。 （１）導電性を持たせることにより、帯電防止を図り、
ゴミの付着を防止する。 （２）表面性（摩擦係数）を改善して、走行安定性を得
る。 （３）表の磁性層と裏とのバランスとを図り、反りの発
生を防止する。 このように、金属薄膜型の磁気記録媒体であっても、バ
ックコート層は依然として塗布型となっている。
な点にある。 （１）導電性を持たせることにより、帯電防止を図り、
ゴミの付着を防止する。 （２）表面性（摩擦係数）を改善して、走行安定性を得
る。 （３）表の磁性層と裏とのバランスとを図り、反りの発
生を防止する。 このように、金属薄膜型の磁気記録媒体であっても、バ
ックコート層は依然として塗布型となっている。
【０００５】ところで、バックコート層を先に塗布して
から磁性層を真空蒸着すると、真空系においてバックコ
ート層からの脱ガス（バインダーの溶剤から発生）が生
じ、真空度が低下し、蒸着がうまくいかず、磁性薄膜が
良好に形成できず、高性能な磁気記録媒体が得られな
い。この為、真空中で磁性薄膜を形成した後、大気中に
取り出し、バックコート層を塗布している。
から磁性層を真空蒸着すると、真空系においてバックコ
ート層からの脱ガス（バインダーの溶剤から発生）が生
じ、真空度が低下し、蒸着がうまくいかず、磁性薄膜が
良好に形成できず、高性能な磁気記録媒体が得られな
い。この為、真空中で磁性薄膜を形成した後、大気中に
取り出し、バックコート層を塗布している。
【０００６】しかしながら、この方法は、バックコート
層を塗布する工程で、磁性層が汚れたり、ゴミが付着
し、ドロップアウトが増加するといった問題点がある。
又、カーボンの導電性は良好であるが、バインダ量が多
い為、導電性が低下してしまい、帯電防止効果が低いと
いった問題点もある。
層を塗布する工程で、磁性層が汚れたり、ゴミが付着
し、ドロップアウトが増加するといった問題点がある。
又、カーボンの導電性は良好であるが、バインダ量が多
い為、導電性が低下してしまい、帯電防止効果が低いと
いった問題点もある。
【０００７】
【発明の開示】本発明の目的は、走行性が良く、かつ、
帯電防止効果に優れ、そしてドロップアウトが少なく、
再生特性に優れた磁気記録媒体を提供することである。
この本発明の目的は、支持体の一面側に磁性金属薄膜
が、他面側に非磁性金属薄膜が設けられてなる金属薄膜
型の磁気記録媒体であって、前記非磁性金属薄膜形成材
料としてＣｕ−Ａｌ−Ｘ（但し、ＸはＭｎ，Ｆｅ，Ｎｉ
の群の中から選ばれる一つ、若しくは二つ以上）系合金
が用いられてなることを特徴とする磁気記録媒体によっ
て達成される。
帯電防止効果に優れ、そしてドロップアウトが少なく、
再生特性に優れた磁気記録媒体を提供することである。
この本発明の目的は、支持体の一面側に磁性金属薄膜
が、他面側に非磁性金属薄膜が設けられてなる金属薄膜
型の磁気記録媒体であって、前記非磁性金属薄膜形成材
料としてＣｕ−Ａｌ−Ｘ（但し、ＸはＭｎ，Ｆｅ，Ｎｉ
の群の中から選ばれる一つ、若しくは二つ以上）系合金
が用いられてなることを特徴とする磁気記録媒体によっ
て達成される。
【０００８】又、支持体の一面側に磁性金属薄膜が、他
面側に非磁性金属薄膜が設けられ、この非磁性金属薄膜
の表面は酸化膜からなる保護膜で被覆されてなる金属薄
膜型の磁気記録媒体であって、前記非磁性金属薄膜形成
材料としてＣｕ−Ａｌ−Ｘ（但し、ＸはＭｎ，Ｆｅ，Ｎ
ｉの群の中から選ばれる一つ、若しくは二つ以上）系合
金が用いられてなることを特徴とする磁気記録媒体によ
って達成される。
面側に非磁性金属薄膜が設けられ、この非磁性金属薄膜
の表面は酸化膜からなる保護膜で被覆されてなる金属薄
膜型の磁気記録媒体であって、前記非磁性金属薄膜形成
材料としてＣｕ−Ａｌ−Ｘ（但し、ＸはＭｎ，Ｆｅ，Ｎ
ｉの群の中から選ばれる一つ、若しくは二つ以上）系合
金が用いられてなることを特徴とする磁気記録媒体によ
って達成される。
【０００９】又、支持体の一面側に磁性金属薄膜が、他
面側に非磁性金属薄膜が設けられてなる金属薄膜型の磁
気記録媒体の製造方法であって、前記非磁性金属薄膜形
成材料としてＣｕ−Ａｌ−Ｘ（但し、ＸはＭｎ，Ｆｅ，
Ｎｉの群の中から選ばれる一つ、若しくは二つ以上）系
合金を蒸発源に用い、支持体に堆積させることを特徴と
する磁気記録媒体の製造方法によって達成される。
面側に非磁性金属薄膜が設けられてなる金属薄膜型の磁
気記録媒体の製造方法であって、前記非磁性金属薄膜形
成材料としてＣｕ−Ａｌ−Ｘ（但し、ＸはＭｎ，Ｆｅ，
Ｎｉの群の中から選ばれる一つ、若しくは二つ以上）系
合金を蒸発源に用い、支持体に堆積させることを特徴と
する磁気記録媒体の製造方法によって達成される。
【００１０】又、支持体の一面側に磁性金属薄膜が、他
面側に非磁性金属薄膜が設けられてなる金属薄膜型の磁
気記録媒体の製造方法であって、前記非磁性金属薄膜形
成材料としてＣｕ−Ａｌ−Ｘ（但し、ＸはＭｎ，Ｆｅ，
Ｎｉの群の中から選ばれる一つ、若しくは二つ以上）系
合金を蒸発源に用い、支持体に堆積させ、この堆積時に
酸化性ガスを供給することを特徴とする磁気記録媒体の
製造方法によって達成される。
面側に非磁性金属薄膜が設けられてなる金属薄膜型の磁
気記録媒体の製造方法であって、前記非磁性金属薄膜形
成材料としてＣｕ−Ａｌ−Ｘ（但し、ＸはＭｎ，Ｆｅ，
Ｎｉの群の中から選ばれる一つ、若しくは二つ以上）系
合金を蒸発源に用い、支持体に堆積させ、この堆積時に
酸化性ガスを供給することを特徴とする磁気記録媒体の
製造方法によって達成される。
【００１１】尚、上記の発明において、Ｃｕ−Ａｌ−Ｘ
（但し、ＸはＭｎ，Ｆｅ，Ｎｉの群の中から選ばれる一
つ、若しくは二つ以上）系合金におけるＡｌ含有量は５
〜３０ａｔ％であり、Ｘ含有量が５ａｔ％以下であるこ
とが好ましい。特に、好ましくはＣｕ含有量は７０〜９
０ａｔ％、Ａｌ含有量は８〜２５ａｔ％、Ｍｎ含有量が
０．５〜４ａｔ％で、Ｆｅ含有量が０．４〜５ａｔ％
で、Ｎｉ含有量が０．４〜４ａｔ％であり、Ｍｎ，Ｆ
ｅ，Ｎｉの総含有量が１〜６ａｔ％であることが好まし
い。
（但し、ＸはＭｎ，Ｆｅ，Ｎｉの群の中から選ばれる一
つ、若しくは二つ以上）系合金におけるＡｌ含有量は５
〜３０ａｔ％であり、Ｘ含有量が５ａｔ％以下であるこ
とが好ましい。特に、好ましくはＣｕ含有量は７０〜９
０ａｔ％、Ａｌ含有量は８〜２５ａｔ％、Ｍｎ含有量が
０．５〜４ａｔ％で、Ｆｅ含有量が０．４〜５ａｔ％
で、Ｎｉ含有量が０．４〜４ａｔ％であり、Ｍｎ，Ｆ
ｅ，Ｎｉの総含有量が１〜６ａｔ％であることが好まし
い。
【００１２】又、磁気記録媒体における非磁性金属薄膜
側の電気抵抗値が５〜１０5 Ω／ｓｑ．であるよう構成
されてなることが好ましい。例えば、酸化性ガスの供給
量が磁気記録媒体における非磁性金属薄膜側の電気抵抗
値を５〜１０5 Ω／ｓｑ．とするよう制御されることが
好ましい。以下、本発明について詳しく述べる。
側の電気抵抗値が５〜１０5 Ω／ｓｑ．であるよう構成
されてなることが好ましい。例えば、酸化性ガスの供給
量が磁気記録媒体における非磁性金属薄膜側の電気抵抗
値を５〜１０5 Ω／ｓｑ．とするよう制御されることが
好ましい。以下、本発明について詳しく述べる。
【００１３】先ず、従来のバックコート層における問題
が塗布手段を採用したことから起きたことに鑑み、いわ
ゆるバックコート層自体も磁性金属薄膜と同様な薄膜形
成手段で構成すれば、これまでの問題が解決されるであ
ろうとの発想を得るに至った。しかしながら、磁性金属
薄膜の反対側の面に設ける非磁性金属薄膜によっては、
決して期待通りのものでないことが判って来た。そこ
で、非磁性金属薄膜形成材料についての検討が鋭意押し
進められて行った結果、非磁性金属薄膜形成材料として
はＣｕ−Ａｌ−Ｘ（但し、ＸはＭｎ，Ｆｅ，Ｎｉの群の
中から選ばれる一つ、若しくは二つ以上）系合金である
ことが大事なことが判って来た。例えば、Ｃｕ−Ａｌ合
金材料やＡｌ材料が用いられても、これでは到底に期待
通りの結果が得られなかったのである。尚、Ｃｕ−Ａｌ
−Ｘ（但し、ＸはＭｎ，Ｆｅ，Ｎｉの群の中から選ばれ
る一つ、若しくは二つ以上）系合金の中でも、Ａｌ含有
量は５〜３０ａｔ％であり、Ｘ含有量が５ａｔ％以下、
残部がＣｕであるものが好ましかった。
が塗布手段を採用したことから起きたことに鑑み、いわ
ゆるバックコート層自体も磁性金属薄膜と同様な薄膜形
成手段で構成すれば、これまでの問題が解決されるであ
ろうとの発想を得るに至った。しかしながら、磁性金属
薄膜の反対側の面に設ける非磁性金属薄膜によっては、
決して期待通りのものでないことが判って来た。そこ
で、非磁性金属薄膜形成材料についての検討が鋭意押し
進められて行った結果、非磁性金属薄膜形成材料として
はＣｕ−Ａｌ−Ｘ（但し、ＸはＭｎ，Ｆｅ，Ｎｉの群の
中から選ばれる一つ、若しくは二つ以上）系合金である
ことが大事なことが判って来た。例えば、Ｃｕ−Ａｌ合
金材料やＡｌ材料が用いられても、これでは到底に期待
通りの結果が得られなかったのである。尚、Ｃｕ−Ａｌ
−Ｘ（但し、ＸはＭｎ，Ｆｅ，Ｎｉの群の中から選ばれ
る一つ、若しくは二つ以上）系合金の中でも、Ａｌ含有
量は５〜３０ａｔ％であり、Ｘ含有量が５ａｔ％以下、
残部がＣｕであるものが好ましかった。
【００１４】そして、このような合金材料が用いられて
非磁性金属薄膜が構成された磁気記録媒体は、 （１）導電性が充分に有り、帯電防止が図れ、ゴミの付
着が防止される。 （２）表面性が改善され、走行安定性が図れる。 （３）支持体面の両側のバランスが図れ、反りの発生が
防止される。 といった特長が奏されたのである。
非磁性金属薄膜が構成された磁気記録媒体は、 （１）導電性が充分に有り、帯電防止が図れ、ゴミの付
着が防止される。 （２）表面性が改善され、走行安定性が図れる。 （３）支持体面の両側のバランスが図れ、反りの発生が
防止される。 といった特長が奏されたのである。
【００１５】このような特長を奏させる非磁性金属薄膜
の形成は、磁性金属薄膜の形成と同様にして形成でき
る。例えば、非磁性金属薄膜の形成と磁性金属薄膜の形
成とを同時に行っても良く、非磁性金属薄膜の形成の後
で磁性金属薄膜の形成を行っても、あるいは磁性金属薄
膜の形成の後で非磁性金属薄膜の形成を行っても良い。
尚、工程を分けて行う場合に、一方の薄膜を形成してロ
ールに巻き取り、そしてそのロールを真空装置から一度
大気中に取り出して別の真空装置に装填し、他方の薄膜
を形成するようにしても良く、このようにしてもゴミの
付着等の問題は生じない。又、これらの金属薄膜の形成
は、真空蒸着やスパッタリングといった手段を適宜採用
することが出来る。
の形成は、磁性金属薄膜の形成と同様にして形成でき
る。例えば、非磁性金属薄膜の形成と磁性金属薄膜の形
成とを同時に行っても良く、非磁性金属薄膜の形成の後
で磁性金属薄膜の形成を行っても、あるいは磁性金属薄
膜の形成の後で非磁性金属薄膜の形成を行っても良い。
尚、工程を分けて行う場合に、一方の薄膜を形成してロ
ールに巻き取り、そしてそのロールを真空装置から一度
大気中に取り出して別の真空装置に装填し、他方の薄膜
を形成するようにしても良く、このようにしてもゴミの
付着等の問題は生じない。又、これらの金属薄膜の形成
は、真空蒸着やスパッタリングといった手段を適宜採用
することが出来る。
【００１６】以下、具体的な実施例を挙げて本発明を説
明する。
明する。
【００１７】
【実施例】図１は本発明に係る磁気記録媒体の製造に用
いられる装置（真空蒸着装置）の概略図であり、図２は
この装置を用いて構成された磁気記録媒体の断面図であ
る。図１中、１は真空容器、２はターボポンプ、３はロ
ータリポンプ、４は支持体６の供給側ロール、５は支持
体６の巻取側ロール、７は冷却キャン、８はルツボ、９
は電子銃、１０は遮蔽板、１１は酸素ガス導入管であ
り、この真空蒸着装置の構成は従来からのものと略同様
なものであるから詳細な説明は省略する。
いられる装置（真空蒸着装置）の概略図であり、図２は
この装置を用いて構成された磁気記録媒体の断面図であ
る。図１中、１は真空容器、２はターボポンプ、３はロ
ータリポンプ、４は支持体６の供給側ロール、５は支持
体６の巻取側ロール、７は冷却キャン、８はルツボ、９
は電子銃、１０は遮蔽板、１１は酸素ガス導入管であ
り、この真空蒸着装置の構成は従来からのものと略同様
なものであるから詳細な説明は省略する。
【００１８】そして、このような装置を用いて、先ず、
支持体６に磁性金属薄膜２０を形成する。支持体６は非
磁性のものであり、この支持体６はＰＥＴ等のポリエス
テル、ポリアミド、ポリイミド、ポリスルフォン、ポリ
カーボネート、ポリプロピレン等のオレフィン系の樹
脂、セルロース系の樹脂、塩化ビニル系の樹脂といった
高分子材料、ガラスやセラミック等の無機系材料、アル
ミニウム合金などの金属材料が用いられる。そして、支
持体６面上には、必要に応じて磁性層（磁性金属薄膜）
の密着性を向上させる為のアンダーコート層が設けられ
ている。すなわち、表面の粗さを適度に粗すことによ
り、例えば斜め蒸着法により構成される磁性金属薄膜の
密着性を向上させ、さらに磁気記録媒体表面の表面粗さ
を適度なものとして走行性を改善する為、例えばＳｉＯ
2 等の粒子を含有させた厚さが０．００５〜０．１μｍ
の塗膜を設けることによってアンダーコート層が構成さ
れている。
支持体６に磁性金属薄膜２０を形成する。支持体６は非
磁性のものであり、この支持体６はＰＥＴ等のポリエス
テル、ポリアミド、ポリイミド、ポリスルフォン、ポリ
カーボネート、ポリプロピレン等のオレフィン系の樹
脂、セルロース系の樹脂、塩化ビニル系の樹脂といった
高分子材料、ガラスやセラミック等の無機系材料、アル
ミニウム合金などの金属材料が用いられる。そして、支
持体６面上には、必要に応じて磁性層（磁性金属薄膜）
の密着性を向上させる為のアンダーコート層が設けられ
ている。すなわち、表面の粗さを適度に粗すことによ
り、例えば斜め蒸着法により構成される磁性金属薄膜の
密着性を向上させ、さらに磁気記録媒体表面の表面粗さ
を適度なものとして走行性を改善する為、例えばＳｉＯ
2 等の粒子を含有させた厚さが０．００５〜０．１μｍ
の塗膜を設けることによってアンダーコート層が構成さ
れている。
【００１９】ルツボ８に充填される磁性金属としては、
例えばＦｅ，Ｃｏ，Ｎｉ等の金属の他に、Ｃｏ−Ｎｉ合
金、Ｃｏ−Ｐｔ合金、Ｃｏ−Ｎｉ−Ｐｔ合金、Ｆｅ−Ｃ
ｏ合金、Ｆｅ−Ｎｉ合金、Ｆｅ−Ｃｏ−Ｎｉ合金、Ｆｅ
−Ｃｏ−Ｂ合金、Ｃｏ−Ｎｉ−Ｆｅ−Ｂ合金、Ｃｏ−Ｃ
ｒ合金、あるいはこれらにＡｌ等の金属を含有させたも
の等が挙げられる。
例えばＦｅ，Ｃｏ，Ｎｉ等の金属の他に、Ｃｏ−Ｎｉ合
金、Ｃｏ−Ｐｔ合金、Ｃｏ−Ｎｉ−Ｐｔ合金、Ｆｅ−Ｃ
ｏ合金、Ｆｅ−Ｎｉ合金、Ｆｅ−Ｃｏ−Ｎｉ合金、Ｆｅ
−Ｃｏ−Ｂ合金、Ｃｏ−Ｎｉ−Ｆｅ−Ｂ合金、Ｃｏ−Ｃ
ｒ合金、あるいはこれらにＡｌ等の金属を含有させたも
の等が挙げられる。
【００２０】そして、真空容器１内を１０-4〜１０-6Ｔ
ｏｒｒ程度の真空度のものに排気した後、電子ビーム加
熱によりルツボ８内の磁性金属（８０％Ｃｏ−２０％Ｎ
ｉ）を蒸発させ、ＰＥＴフィルム等の支持体６に対して
０．０４〜１μｍ、例えば０．１５μｍ厚さ磁性金属を
蒸着させることによって金属薄膜型の磁気記録媒体が製
造される。尚、磁性金属薄膜２０の形成に際して、蒸着
部分に酸素ガス導入管１１から酸素を供給し、強制酸化
させることによって磁性金属薄膜２０の表層部分を酸化
させ、酸化膜による保護層を形成するようにすることが
好ましい。尚、この酸化膜から構成される保護層の厚さ
は数十Å程度のものであり、この程度の厚さの酸化膜は
自然酸化で構成される場合もあり、このような時には強
制酸化の手段を講じなくても良い場合がある。
ｏｒｒ程度の真空度のものに排気した後、電子ビーム加
熱によりルツボ８内の磁性金属（８０％Ｃｏ−２０％Ｎ
ｉ）を蒸発させ、ＰＥＴフィルム等の支持体６に対して
０．０４〜１μｍ、例えば０．１５μｍ厚さ磁性金属を
蒸着させることによって金属薄膜型の磁気記録媒体が製
造される。尚、磁性金属薄膜２０の形成に際して、蒸着
部分に酸素ガス導入管１１から酸素を供給し、強制酸化
させることによって磁性金属薄膜２０の表層部分を酸化
させ、酸化膜による保護層を形成するようにすることが
好ましい。尚、この酸化膜から構成される保護層の厚さ
は数十Å程度のものであり、この程度の厚さの酸化膜は
自然酸化で構成される場合もあり、このような時には強
制酸化の手段を講じなくても良い場合がある。
【００２１】この後、巻取側ロール５を取り出し、これ
を供給側ロールの支承部に配設し、磁性金属薄膜２０が
形成された側が冷却キャン７に当接するようになし、そ
してルツボ８にＣｕ−Ａｌ−Ｘ（但し、ＸはＭｎ，Ｆ
ｅ，Ｎｉの群の中から選ばれる一つ、若しくは二つ以
上）系合金を充填し、真空容器１内を１０-4〜１０-6Ｔ
ｏｒｒ程度の真空度のものに排気した後、電子ビーム加
熱によりルツボ８内の非磁性金属を蒸発させ、支持体６
の他面側に０．０４〜１μｍ、例えば０．１μｍ厚さ非
磁性金属を蒸着させる。尚、この非磁性金属薄膜２１の
形成に際して、蒸着部分に酸素ガス導入管１１から酸素
を供給し、強制酸化させることによって非磁性金属薄膜
２１の表層部分を酸化させる。酸素ガス導入管１１から
酸素ガス導入量は９９．９９８％の純度の酸素を毎分２
５ｍｌの割合である。酸素導入量は図示しない流量制御
弁により調整可能である。
を供給側ロールの支承部に配設し、磁性金属薄膜２０が
形成された側が冷却キャン７に当接するようになし、そ
してルツボ８にＣｕ−Ａｌ−Ｘ（但し、ＸはＭｎ，Ｆ
ｅ，Ｎｉの群の中から選ばれる一つ、若しくは二つ以
上）系合金を充填し、真空容器１内を１０-4〜１０-6Ｔ
ｏｒｒ程度の真空度のものに排気した後、電子ビーム加
熱によりルツボ８内の非磁性金属を蒸発させ、支持体６
の他面側に０．０４〜１μｍ、例えば０．１μｍ厚さ非
磁性金属を蒸着させる。尚、この非磁性金属薄膜２１の
形成に際して、蒸着部分に酸素ガス導入管１１から酸素
を供給し、強制酸化させることによって非磁性金属薄膜
２１の表層部分を酸化させる。酸素ガス導入管１１から
酸素ガス導入量は９９．９９８％の純度の酸素を毎分２
５ｍｌの割合である。酸素導入量は図示しない流量制御
弁により調整可能である。
【００２２】そして、フッ素パーフルオロポリエーテル
（グレード：ＦＯＭＢＬＩＮ ＺＤＩＡＣ カルボキシ
ル基変性、日本モンテジソン社製）をフッ素不活性液体
（フロリナート、ＦＣ−８４、住友スリーエム社製）に
０．１％となるよう希釈・分散させた塗料をダイ塗工方
式により乾燥後の厚さが２０Å程度となるように磁性金
属薄膜２０の表面に塗布し、１００℃で乾燥させ、所定
の幅にスリットし、磁気テープを得た。
（グレード：ＦＯＭＢＬＩＮ ＺＤＩＡＣ カルボキシ
ル基変性、日本モンテジソン社製）をフッ素不活性液体
（フロリナート、ＦＣ−８４、住友スリーエム社製）に
０．１％となるよう希釈・分散させた塗料をダイ塗工方
式により乾燥後の厚さが２０Å程度となるように磁性金
属薄膜２０の表面に塗布し、１００℃で乾燥させ、所定
の幅にスリットし、磁気テープを得た。
【００２３】このようにして得られた磁気テープについ
て、ドロップアウト、反り具合、そして非磁性金属薄膜
２１の表面電気抵抗、硬さ、伸び率、及び非磁性金属薄
膜２１の成膜収率を調べたので、その結果を下記の表−
１に示す。 表−１ 非磁性金属薄膜（at％） D.O. 反り 電気抵抗 硬さ エンベロ Cu Al Mn Fe Ni O 具合 (Ω/sq.) ープ（％） 実１ 55.0 15.5 0.76 3.00 0.74 25 ５ 0.03 １００ 100 ９８ 実２ 49.1 24.0 − 1.46 0.44 25 ６ 0.05 １１５ 85 ９５ 実３ 49.1 24.0 1.44 0.46 − 25 ６ 0.06 １１５ 87 ９５ 実４ 49.1 24.1 0.47 − 1.33 25 ６ 0.06 １１５ 83 ９４ 実５ 58.2 14.4 2.4 − − 25 ７ 0.05 ９５ 85 ９５ 実６ 58.2 14.4 − 2.4 − 25 ６ 0.04 ９５ 90 ９７ 実７ 60.8 11.3 − 2.9 − 25 ６ 0.03 ９０ 98 ９７ 実８ 50.8 19.9 − 4.3 − 25 ７ 0.07 １１０ 120 ９３ 実９ 51.8 20.0 − − 3.2 25 ７ 0.07 １０５ 83 ９４ 実10 51.7 19.9 3.4 − − 25 ８ 0.05 １０５ 87 ９５ 比１ 44 31 − − − 25 １０ 0.15 １５０ 65 ５５ 比２ − 75 − − − 25 １０ 0.18 ２００ 55 ４０ 比３ 従来の塗布型バックコート １３ 0.05 ５×106 ９０ ＊ドロップアウトの測定は、１０μｓの間に１６ｄＢ出
力が低下したものをドロップアウトカウンタによりドロ
ップアウトとして求めた。
て、ドロップアウト、反り具合、そして非磁性金属薄膜
２１の表面電気抵抗、硬さ、伸び率、及び非磁性金属薄
膜２１の成膜収率を調べたので、その結果を下記の表−
１に示す。 表−１ 非磁性金属薄膜（at％） D.O. 反り 電気抵抗 硬さ エンベロ Cu Al Mn Fe Ni O 具合 (Ω/sq.) ープ（％） 実１ 55.0 15.5 0.76 3.00 0.74 25 ５ 0.03 １００ 100 ９８ 実２ 49.1 24.0 − 1.46 0.44 25 ６ 0.05 １１５ 85 ９５ 実３ 49.1 24.0 1.44 0.46 − 25 ６ 0.06 １１５ 87 ９５ 実４ 49.1 24.1 0.47 − 1.33 25 ６ 0.06 １１５ 83 ９４ 実５ 58.2 14.4 2.4 − − 25 ７ 0.05 ９５ 85 ９５ 実６ 58.2 14.4 − 2.4 − 25 ６ 0.04 ９５ 90 ９７ 実７ 60.8 11.3 − 2.9 − 25 ６ 0.03 ９０ 98 ９７ 実８ 50.8 19.9 − 4.3 − 25 ７ 0.07 １１０ 120 ９３ 実９ 51.8 20.0 − − 3.2 25 ７ 0.07 １０５ 83 ９４ 実10 51.7 19.9 3.4 − − 25 ８ 0.05 １０５ 87 ９５ 比１ 44 31 − − − 25 １０ 0.15 １５０ 65 ５５ 比２ − 75 − − − 25 １０ 0.18 ２００ 55 ４０ 比３ 従来の塗布型バックコート １３ 0.05 ５×106 ９０ ＊ドロップアウトの測定は、１０μｓの間に１６ｄＢ出
力が低下したものをドロップアウトカウンタによりドロ
ップアウトとして求めた。
【００２４】＊反り具合は、反り高さ（深さ）／テープ
幅で表示した。 ＊硬さは、実施例１の硬さを１００として表示し、押し
込み型微小硬度計にて測定。 これによれば、支持体の一面側に磁性金属薄膜が、他面
側に非磁性金属薄膜が設けられてなる金属薄膜型の磁気
記録媒体であっても、すなわち従来の磁性層及びバック
コート層を金属薄膜で構成しても、バックコート層を構
成する金属薄膜の組成によっては満足できるものでない
ことが判る。例えば、バックコート層を構成する金属薄
膜がＡｌを主体としたものである場合（比２）、あるい
はＣｕ系合金であったとしても、Ｃｕ−Ａｌ−Ｘ（但
し、ＸはＭｎ，Ｆｅ，Ｎｉの群の中から選ばれる一つ、
若しくは二つ以上）系合金が用いられてない場合（比
１）には、Ｃｕ−Ａｌ−Ｘ（但し、ＸはＭｎ，Ｆｅ，Ｎ
ｉの群の中から選ばれる一つ、若しくは二つ以上）系合
金が用いられた場合（実１〜１０）のような特長が到底
に奏されていないことが判る。
幅で表示した。 ＊硬さは、実施例１の硬さを１００として表示し、押し
込み型微小硬度計にて測定。 これによれば、支持体の一面側に磁性金属薄膜が、他面
側に非磁性金属薄膜が設けられてなる金属薄膜型の磁気
記録媒体であっても、すなわち従来の磁性層及びバック
コート層を金属薄膜で構成しても、バックコート層を構
成する金属薄膜の組成によっては満足できるものでない
ことが判る。例えば、バックコート層を構成する金属薄
膜がＡｌを主体としたものである場合（比２）、あるい
はＣｕ系合金であったとしても、Ｃｕ−Ａｌ−Ｘ（但
し、ＸはＭｎ，Ｆｅ，Ｎｉの群の中から選ばれる一つ、
若しくは二つ以上）系合金が用いられてない場合（比
１）には、Ｃｕ−Ａｌ−Ｘ（但し、ＸはＭｎ，Ｆｅ，Ｎ
ｉの群の中から選ばれる一つ、若しくは二つ以上）系合
金が用いられた場合（実１〜１０）のような特長が到底
に奏されていないことが判る。
【００２５】尚、反り具合は０．１以下のものであるこ
とが好ましく、この点においても本発明のものは満たさ
れている。又、エンベロープはヘッドが磁気テープを１
トレースする間に得られる出力波形であり、テープの反
り量が大きいとオシロスコープ上に現れる波形が矩形状
のものから崩れ、特性上好ましくないことが知られてお
り、このエンベロープ値をみても本発明になるものは９
０％以上の値を示しており、優れたものであることが判
る。
とが好ましく、この点においても本発明のものは満たさ
れている。又、エンベロープはヘッドが磁気テープを１
トレースする間に得られる出力波形であり、テープの反
り量が大きいとオシロスコープ上に現れる波形が矩形状
のものから崩れ、特性上好ましくないことが知られてお
り、このエンベロープ値をみても本発明になるものは９
０％以上の値を示しており、優れたものであることが判
る。
【００２６】尚、エンベロープはビデオヘッドがテープ
を１トレースする間に得られる出力の波形のことであ
る。そして、テープの反り量が大きいと、図３のように
オシロスコープ上に出る筈の波形が図４のようになって
しまい、特性上好ましくない。従って、ａ／ｂ×１００
（％）で表される指標が１００に近いもの程、優れたも
のである。
を１トレースする間に得られる出力の波形のことであ
る。そして、テープの反り量が大きいと、図３のように
オシロスコープ上に出る筈の波形が図４のようになって
しまい、特性上好ましくない。従って、ａ／ｂ×１００
（％）で表される指標が１００に近いもの程、優れたも
のである。
【００２７】
【効果】本発明によれば、反りがなく、走行性が良いも
のであり、そしてドロップアウトが少なく、記録再生特
性に優れたものである。
のであり、そしてドロップアウトが少なく、記録再生特
性に優れたものである。
【図１】本発明に係る磁気記録媒体の製造に用いられる
真空蒸着装置の概略図
真空蒸着装置の概略図
【図２】本発明に係る磁気記録媒体の断面図
【図３】出力波形の説明図
【図４】出力波形の説明図
【図５】従来の金属薄膜型の磁気記録媒体の断面図
６ 支持体 ２０ 磁性金属薄膜 ２１ 非磁性金属薄膜
フロントページの続き (72)発明者 志賀 章 栃木県芳賀郡市貝町大字赤羽2606 花王株 式会社情報科学研究所内
Claims (7)
- 【請求項１】 支持体の一面側に磁性金属薄膜が、他面
側に非磁性金属薄膜が設けられてなる金属薄膜型の磁気
記録媒体であって、前記非磁性金属薄膜形成材料として
Ｃｕ−Ａｌ−Ｘ（但し、ＸはＭｎ，Ｆｅ，Ｎｉの群の中
から選ばれる一つ、若しくは二つ以上）系合金が用いら
れてなることを特徴とする磁気記録媒体。 - 【請求項２】 支持体の一面側に磁性金属薄膜が、他面
側に非磁性金属薄膜が設けられ、この非磁性金属薄膜の
表面は酸化膜からなる保護膜で被覆されてなる金属薄膜
型の磁気記録媒体であって、前記非磁性金属薄膜形成材
料としてＣｕ−Ａｌ−Ｘ（但し、ＸはＭｎ，Ｆｅ，Ｎｉ
の群の中から選ばれる一つ、若しくは二つ以上）系合金
が用いられてなることを特徴とする磁気記録媒体。 - 【請求項３】 Ｃｕ−Ａｌ−Ｘ（但し、ＸはＭｎ，Ｆ
ｅ，Ｎｉの群の中から選ばれる一つ、若しくは二つ以
上）系合金におけるＡｌ含有量は５〜３０ａｔ％であ
り、Ｘ含有量が５ａｔ％以下であることを特徴とする請
求項１または請求項２の磁気記録媒体。 - 【請求項４】 磁気記録媒体における非磁性金属薄膜側
の電気抵抗値が５〜１０5 Ω／ｓｑ．であることを特徴
とする請求項１または請求項２の磁気記録媒体。 - 【請求項５】 支持体の一面側に磁性金属薄膜が、他面
側に非磁性金属薄膜が設けられてなる金属薄膜型の磁気
記録媒体の製造方法であって、前記非磁性金属薄膜形成
材料としてＣｕ−Ａｌ−Ｘ（但し、ＸはＭｎ，Ｆｅ，Ｎ
ｉの群の中から選ばれる一つ、若しくは二つ以上）系合
金を蒸発源に用い、支持体に堆積させることを特徴とす
る磁気記録媒体の製造方法。 - 【請求項６】 支持体の一面側に磁性金属薄膜が、他面
側に非磁性金属薄膜が設けられてなる金属薄膜型の磁気
記録媒体の製造方法であって、前記非磁性金属薄膜形成
材料としてＣｕ−Ａｌ−Ｘ（但し、ＸはＭｎ，Ｆｅ，Ｎ
ｉの群の中から選ばれる一つ、若しくは二つ以上）系合
金を蒸発源に用い、支持体に堆積させ、この堆積時に酸
化性ガスを供給することを特徴とする磁気記録媒体の製
造方法。 - 【請求項７】 磁気記録媒体における非磁性金属薄膜側
の電気抵抗値が５〜１０5 Ω／ｓｑ．であるよう酸化性
ガスの供給量を制御することを特徴とする請求項６の磁
気記録媒体の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23042993A JPH0785444A (ja) | 1993-09-16 | 1993-09-16 | 磁気記録媒体及びその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23042993A JPH0785444A (ja) | 1993-09-16 | 1993-09-16 | 磁気記録媒体及びその製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0785444A true JPH0785444A (ja) | 1995-03-31 |
Family
ID=16907764
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP23042993A Pending JPH0785444A (ja) | 1993-09-16 | 1993-09-16 | 磁気記録媒体及びその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0785444A (ja) |
-
1993
- 1993-09-16 JP JP23042993A patent/JPH0785444A/ja active Pending
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