JPH0786748A - 多層回路板の製造法 - Google Patents
多層回路板の製造法Info
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- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 8
- 239000004020 conductor Substances 0.000 claims abstract description 36
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract description 17
- 239000007787 solid Substances 0.000 claims abstract description 8
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 39
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 37
- 239000003989 dielectric material Substances 0.000 claims description 18
- 229920002313 fluoropolymer Polymers 0.000 claims description 6
- 239000004811 fluoropolymer Substances 0.000 claims description 6
- 230000008018 melting Effects 0.000 claims description 6
- 238000002844 melting Methods 0.000 claims description 6
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 5
- 238000005553 drilling Methods 0.000 claims description 4
- 238000000992 sputter etching Methods 0.000 claims description 3
- 229910001092 metal group alloy Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 230000008569 process Effects 0.000 claims description 2
- 238000001020 plasma etching Methods 0.000 claims 1
- 239000012196 polytetrafluoroethylene based material Substances 0.000 claims 1
- 230000008878 coupling Effects 0.000 abstract description 4
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 abstract description 4
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 abstract description 4
- 230000004523 agglutinating effect Effects 0.000 abstract 1
- 229910000679 solder Inorganic materials 0.000 description 7
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 4
- 239000000155 melt Substances 0.000 description 4
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 4
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 238000003475 lamination Methods 0.000 description 2
- 238000010329 laser etching Methods 0.000 description 2
- 239000004810 polytetrafluoroethylene Substances 0.000 description 2
- 229920001343 polytetrafluoroethylene Polymers 0.000 description 2
- 241000053208 Porcellio laevis Species 0.000 description 1
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 1
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 1
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 1
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000712 assembly Effects 0.000 description 1
- 238000000429 assembly Methods 0.000 description 1
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 1
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- 230000007812 deficiency Effects 0.000 description 1
- 238000007772 electroless plating Methods 0.000 description 1
- 238000009713 electroplating Methods 0.000 description 1
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 1
- 230000004927 fusion Effects 0.000 description 1
- 238000011065 in-situ storage Methods 0.000 description 1
- 238000002955 isolation Methods 0.000 description 1
- 238000010030 laminating Methods 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 1
- 239000011148 porous material Substances 0.000 description 1
- 238000003672 processing method Methods 0.000 description 1
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 1
- 238000007650 screen-printing Methods 0.000 description 1
- 238000006467 substitution reaction Methods 0.000 description 1
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 1
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- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K3/00—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
- H05K3/46—Manufacturing multilayer circuits
- H05K3/4611—Manufacturing multilayer circuits by laminating two or more circuit boards
- H05K3/4626—Manufacturing multilayer circuits by laminating two or more circuit boards characterised by the insulating layers or materials
- H05K3/4632—Manufacturing multilayer circuits by laminating two or more circuit boards characterised by the insulating layers or materials laminating thermoplastic or uncured resin sheets comprising printed circuits without added adhesive materials between the sheets
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- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K3/00—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
- H05K3/46—Manufacturing multilayer circuits
- H05K3/4611—Manufacturing multilayer circuits by laminating two or more circuit boards
- H05K3/4614—Manufacturing multilayer circuits by laminating two or more circuit boards the electrical connections between the circuit boards being made during lamination
- H05K3/4617—Manufacturing multilayer circuits by laminating two or more circuit boards the electrical connections between the circuit boards being made during lamination characterized by laminating only or mainly similar single-sided circuit boards
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- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K2201/00—Indexing scheme relating to printed circuits covered by H05K1/00
- H05K2201/01—Dielectrics
- H05K2201/0104—Properties and characteristics in general
- H05K2201/0129—Thermoplastic polymer, e.g. auto-adhesive layer; Shaping of thermoplastic polymer
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- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K2201/00—Indexing scheme relating to printed circuits covered by H05K1/00
- H05K2201/01—Dielectrics
- H05K2201/0137—Materials
- H05K2201/015—Fluoropolymer, e.g. polytetrafluoroethylene [PTFE]
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- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K2201/00—Indexing scheme relating to printed circuits covered by H05K1/00
- H05K2201/03—Conductive materials
- H05K2201/0302—Properties and characteristics in general
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- H05K2201/00—Indexing scheme relating to printed circuits covered by H05K1/00
- H05K2201/09—Shape and layout
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- H05K2201/09563—Metal filled via
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- H05K2203/00—Indexing scheme relating to apparatus or processes for manufacturing printed circuits covered by H05K3/00
- H05K2203/15—Position of the PCB during processing
- H05K2203/1572—Processing both sides of a PCB by the same process; Providing a similar arrangement of components on both sides; Making interlayer connections from two sides
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- H—ELECTRICITY
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- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
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- H05K3/10—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits in which conductive material is applied to the insulating support in such a manner as to form the desired conductive pattern
- H05K3/20—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits in which conductive material is applied to the insulating support in such a manner as to form the desired conductive pattern by affixing prefabricated conductor pattern
- H05K3/205—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits in which conductive material is applied to the insulating support in such a manner as to form the desired conductive pattern by affixing prefabricated conductor pattern using a pattern electroplated or electroformed on a metallic carrier
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- Y10T29/49—Method of mechanical manufacture
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Abstract
(57)【要約】 (修正有)
【目的】 多層回路を形成する方法を提供する。
【構成】 形成した回路を有する誘電基体からなる複数
の回路層を一つを他の上において積重する。誘電基体を
フルオロポリマーを基にした基体の如き溶融結合を受け
ることができるポリマー材料からなる。可融性導電性結
合材料21(例えばはんだ)を選択露出回路トレース上
に積重前に付与し、次いで全積重体を熱及び圧力の下に
積層させて同時に基体及び導電性層を溶融し、固体導電
性相互接続を有する一体的多層回路を形成する。
の回路層を一つを他の上において積重する。誘電基体を
フルオロポリマーを基にした基体の如き溶融結合を受け
ることができるポリマー材料からなる。可融性導電性結
合材料21(例えばはんだ)を選択露出回路トレース上
に積重前に付与し、次いで全積重体を熱及び圧力の下に
積層させて同時に基体及び導電性層を溶融し、固体導電
性相互接続を有する一体的多層回路を形成する。
Description
【0001】本発明は一般的に多層回路板及びマルチチ
ツプモジユールの製造法に関する。特に本発明は、回路
層間の相互接続を可融性導電性材料を利用する単一溶融
結合積層工程で達成できる多層回路の新規にして改良さ
れた製造法に関する。好ましい実施態様において、この
溶融結合は中間結合層の必要なしに達成される。
ツプモジユールの製造法に関する。特に本発明は、回路
層間の相互接続を可融性導電性材料を利用する単一溶融
結合積層工程で達成できる多層回路の新規にして改良さ
れた製造法に関する。好ましい実施態様において、この
溶融結合は中間結合層の必要なしに達成される。
【0002】多層回路は良く知られており、間隔を置い
た回路トレース上の選択位置間の相互接続を有する積重
された基体/回路トレース集成体の多数からなってい
る。これらの回路はしばしはストリツプライン又はマイ
クロストリツプ回路として形成され、マイクロウエーブ
アンテナ及び他のマイクロウエーブ用途において特に有
用性が見出されている。これらの回路は又マルチチツプ
モジユールの製造にも使用される。多層回路の従来の製
造法は時には完成集成体を作るため多重結合サイクルを
必要としている。基体が共に結合されたら、孔を介して
結合集成体を通って完全に穿孔され、異なる層間に電気
接続を伝達するためめっきされる。これは回路密度及び
基体の数を制限する。基体間に結合フイルムを含有して
もよい結合材料は、高温及び圧力の影響の下で集成体か
ら流出する傾向がある。結合材料が益々流出するに従っ
て、圧力はめっきされた孔に伝達され、めっきされた孔
はつぶれかつ/又は高温によって軟化されている基体中
に押し込まれることがある。
た回路トレース上の選択位置間の相互接続を有する積重
された基体/回路トレース集成体の多数からなってい
る。これらの回路はしばしはストリツプライン又はマイ
クロストリツプ回路として形成され、マイクロウエーブ
アンテナ及び他のマイクロウエーブ用途において特に有
用性が見出されている。これらの回路は又マルチチツプ
モジユールの製造にも使用される。多層回路の従来の製
造法は時には完成集成体を作るため多重結合サイクルを
必要としている。基体が共に結合されたら、孔を介して
結合集成体を通って完全に穿孔され、異なる層間に電気
接続を伝達するためめっきされる。これは回路密度及び
基体の数を制限する。基体間に結合フイルムを含有して
もよい結合材料は、高温及び圧力の影響の下で集成体か
ら流出する傾向がある。結合材料が益々流出するに従っ
て、圧力はめっきされた孔に伝達され、めっきされた孔
はつぶれかつ/又は高温によって軟化されている基体中
に押し込まれることがある。
【0003】米国特許第4788766号はこれらの問
題を克服していることを計画している。この先行特許に
は、多層集成体を多数の個々の回路板から作り、各板は
対向面上に第一導電性層を形成する基体を有する方法を
記載している。基体は導電性層を絶縁する誘電材料であ
る。第一導電性層、基体及び第二導電性層を通って種々
な位置で孔を形成する。銅の如き外側導電性材料が第一
及び第二導電性結合層上及び孔の側壁上に付与される。
個々の板が形成されたら、層の各対間に置かれた好適な
低温誘電結合層(結合層が回路基体材料より低い軟化温
度を有することを意味する)を用いて予め定めた順序及
び方向でそれらは積重される。誘電結合層は、一つの基
体の導電性層が隣接基体の導電性層と導電性接続を作る
べきである部域に相当する、それを通る整合された孔を
必要とする。かくして、異なる板の導電性層間に電気的
分離及び/又は電気的接続を与えながら、隣接する板を
一体的に結合する。次に板の集成体は各板層間の結合を
行うため熱及び圧力のサイクルを受ける。
題を克服していることを計画している。この先行特許に
は、多層集成体を多数の個々の回路板から作り、各板は
対向面上に第一導電性層を形成する基体を有する方法を
記載している。基体は導電性層を絶縁する誘電材料であ
る。第一導電性層、基体及び第二導電性層を通って種々
な位置で孔を形成する。銅の如き外側導電性材料が第一
及び第二導電性結合層上及び孔の側壁上に付与される。
個々の板が形成されたら、層の各対間に置かれた好適な
低温誘電結合層(結合層が回路基体材料より低い軟化温
度を有することを意味する)を用いて予め定めた順序及
び方向でそれらは積重される。誘電結合層は、一つの基
体の導電性層が隣接基体の導電性層と導電性接続を作る
べきである部域に相当する、それを通る整合された孔を
必要とする。かくして、異なる板の導電性層間に電気的
分離及び/又は電気的接続を与えながら、隣接する板を
一体的に結合する。次に板の集成体は各板層間の結合を
行うため熱及び圧力のサイクルを受ける。
【0004】米国特許第4788766号の方法は先行
技術の問題点の幾つかを克服したが、この方法は結合層
の溶融温度より上の溶融温度を有する基体を要件とする
ことを含む一定の欠点を有する。換言すると、この先行
特許は、多層回路の熱的等級を制限する低温結合層の使
用を必要としている。更にこの先行技術の方法は結合層
中に整合した孔を必要とし(これは整合問題をもたら
す)、めっきされた通し孔を有する多層回路に限定され
る。
技術の問題点の幾つかを克服したが、この方法は結合層
の溶融温度より上の溶融温度を有する基体を要件とする
ことを含む一定の欠点を有する。換言すると、この先行
特許は、多層回路の熱的等級を制限する低温結合層の使
用を必要としている。更にこの先行技術の方法は結合層
中に整合した孔を必要とし(これは整合問題をもたら
す)、めっきされた通し孔を有する多層回路に限定され
る。
【0005】前述した問題及び他の問題、及び先行技術
の欠点は本発明の多層回路の形成法によって克服ないし
は軽減される。本発明によれば、上に形成された回路を
有する誘電基体からなる複数の回路層を、一つを他の上
に置いて積重する。誘電基体は、フルオロポリマーを基
にした基体の如き溶融結合を受けることができるポリマ
ー材料からなる。可融性導電性結合材料(例えばはん
だ)を(積重工程前に)選択した露出回路トレース上に
付与し、次いで全積重体を、基体及び導電性層を全て同
時に溶融するための熱及び圧力の下で積層させ、固体導
電性相互接続を有する一体的多層回路を形成する。
の欠点は本発明の多層回路の形成法によって克服ないし
は軽減される。本発明によれば、上に形成された回路を
有する誘電基体からなる複数の回路層を、一つを他の上
に置いて積重する。誘電基体は、フルオロポリマーを基
にした基体の如き溶融結合を受けることができるポリマ
ー材料からなる。可融性導電性結合材料(例えばはん
だ)を(積重工程前に)選択した露出回路トレース上に
付与し、次いで全積重体を、基体及び導電性層を全て同
時に溶融するための熱及び圧力の下で積層させ、固体導
電性相互接続を有する一体的多層回路を形成する。
【0006】本発明の第一の実施態様によれば、個々の
回路層をそれぞれ、(1) 除去可能なマンドレルの上にト
レース及びパツドを形成し;(2) 回路及びマンドレルに
誘電層を積層し;(3) 誘電層を通って選択した位置で出
入開口を形成し(レーザー、プラズマ、イオンエツチン
グ又は機械的穿孔法を用いて)、選択した回路位置を露
出し;(4)出入開口の頂部より下のレベルに出入開口中
に導電性ポストを形成し;そして(5) 出入開口中に可融
性導電性材料を設けることによって作る。その後、複数
のこれらの個々の回路層から積重体を作り、かくして露
出した可融性導電性材料が隣接回路上の選択位置に接す
るようにする。次にこの積重体に熱及び圧力を受けさせ
て同時に可融性導電性材料及び誘電性基体の数層を共に
溶融し、凝着溶融した多層回路を得る。
回路層をそれぞれ、(1) 除去可能なマンドレルの上にト
レース及びパツドを形成し;(2) 回路及びマンドレルに
誘電層を積層し;(3) 誘電層を通って選択した位置で出
入開口を形成し(レーザー、プラズマ、イオンエツチン
グ又は機械的穿孔法を用いて)、選択した回路位置を露
出し;(4)出入開口の頂部より下のレベルに出入開口中
に導電性ポストを形成し;そして(5) 出入開口中に可融
性導電性材料を設けることによって作る。その後、複数
のこれらの個々の回路層から積重体を作り、かくして露
出した可融性導電性材料が隣接回路上の選択位置に接す
るようにする。次にこの積重体に熱及び圧力を受けさせ
て同時に可融性導電性材料及び誘電性基体の数層を共に
溶融し、凝着溶融した多層回路を得る。
【0007】本発明の第二の実施態様においては、上に
回路パターンを有する可融性誘電材料を規定するのに好
適な方法を用いて少なくとも一つの個々の回路板を作
る。次に選択した位置を通る開口を有する可融性誘電材
料の層を回路板上に置き、かくして回路パターン上の選
択した位置を露出させる。その後可融性導電性材料のプ
ラグ(例えばはんだ)を開口中に置く(手、機械又は同
様の方法を用い)。次に第二回路板を第一回路板に積重
し、かくして可融性導電性材料のプラグが第二回路板の
回路パターン上の選択した位置に整合し、接触させるよ
うにする。次にこの積重体に、可融性誘電層及び可融性
導電性材料の両方を同時に溶融するための熱及び圧力を
受けさせて凝着溶融多層回路板を作る。
回路パターンを有する可融性誘電材料を規定するのに好
適な方法を用いて少なくとも一つの個々の回路板を作
る。次に選択した位置を通る開口を有する可融性誘電材
料の層を回路板上に置き、かくして回路パターン上の選
択した位置を露出させる。その後可融性導電性材料のプ
ラグ(例えばはんだ)を開口中に置く(手、機械又は同
様の方法を用い)。次に第二回路板を第一回路板に積重
し、かくして可融性導電性材料のプラグが第二回路板の
回路パターン上の選択した位置に整合し、接触させるよ
うにする。次にこの積重体に、可融性誘電層及び可融性
導電性材料の両方を同時に溶融するための熱及び圧力を
受けさせて凝着溶融多層回路板を作る。
【0008】前述した実施態様の全てが、低製造コスト
及び増大した回路密度を含む従来の多層回路形成法に関
して重大な特長及び利点を提供する。
及び増大した回路密度を含む従来の多層回路形成法に関
して重大な特長及び利点を提供する。
【0009】本発明の前述した及びその他の特長及び利
点は以下の説明及び図面から当業者には判るであろう。
点は以下の説明及び図面から当業者には判るであろう。
【0010】ここで図面を参照すると各図面において同
じ素子には同じ数字を付してある。
じ素子には同じ数字を付してある。
【0011】図1〜図5は本発明の第一実施態様による
個々の回路板層の形成を示す逐次横断面図である。
個々の回路板層の形成を示す逐次横断面図である。
【0012】図6は図5に示した種類の回路板の積重体
を示す分解図である。
を示す分解図である。
【0013】図7は本発明の第一実施態様により作った
最終積層多層回路板の横断面図である。
最終積層多層回路板の横断面図である。
【0014】図8〜図12は本発明の第二実施態様によ
る多層回路板を作るための逐次形成法を示す横断面図で
ある。
る多層回路板を作るための逐次形成法を示す横断面図で
ある。
【0015】本発明は一般に溶融したポリマー複合結合
を用いる多層回路板又はマルチチツプモジユールの個々
の層を相互に接続する方法に関する。回路板の全内部層
は可融性金属ポスト等を用いて相互接続して固体導電性
相互接続を達成する。これらの可融性ポストは全体が可
融性導電性材料又は非可融性導電性材料と可融性導電性
材料の組合せからなることができる。可融性導電性材料
は、以下に説明する任意の方法を用いて多層回路中に導
入できる。更に本発明は可融性導電性金属と共に誘電基
体の隣接層と溶融する可融性誘電基体を利用する。
を用いる多層回路板又はマルチチツプモジユールの個々
の層を相互に接続する方法に関する。回路板の全内部層
は可融性金属ポスト等を用いて相互接続して固体導電性
相互接続を達成する。これらの可融性ポストは全体が可
融性導電性材料又は非可融性導電性材料と可融性導電性
材料の組合せからなることができる。可融性導電性材料
は、以下に説明する任意の方法を用いて多層回路中に導
入できる。更に本発明は可融性導電性金属と共に誘電基
体の隣接層と溶融する可融性誘電基体を利用する。
【0016】好適な可融性誘電基体の例には、PTFE
の如きフルオロポリマーを基にした基体材料又は米国特
許第4335180号、第4634631号、第464
7508号又は第4849284号(これらは全てここ
に引用して組入れる)に記載されたフルオロポリマー基
体を含む。本発明に好適な市場で入手しうる誘電基体の
例には、商品名RT/DUROID及びRO−2800
で市販されている材料を含む、これらはロジヤース・コ
ーポレイシヨンから入手できる。好適な可融性導電性材
料の例には900°F未満の融点を有する金属及び金属
合金を含む。かかる可融性材料の特別の例に錫60%及
び鉛40%のはんだ組成物がある。
の如きフルオロポリマーを基にした基体材料又は米国特
許第4335180号、第4634631号、第464
7508号又は第4849284号(これらは全てここ
に引用して組入れる)に記載されたフルオロポリマー基
体を含む。本発明に好適な市場で入手しうる誘電基体の
例には、商品名RT/DUROID及びRO−2800
で市販されている材料を含む、これらはロジヤース・コ
ーポレイシヨンから入手できる。好適な可融性導電性材
料の例には900°F未満の融点を有する金属及び金属
合金を含む。かかる可融性材料の特別の例に錫60%及
び鉛40%のはんだ組成物がある。
【0017】ここで図1〜図7を参照して本発明の第一
実施態様を説明する。図1に示した第一工程で、回路ト
レース及びパツド10のパターンを好適なマンドレル1
2上に形成する。パターンは銅又はアルミニウムの如き
任意の好適な導電性材料から構成するとよい、そして無
電解めっき、電気めっき又は蒸着の如き任意の好適な方
法でマンドレル12上に形成できる。マンドレル12は
銅又は他の金属からなるのが好ましい。次に図2に示す
如く、誘電材料14の層を回路10及びマンドレル12
上に積層する。その後パツド又はトレース10に到達さ
せるため選択した位置で誘電層14を通って出入開口1
6を設ける(図3参照)。出入開口16はレーザー、プ
ラズマ、イオンエツチング又は機械穿孔法の如き任意の
既知の方法を用いて形成できる。一つの特に良く適した
方法は1988年8月12日付出願の米国特許出願第2
31693号(これは本願出願人に譲渡されており、こ
こに引用して組入れる)に記載されたレーザーエツチン
グ法である。
実施態様を説明する。図1に示した第一工程で、回路ト
レース及びパツド10のパターンを好適なマンドレル1
2上に形成する。パターンは銅又はアルミニウムの如き
任意の好適な導電性材料から構成するとよい、そして無
電解めっき、電気めっき又は蒸着の如き任意の好適な方
法でマンドレル12上に形成できる。マンドレル12は
銅又は他の金属からなるのが好ましい。次に図2に示す
如く、誘電材料14の層を回路10及びマンドレル12
上に積層する。その後パツド又はトレース10に到達さ
せるため選択した位置で誘電層14を通って出入開口1
6を設ける(図3参照)。出入開口16はレーザー、プ
ラズマ、イオンエツチング又は機械穿孔法の如き任意の
既知の方法を用いて形成できる。一つの特に良く適した
方法は1988年8月12日付出願の米国特許出願第2
31693号(これは本願出願人に譲渡されており、こ
こに引用して組入れる)に記載されたレーザーエツチン
グ法である。
【0018】出入開口16を形成した後、誘電層14の
頂面20のすぐ下のレベルまで開口16を完全に充填す
るように出入開口16内に導電性ポスト18を形成する
(図4参照)。更に図4を参照して、次の工程で、はん
だの如き可融性導電性材料21を、頂面20のレベル又
は僅かにそれを越えて延びるように出入開口16の残余
部分中に置く。個々の回路層を形成する最後の工程で、
既知のエツチング法の如き任意好適な除去方法を用いて
回路及び誘電材料からマンドレル12を除去する。かく
して完成した個々の回路層を図5に22で示す。
頂面20のすぐ下のレベルまで開口16を完全に充填す
るように出入開口16内に導電性ポスト18を形成する
(図4参照)。更に図4を参照して、次の工程で、はん
だの如き可融性導電性材料21を、頂面20のレベル又
は僅かにそれを越えて延びるように出入開口16の残余
部分中に置く。個々の回路層を形成する最後の工程で、
既知のエツチング法の如き任意好適な除去方法を用いて
回路及び誘電材料からマンドレル12を除去する。かく
して完成した個々の回路層を図5に22で示す。
【0019】図6を参照して、図1〜図5に示した方法
で形成した複数の回路22を、図示する方法で一つを他
の上に積重する。勿論、可融性導電性材料21が隣接回
路パツド又はトレース10上の選択位置で整合するよう
回路基体22の任意の数(Xn)を積重し、整合させ
る。
で形成した複数の回路22を、図示する方法で一つを他
の上に積重する。勿論、可融性導電性材料21が隣接回
路パツド又はトレース10上の選択位置で整合するよう
回路基体22の任意の数(Xn)を積重し、整合させ
る。
【0020】図6に示す如く、個々の回路板を積重した
後、積重体は、誘電基体14及び可融性導電性材料21
を同時に溶融するよう充分な温度及び圧力の下に積層さ
せ、これによって固体導電性相互接続を有する一体的で
かつ凝着溶融した多層回路板26(図7参照)を作る。
後、積重体は、誘電基体14及び可融性導電性材料21
を同時に溶融するよう充分な温度及び圧力の下に積層さ
せ、これによって固体導電性相互接続を有する一体的で
かつ凝着溶融した多層回路板26(図7参照)を作る。
【0021】本発明の第一実施態様との関連において幾
つかの別の工程を利用しうることは認められるであろ
う。例えば図1〜図5に示した回路トレースの形成のた
めの付加処理法の代りに、回路10を形成するために既
知の減色像形成法を使用できる。また可融性相互接続材
料はスクリーン印刷の如き既知の方法により、又は他の
好適な選択配置法を用いることによって付着させること
ができる。更に個々の回路層22間に、中に選択的に形
成された出入開口を有する中間結合フイルムを利用でき
る。この中間結合フイルムは、熱及び圧力の下に積層し
たとき図7に示す如き完成多層回路が得られるように、
その中に可融性導電性材料を含有するとよい。更に別の
方法においては、全出入開口16を可融性導電性材料で
充填できる。
つかの別の工程を利用しうることは認められるであろ
う。例えば図1〜図5に示した回路トレースの形成のた
めの付加処理法の代りに、回路10を形成するために既
知の減色像形成法を使用できる。また可融性相互接続材
料はスクリーン印刷の如き既知の方法により、又は他の
好適な選択配置法を用いることによって付着させること
ができる。更に個々の回路層22間に、中に選択的に形
成された出入開口を有する中間結合フイルムを利用でき
る。この中間結合フイルムは、熱及び圧力の下に積層し
たとき図7に示す如き完成多層回路が得られるように、
その中に可融性導電性材料を含有するとよい。更に別の
方法においては、全出入開口16を可融性導電性材料で
充填できる。
【0022】ここで図8〜図12に本発明による第二の
実施態様を示す。この第二実施態様においては、30で
一般的に示す回路板が既知の方法で形成される。回路板
30は可融性ポリマー材料からなる誘電基体32及び基
体32の上面36上の回路トレース及びパツド34のパ
ターンを含む。場合によって誘電層38を、遮蔽又は他
の目的のため基体32の底面上に設けてもよい。図9に
示す次の工程で、可融性誘電材料の層40を誘電基体3
2の上面36上に設ける。層40は、回路トレース34
上の予め選択した位置に相当する予め選択した整合した
開口42を含む、或いは層40はレーザーエツチング又
は他の方法を用い、その場で形成した開口42を回路3
0上に置くことができる。その後、可融性導電性プラグ
44を開口42中で選択接触子及びパツド34に隣接し
て入れる(図10参照)。導電性プラグ44は図10に
46で示す回路集成体を作るため好適な手又は機械的手
段を用いて開口42内に置くことができる。
実施態様を示す。この第二実施態様においては、30で
一般的に示す回路板が既知の方法で形成される。回路板
30は可融性ポリマー材料からなる誘電基体32及び基
体32の上面36上の回路トレース及びパツド34のパ
ターンを含む。場合によって誘電層38を、遮蔽又は他
の目的のため基体32の底面上に設けてもよい。図9に
示す次の工程で、可融性誘電材料の層40を誘電基体3
2の上面36上に設ける。層40は、回路トレース34
上の予め選択した位置に相当する予め選択した整合した
開口42を含む、或いは層40はレーザーエツチング又
は他の方法を用い、その場で形成した開口42を回路3
0上に置くことができる。その後、可融性導電性プラグ
44を開口42中で選択接触子及びパツド34に隣接し
て入れる(図10参照)。導電性プラグ44は図10に
46で示す回路集成体を作るため好適な手又は機械的手
段を用いて開口42内に置くことができる。
【0023】次に図11に示す如く、回路34′が可融
性導電性材料44と整合し接触するように回路集成体4
6上に第二回路30′を配置する。次に図11における
積重体は前述した如く積層体を溶融するため処理され、
回路34及び34′と導電性材料44の溶融、及び誘電
層32,32′及び40の溶融を生じ、固体導電性相互
接続50を有する凝着多層回路板48を作る(図12参
照)。第一実施態様における如く、任意の数の回路を積
重して所望の多層回路構造を形成できることは判るであ
ろう。
性導電性材料44と整合し接触するように回路集成体4
6上に第二回路30′を配置する。次に図11における
積重体は前述した如く積層体を溶融するため処理され、
回路34及び34′と導電性材料44の溶融、及び誘電
層32,32′及び40の溶融を生じ、固体導電性相互
接続50を有する凝着多層回路板48を作る(図12参
照)。第一実施態様における如く、任意の数の回路を積
重して所望の多層回路構造を形成できることは判るであ
ろう。
【0024】本発明の第一及び第二実施態様に対して、
積層温度及び圧力は可融性誘電及び導電性材料の組成で
変化する。下記実施例は第一実施態様(実施例1)及び
第二実施態様(実施例2)を示す。
積層温度及び圧力は可融性誘電及び導電性材料の組成で
変化する。下記実施例は第一実施態様(実施例1)及び
第二実施態様(実施例2)を示す。
【0025】実施例 1 本発明の第一実施態様に従って6個の個々の回路の積重
体を作った。可融性誘電材料は米国特許第484928
4号のフルオロポリマーであり、可融性導電性材料はは
んだ(錫60%及び鉛40%の組成を有する)であっ
た。溶融結合及び凝着多層回路積層体を作るため、1時
間サイクル時間に対して積層温度は700°Fで圧力は
250psiであった。
体を作った。可融性誘電材料は米国特許第484928
4号のフルオロポリマーであり、可融性導電性材料はは
んだ(錫60%及び鉛40%の組成を有する)であっ
た。溶融結合及び凝着多層回路積層体を作るため、1時
間サイクル時間に対して積層温度は700°Fで圧力は
250psiであった。
【0026】実施例 2 図8に示す如くして減色法で規定した回路特長を有する
回路積層体を作った。可融性基体は米国特許第4849
284号に記載され、ロジヤース・コーポレイシヨンに
よって商標RO−2800で市販されている材料であっ
た。次に可融性相互接続を形成すべき部域に規定された
孔を有する結合層をこれらの回路特長に整合させ、図9
における如く作った。結合層は商標RO−2810でロ
ジヤース・コーポレイシヨンによって市販されている材
料であった。錫3%、鉛97%の組成を有するはんだプ
ラグ(直径約1/8in)を次に図10に示す如く孔中
に置いた。別の回路積層体を次に図11に示す如く加工
した結合層に整合させて積層した。次に凝着多層相互接
続構造体を形成するため別々に溶融させて誘電材料及び
はんだ材料で1時間730°F及び250psiで積層
した。実施例1及び実施例2における回路材料は銅であ
った。
回路積層体を作った。可融性基体は米国特許第4849
284号に記載され、ロジヤース・コーポレイシヨンに
よって商標RO−2800で市販されている材料であっ
た。次に可融性相互接続を形成すべき部域に規定された
孔を有する結合層をこれらの回路特長に整合させ、図9
における如く作った。結合層は商標RO−2810でロ
ジヤース・コーポレイシヨンによって市販されている材
料であった。錫3%、鉛97%の組成を有するはんだプ
ラグ(直径約1/8in)を次に図10に示す如く孔中
に置いた。別の回路積層体を次に図11に示す如く加工
した結合層に整合させて積層した。次に凝着多層相互接
続構造体を形成するため別々に溶融させて誘電材料及び
はんだ材料で1時間730°F及び250psiで積層
した。実施例1及び実施例2における回路材料は銅であ
った。
【0027】一般に溶融結合は可融性誘電材料の融点と
可融性誘電材料の分解温度の間の温度範囲で生起する。
PTFEフルオロポリマーを基にした基体を用いたと
き、この温度は620°Fと800°Fの間である。好
ましい圧力は250〜1700psiである。
可融性誘電材料の分解温度の間の温度範囲で生起する。
PTFEフルオロポリマーを基にした基体を用いたと
き、この温度は620°Fと800°Fの間である。好
ましい圧力は250〜1700psiである。
【0028】本発明は意外なことにそして驚いたこと
に、誘電材料が溶融し、従ってある程度の流れを受ける
けれども、この流れは非常に僅かであり、回路層方向及
び層対層整合に悪い効果がないことをもたらす。従って
本発明の方法から精密な多層回路を作ることができる。
に、誘電材料が溶融し、従ってある程度の流れを受ける
けれども、この流れは非常に僅かであり、回路層方向及
び層対層整合に悪い効果がないことをもたらす。従って
本発明の方法から精密な多層回路を作ることができる。
【0029】好ましい実施態様を示したが、本発明の範
囲を逸脱することなく種々の改変及び置換をすることが
できる。従って本発明を例示によって示したので限定す
るものでないことは判るであろう。
囲を逸脱することなく種々の改変及び置換をすることが
できる。従って本発明を例示によって示したので限定す
るものでないことは判るであろう。
【図1】図1は本発明の第一実施態様による個々の回路
板層を形成するための第一工程の横断面図である。
板層を形成するための第一工程の横断面図である。
【図2】図2は本発明の第一実施態様による個々の回路
板層を形成するための第二工程の横断面図である。
板層を形成するための第二工程の横断面図である。
【図3】図3は本発明の第一実施態様による個々の回路
板層を形成するための第三工程の横断面図である。
板層を形成するための第三工程の横断面図である。
【図4】図4は本発明の第一実施態様による個々の回路
板層を形成するための第四工程の横断面図である。
板層を形成するための第四工程の横断面図である。
【図5】図5は本発明の第一実施態様による個々の回路
板層を形成するための最終工程の横断面図である。
板層を形成するための最終工程の横断面図である。
【図6】図6は図5に示した種類の回路板層の積重体を
示す分解図である。
示す分解図である。
【図7】図7は本発明の第一実施態様により作った最終
積層多層回路板の横断面図である。
積層多層回路板の横断面図である。
【図8】図8は本発明の第二実施態様による多層回路板
を作るための第一工程の横断面図である。
を作るための第一工程の横断面図である。
【図9】図8は本発明の第二実施態様による多層回路板
を作るための第二工程の横断面図である。
を作るための第二工程の横断面図である。
【図10】図10は本発明の第二実施態様による多層回
路板を作るための第三工程の横断面図である。
路板を作るための第三工程の横断面図である。
【図11】図11は本発明の第二実施態様による多層回
路板を作るための第四工程の横断面図である。
路板を作るための第四工程の横断面図である。
【図12】図12は本発明の第二実施態様による多層回
路板を作るための最終工程の横断面図である。
路板を作るための最終工程の横断面図である。
10 回路トレース及びパツド 12 マンドレル 14 誘電材料層 16 出入開口 18 導電性ポスト 20 誘電層上面 21 可融性導電性材料 22 回路層(基体) 26 凝着溶融多層回路板 30 回路板 32 誘電基体 34 回路トレース及びパツド 36 基体上面 40 可融性誘電材料 42 開口 44 可融性導電性プラグ 46 回路集成体 48 凝着多層回路板 50 固体導電性相互接続
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 サミュエル・マルボーン アメリカ合衆国コネチカット州06241、デ イヴィル、スレイター、ヒル、ロード (番地なし) (72)発明者 デイビッド・ノディン アメリカ合衆国ウィスコンシン州54701、 ユウ、クレアー、アパートメント 613、 エルドラド、ブルヴァード 3130 (72)発明者 ジー・ロバート・トラウト アメリカ合衆国コネチカット州06239、ダ ニエルソン、アール.デイ. 2
Claims (12)
- 【請求項1】 少なくとも二つの回路板を設け、前記第
一回路板は可融性誘電材料の第一基体及びその上に形成
した第一導電性回路から構成し、前記第二回路板は可融
性誘電材料の第二基体及びその上に形成した第二導電性
回路から構成し、少なくとも前記第一導電性回路がその
少なくとも一つの選択位置上に設けた可融性導電性材料
を含有し;前記第一回路上の前記可融性導電性材料が前
記第二回路上の選択位置と整合するよう前記少なくとも
二つの回路板を他の上に一つがくるよう積重し;前記可
融性誘電材料及び前記可融性導電性材料の両者を溶融さ
せるために有効な熱及び圧力の下に前記積重回路板を積
層し、前記第一及び第二回路間の固体導電性相互接続を
有する凝着多層回路を形成し、前記固体導電性相互接続
が前記可融性導電性材料によって規定される工程を特徴
とする多層回路板の製造法。 - 【請求項2】 回路パターンを形成し;対向する第一及
び第二面を有する可融性誘電基体を形成し、前記回路パ
ターンを前記基体の前記第一面上に位置させ;前記基体
の前記第二面を通る少なくとも一つの出入開口を形成し
て前記回路パターン上に選択位置を露出させ;前記出入
開口を導電性材料で充填し、前記充填出入開口の少なく
とも上部に可融性導電性材料を含有させる工程を用いて
前記二つの回路板の少なくとも一つを形成することを特
徴とする請求項1の方法。 - 【請求項3】 前記出入開口の下部が非可融性導電性材
料を含有することを特徴とする請求項2の方法。 - 【請求項4】 前記回路パターン上に前記誘電基体を形
成する前にマンドレル上に前記回路パターンを形成する
工程を含むことを特徴とする請求項2の方法。 - 【請求項5】 導電性材料で出入開口充填することに続
いてマンドレルを除去する工程を含むことを特徴とする
請求項4の方法。 - 【請求項6】 前記二つの回路板の間に挟まれる可融性
誘電材料のシート中にプラグとして前記可融性導電性材
料を形成する工程を含むことを特徴とする請求項1の方
法。 - 【請求項7】 前記出入開口を、レーザー穿孔、機械的
穿孔、プラズマエツチング及びイオンエツチングからな
る群から選択した開口形成法の少なくとも一つで形成す
ることを特徴とする請求項1の方法。 - 【請求項8】 前記可融性誘電材料がフルオロポリマー
材料を含むことを特徴とする請求項1の方法。 - 【請求項9】 前記フルオロポリマー材料がポリテトラ
フルオロエチレンを基にした材料を含むことを特徴とす
る請求項8の方法。 - 【請求項10】 前記可融性導電性材料が金属又は金属
合金を含むことを特徴とする請求項1の方法。 - 【請求項11】 前記可融性導電性材料が900°F未
満の融点を有することを特徴とする請求項10の方法。 - 【請求項12】 前記熱が620〜800°Fの温度範
囲にあることを特徴とする請求項1の方法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US07/493,975 US5046238A (en) | 1990-03-15 | 1990-03-15 | Method of manufacturing a multilayer circuit board |
| US493975 | 1995-06-23 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0786748A true JPH0786748A (ja) | 1995-03-31 |
Family
ID=23962494
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6807691A Pending JPH0786748A (ja) | 1990-03-15 | 1991-03-06 | 多層回路板の製造法 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5046238A (ja) |
| EP (1) | EP0446656B1 (ja) |
| JP (1) | JPH0786748A (ja) |
| DE (1) | DE69104750T2 (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR20020087328A (ko) * | 2001-05-15 | 2002-11-22 | 조수제 | 전주 구조물 제조를 위한 맨드렐의 제조방법 |
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- 1991-02-19 EP EP19910102311 patent/EP0446656B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1991-02-19 DE DE69104750T patent/DE69104750T2/de not_active Expired - Fee Related
- 1991-03-06 JP JP6807691A patent/JPH0786748A/ja active Pending
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Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| EP0446656B1 (en) | 1994-10-26 |
| DE69104750T2 (de) | 1995-03-16 |
| EP0446656A1 (en) | 1991-09-18 |
| US5046238A (en) | 1991-09-10 |
| DE69104750D1 (de) | 1994-12-01 |
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