JPH079152Y2 - 基板処理装置 - Google Patents

Description

【考案の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ 本考案は、基板に現像等の処理を施す基板処理工程にお
いて、基板下部に滞留する現像液等を除去する基板処理
装置に関するものである。

［従来の技術］ 従来より、基板（例えば液晶表示装置用ガラス基板等）
を搬送装置で搬送させて、現像液等を塗布し、現像処理
等を行う基板処理装置が提案されている。このような基
板処理装置の従来例を第３図に基づいて具体的に説明す
る。

図に示すように、基板処理装置である現像装置１は基板
２に現像液４を塗布する現像槽６、基板２に散布された
現像液４の持出し防止や水洗槽に現像液４を混在防止さ
せるバッファ槽７及び基板２を洗浄する水洗槽８を有し
ており、各槽を搬送ローラ３が回動自在に配設された支
持板５が貫通している。

ところが、このような現像装置１においては、現像槽６
から基板２が搬送される際に、バッファ槽７内でも現像
液の液切りが充分に行なわれず、貴重な現像液４が大量
に次工程に持出される。この為、水洗槽８内でも基板の
洗浄の為、高価な大量の純水が使用されて、経済的なロ
スが大きいことが指摘されていた。

また、実開昭63−24552号公報に示すように、最初から
非処理版材を垂直よりやや傾斜させて搬送させる印刷版
現像処理機の現像装置があるが、この場合、被処理版材
の上部と下部では現像ムラが生じる欠点がある。又、最
初から最後まで被処理版材を垂直からやや傾斜させて搬
送する装置であるため、本願のように、現像ムラ等をな
くす為に、基板を搬送装置で水平に送る装置には適さな
い。

また、実開53−66301号公報に示すように、印刷版の版
面を搬送路面を幅方向に１°〜７°（好ましくは３°〜
５°）の範囲で傾斜させた印刷版用処理装置もあるが、
上記の実開昭63−24552号公報の考案と同様に、印刷版
の版面の上部と下部では、下部に現像液などが滞留して
現像ムラが生じる欠点がある。

［考案が解決しようとする課題］ 本考案は、以上のような従来技術の課題を解決するため
に提案されたものであり、その目的は、高い粘性などに
より基板の下部に滞留する例えば現像液を取除き、処理
ムラの発生を防止すると共に現像液の回収を高めるとと
もに、次工程に現像液を持出さないようにした優れた基
板処理装置を提供することである。

［課題を解決するための手段］ 以上のような従来技術の課題を解決するために、本考案
の基板処理装置は、基板を搬送させる搬送装置と、前記
基板の表面に現像液を散布する現像槽と、前記基板を洗
浄処理する水洗槽と、この水洗槽と前記現像槽の間にバ
ッファ槽を有する基板処理装置において、 前記バッファ槽に、現像槽から前記搬送装置により水平
に搬送されてきた基板を傾斜させる基板傾斜装置と、こ
の基板傾斜装置によって傾けた基板の下部に気体を噴射
する端面液切装置とを設け、これらにより基板の下部に
滞留する現像液の液切りをおこない、前記基板傾斜装置
により傾斜させた基板を、ふたたび水平に戻してバッフ
ァ槽から前記搬送装置で水洗槽へ搬送することを特徴と
するものである。

［作用］ 以上のような本考案の作用は次の通りである。

まず搬送装置が、現像液の散布された基板を、水平状態
を保持して搬送する。そして、基板がバッファ槽内の基
板傾斜装置に達すると、搬送装置は一旦停止すると同時
に、水平状態から基板傾斜装置が動作して基板を表面の
液切り可能な傾斜状態に保持する。

以上のようにして、基板傾斜装置によって傾けられた基
板は、現像液が下部に向かって流下すると同時に、基板
下部に近接する端面液切装置のノズルから、粘着力や表
面張力によって下部に滞留した現像液に気体を噴射し、
下部の液切りを行う。このような液切りが終了した後、
再び基板傾斜装置が動作して基板を傾斜状態から水平状
態に戻す。更に、搬送装置が基板の搬送を再開し、液切
りを行なった基板を次工程に送り、所定の間隔で同一方
向に搬送されている次の基板を基板傾斜装置まで送り込
む。

［実施例］ ＊実施例の構成＊ 以下、本考案の基板処理装置の一実施例に関して第１図
及び第２図を参照して具体的に説明する。第１図は本実
施例の側面図、第２図は本実施例の正面図である。な
お、本実施例の基板処理装置は、現像装置に適用される
ものを例にとって説明する。また、従来例と同一部材に
関しては同一符号を付す。

すなわち、本実施例の現像装置９は、搬送ローラ３と、
バッファ槽７内に設けられた基板傾斜装置10と、これも
バッファ槽７内に設けられた端面液切装置17とを備えて
いる。搬送ローラ３は、現像液４が散布された基板２
を、所定の間隔で同一方向に、且つ基板２が水平となる
状態を保持して搬送する搬送手段である。また、基板傾
斜装置10には、基板２を保持する保持部材10aが設けら
れている。この保持部材10aにはブラケット10bが設けら
れており、このブラケット10bに長短２つのリンク11a,1
1bの一部が揺動自在に取り付けられている。

ところでバッファ槽７の床面には係止片12が固定されて
いる。この係止片12に前記リンク11a,11bの他端が回動
自在に取り付けられている。更に、長リンク11aには中
間リンク11cが付設されている。この中間リンク11cは、
伸縮自在のロッド13aを介してシリンダ13に係合してい
る。このシリンダ13は、基板を検出する一対のセンサ
（図示せず）に電気的に接続されている。またバッファ
槽７の床部にはブラケット10bに当接して位置を規制す
る固定部材15が突出して設けられている。更に、バッフ
ァ槽７の床部には開口部16aが形成されており、この開
口部16aより下方にパイプ16が配設されている。このパ
イプ16は、現像液４の貯蔵されたタンク（図示せず）に
接続されている。

このような現像装置９において、センサ（図示せず）が
基板２を検出すると、電気的に接続されたシリンダ13を
作動させる。これによりシリンダ13のロッド13aが伸び
て中間リンク11cを押す。そのため、長リンク11aが回動
し、短リンク11bも同方向に回動し、保持部材10aが傾斜
する。その結果、保持部材10aに保持された基板２が傾
き、基板２上に付着していた現像液が流下する。

更に端面液切装置17はバッファ槽７内に設置されてお
り、エアナイフ18及びガイドアーム21から構成されてい
る。このエアナイフ18は、バッファ槽７の幅とほぼ同様
の長さを持つ直方体である。このエアナイフ18はエアコ
ンプレッサ（図示せず）に接続されており、基板２に近
接する長手方向の縁部の下部にはエアを吹き出すノズル
19が設けられている。このノズル19は、基板２が傾いた
時、基板２の表面に当接しないよう先端の開口部19aが
斜めにカットされており、この開口部19aは基板２上に
均一にエアが当たるよう縁部に沿って直線上に形成され
ている。更に、エアナイフ18に直交してブラケット20が
エアナイフ18に固定されている。このブラケット20は、
バッファ槽７の両側端部に設けられた固定片23、23間に
設けられたガイドシャフト22に摺動自在に設けられたガ
イドアーム21に傾斜角度調整可能にねじ20aによって固
定されている。

また、ガイドシャフト22は、傾いた基板２の傾斜方向側
（第２図においては右側）の約半分程度に対応するよう
に設けられている。

＊実施例の作用＊ 以上のような構成を有する本実施例の作用は、次の通り
である。

まず搬送ローラ３で、現像液４の散布された基板２を、
水平状態を保持しながらバッファ槽７に搬送する。そし
て、基板２が基板傾斜装置10の上方に達すると、センサ
ー（図示せず）が作動して、搬送ローラ３は一旦停止す
ると同時に、シリンダ13が作動し、リンク11a〜11cが動
作して保持部材10aが傾斜する。その結果、保持部材10a
に保持された基板２が傾き、基板２上に付着していた現
像液４が基板の下部に流下すると同時に、端面液切装置
17が、傾斜した側の基板２の端面2aに滞留した現像液４
をエアナイフ18のノズル19から吹き出されたエアによっ
て吹飛ばす。このエアナイフ18は、ブラケット20に設け
られたねじ20aをゆるめることによって回動自在であ
り、自由に角度を変更できるため、ノズル19全体を基板
の端面2aに十分近接して対応させることできる。

また、本実施例においては、搬送ローラ３を一旦停止さ
せ、現像液４の液切りを行う時にのみ基板２を傾けてお
り、それ以外のとき、すなわち基板２の処理中及び搬送
中は、基板２は水平状態を保持している。そのため、本
実施例の基板処理装置によれば、処理ムラのない極めて
安定した処理が出来るとともに、基板搬送も安全に行う
ことが可能である。さらに、現像液の他にも剥離液等他
の処理液を用いても良いことは自明である。

＊他の実施例＊ 本考案の基板処理装置は、上記の実施例に限定されるも
のではなく、端面液切装置のエアナイフの形状などは適
宜選択可能である。

［考案の効果］ 以上述べたように本考案の基板処理装置は、基板傾斜手
段によって基板を傾斜させると同時に、基板下部に端面
液切手段から気体を吹付けて滞留した現像液を確実に除
去することができるため、基板が水平状態に戻った時、
現像液が逆流して処理ムラを起こすことを防ぎ、同時に
高い回収率で貴重な現像液を回収することができ、水洗
槽に現像液等の現像液を混在させることが少ないので、
基板を洗浄する場合も洗浄水として使用される高価な純
水を節約しつつ洗浄時間を短縮して、処理の効率を高め
た優れた基板処理装置を提供することができる。

【図面の簡単な説明】

第１図は本実施例の側面図、第２図は本実施例の正面
図、第３図は従来例の現像装置の説明図である。 １……現像装置、２……基板、３……搬送ローラ、４…
…現像液、５……支持板、６……現像槽、７……バッフ
ァ槽、８……水洗槽、９……現像装置、10……保持部
材、11……リンク、12……係止片、13……シリンダ、15
……固定部材、16……パイプ、17……端面液切装置、18
……エアナイフ、19……ノズル、20……ブラケット、21
……ガイドアーム、22……ガイドシャフト、23……突出
片

Claims (1)

【実用新案登録請求の範囲】
1. 【請求項１】基板を搬送させる搬送装置と、前記基板の
   表面に現像液を散布する現像槽と、前記基板を洗浄処理
   する水洗槽と、この水洗槽と前記現像槽の間にバッファ
   槽を有する基板処理装置において、 前記バッファ槽に、現像槽から前記搬送装置により水平
   に搬送されてきた基板を傾斜させる基板傾斜装置と、こ
   の基板傾斜装置によって傾けた基板の下部に気体を噴射
   する端面液切装置とを設け、これらにより基板の下部に
   滞留する現像液の液切りをおこない、前記基板傾斜装置
   により傾斜させた基板を、ふたたび水平に戻してバッフ
   ァ槽から前記搬送装置で水洗槽へ搬送することを特徴と
   する基板処理装置。