JPH078788A - 処理剤を充填した処理塔内の集液機構 - Google Patents
処理剤を充填した処理塔内の集液機構Info
- Publication number
- JPH078788A JPH078788A JP5178506A JP17850693A JPH078788A JP H078788 A JPH078788 A JP H078788A JP 5178506 A JP5178506 A JP 5178506A JP 17850693 A JP17850693 A JP 17850693A JP H078788 A JPH078788 A JP H078788A
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- Japan
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- liquid
- liquid collection
- processing
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 処理剤を充填した処理塔内底部に集液管を設
置した集液機構において、液の滞留を防止する。 【構成】 処理剤を充填した塔の内底部に、山部と谷部
を上面に交互に有する支持板を張設し、該支持板の各谷
部上に集液管を設置した構成において、上記集液管は、
下面に集液小孔を有する管本体の外側面に、該集液小孔
の部分のみを覆う濾過スクリーンを設けたものである、
処理剤を充填した処理塔内の集液機構。
置した集液機構において、液の滞留を防止する。 【構成】 処理剤を充填した塔の内底部に、山部と谷部
を上面に交互に有する支持板を張設し、該支持板の各谷
部上に集液管を設置した構成において、上記集液管は、
下面に集液小孔を有する管本体の外側面に、該集液小孔
の部分のみを覆う濾過スクリーンを設けたものである、
処理剤を充填した処理塔内の集液機構。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、イオン交換樹脂、合成
吸着剤、活性炭、その他種々の液体処理剤を充填した処
理塔において、上記処理剤により処理した処理液を該処
理塔内において集液して塔外へ取り出すための集液機構
に関する。
吸着剤、活性炭、その他種々の液体処理剤を充填した処
理塔において、上記処理剤により処理した処理液を該処
理塔内において集液して塔外へ取り出すための集液機構
に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、この種の集液機構として、処理剤
を充填された処理塔において、塔内底に波板を張設し、
該波板の各谷部に、下面に集液小孔を有する集液管本体
の全周面に合成樹脂ネット、金網、布等の濾過スクリー
ンを巻装してなる集液管をそれぞれ配設すると共に、各
集液管の一端部を塔外に延長して排出管に接続し、そし
て処理塔上部から塔内に供給された原液を処理剤間に流
下させつつ所定の処理を受けさせた後、処理液を集液小
孔から集液管内に集めて塔外へ取り出すものが一般に使
用されている。
を充填された処理塔において、塔内底に波板を張設し、
該波板の各谷部に、下面に集液小孔を有する集液管本体
の全周面に合成樹脂ネット、金網、布等の濾過スクリー
ンを巻装してなる集液管をそれぞれ配設すると共に、各
集液管の一端部を塔外に延長して排出管に接続し、そし
て処理塔上部から塔内に供給された原液を処理剤間に流
下させつつ所定の処理を受けさせた後、処理液を集液小
孔から集液管内に集めて塔外へ取り出すものが一般に使
用されている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかし、従来の集液機
構では、図５に示すように集液管（Ｐ）の上に流下して
きた液流（ａ）は、濾過スクリーン（Ｓ）を通過して該
スクリーン（Ｓ）と集液管本体（ｄ）外周面との狭い間
隙を速やかに流通して集液小孔（ｈ）内に流入するが、
集液管（Ｐ）をはずれた側方部に流下してきた液流
（ｂ）は、側方部に存在する処理剤が液流の抵抗となる
ため、上記液流（ａ）より遅れて処理剤の間をさらにゆ
っくりと流下していき、しかも一旦液流（ａ）の流れ易
い流路ができると、液流（ｂ）が上記側方部に滞留しが
ちとなり、場合によっては上記側方部がデッドゾーンと
なって腐敗を発生する難点があった。
構では、図５に示すように集液管（Ｐ）の上に流下して
きた液流（ａ）は、濾過スクリーン（Ｓ）を通過して該
スクリーン（Ｓ）と集液管本体（ｄ）外周面との狭い間
隙を速やかに流通して集液小孔（ｈ）内に流入するが、
集液管（Ｐ）をはずれた側方部に流下してきた液流
（ｂ）は、側方部に存在する処理剤が液流の抵抗となる
ため、上記液流（ａ）より遅れて処理剤の間をさらにゆ
っくりと流下していき、しかも一旦液流（ａ）の流れ易
い流路ができると、液流（ｂ）が上記側方部に滞留しが
ちとなり、場合によっては上記側方部がデッドゾーンと
なって腐敗を発生する難点があった。
【０００４】また、従来の集液機構を、複数種の成分を
含有してなる混合原液をその成分ごとに順次経時的に分
離するクロマト分離塔の集液に使用した場合、先行の一
の分離成分がテイリングにより後行の他の分離成分に混
入して分離精度を著しく低下させ、また純水製造用イオ
ン交換樹脂塔の集液に使用した場合は、再生時における
再生薬液の洗浄工程において再生薬液のテイリングによ
り洗浄に長時間を要することとなり、そのため洗浄水の
使用量が増大する欠点があった。本発明は、従来の集液
機構の欠点を除くことを課題とする。
含有してなる混合原液をその成分ごとに順次経時的に分
離するクロマト分離塔の集液に使用した場合、先行の一
の分離成分がテイリングにより後行の他の分離成分に混
入して分離精度を著しく低下させ、また純水製造用イオ
ン交換樹脂塔の集液に使用した場合は、再生時における
再生薬液の洗浄工程において再生薬液のテイリングによ
り洗浄に長時間を要することとなり、そのため洗浄水の
使用量が増大する欠点があった。本発明は、従来の集液
機構の欠点を除くことを課題とする。
【０００５】
【課題を解決するための手段】上記課題を達成するた
め、本発明は、処理剤を充填した塔の内底部に、山部と
谷部を上面に交互に有する支持板を張設し、該支持板の
各谷部上に集液管を設置した構成において、上記集液管
は、下面に集液小孔を有する管本体の外側面に、該集液
小孔の部分のみを覆う濾過スクリーンを設けたものであ
る、処理剤を充填した処理塔内の集液機構を提案する。
め、本発明は、処理剤を充填した塔の内底部に、山部と
谷部を上面に交互に有する支持板を張設し、該支持板の
各谷部上に集液管を設置した構成において、上記集液管
は、下面に集液小孔を有する管本体の外側面に、該集液
小孔の部分のみを覆う濾過スクリーンを設けたものであ
る、処理剤を充填した処理塔内の集液機構を提案する。
【０００６】本発明における上記集液管の「集液小孔」
は円形小孔のほかスリットであってもよい。また、上記
「濾過スクリーン」には、合成樹脂ネット、金網、布、
または横断面くさび形のウェッジワイヤを互に細隙をあ
けて平行させると共にその内側にサポートワイヤを直交
させて溶接してなるウェッジワイヤスクリーン、上記サ
ポートワイヤを除いたウエッジワイヤスクリーン、その
他種々のものが使用される。以下図面を参照して本発明
の実施例について説明する。
は円形小孔のほかスリットであってもよい。また、上記
「濾過スクリーン」には、合成樹脂ネット、金網、布、
または横断面くさび形のウェッジワイヤを互に細隙をあ
けて平行させると共にその内側にサポートワイヤを直交
させて溶接してなるウェッジワイヤスクリーン、上記サ
ポートワイヤを除いたウエッジワイヤスクリーン、その
他種々のものが使用される。以下図面を参照して本発明
の実施例について説明する。
【０００７】
【実施例】図１、２は、塔内にイオン交換樹脂を充填し
てなるクロマト分離塔の集液機構に実施した例で、塔
（１）の内底面に山部と谷部が交互に連続する波板から
なる支持板（２）を張設し、該支持板（２）の各谷部に
集液管（３）…を配置すると共に、各集液管の一端部を
塔外に延出してヘッダー管（４）に接続し、該ヘッダー
管（４）を排出管（図示略）に接続してあり、このよう
に集液管（３）…を配管された塔（１）内にイオン交換
樹脂粒（５）…を充填し、さらに塔（１）の上端部に原
液供給管（６）を接続してある。なお、ヘッダー管
（４）は、図２に示すようにその閉塞端がわから液出口
がわに向けて順次大径となるように構成されている。
（７）…は上記集液管（３）…を支持板（２）上に保持
する押え棒、（８）は上記原液供給管（６）の塔内端部
に接続されたディストリビュータである。
てなるクロマト分離塔の集液機構に実施した例で、塔
（１）の内底面に山部と谷部が交互に連続する波板から
なる支持板（２）を張設し、該支持板（２）の各谷部に
集液管（３）…を配置すると共に、各集液管の一端部を
塔外に延出してヘッダー管（４）に接続し、該ヘッダー
管（４）を排出管（図示略）に接続してあり、このよう
に集液管（３）…を配管された塔（１）内にイオン交換
樹脂粒（５）…を充填し、さらに塔（１）の上端部に原
液供給管（６）を接続してある。なお、ヘッダー管
（４）は、図２に示すようにその閉塞端がわから液出口
がわに向けて順次大径となるように構成されている。
（７）…は上記集液管（３）…を支持板（２）上に保持
する押え棒、（８）は上記原液供給管（６）の塔内端部
に接続されたディストリビュータである。
【０００８】上記集液管（３）…の構造は次のようであ
る。管本体（９）は一例として金属円管で、その下面に
円形の集液小孔（１０）…を長手方向に小間隔をあけて
設けてあり、この管本体（９）の外側下面に、図３、４
に示すように横断面くさび形で弧状に曲げた多数本のウ
ェッジワイヤ（１１）…を、上記集液小孔（１０）…の
長手方向に並ぶ周面部分のみを覆う状態で、互に細隙を
あけて各ウェッジワイヤ両端部をそれぞれ溶接し、それ
により管本体（９）の下面に母線方向に延長するアーチ
形濾過スクリーン（１２）を形成する。
る。管本体（９）は一例として金属円管で、その下面に
円形の集液小孔（１０）…を長手方向に小間隔をあけて
設けてあり、この管本体（９）の外側下面に、図３、４
に示すように横断面くさび形で弧状に曲げた多数本のウ
ェッジワイヤ（１１）…を、上記集液小孔（１０）…の
長手方向に並ぶ周面部分のみを覆う状態で、互に細隙を
あけて各ウェッジワイヤ両端部をそれぞれ溶接し、それ
により管本体（９）の下面に母線方向に延長するアーチ
形濾過スクリーン（１２）を形成する。
【０００９】上例の作用を次に説明する。原水供給管
（６）を通じて原水を塔（１）内に圧送すると、供給さ
れた原液がイオン交換樹脂粒（５）…の間隙を通過しつ
つ所定の処理を受けて支持板谷部内に流下していき、そ
して各谷部内において各集液管（３）の上に流下してき
た液は、従来のような流れ易い流路を除かれているの
で、各集液管（３）の左右に分流し、集液管（３）の側
方部に流下してきた液と少くとも一部合流しつつ、とも
に集液小孔（１０）…へ向かう共通の流路をほぼ同速度
で流下していき、それにより集液管（３）の側方部に液
が滞留することはない。
（６）を通じて原水を塔（１）内に圧送すると、供給さ
れた原液がイオン交換樹脂粒（５）…の間隙を通過しつ
つ所定の処理を受けて支持板谷部内に流下していき、そ
して各谷部内において各集液管（３）の上に流下してき
た液は、従来のような流れ易い流路を除かれているの
で、各集液管（３）の左右に分流し、集液管（３）の側
方部に流下してきた液と少くとも一部合流しつつ、とも
に集液小孔（１０）…へ向かう共通の流路をほぼ同速度
で流下していき、それにより集液管（３）の側方部に液
が滞留することはない。
【００１０】なお、本発明に用いられる支持板は、上例
の支持板（２）に限らず、平らな板の上面に断面山形の
多数の突条を取付けて山部と谷部を交互に形成したもの
等も使用される。
の支持板（２）に限らず、平らな板の上面に断面山形の
多数の突条を取付けて山部と谷部を交互に形成したもの
等も使用される。
【００１１】
【発明の効果】本発明の処理剤を充填した処理塔内の集
液機構によれば、集液管の下面に有する集液小孔の部分
のみを濾過スクリーンで覆ったから、処理剤の間を通過
して所定の処理を受けつつ支持板谷部内に流下してきた
液は、集液管の上に流下する液と、集液管の側方部に流
下する液とが支持板谷部内で少くとも一部合流してとも
にほぼ同速度で集液小孔へ向う流路を流下していき、そ
れにより液の滞留発生を防止することができると共に、
クロマト分離塔の集液機構に使用した場合各成分をテイ
リングをなくして精度よく分離集液することができるの
である。
液機構によれば、集液管の下面に有する集液小孔の部分
のみを濾過スクリーンで覆ったから、処理剤の間を通過
して所定の処理を受けつつ支持板谷部内に流下してきた
液は、集液管の上に流下する液と、集液管の側方部に流
下する液とが支持板谷部内で少くとも一部合流してとも
にほぼ同速度で集液小孔へ向う流路を流下していき、そ
れにより液の滞留発生を防止することができると共に、
クロマト分離塔の集液機構に使用した場合各成分をテイ
リングをなくして精度よく分離集液することができるの
である。
【図１】クロマト分離塔の縦断正面図である。
【図２】図１のＩＩ−ＩＩ線断面図である。
【図３】図１における集液管部分の拡大図である。
【図４】図３のＩＶ−ＩＶ線に沿う一部の断面図であ
る。
る。
【図５】従来集液管の略線拡大横断面図である。
１ 塔 ２ 支持板 ３ 集液管 ５ イオン交換樹脂粒 ９ 管本体 １０ 集液小孔 １２ 濾過スクリーン
Claims (1)
- 【請求項１】 処理剤を充填した塔の内底部に、山部と
谷部を上面に交互に有する支持板を張設し、該支持板の
各谷部上に集液管を設置した構成において、 上記集液管は、下面に集液小孔を有する管本体の外側面
に、該集液小孔の部分のみを覆う濾過スクリーンを設け
たものである、処理剤を充填した処理塔内の集液機構。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5178506A JP3049462B2 (ja) | 1993-06-28 | 1993-06-28 | 処理剤を充填した処理塔内の集液機構 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5178506A JP3049462B2 (ja) | 1993-06-28 | 1993-06-28 | 処理剤を充填した処理塔内の集液機構 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH078788A true JPH078788A (ja) | 1995-01-13 |
| JP3049462B2 JP3049462B2 (ja) | 2000-06-05 |
Family
ID=16049661
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5178506A Expired - Fee Related JP3049462B2 (ja) | 1993-06-28 | 1993-06-28 | 処理剤を充填した処理塔内の集液機構 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3049462B2 (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2007046338A1 (ja) * | 2005-10-20 | 2007-04-26 | Idemitsu Kosan Co., Ltd. | 固定床反応器及びそれを用いる２，２－ビス（４－ヒドロキシフェニル）プロパンの製造方法 |
| JP2009061452A (ja) * | 2001-05-15 | 2009-03-26 | Weatherford Lamb Inc | 媒体層支持格子 |
| CN112899473A (zh) * | 2021-03-25 | 2021-06-04 | 长沙矿山研究院有限责任公司 | 一种堆浸场底部收集装置与方法 |
-
1993
- 1993-06-28 JP JP5178506A patent/JP3049462B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2009061452A (ja) * | 2001-05-15 | 2009-03-26 | Weatherford Lamb Inc | 媒体層支持格子 |
| WO2007046338A1 (ja) * | 2005-10-20 | 2007-04-26 | Idemitsu Kosan Co., Ltd. | 固定床反応器及びそれを用いる２，２－ビス（４－ヒドロキシフェニル）プロパンの製造方法 |
| JP2007112745A (ja) * | 2005-10-20 | 2007-05-10 | Idemitsu Kosan Co Ltd | 固定床反応器及びそれを用いる２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパンの製造方法。 |
| KR101349440B1 (ko) * | 2005-10-20 | 2014-01-08 | 이데미쓰 고산 가부시키가이샤 | 고정상 반응기 및 그것을 이용하는2,2-비스(4-하이드록시페닐)프로페인의 제조방법 |
| CN112899473A (zh) * | 2021-03-25 | 2021-06-04 | 长沙矿山研究院有限责任公司 | 一种堆浸场底部收集装置与方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3049462B2 (ja) | 2000-06-05 |
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Legal Events
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