JPH078913B2 - オルガノポリシロキサンの製造方法 - Google Patents
オルガノポリシロキサンの製造方法Info
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- JPH078913B2 JPH078913B2 JP62139114A JP13911487A JPH078913B2 JP H078913 B2 JPH078913 B2 JP H078913B2 JP 62139114 A JP62139114 A JP 62139114A JP 13911487 A JP13911487 A JP 13911487A JP H078913 B2 JPH078913 B2 JP H078913B2
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Description
【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本発明はオルガノポリシロキサンの製造方法、特にSiO2
単位を含有するオルガノポリシロキサンをを配合比と等
しいSiO2単位の含有比で合成することができ、しかも
酸、アルカリ物質の添加処理が不要で、かつアルコール
などの添加、廃液処理も不要であるオルガノポリシロキ
サンの製造方法に関するものである。
単位を含有するオルガノポリシロキサンをを配合比と等
しいSiO2単位の含有比で合成することができ、しかも
酸、アルカリ物質の添加処理が不要で、かつアルコール
などの添加、廃液処理も不要であるオルガノポリシロキ
サンの製造方法に関するものである。
（従来の技術） R3SiO0.5単位（Ｒは水素原子または１価炭化水素基）
（Ｍ単位）とSiO2単位（Ｑ単位）とからなるベンゼン可
溶性のオルガノポリシロキサンはシリコーン業界におい
て多くの分野で使用されており、これは通常、水ガラ
ス、オルソけい酸ナトリウムのような水に可溶な塩基性
けい酸塩に、塩酸または硫酸を添加してけい酸オリゴマ
ーとしたのち、トリアルキルクロロシランと反応させる
方法（米国特許第2,676,182、2,814,601号明細書参照）
で作られている。
（Ｍ単位）とSiO2単位（Ｑ単位）とからなるベンゼン可
溶性のオルガノポリシロキサンはシリコーン業界におい
て多くの分野で使用されており、これは通常、水ガラ
ス、オルソけい酸ナトリウムのような水に可溶な塩基性
けい酸塩に、塩酸または硫酸を添加してけい酸オリゴマ
ーとしたのち、トリアルキルクロロシランと反応させる
方法（米国特許第2,676,182、2,814,601号明細書参照）
で作られている。
しかし、この方法は中間体としてのオリゴマーが不安定
な物質であるために得られるオルガノポリシロキサンの
分子量分布の調整が難しいし、Ｍ単位とＱ単位の構成比
も目的とするものが得られがたく、また、中和のために
使用する多量の酸やトリアルキルクロロシランから副生
する塩酸が排水中に廃棄され、反応系を安定化させるた
めに添加される多量のアルコールも排水中に流出される
ためにこの排水の浄化処理が必要とされるという不利が
あり、特にこの塩酸については揮発する塩化水素が刺激
臭の強い人体に有害なものであるし、製造装置、配管お
よびその他の付帯機器を著しく腐触するものであるため
に、装置を高価な耐腐食性の材質のものとしたり、補修
費などに多くの人手と費用が必要とされるという問題点
がある。
な物質であるために得られるオルガノポリシロキサンの
分子量分布の調整が難しいし、Ｍ単位とＱ単位の構成比
も目的とするものが得られがたく、また、中和のために
使用する多量の酸やトリアルキルクロロシランから副生
する塩酸が排水中に廃棄され、反応系を安定化させるた
めに添加される多量のアルコールも排水中に流出される
ためにこの排水の浄化処理が必要とされるという不利が
あり、特にこの塩酸については揮発する塩化水素が刺激
臭の強い人体に有害なものであるし、製造装置、配管お
よびその他の付帯機器を著しく腐触するものであるため
に、装置を高価な耐腐食性の材質のものとしたり、補修
費などに多くの人手と費用が必要とされるという問題点
がある。
他方、この種のオルガノポリシロキサンの製造について
は、アルキルシリケートとトリアルキルクロロシランと
を塩酸の共存下で共加水分解する方法（米国特許第2,85
7,356号明細書参照）、ヘキサアルキルジシロキサンま
たはトリアルキルクロロシランにアルキルシリケートま
たはその部分加水分解物を塩酸水の共存下に滴下して反
応させる方法（特開昭61−195129号公報参照）も知られ
ており、これらの方法には前記した方法にくらべると目
的とするM/Q比や分子量分布の調整が比較的容易である
という利点があるが、反応系中に大量の塩酸が添加され
るか反応中に塩酸が発生するし、原料から大量のアルコ
ールが発生したり、アルコールの添加が必要とされるた
めに上記と同様の排水処理、塩酸対策が必要とされる不
利がある。
は、アルキルシリケートとトリアルキルクロロシランと
を塩酸の共存下で共加水分解する方法（米国特許第2,85
7,356号明細書参照）、ヘキサアルキルジシロキサンま
たはトリアルキルクロロシランにアルキルシリケートま
たはその部分加水分解物を塩酸水の共存下に滴下して反
応させる方法（特開昭61−195129号公報参照）も知られ
ており、これらの方法には前記した方法にくらべると目
的とするM/Q比や分子量分布の調整が比較的容易である
という利点があるが、反応系中に大量の塩酸が添加され
るか反応中に塩酸が発生するし、原料から大量のアルコ
ールが発生したり、アルコールの添加が必要とされるた
めに上記と同様の排水処理、塩酸対策が必要とされる不
利がある。
したがって、従来公知の方法はいずれも排水処理が必要
であるし、多量の有機溶剤が加水分解補助剤などとして
使用されるので単位反応器当りのオルガノポリシロキサ
ンの収量が少なく生産効率がわるい不利があり、Ｑ単位
を多く含むもの、特にＭ単位/Q単位のモル比が２以上の
組成のものは反応の制御や特定のM/Q比の含有量、分子
量分布をもつオルガノポリシロキサンの取得が難しく、
さらにはシラノール基やアルコキシ基を有するオルガノ
ポリシロキサンレンジを再現性よく製造することも難し
いという欠点がある。
であるし、多量の有機溶剤が加水分解補助剤などとして
使用されるので単位反応器当りのオルガノポリシロキサ
ンの収量が少なく生産効率がわるい不利があり、Ｑ単位
を多く含むもの、特にＭ単位/Q単位のモル比が２以上の
組成のものは反応の制御や特定のM/Q比の含有量、分子
量分布をもつオルガノポリシロキサンの取得が難しく、
さらにはシラノール基やアルコキシ基を有するオルガノ
ポリシロキサンレンジを再現性よく製造することも難し
いという欠点がある。
（発明の構成） 本発明は従来法におけるこのような不利を解決したオル
ガノポリシロキサンの製造方法に関するものであり、こ
れは一般式RaSiX4-a （こゝにＲは水素原子または同一あるいは異種の非置換
または置換一価炭化水素基、Ｘはハロゲン原子、アルコ
キシ基または水酸基、ａは１、２または３）で示される
オルガノシランおよび／または一般式 （こゝにＲは前記に同じ、ｂは１、２または３）単位を
含有するオルガノシロキサンを、アルキルシリケートま
たはその部分加水分解物とスルホン酸基含有固体酸触媒
の存在下に反応させて、SiO2単位を含有するオルガノポ
リシロキサンとすることを特徴とするものである。
ガノポリシロキサンの製造方法に関するものであり、こ
れは一般式RaSiX4-a （こゝにＲは水素原子または同一あるいは異種の非置換
または置換一価炭化水素基、Ｘはハロゲン原子、アルコ
キシ基または水酸基、ａは１、２または３）で示される
オルガノシランおよび／または一般式 （こゝにＲは前記に同じ、ｂは１、２または３）単位を
含有するオルガノシロキサンを、アルキルシリケートま
たはその部分加水分解物とスルホン酸基含有固体酸触媒
の存在下に反応させて、SiO2単位を含有するオルガノポ
リシロキサンとすることを特徴とするものである。
すなわち、本発明者らはSiO2単位を含有するオルガノポ
リシロキサンの効率のよい製造方法について種々検討し
た結果、上記した一般式で示されるオルガノシラン、オ
ルガノシロキサンとアルキルシリケートとの反応をMR型
陽イオン交換樹脂、ナフイオン〔米国ジュポン社製商品
名〕から選択されるスルホン酸基含有固体酸触媒の存在
下で反応させると目的とするSiO2単位含有オルガノポリ
シロキサンのＭ単位/Q単位の含有モル比、分子量分布の
調整を容易に行なわせることができること、またこれに
よれば製造時に塩酸の発生がなく、アルコールなどの添
加も必要でなく、固体触媒の使用により反応液が終始中
性を維持できるので排水処理や反応装置の腐触のおそれ
もなくなるということ、また、連続的に製造も可能であ
ることを見出し、こゝに使用する各成分の種類、配合
量、反応条件などについての研究を進めて本発明を完成
させた。
リシロキサンの効率のよい製造方法について種々検討し
た結果、上記した一般式で示されるオルガノシラン、オ
ルガノシロキサンとアルキルシリケートとの反応をMR型
陽イオン交換樹脂、ナフイオン〔米国ジュポン社製商品
名〕から選択されるスルホン酸基含有固体酸触媒の存在
下で反応させると目的とするSiO2単位含有オルガノポリ
シロキサンのＭ単位/Q単位の含有モル比、分子量分布の
調整を容易に行なわせることができること、またこれに
よれば製造時に塩酸の発生がなく、アルコールなどの添
加も必要でなく、固体触媒の使用により反応液が終始中
性を維持できるので排水処理や反応装置の腐触のおそれ
もなくなるということ、また、連続的に製造も可能であ
ることを見出し、こゝに使用する各成分の種類、配合
量、反応条件などについての研究を進めて本発明を完成
させた。
本発明の方法で始発剤として使用されるオルガノシラン
は一般式 RaSiX4-aで示され、Ｒは水素原子またはメチル基、エチ
ル基、プロピル基、ブチル基などのアルキル基、シクロ
ヘキシル基などのシクロアルキル基、ビニル基、アリル
基などのアルケニル基、フェニル基、トリル基などのア
リール基またはこれらの基の炭素原子に結合した水素原
子の一部または全部をハロゲン原子、シアノ基などで置
換したクロロメチル基、トリフルオロプロピル基、シア
ノエチル基などから選択される同一または異種の非置換
または置換１価炭化水素基、Ｘはハロゲン原子、アルコ
キシ基または水酸基から選択される同種または異種の原
子または基、ａは１、２または３であるものとされ、こ
れにはメチルトリクロロシラン、ジメチルジクロロシラ
ン、トリメチルクロロシランなどが例示される。またこ
ゝに使用されるオルガノシロキサンは一般式 （Ｒは前記と同じ水素原子または同一あるいは異種の非
置換または置換一価炭化水素基、ｂは１、２または３で
ある）を含有するオルガノポリシロキサンであり、これ
らはいずれも公知のものでよく、これにはヘキサメチル
シロキサン、テトラメチルシロキサン、1,3−ジビニル
−1,1,3,3−テトラメチルジシロキサン、オクタメチル
シクロシロキサンおよびこれらの混合物が例示される。
は一般式 RaSiX4-aで示され、Ｒは水素原子またはメチル基、エチ
ル基、プロピル基、ブチル基などのアルキル基、シクロ
ヘキシル基などのシクロアルキル基、ビニル基、アリル
基などのアルケニル基、フェニル基、トリル基などのア
リール基またはこれらの基の炭素原子に結合した水素原
子の一部または全部をハロゲン原子、シアノ基などで置
換したクロロメチル基、トリフルオロプロピル基、シア
ノエチル基などから選択される同一または異種の非置換
または置換１価炭化水素基、Ｘはハロゲン原子、アルコ
キシ基または水酸基から選択される同種または異種の原
子または基、ａは１、２または３であるものとされ、こ
れにはメチルトリクロロシラン、ジメチルジクロロシラ
ン、トリメチルクロロシランなどが例示される。またこ
ゝに使用されるオルガノシロキサンは一般式 （Ｒは前記と同じ水素原子または同一あるいは異種の非
置換または置換一価炭化水素基、ｂは１、２または３で
ある）を含有するオルガノポリシロキサンであり、これ
らはいずれも公知のものでよく、これにはヘキサメチル
シロキサン、テトラメチルシロキサン、1,3−ジビニル
−1,1,3,3−テトラメチルジシロキサン、オクタメチル
シクロシロキサンおよびこれらの混合物が例示される。
また、このオルガノシランまたはオルガノシロキサンと
反応させるアルキルシリケートまたはその部分加水分解
物も公知のものでよく、これにはオルソメチルシリケー
ト、ポリメチルシリケート、オルソエチルシリケート、
ポリエチルシリケート、オルソプロピルシリケート、ポ
リプロピルシリケートおよびこれらの部分加水分解物が
例示される。なお、このアルキルシリケートまたはその
部分加水分解物の上記したオルガノシランまたはオルガ
ノシロキンに対する添加量は目的とするSiO2単位を有す
るオルガノポリシロキサン中のＭ単位/Q単位の含有モル
比、M/Q単位の比率に係わりなく等しく添加すればよ
い。
反応させるアルキルシリケートまたはその部分加水分解
物も公知のものでよく、これにはオルソメチルシリケー
ト、ポリメチルシリケート、オルソエチルシリケート、
ポリエチルシリケート、オルソプロピルシリケート、ポ
リプロピルシリケートおよびこれらの部分加水分解物が
例示される。なお、このアルキルシリケートまたはその
部分加水分解物の上記したオルガノシランまたはオルガ
ノシロキンに対する添加量は目的とするSiO2単位を有す
るオルガノポリシロキサン中のＭ単位/Q単位の含有モル
比、M/Q単位の比率に係わりなく等しく添加すればよ
い。
つぎにこの反応に使用される触媒はMR型陽イオン交換樹
脂、ナフイオン〔前出〕などで例示されるスルホン基を
含有する固体酸触媒とされる。この触媒は回分法、充填
塔を使用する連続法のいずれにも使用可能であり、回分
法で使用する場合の触媒量は実用上必要な反応速度を得
るということからここに使用されるオルガノシラン、オ
ルガノシロキサン、アルキルシリケートまたはその加水
分解物の総量に対して５重量％以上添加することが望ま
しく、連続式に反応を行わせる場合はこれを上記したオ
ルガノシラン、オルガノシロキサン、アルキルシリケー
トまたはその加水分解物と水との混合物が通過する充填
塔に充填しておけばよい。
脂、ナフイオン〔前出〕などで例示されるスルホン基を
含有する固体酸触媒とされる。この触媒は回分法、充填
塔を使用する連続法のいずれにも使用可能であり、回分
法で使用する場合の触媒量は実用上必要な反応速度を得
るということからここに使用されるオルガノシラン、オ
ルガノシロキサン、アルキルシリケートまたはその加水
分解物の総量に対して５重量％以上添加することが望ま
しく、連続式に反応を行わせる場合はこれを上記したオ
ルガノシラン、オルガノシロキサン、アルキルシリケー
トまたはその加水分解物と水との混合物が通過する充填
塔に充填しておけばよい。
この反応は上記したオルガノシラン、オルガノシロキサ
ン、アルキルシリケートまたはその部分加水分解物を水
と共に上記した触媒の存在下で反応させることによって
行われるが、この反応系に反応の進行に伴なう増粘によ
る操作性の低下を防ぐため、および相溶性を高める目的
で、この反応に不活性な有機溶剤、例えばメタノール、
エタノール、イソプロパノール、アセトン、メチルエチ
ルケトン、メチルイソブチルケトンなどを添加すること
は任意とされる。この反応温度は−30℃〜200℃の範囲
とすればよいが、これはここに使用される上記した固体
酸触媒の耐熱温度により制限を受けるので、陽イオン交
換樹脂としてのアンバーリスト15〔ロームアンドハース
社（株）製商品名〕については−20℃〜120℃、ナフイ
オン（前出）については−20℃〜200℃とすればよい。
また、この反応により得られるオルガノポリシロキサン
のOR基量、OH基量、分子量は原料混合物の供給速度、こ
の系に添加される水量、反応温度、相溶製溶媒の添加の
有無などによって容易に制限することができるが、こゝ
に添加する水の量はアルキルシリケート中のアルコキシ
基をほぼ完全に縮合させるということからこのアルコキ
シ基に対してモル比で0.6〜3.0の範囲とすることがよ
い。
ン、アルキルシリケートまたはその部分加水分解物を水
と共に上記した触媒の存在下で反応させることによって
行われるが、この反応系に反応の進行に伴なう増粘によ
る操作性の低下を防ぐため、および相溶性を高める目的
で、この反応に不活性な有機溶剤、例えばメタノール、
エタノール、イソプロパノール、アセトン、メチルエチ
ルケトン、メチルイソブチルケトンなどを添加すること
は任意とされる。この反応温度は−30℃〜200℃の範囲
とすればよいが、これはここに使用される上記した固体
酸触媒の耐熱温度により制限を受けるので、陽イオン交
換樹脂としてのアンバーリスト15〔ロームアンドハース
社（株）製商品名〕については−20℃〜120℃、ナフイ
オン（前出）については−20℃〜200℃とすればよい。
また、この反応により得られるオルガノポリシロキサン
のOR基量、OH基量、分子量は原料混合物の供給速度、こ
の系に添加される水量、反応温度、相溶製溶媒の添加の
有無などによって容易に制限することができるが、こゝ
に添加する水の量はアルキルシリケート中のアルコキシ
基をほぼ完全に縮合させるということからこのアルコキ
シ基に対してモル比で0.6〜3.0の範囲とすることがよ
い。
本発明の方法は上記したオルガノシラン、オルガノシロ
キサン、アルキルシリケートまたはその部分加水分解物
を上記したスルホン基含有固体酸触媒の存在下で反応さ
せるものであるが、これによればSiO2単位を含有するオ
ルガノポリシロキサンのM/Q比をこゝに使用するオルガ
ノシラン、オルガノシロキサン、アルキルシリケートの
Ｍ単位、Ｑ単位の含有モル比によって再現させることが
できるし、そのアルコキシ基量、OH基量、分子量分布も
容易に調整することができるので、各種のオルガノポリ
シロキサンを容易に得ることができるほか、この場合に
は前反応を通じて酸、アルカリの発生がなく、したがっ
てこの発生に伴う処理が全く不要であり、反応装置の耐
蝕処理も不要で、しかも連続反応が可能なことから装置
を小型化、省力化することができるという有利性が与え
られる。
キサン、アルキルシリケートまたはその部分加水分解物
を上記したスルホン基含有固体酸触媒の存在下で反応さ
せるものであるが、これによればSiO2単位を含有するオ
ルガノポリシロキサンのM/Q比をこゝに使用するオルガ
ノシラン、オルガノシロキサン、アルキルシリケートの
Ｍ単位、Ｑ単位の含有モル比によって再現させることが
できるし、そのアルコキシ基量、OH基量、分子量分布も
容易に調整することができるので、各種のオルガノポリ
シロキサンを容易に得ることができるほか、この場合に
は前反応を通じて酸、アルカリの発生がなく、したがっ
てこの発生に伴う処理が全く不要であり、反応装置の耐
蝕処理も不要で、しかも連続反応が可能なことから装置
を小型化、省力化することができるという有利性が与え
られる。
つぎに本発明の実施例をあげる。
実施例１ ヘキサメチルジシロキサン324.8g（2.0モル）、オルソ
メトキシシラン152.2g（1.0モル）および水40g（2.2モ
ル）の混合物を撹拌しながら陽イオン交換樹脂・アンバ
ーリスト15〔前出〕340gを充填した容積60mlの充填塔に
有効容積１当り200g/hrの速さで20〜50℃の温度に保
って通過させたところ、液状の反応生成物を120g/hrで
得ることができ、このものをガスクロマトグラフィで分
析したところ、これは平均式〔（CH3）3SiO0.5〕４〔Si
O2〕で示されるものであることが確認されたが、この組
成はつぎの第１表に示すとおりのものであった。
メトキシシラン152.2g（1.0モル）および水40g（2.2モ
ル）の混合物を撹拌しながら陽イオン交換樹脂・アンバ
ーリスト15〔前出〕340gを充填した容積60mlの充填塔に
有効容積１当り200g/hrの速さで20〜50℃の温度に保
って通過させたところ、液状の反応生成物を120g/hrで
得ることができ、このものをガスクロマトグラフィで分
析したところ、これは平均式〔（CH3）3SiO0.5〕４〔Si
O2〕で示されるものであることが確認されたが、この組
成はつぎの第１表に示すとおりのものであった。
実施例２ 1,3−ジビニル−1,1,3,3−テトラメチルジシロキサン9
3.2g（0.5モル）とヘキサメチルジシロキサン81.2g（0.
5モル）、ポリエチルシリケート40〔コルコート社製商
品名〕150g（SiO2換算１モル）および水54g（3.0モル）
の混合物を撹拌しながら、実施例１で使用した陽イオン
交換樹脂・アンバーリスト15〔前出〕を充填した充填塔
にその有効内容積１当り150g/hrの速度で20〜25℃の
温度に保って有効内容積800mlの充填塔に190分間通過さ
せたところ、オルガノポリシロキサン218.0g（収率93.0
％）を得ることができ、このときの1,3−ジビニル−1,
1,3,3−テトラメチルジシロキサン、ヘキサメチルジシ
ロキサンの未反応率はそれぞれ0.9％、0.3％であり、こ
のオルガノポリシロキサンについては分析の結果、平均
式 〔（CH2＝CH）（CH3）2SiO0.5〕1.0 〔（CH3）3SiO0.5〕1.0〔SiO2〕で示されるものである
ことが確認された。
3.2g（0.5モル）とヘキサメチルジシロキサン81.2g（0.
5モル）、ポリエチルシリケート40〔コルコート社製商
品名〕150g（SiO2換算１モル）および水54g（3.0モル）
の混合物を撹拌しながら、実施例１で使用した陽イオン
交換樹脂・アンバーリスト15〔前出〕を充填した充填塔
にその有効内容積１当り150g/hrの速度で20〜25℃の
温度に保って有効内容積800mlの充填塔に190分間通過さ
せたところ、オルガノポリシロキサン218.0g（収率93.0
％）を得ることができ、このときの1,3−ジビニル−1,
1,3,3−テトラメチルジシロキサン、ヘキサメチルジシ
ロキサンの未反応率はそれぞれ0.9％、0.3％であり、こ
のオルガノポリシロキサンについては分析の結果、平均
式 〔（CH2＝CH）（CH3）2SiO0.5〕1.0 〔（CH3）3SiO0.5〕1.0〔SiO2〕で示されるものである
ことが確認された。
実施例３ ヘキサメチルジシロキサン81.2g（0.5モル）、ポリエチ
ルシリケート40〔コルコート社製商品名〕150g（SiO2換
算1.0モル）、エタノール60g（1.3モル）および水54g
（3.0モル）の混合物を撹拌しながらナフイオンNR−50
〔前出〕1,070gを充填した容積1,200mlの充填塔にその
有効容量１当り100g/hrの速度で20〜25℃の温度に保
って170分間通過させたところ、オルガノポリシロキサ
ン133.5gが得られたが、このときのヘキサメチルジシロ
キサンの未反応率は0.2％であり、このオルガノポリシ
ロキサンについては分析の結果、下記の平均式 〔（CH3）3SiO0.5〕1.0〔SiO2〕で示されるものであ
り、これにはアルコキシ基がシロキサン100g当り0.03モ
ル含有されていることが確認された。
ルシリケート40〔コルコート社製商品名〕150g（SiO2換
算1.0モル）、エタノール60g（1.3モル）および水54g
（3.0モル）の混合物を撹拌しながらナフイオンNR−50
〔前出〕1,070gを充填した容積1,200mlの充填塔にその
有効容量１当り100g/hrの速度で20〜25℃の温度に保
って170分間通過させたところ、オルガノポリシロキサ
ン133.5gが得られたが、このときのヘキサメチルジシロ
キサンの未反応率は0.2％であり、このオルガノポリシ
ロキサンについては分析の結果、下記の平均式 〔（CH3）3SiO0.5〕1.0〔SiO2〕で示されるものであ
り、これにはアルコキシ基がシロキサン100g当り0.03モ
ル含有されていることが確認された。
実施例４ 1,1,3,3−テトラメチルジシロキサン134.2g（1.0モ
ル）、オルソエチルシリケート208.3g（1.0モル）およ
び水72.0g（4.0モル）の混合物を撹拌しながら実施例１
で使用した陽イオン交換樹脂・アンバーリスト15を充填
した充填塔にその有効容量当り120g/hrの速度で10〜15
℃の温度に保ちながら有効内容積80mlの充填塔に通過さ
せたところ、オルガノポリシロキサン191.0g（収率97.4
％）が得られたが、このときの1,1,3,3−テトラメチル
ジシロキサンの未反応率は0.4％であり、このオルガノ
ポリシロキサンについては分析の結果、つぎの平均式 〔Ｈ（CH3）2SiO0.5〕2.0〔SiO2〕で示されるもので、
これに含有されるアルコキシ基量はシロキサン100g当り
0.02モルであることが確認された。
ル）、オルソエチルシリケート208.3g（1.0モル）およ
び水72.0g（4.0モル）の混合物を撹拌しながら実施例１
で使用した陽イオン交換樹脂・アンバーリスト15を充填
した充填塔にその有効容量当り120g/hrの速度で10〜15
℃の温度に保ちながら有効内容積80mlの充填塔に通過さ
せたところ、オルガノポリシロキサン191.0g（収率97.4
％）が得られたが、このときの1,1,3,3−テトラメチル
ジシロキサンの未反応率は0.4％であり、このオルガノ
ポリシロキサンについては分析の結果、つぎの平均式 〔Ｈ（CH3）2SiO0.5〕2.0〔SiO2〕で示されるもので、
これに含有されるアルコキシ基量はシロキサン100g当り
0.02モルであることが確認された。
実施例５ ヘキサメチルジシロキサン81.2g（0.5モル）、1,1,3,3
−テトラメチルジシロキサン53.7g（0.4モル）、メチル
シリケート51〔多摩化学社製商品名、SiO251％〕117.6g
（SiO2換算1.0モル）および水36g（2.0モル）の混合物
を撹拌しながら実施例３で使用したナフイオンNR−50
（前出）を充填した充填塔にその有効容量１当り120g
/hrの速度で10〜15℃の温度に保ちながら190分間通過さ
せたところ、オルガノポリシロキサン191.0g（収率97
％）を得ることができ、このときのヘキサメチルジシロ
キサン、1,1,3,3−テトラメチルジシロキサンの未反応
率はそれぞれ0.3％、0.2％で、このオルガノポリシロキ
サンについては分析の結果、つぎの平均式 〔（CH3）3SiO0.5〕1.0〔Ｈ（CH3）2SiO0.5〕0.8〔Si
O2〕で示されるものであることが確認された。
−テトラメチルジシロキサン53.7g（0.4モル）、メチル
シリケート51〔多摩化学社製商品名、SiO251％〕117.6g
（SiO2換算1.0モル）および水36g（2.0モル）の混合物
を撹拌しながら実施例３で使用したナフイオンNR−50
（前出）を充填した充填塔にその有効容量１当り120g
/hrの速度で10〜15℃の温度に保ちながら190分間通過さ
せたところ、オルガノポリシロキサン191.0g（収率97
％）を得ることができ、このときのヘキサメチルジシロ
キサン、1,1,3,3−テトラメチルジシロキサンの未反応
率はそれぞれ0.3％、0.2％で、このオルガノポリシロキ
サンについては分析の結果、つぎの平均式 〔（CH3）3SiO0.5〕1.0〔Ｈ（CH3）2SiO0.5〕0.8〔Si
O2〕で示されるものであることが確認された。
Claims (4)
- 【請求項１】一般式RaSiX4-a （こゝにＲは水素原子または同一あるいは異種の非置換
または置換一価炭化水素基、Ｘはハロゲン原子、アルコ
キシ基または水酸基、ａは１、２または３）で示される
オルガノシランおよび／または一般式 （こゝにＲは前記に同じ、ｂは１、２または３）単位を
含有するオルガノシロキサンを、アルキルシリケートま
たはその部分加水分解物とスルホン酸基含有固体酸触媒
の存在下に反応させて、SiO2単位を含有するオルガノポ
リシロキサンとすることを特徴とするオルガノポリシロ
キサンの製造方法。 - 【請求項２】オルガノシロキサンがヘキサメチルジシロ
キサンである特許請求の範囲第１項記載のオルガノポリ
シロキサンの製造方法。 - 【請求項３】オルガノシロキサンがテトラメチルジビニ
ルジシロキサンである特許請求の範囲第１項記載のオル
ガノポリシロキサンの製造方法。 - 【請求項４】オルガノシロキサンがオクタメチルシクロ
テトラシロキサンとヘキサメチルジシロキサンとの混合
物である特許請求の範囲第１項記載のオルガノポリシロ
キサンの製造方法。
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| JP62139114A JPH078913B2 (ja) | 1987-06-03 | 1987-06-03 | オルガノポリシロキサンの製造方法 |
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| JP62139114A JPH078913B2 (ja) | 1987-06-03 | 1987-06-03 | オルガノポリシロキサンの製造方法 |
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| JPS63304028A JPS63304028A (ja) | 1988-12-12 |
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| KR100382702B1 (ko) * | 2000-09-18 | 2003-05-09 | 주식회사 엘지화학 | 유기실리케이트 중합체의 제조방법 |
| KR100419069B1 (ko) * | 2001-06-21 | 2004-02-19 | 주식회사 엘지화학 | 유기실리케이트 중합체 및 이를 함유하는 저유전 절연막 |
| US20040176561A1 (en) * | 2002-12-31 | 2004-09-09 | Gelest, Inc. | Continuous cationic polymerization of siloxanes |
| KR101512529B1 (ko) * | 2007-11-19 | 2015-04-15 | 도아고세이가부시키가이샤 | 폴리실록산 및 그의 제조 방법 및 경화물의 제조 방법 |
| DE102008041601A1 (de) * | 2008-08-27 | 2010-03-04 | Evonik Goldschmidt Gmbh | Verfahren zur Herstellung verzweigter SiH-funtioneller Polysiloxane und deren Verwendung zur Herstellung flüssiger, SiC- oder SiOC-verknüpfter, verzweigter organomodifizierter Polysiloxane |
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| FR1281880A (fr) * | 1960-08-03 | 1962-01-19 | Centre Nat Rech Scient | Nouveau procédé d'équilibrage catalytique pour l'obtention de polymères dérivés des siloxanes |
| FR1277794A (fr) * | 1961-01-18 | 1961-12-01 | Thomson Houston Comp Francaise | Nouvelles compositions d'organopolysiloxanes anti-adhésives |
| DE2229514C3 (de) * | 1972-06-16 | 1979-01-04 | Wacker-Chemie Gmbh, 8000 Muenchen | Verfahren zur Förderung von Kondensations- und/oder Äquilibrierungsreaktionen von Organosiliciumverbindungen |
| US3904583A (en) * | 1973-02-20 | 1975-09-09 | Nat Res Dev | Preparation of organosilicon polymers |
| DE3306295A1 (de) * | 1983-02-23 | 1984-08-23 | Wacker-Chemie GmbH, 8000 München | Verfahren zum stabilisieren von organopolysiloxanen |
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| DE3717075A1 (de) * | 1987-05-21 | 1988-12-08 | Wacker Chemie Gmbh | Verfahren zur herstellung kolloidaler suspensionen von organopolysiloxanen |
-
1987
- 1987-06-03 JP JP62139114A patent/JPH078913B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
1988
- 1988-05-26 EP EP88401286A patent/EP0294277B1/en not_active Revoked
- 1988-05-26 DE DE8888401286T patent/DE3880201T2/de not_active Revoked
- 1988-06-02 US US07/201,156 patent/US4855381A/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
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| EP0294277B1 (en) | 1993-04-14 |
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| DE3880201D1 (de) | 1993-05-19 |
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| US4855381A (en) | 1989-08-08 |
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