JPH0788482A - 浄水処理における上向流連続移動床式ろ過法によるヒ素等の除去方法 - Google Patents
浄水処理における上向流連続移動床式ろ過法によるヒ素等の除去方法Info
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- JPH0788482A JPH0788482A JP25526493A JP25526493A JPH0788482A JP H0788482 A JPH0788482 A JP H0788482A JP 25526493 A JP25526493 A JP 25526493A JP 25526493 A JP25526493 A JP 25526493A JP H0788482 A JPH0788482 A JP H0788482A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 ヒ素及びヒ素と同様な除去方法（共沈法）で
処理できる水道法で定める基準項目の水質を含む原水を
水源とする浄水処理に関する。 【構成】 ヒ素等を含む表流水、地下水、湧水、伏流
水、湖沼水等を水源とする原水の浄水処理においてヒ素
等を除去する方法として、凝集剤添加による共沈法で生
じる高濁度水に対応でき、洗浄排水を連続的に排出し、
かつ排水量を制御して洗浄排水中のヒ素等の濃度を調整
可能な前段の上向流連続移動床式ろ過法による前段のろ
過装置と、仕上げ処理としての、急速ろ過法又は緩速ろ
過法を使用する後段のろ過装置により良好な浄水だけで
なく、両ろ過装置からの排水を混合することにより、排
水処理を行なわずに排水基準を満足させる。
処理できる水道法で定める基準項目の水質を含む原水を
水源とする浄水処理に関する。 【構成】 ヒ素等を含む表流水、地下水、湧水、伏流
水、湖沼水等を水源とする原水の浄水処理においてヒ素
等を除去する方法として、凝集剤添加による共沈法で生
じる高濁度水に対応でき、洗浄排水を連続的に排出し、
かつ排水量を制御して洗浄排水中のヒ素等の濃度を調整
可能な前段の上向流連続移動床式ろ過法による前段のろ
過装置と、仕上げ処理としての、急速ろ過法又は緩速ろ
過法を使用する後段のろ過装置により良好な浄水だけで
なく、両ろ過装置からの排水を混合することにより、排
水処理を行なわずに排水基準を満足させる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】この発明は、ヒ素及びヒ素と同様
な除去方法、すなわち凝集剤添加による共沈法（以下共
沈法という）で処理できる水道法で定める基準項目の水
質を含む原水を水源とする浄水処理に関するものであ
る。
な除去方法、すなわち凝集剤添加による共沈法（以下共
沈法という）で処理できる水道法で定める基準項目の水
質を含む原水を水源とする浄水処理に関するものであ
る。
【０００２】
【従来の技術】ヒ素を含む水の処理方法としては、共沈
法、イオン交換樹脂法、逆浸透膜法等があるが、共沈法
を除いては、廃水処理での実施例があるものの、経済
性、維持管理性の点から、浄水処理においての実施例は
ほとんどない。また共沈法についても、従来は凝集沈殿
処理が一般的に行なわれた。
法、イオン交換樹脂法、逆浸透膜法等があるが、共沈法
を除いては、廃水処理での実施例があるものの、経済
性、維持管理性の点から、浄水処理においての実施例は
ほとんどない。また共沈法についても、従来は凝集沈殿
処理が一般的に行なわれた。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】 共沈法としての凝集沈殿処理は、例えば地下水等の濁
度の低い水では、共沈のための必要な凝集剤量以外に
も、凝集フロツクの沈降性が悪いため、多量の凝集剤を
注入しなければならない。
度の低い水では、共沈のための必要な凝集剤量以外に
も、凝集フロツクの沈降性が悪いため、多量の凝集剤を
注入しなければならない。
【０００４】また凝集沈殿処理で生成される沈殿汚泥
にはヒ素が濃縮されている。ヒ素は、水質汚泥防止法に
おいて有害物質に指定されており、排水基準を満たすた
めに通常の浄水汚泥処理とは異なる方法で処理しなけれ
ばならない。 凝集沈殿処理は、設置面積が大きい。 共沈法には、凝集沈殿処理の他に凝集ろ過処理が考え
られるが、通常の下向流ろ過処理単独では、凝集剤添加
に伴う濁質増加により、ろ過継続時間の短縮（洗浄頻度
の増加）の問題や、ろ材洗浄排水の濃度を制御すること
ができず、かつ洗浄排水の排出時の経時濃度変動が大き
いことから、排出基準を満たすために排水処理を考慮し
なければならない。
にはヒ素が濃縮されている。ヒ素は、水質汚泥防止法に
おいて有害物質に指定されており、排水基準を満たすた
めに通常の浄水汚泥処理とは異なる方法で処理しなけれ
ばならない。 凝集沈殿処理は、設置面積が大きい。 共沈法には、凝集沈殿処理の他に凝集ろ過処理が考え
られるが、通常の下向流ろ過処理単独では、凝集剤添加
に伴う濁質増加により、ろ過継続時間の短縮（洗浄頻度
の増加）の問題や、ろ材洗浄排水の濃度を制御すること
ができず、かつ洗浄排水の排出時の経時濃度変動が大き
いことから、排出基準を満たすために排水処理を考慮し
なければならない。
【０００５】
【課題を解決するための手段】この発明は、前記の課題
を解決するために、上向流連続移動床式ろ過装置を使用
するものである。更に、仕上げ処理として後段に急速ろ
過又は、緩速ろ過装置を設け、２段のろ過を行なうもの
である。この方法により、次のような改善が達成され
た。すなわち、 凝集沈殿法と比較して設置面積を小さくする。 連続的にろ材を洗浄するため、洗浄排水も連続的の流
出され、ヒ素濃度も一定である。 洗浄排水量比率を調整することにより、洗浄排水中の
ヒ素濃度を制御する。 仕上げ処理として後段に設ける下向流ろ過の負荷を低
減し、ろ過洗浄排水濃度を低くする。 上記，から、排水処理を行なわずに排水濃度を排
水基準以下に調整する。
を解決するために、上向流連続移動床式ろ過装置を使用
するものである。更に、仕上げ処理として後段に急速ろ
過又は、緩速ろ過装置を設け、２段のろ過を行なうもの
である。この方法により、次のような改善が達成され
た。すなわち、 凝集沈殿法と比較して設置面積を小さくする。 連続的にろ材を洗浄するため、洗浄排水も連続的の流
出され、ヒ素濃度も一定である。 洗浄排水量比率を調整することにより、洗浄排水中の
ヒ素濃度を制御する。 仕上げ処理として後段に設ける下向流ろ過の負荷を低
減し、ろ過洗浄排水濃度を低くする。 上記，から、排水処理を行なわずに排水濃度を排
水基準以下に調整する。
【０００６】
【作用】ヒ素含有の水道原水（湧水）を使用して行なつ
た実証実験における、上向流連続移動床式ろ過装置洗浄
排水量比と、排水中のヒ素濃度との関係を図１に示す。
洗浄排水量比と排水中のヒ素濃度との間に相関関係が認
められ、洗浄排水量比を調整することにより、洗浄排水
中のヒ素濃度を調整することが可能であることが確認さ
れた。
た実証実験における、上向流連続移動床式ろ過装置洗浄
排水量比と、排水中のヒ素濃度との関係を図１に示す。
洗浄排水量比と排水中のヒ素濃度との間に相関関係が認
められ、洗浄排水量比を調整することにより、洗浄排水
中のヒ素濃度を調整することが可能であることが確認さ
れた。
【０００７】例（１）（ヒ素除去） 図２は、この発明の具体例である。 原水は、原水ポンプ１により、上向流連続移動床式ろ
過装置２に送られる。この間に、酸化剤（例えば次亜塩
素酸ソ−ダ等）タンク３及び凝集剤（ＰＡＣや鉄塩）タ
ンク４から、酸化剤注入ポンプ５及び凝集剤注入ポンプ
６により、管路内に酸化剤と凝集剤の注入が行なわれ、
更にパイプミキサ７により混合が行なわれる。 前記上向流連続移動式ろ過装置２では、ろ過と同時に
ろ材の一部を駆動水ポンプ８とコンプレツサ９を空気源
とするエア−リフトにより抜き出しながら洗浄を行なつ
て、ろ層へ戻す操作が連続的に行なわれる。このため、
洗浄排水も一定濃度で連続的に排出される。洗浄排水量
は、装置内の流量調整装置のより所定の流量に調整され
る。 上向流連続移動床式ろ過装置２の処理水は、本例のよ
うに後段の仕上げろ過装置１２が圧力式の場合には、ポ
ンプピツト１０に一旦貯留後、ポンプ１１によつて移送
される。なお開放式ろ過装置の場合には、自然流下で移
送される。処理水は、浄水として別途浄水施設に移送さ
れる。ろ材は、ケイ砂を使用した。
過装置２に送られる。この間に、酸化剤（例えば次亜塩
素酸ソ−ダ等）タンク３及び凝集剤（ＰＡＣや鉄塩）タ
ンク４から、酸化剤注入ポンプ５及び凝集剤注入ポンプ
６により、管路内に酸化剤と凝集剤の注入が行なわれ、
更にパイプミキサ７により混合が行なわれる。 前記上向流連続移動式ろ過装置２では、ろ過と同時に
ろ材の一部を駆動水ポンプ８とコンプレツサ９を空気源
とするエア−リフトにより抜き出しながら洗浄を行なつ
て、ろ層へ戻す操作が連続的に行なわれる。このため、
洗浄排水も一定濃度で連続的に排出される。洗浄排水量
は、装置内の流量調整装置のより所定の流量に調整され
る。 上向流連続移動床式ろ過装置２の処理水は、本例のよ
うに後段の仕上げろ過装置１２が圧力式の場合には、ポ
ンプピツト１０に一旦貯留後、ポンプ１１によつて移送
される。なお開放式ろ過装置の場合には、自然流下で移
送される。処理水は、浄水として別途浄水施設に移送さ
れる。ろ材は、ケイ砂を使用した。
【０００８】例（２）（ヒ素及び鉄、マンガン除去） 装置構成は、例（１）と同じ。ただし、ろ材としては、
両ろ過装置ともマンガン砂を使用した。
両ろ過装置ともマンガン砂を使用した。
【０００９】 例（３）（ヒ素および鉄、マンガン、有機系色度除去） 装置構成は、例（１）と同じ。ただし、ろ材としては、
両ろ過装置とも有機系色度除去用ろ材を使用した。
両ろ過装置とも有機系色度除去用ろ材を使用した。
【００１０】図２に示した装置を使用してヒ素除去を行
なつた時の原水、浄水、洗浄排水のそれぞれの水質を表
１に示す。また後段ろ過装置による仕上げ処理としての
急速ろ過装置の洗浄排水中のヒ素濃度の経時変化を図３
に示す（例（１））。
なつた時の原水、浄水、洗浄排水のそれぞれの水質を表
１に示す。また後段ろ過装置による仕上げ処理としての
急速ろ過装置の洗浄排水中のヒ素濃度の経時変化を図３
に示す（例（１））。
【００１１】
【表１】
【００１２】表１および図３により、新水質基準を十分
に満足する処理水が得られ、また両ろ過装置の洗浄排水
についてもいずれも排水基準を大きく下回る水質となつ
た。このことから、排水処理設備を設けることなく、良
好な浄水と放流可能な洗浄排水が得られ、ヒ素除去方法
の優れた処理方法であることが確認された。図２に示し
た装置を使用してヒ素および鉄、マンガン除去を目的に
運転を行なつた時の、原水、浄水、洗浄排水のそれぞれ
の水質を表２に示す（例（２））。
に満足する処理水が得られ、また両ろ過装置の洗浄排水
についてもいずれも排水基準を大きく下回る水質となつ
た。このことから、排水処理設備を設けることなく、良
好な浄水と放流可能な洗浄排水が得られ、ヒ素除去方法
の優れた処理方法であることが確認された。図２に示し
た装置を使用してヒ素および鉄、マンガン除去を目的に
運転を行なつた時の、原水、浄水、洗浄排水のそれぞれ
の水質を表２に示す（例（２））。
【００１３】
【表１】
【００１４】表２から判るように、新水質基準を十分に
満足する処理水が得られた。このことからこの発明がヒ
素除去だけでなく、鉄、マンガン除去にも優れた処理方
法であることが確認された。
満足する処理水が得られた。このことからこの発明がヒ
素除去だけでなく、鉄、マンガン除去にも優れた処理方
法であることが確認された。
【００１５】図３に示した装置を使用してヒ素及び、
鉄、マンガン、有機系色度除去を目的に運転を行なつた
時の原水、浄水、洗浄排水のそれぞれの水質を表３に示
す（例（３））。
鉄、マンガン、有機系色度除去を目的に運転を行なつた
時の原水、浄水、洗浄排水のそれぞれの水質を表３に示
す（例（３））。
【００１６】
【表３】
【００１７】表３から判るように、新水質基準を十分に
満足する処理水が得られた。このことからこの発明がヒ
素、鉄、マンガン除去だけでなく、色度除去にも優れた
処理方法であることが確認された。
満足する処理水が得られた。このことからこの発明がヒ
素、鉄、マンガン除去だけでなく、色度除去にも優れた
処理方法であることが確認された。
【００１８】
【発明の効果】上述したこの発明の方法を実施すること
により、次のような効果を挙げることができる。すなわ
ち、 凝集沈殿法と比較して設置面積を小さくすることがで
きる。 連続的にろ材を洗浄するため、洗浄排水も連続的に流
出され、ヒ素濃度も一定とすることができる。 洗浄排水量比率を調整することにより、洗浄排水中の
ヒ素濃度を制御できる。 仕上げ処理として後段に設ける下向流ろ過の負荷が低
減されるため、ろ過洗浄排水濃度を低くすることができ
る。 上記，から、排水処理を行なわずに排水濃度を排
水基準以下に調整できる。
により、次のような効果を挙げることができる。すなわ
ち、 凝集沈殿法と比較して設置面積を小さくすることがで
きる。 連続的にろ材を洗浄するため、洗浄排水も連続的に流
出され、ヒ素濃度も一定とすることができる。 洗浄排水量比率を調整することにより、洗浄排水中の
ヒ素濃度を制御できる。 仕上げ処理として後段に設ける下向流ろ過の負荷が低
減されるため、ろ過洗浄排水濃度を低くすることができ
る。 上記，から、排水処理を行なわずに排水濃度を排
水基準以下に調整できる。
【図１】上向流連続移動床式ろ過装置洗浄排水量比と、
排水中のヒ素濃度との関係を示すグラフである。
排水中のヒ素濃度との関係を示すグラフである。
【図２】この発明の方法を実施すべき装置の一例のフロ
−シ−トである。
−シ−トである。
【図３】急速ろ過装置の洗浄排水中のヒ素濃度の経時変
化を示すグラフである。
化を示すグラフである。
【表２】
Claims (6)
- 【請求項１】 ヒ素等を含む表流水、地下水、湧水、伏
流水、湖沼水等を水源とする原水の浄水処理においてヒ
素等を除去する方法として、凝集剤添加による共沈法で
生じる高濁度水に対応でき、洗浄排水を連続的に排出
し、かつ排水量を制御して洗浄排水中のヒ素等の濃度を
調整可能な前段の上向流連続移動床式ろ過法による前段
のろ過装置と、仕上げ処理としての、急速ろ過法又は緩
速ろ過法を使用する後段のろ過装置により良好な浄水だ
けでなく、両ろ過装置からの排水を混合することによ
り、排水処理を行なわずに排水基準を満足させることを
特徴とする浄水処理における上向流連続移動床ろ過法に
よるヒ素等の除去方法。 - 【請求項２】 処理対象となる原水ヒ素濃度は、０．１
ｍｇ／ｌ以下とし、原水に対する洗浄排水比率は、５〜
２０％の範囲であつて、ろ過装置のろ材として、ヒ素以
外の除去対象に応じて、ケイ砂、活性炭を含む有機系色
度除去用ろ材のいずれかを１ないし２種使用することを
特徴とする請求項１記載の方法。 - 【請求項３】 除去対象がヒ素の場合、前段及び後段の
ろ過装置ともケイ砂を使用することを特徴とする請求項
１記載の方法。 - 【請求項４】 除去対象がヒ素、鉄、マンガンの場合、
前段のろ過装置にはケイ砂又はマンガン砂を、後段のろ
過装置にはマンガン砂を使用することを特徴とする請求
項１記載の方法。 - 【請求項５】 除去対象がヒ素、鉄、マンガン、有機系
色度の場合、前段のろ過装置にはケイ砂又は有機系色度
除去用ろ材を使用し、後段のろ過装置には有機系色度除
去用ろ材を使用することを特徴とする請求項１記載の方
法。 - 【請求項６】 ヒ素と同時に水道法の水質基準及び水質
汚濁防止法の排出基準に定められる水質項目の中で凝集
剤による共沈法で処理可能な水質項目について、請求項
１記載の方法による除去方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP25526493A JP2920460B2 (ja) | 1993-09-20 | 1993-09-20 | 原水中のヒ素、鉄、マンガン及び有機系色度のろ過方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP25526493A JP2920460B2 (ja) | 1993-09-20 | 1993-09-20 | 原水中のヒ素、鉄、マンガン及び有機系色度のろ過方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0788482A true JPH0788482A (ja) | 1995-04-04 |
| JP2920460B2 JP2920460B2 (ja) | 1999-07-19 |
Family
ID=17276339
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP25526493A Expired - Fee Related JP2920460B2 (ja) | 1993-09-20 | 1993-09-20 | 原水中のヒ素、鉄、マンガン及び有機系色度のろ過方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2920460B2 (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007209849A (ja) * | 2006-02-07 | 2007-08-23 | Suido Kiko Kaisha Ltd | 移動床式ろ過装置 |
| US9187343B2 (en) | 2011-01-14 | 2015-11-17 | National Institute For Materials Science | Nanostructure material supporting arsenic ion adsorption compound and method to remove arsenic ion using the same |
| JP6005224B1 (ja) * | 2015-08-19 | 2016-10-12 | 株式会社ヤマト | 濾過方法及び濾過装置 |
-
1993
- 1993-09-20 JP JP25526493A patent/JP2920460B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007209849A (ja) * | 2006-02-07 | 2007-08-23 | Suido Kiko Kaisha Ltd | 移動床式ろ過装置 |
| US9187343B2 (en) | 2011-01-14 | 2015-11-17 | National Institute For Materials Science | Nanostructure material supporting arsenic ion adsorption compound and method to remove arsenic ion using the same |
| JP6005224B1 (ja) * | 2015-08-19 | 2016-10-12 | 株式会社ヤマト | 濾過方法及び濾過装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2920460B2 (ja) | 1999-07-19 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
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