JPH079040Y2 - 溶湯保有槽における溶湯の電磁攪拌機構 - Google Patents
溶湯保有槽における溶湯の電磁攪拌機構Info
- Publication number
- JPH079040Y2 JPH079040Y2 JP9005088U JP9005088U JPH079040Y2 JP H079040 Y2 JPH079040 Y2 JP H079040Y2 JP 9005088 U JP9005088 U JP 9005088U JP 9005088 U JP9005088 U JP 9005088U JP H079040 Y2 JPH079040 Y2 JP H079040Y2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- molten metal
- holding tank
- side wall
- inductor
- slope
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
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- General Induction Heating (AREA)
- Waste-Gas Treatment And Other Accessory Devices For Furnaces (AREA)
Description
【考案の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ 本考案は、反射炉等の金属を溶解し保有する溶湯保有槽
中、炉の側壁の外側に誘導子が配置される形式の保有槽
において、保有槽内の溶湯に移動磁界を作用させ、溶湯
を下層から上層へまたは上層から下層へ変換させるため
突出した炉壁に斜面を備えている電磁撹拌機構に関する
ものである。
中、炉の側壁の外側に誘導子が配置される形式の保有槽
において、保有槽内の溶湯に移動磁界を作用させ、溶湯
を下層から上層へまたは上層から下層へ変換させるため
突出した炉壁に斜面を備えている電磁撹拌機構に関する
ものである。
［従来の技術］ 従来の反射炉等の溶湯を溶解して保有する溶解室または
保有槽内は、保有槽の炉底部直下に移動磁界発生用誘導
子を配置し、これによって溶湯に生じる誘導電流との相
互作用より溶湯が推力を受けて移動磁界の方向に溶湯を
移動させるようにして、これにより炉内の溶湯を的確に
撹拌し溶湯温度の均一化を図っている。
保有槽内は、保有槽の炉底部直下に移動磁界発生用誘導
子を配置し、これによって溶湯に生じる誘導電流との相
互作用より溶湯が推力を受けて移動磁界の方向に溶湯を
移動させるようにして、これにより炉内の溶湯を的確に
撹拌し溶湯温度の均一化を図っている。
しかるに、炉底直下の部分に誘導子を配するためには、
当該誘導子を収容する空間を提供するためのピットを形
成する工事と、炉体の下方のピット内に設けられている
誘導子を保守点検する機構や点検のための工数、経費が
著しく増大する。
当該誘導子を収容する空間を提供するためのピットを形
成する工事と、炉体の下方のピット内に設けられている
誘導子を保守点検する機構や点検のための工数、経費が
著しく増大する。
そこで、このような難点に対処する手段として炉の側面
に誘導子を配置し、水平方向の溶湯の流れを発生させる
構造が考慮されている。
に誘導子を配置し、水平方向の溶湯の流れを発生させる
構造が考慮されている。
［考案が解決しようとする課題］ ところが、上記のように炉体側方に誘導子を配して溶湯
の撹拌を行なうと、炉内溶湯の上層部から下層部までが
ほぼ水平の複数層の溶湯流を形成し、溶湯の上層部と下
層部との間の交流が困難となり、ひいては、炉内溶湯の
全体としての温度と成分の均一化が得られないという傾
向があった。
の撹拌を行なうと、炉内溶湯の上層部から下層部までが
ほぼ水平の複数層の溶湯流を形成し、溶湯の上層部と下
層部との間の交流が困難となり、ひいては、炉内溶湯の
全体としての温度と成分の均一化が得られないという傾
向があった。
［課題を解決するための手段］ 誘導子を溶湯保有槽の側壁外方に近接して配置し、溶湯
が当該誘導子の移動磁界によって水平に炉内を流動する
ようにし、一方、誘導子を配置した側の炉体側壁を他の
側壁より厚くし、その内面に前記移動磁界によって流動
循環されている溶湯を強制的に、上層部より下層部に、
または下層部より上層部に導く案内面となる傾斜面を構
築して上層部と下層部にある溶湯を交流させ、保有槽内
の溶湯の温度と成分を均一にした。
が当該誘導子の移動磁界によって水平に炉内を流動する
ようにし、一方、誘導子を配置した側の炉体側壁を他の
側壁より厚くし、その内面に前記移動磁界によって流動
循環されている溶湯を強制的に、上層部より下層部に、
または下層部より上層部に導く案内面となる傾斜面を構
築して上層部と下層部にある溶湯を交流させ、保有槽内
の溶湯の温度と成分を均一にした。
炉体側壁の内面に溶湯を案内する傾斜面を形成するに
は、次に述べるように行なう。
は、次に述べるように行なう。
以下の説明では、理解を容易にするため、「側壁の一部
を切り欠き、残った部分に」などの表現を用いている
が、これは実際には厚い側壁を築造してからその１部を
削り落すのではなく、もし、削り落したとすればその後
に残るべき部分だけ、耐火煉瓦などを所定の厚さだけ積
み上げ築炉すればよいわけである。
を切り欠き、残った部分に」などの表現を用いている
が、これは実際には厚い側壁を築造してからその１部を
削り落すのではなく、もし、削り落したとすればその後
に残るべき部分だけ、耐火煉瓦などを所定の厚さだけ積
み上げ築炉すればよいわけである。
イ）溶湯を下層から上層に案内する斜面 側面図で、第７図（Ａ）の４辺形ABCDで示される側壁の
面積で約1/2に相当する上半分ECDFを切り欠いた場合に
残る台形ABEFの斜辺EFで示される斜面を形成する。これ
にＸ方向の推力を受けている溶湯が当たると、溶湯はそ
の位置での溶湯自体の重力に抗して斜面EFに沿って案内
され、下層から上層に流動する。
面積で約1/2に相当する上半分ECDFを切り欠いた場合に
残る台形ABEFの斜辺EFで示される斜面を形成する。これ
にＸ方向の推力を受けている溶湯が当たると、溶湯はそ
の位置での溶湯自体の重力に抗して斜面EFに沿って案内
され、下層から上層に流動する。
ロ）溶湯を上層から下層に案内する斜面 側面図で、第７図（Ｂ）の４辺形ABCDで示される側壁の
面積で約1/2に相当する下半分Ｅ′CDF′を切り欠いた場
合に残る台形ABE′Ｆ′の下側の斜辺Ｅ′Ｆ′で示され
る斜面が形成される。この斜面にＸ′方向の推力を受け
ている溶湯が当たると、溶湯はそのまま水平に流動する
ことができず、斜面Ｅ′Ｆ′に沿って上層から下層に流
動する。
面積で約1/2に相当する下半分Ｅ′CDF′を切り欠いた場
合に残る台形ABE′Ｆ′の下側の斜辺Ｅ′Ｆ′で示され
る斜面が形成される。この斜面にＸ′方向の推力を受け
ている溶湯が当たると、溶湯はそのまま水平に流動する
ことができず、斜面Ｅ′Ｆ′に沿って上層から下層に流
動する。
［作用］ 誘導子の移動磁界によって傾斜面に対向して流動する溶
湯は、誘導子により与えられる推力により炉内溶湯の下
層部から上層部（またはその逆）に流動して上下層間の
溶湯が充分に混合され、温度と成分が均一になる。
湯は、誘導子により与えられる推力により炉内溶湯の下
層部から上層部（またはその逆）に流動して上下層間の
溶湯が充分に混合され、温度と成分が均一になる。
［実施例］ 以下添付の図面を参照して本考案の好適実施例について
説明する。
説明する。
第１図、第２図及び第３図は、第１の実施例で溶湯層の
長手軸に沿った側壁の中、電磁撹拌用誘導子が外側に接
して配置されている炉壁の内側には、炉の底部から側壁
上面に向かって上り斜面を形成する傾斜面を形成し、溶
湯の下層を流動している溶湯をこの斜面に沿って上向き
に流動させる場合を示す図面である。
長手軸に沿った側壁の中、電磁撹拌用誘導子が外側に接
して配置されている炉壁の内側には、炉の底部から側壁
上面に向かって上り斜面を形成する傾斜面を形成し、溶
湯の下層を流動している溶湯をこの斜面に沿って上向き
に流動させる場合を示す図面である。
第４、第５および第６図は第２の実施例で、誘導子が設
置されている側の側壁の内側壁面の一部が切り欠かれ、
その下側面が炉壁の上部から炉底に向って下降する傾斜
面を形成し、丁度建物などの内部の階段の下板面、ある
いはビルなどの内部のエスカレータの下側斜面に似た状
態にされ、溶湯は誘導子によって与えられる移動磁界に
より推力を受けて流動しているので、この斜面の近傍で
は斜面に沿って上層から下層に向って流動する。
置されている側の側壁の内側壁面の一部が切り欠かれ、
その下側面が炉壁の上部から炉底に向って下降する傾斜
面を形成し、丁度建物などの内部の階段の下板面、ある
いはビルなどの内部のエスカレータの下側斜面に似た状
態にされ、溶湯は誘導子によって与えられる移動磁界に
より推力を受けて流動しているので、この斜面の近傍で
は斜面に沿って上層から下層に向って流動する。
第１と第２の実施例を通じ、第１の実施例と共通の部材
は同一の参照符号を用い、類似の機能を果す部材には数
字にダッシュを付して示した。
は同一の参照符号を用い、類似の機能を果す部材には数
字にダッシュを付して示した。
第１図は本考案の第１の実施例を示す平面断面図であ
り、符号10は本考案による反射炉全体を示し、11は溶湯
保有槽を、12、12′は長手側の側壁を、13、13′は短辺
側側壁である。
り、符号10は本考案による反射炉全体を示し、11は溶湯
保有槽を、12、12′は長手側の側壁を、13、13′は短辺
側側壁である。
対向する１対の長手側の側壁12、12′中の一つ、第１図
で下側の側壁12′の外側に接して電磁撹拌機の誘導子15
が装着されている。
で下側の側壁12′の外側に接して電磁撹拌機の誘導子15
が装着されている。
下側の側壁12′は、その肉厚が他の側壁12よりも厚くさ
れていて、その厚くされた分だけが炉底から側壁の上端
に向って上方に傾斜する幅の狭い斜面16を形成して切り
欠かれている。
れていて、その厚くされた分だけが炉底から側壁の上端
に向って上方に傾斜する幅の狭い斜面16を形成して切り
欠かれている。
第２図と第３図はそれぞれ第１図の矢印II-IIとIII-III
に沿った側断面図で17は溶湯を示す。これらの図面から
分かるように、側壁12′に形成された斜面16は、炉底14
の右側から左上方に向かって上昇する一種の坂道を形成
しているので、誘導子による移動磁界の方向が矢印Ａで
あれば、溶湯は溶解室内を矢印Ａ′の方向に流動循環
し、斜面16に至って人が坂道を上るように上方に向って
強制的に流動させられ、下層の溶湯は上層に、既に上層
にある溶湯は逐次下層に向かって押送されて、上層の溶
湯と下層の溶湯間の交流が実現され溶湯内の温度分布が
均一になる。
に沿った側断面図で17は溶湯を示す。これらの図面から
分かるように、側壁12′に形成された斜面16は、炉底14
の右側から左上方に向かって上昇する一種の坂道を形成
しているので、誘導子による移動磁界の方向が矢印Ａで
あれば、溶湯は溶解室内を矢印Ａ′の方向に流動循環
し、斜面16に至って人が坂道を上るように上方に向って
強制的に流動させられ、下層の溶湯は上層に、既に上層
にある溶湯は逐次下層に向かって押送されて、上層の溶
湯と下層の溶湯間の交流が実現され溶湯内の温度分布が
均一になる。
第４図は、本考案の第２の実施例を示す平面断面図であ
り、符号10は本考案による反射炉全体を示し、11は溶解
室を、12、12′は長手側の側壁を、13は短辺側側壁であ
る。
り、符号10は本考案による反射炉全体を示し、11は溶解
室を、12、12′は長手側の側壁を、13は短辺側側壁であ
る。
対向する１対の長手側の側壁12、12′中の一つ、第４図
で下側の側壁12′の外側に接して電磁撹拌機の誘導子15
が装着されている。
で下側の側壁12′の外側に接して電磁撹拌機の誘導子15
が装着されている。
側壁12′は、その肉厚が他の側壁12よりも厚くされ、そ
の厚くされた分だけ炉の上部から側壁の下端に向って下
方に傾斜する幅の狭い斜面16′を形成するように切り欠
かれている。
の厚くされた分だけ炉の上部から側壁の下端に向って下
方に傾斜する幅の狭い斜面16′を形成するように切り欠
かれている。
第５図と第６図とは、それぞれ、第４図の矢印V-VCとVI
-VIに沿って見た側断面図で17は溶湯を示す。
-VIに沿って見た側断面図で17は溶湯を示す。
これらの図面から分かるように、側壁12′に形成された
斜面16′は、側壁12′の右側寄りの位置から左下方に炉
底に向かって下降しビルなどの内部のエスカレータの下
側斜面に似た斜面を形成しているので、誘導子による移
動磁界の方向が矢印Ａであれば、溶湯は溶解室内を矢印
Ａ′の方向に流動、循環し斜面16′に至って、丁度ビル
内の空気がエスカレータの下側斜面に沿って流れるよう
に下方に強制的に流動させられる。
斜面16′は、側壁12′の右側寄りの位置から左下方に炉
底に向かって下降しビルなどの内部のエスカレータの下
側斜面に似た斜面を形成しているので、誘導子による移
動磁界の方向が矢印Ａであれば、溶湯は溶解室内を矢印
Ａ′の方向に流動、循環し斜面16′に至って、丁度ビル
内の空気がエスカレータの下側斜面に沿って流れるよう
に下方に強制的に流動させられる。
斜面16′によって溶湯17に与えられる流動の態様は、上
向きか下向きかの点で相違するだけなのでこれ以上の説
明は省略する。
向きか下向きかの点で相違するだけなのでこれ以上の説
明は省略する。
［効果］ 誘導子を炉底より下方に配置する場合に不可欠なピット
形成工事と、炉体下方のピット内に設けられている誘導
子の保守点検機構や点検などのためのコスト増を避ける
ため、炉の側壁外側に誘導子を配置しても、側方配置の
欠点として溶湯の層流化とこれに伴う温度と成分の不均
一化が発生していたがこれらの問題が解消され、円滑な
流動と撹拌による温度と成分の均一化が達成される。
形成工事と、炉体下方のピット内に設けられている誘導
子の保守点検機構や点検などのためのコスト増を避ける
ため、炉の側壁外側に誘導子を配置しても、側方配置の
欠点として溶湯の層流化とこれに伴う温度と成分の不均
一化が発生していたがこれらの問題が解消され、円滑な
流動と撹拌による温度と成分の均一化が達成される。
第１図は、本考案の第１の実施例を示す平面図で、第２
図は第１図のII-II側断面図、第３図は第１図のIII-III
側断面図、第４図は、本考案の第２の実施例を示す平面
図で、第５図は第４図のＶ−Ｖ側断面図、第６図は第４
図のVI-VI側断面図で、第７図（Ａ），（Ｂ）は炉の側
壁に２種類の斜面を構築する方法を示す模式図である。 図面中の符号 10:反射炉、11:溶湯保有槽、12,12′：長手側側壁、13,
13′：短辺側側壁、14:炉底、15:誘導子、16,16′：傾
斜面、17:溶湯。
図は第１図のII-II側断面図、第３図は第１図のIII-III
側断面図、第４図は、本考案の第２の実施例を示す平面
図で、第５図は第４図のＶ−Ｖ側断面図、第６図は第４
図のVI-VI側断面図で、第７図（Ａ），（Ｂ）は炉の側
壁に２種類の斜面を構築する方法を示す模式図である。 図面中の符号 10:反射炉、11:溶湯保有槽、12,12′：長手側側壁、13,
13′：短辺側側壁、14:炉底、15:誘導子、16,16′：傾
斜面、17:溶湯。
Claims (3)
- 【請求項１】金属、合金などを溶解し溶湯を保有するた
めの溶湯保有槽と一つの側壁の外側に近接して溶湯の電
磁撹拌のために設置された誘導子とを有する反射炉など
の冶金炉における溶湯の電磁撹拌機構において、 前記溶湯保有槽の誘導子が設置されている側の側壁の内
側の一部を斜めに切り欠いて、突出した状態で形成され
た側壁の上側または下側に形成された斜面を有し、それ
らの各々は、前記誘導子が発生する移動磁界により流動
する溶湯に対面して前記保有槽内の溶湯を下層から上層
へ、または上層から下層へと流動方向を変換させること
を特徴とする溶湯保有槽における溶湯の電磁撹拌機構。 - 【請求項２】前記の流動の方向を変換させる斜面は、誘
導子が設置された側の側壁の内側のほぼ上半分を斜めに
切り欠いた場合に残る部分の上側の斜面として形成さ
れ、溶湯の流動を下層から上層へと方向を変換させるこ
とを特徴とする請求項１に記載の溶湯保有槽における溶
湯の電磁撹拌機構。 - 【請求項３】前記の流動の方向を変換させる斜面は、誘
導子が設置された側の側壁の内側のほぼ下半分を斜めに
切り欠いて場合に残る部分の下側の斜面として形成さ
れ、溶湯の流動を上層から下層へと方向を変換させるこ
とを特徴とする請求項１に記載の溶湯保有槽における溶
湯の電磁撹拌機構。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9005088U JPH079040Y2 (ja) | 1988-07-08 | 1988-07-08 | 溶湯保有槽における溶湯の電磁攪拌機構 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9005088U JPH079040Y2 (ja) | 1988-07-08 | 1988-07-08 | 溶湯保有槽における溶湯の電磁攪拌機構 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0214000U JPH0214000U (ja) | 1990-01-29 |
| JPH079040Y2 true JPH079040Y2 (ja) | 1995-03-06 |
Family
ID=31314586
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9005088U Expired - Lifetime JPH079040Y2 (ja) | 1988-07-08 | 1988-07-08 | 溶湯保有槽における溶湯の電磁攪拌機構 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH079040Y2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS49139362U (ja) * | 1973-03-31 | 1974-11-30 |
-
1988
- 1988-07-08 JP JP9005088U patent/JPH079040Y2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0214000U (ja) | 1990-01-29 |
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