JPH0791635B2 - 耐摩耗性硬質被膜の製造方法 - Google Patents
耐摩耗性硬質被膜の製造方法Info
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- JPH0791635B2 JPH0791635B2 JP7840892A JP7840892A JPH0791635B2 JP H0791635 B2 JPH0791635 B2 JP H0791635B2 JP 7840892 A JP7840892 A JP 7840892A JP 7840892 A JP7840892 A JP 7840892A JP H0791635 B2 JPH0791635 B2 JP H0791635B2
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- JP
- Japan
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- argon
- flow rate
- film
- nitrogen
- coating
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、炭窒化チタニウム中の
炭素濃度を制御性よく製膜することができる耐摩耗性に
優れている耐摩耗性硬質被膜の製造方法に関するもので
ある。
炭素濃度を制御性よく製膜することができる耐摩耗性に
優れている耐摩耗性硬質被膜の製造方法に関するもので
ある。
【０００２】
【従来の技術】従来から、金属材料の耐摩耗性を向上さ
せるために、各種の表面処理が行なわれている。すなわ
ち、ＣＶＤ法やＰＶＤ法によって被覆されたセラミック
被膜は、表面が滑らかであり、数μｍの厚さで耐摩耗性
に優れているので、切削工具、金型、精密機械部品など
厳しい使用環境にさらされる部材に使用されている。し
かして、寸法精度が要求される部材、熱処理温度が６０
０℃以下の鋼などでは、低温での製膜が可能であるＰＶ
Ｄ法、とくに、イオンプレーティング法が用いられ、た
とえば、ＴｉＮ被膜を施した切削工具は、母材の靭性と
被膜の耐摩耗性とによって寿命がいちじるしく向上して
いる。又、熱間加工用工具鋼、冷間加工用工具鋼、又
は、超硬合金などにおいてもイオンプレーティング法に
よってＴｉＮ被膜を形成したものが普及している。
せるために、各種の表面処理が行なわれている。すなわ
ち、ＣＶＤ法やＰＶＤ法によって被覆されたセラミック
被膜は、表面が滑らかであり、数μｍの厚さで耐摩耗性
に優れているので、切削工具、金型、精密機械部品など
厳しい使用環境にさらされる部材に使用されている。し
かして、寸法精度が要求される部材、熱処理温度が６０
０℃以下の鋼などでは、低温での製膜が可能であるＰＶ
Ｄ法、とくに、イオンプレーティング法が用いられ、た
とえば、ＴｉＮ被膜を施した切削工具は、母材の靭性と
被膜の耐摩耗性とによって寿命がいちじるしく向上して
いる。又、熱間加工用工具鋼、冷間加工用工具鋼、又
は、超硬合金などにおいてもイオンプレーティング法に
よってＴｉＮ被膜を形成したものが普及している。
【０００３】近時、加工技術の分野では、作業の省力
化、能率化の要請から、切削加工では高速送り、深切込
みなどの重切削加工が必要になり、金型成形において
は、高面圧加工の必要性が益々高くなってきている。こ
のような重加工では、さらに硬度を上げる必要があり、
これらの要求に対して、最近、窒化チタニウムよりも硬
度が高い炭窒化チタニウムの開発がイオンプレーティン
グ法によって進められている。すなわち、少なくとも１
種類の鎖状炭化水素と窒素及びアルゴンが用いられてい
るイオンプレーティング法によって製膜した炭窒化チタ
ニウム被膜は、ビッカース硬度でＨｖ３０００以上の高
硬度を示し、耐摩耗性に優れている被膜であるが、反
面、強度が低く、衝撃に弱いという欠点があり、この欠
点を補う方法として、強度が大きい窒化チタニウムと炭
窒化チタニウムとを積層することが行なわれている（特
公平１−３０９１０号公報）。
化、能率化の要請から、切削加工では高速送り、深切込
みなどの重切削加工が必要になり、金型成形において
は、高面圧加工の必要性が益々高くなってきている。こ
のような重加工では、さらに硬度を上げる必要があり、
これらの要求に対して、最近、窒化チタニウムよりも硬
度が高い炭窒化チタニウムの開発がイオンプレーティン
グ法によって進められている。すなわち、少なくとも１
種類の鎖状炭化水素と窒素及びアルゴンが用いられてい
るイオンプレーティング法によって製膜した炭窒化チタ
ニウム被膜は、ビッカース硬度でＨｖ３０００以上の高
硬度を示し、耐摩耗性に優れている被膜であるが、反
面、強度が低く、衝撃に弱いという欠点があり、この欠
点を補う方法として、強度が大きい窒化チタニウムと炭
窒化チタニウムとを積層することが行なわれている（特
公平１−３０９１０号公報）。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】イオンプレーティング
法によって炭窒化チタニウム膜を製膜する場合、反応ガ
スとして、少なくとも１種類の鎖状炭化水素と窒素及び
アルゴンを用いるが、通常、被膜中の炭素濃度を変える
場合、鎖状炭化水素と窒素の流量比を変えて行なうもの
であるが、被膜中の炭素濃度を鎖状炭化水素の流量だけ
で制御しようとしても、鎖状炭化水素がイオン化され難
いために、鎖状炭化水素の流量比を大きく変化させなけ
れば被膜中の炭素濃度を変化することは困難である。そ
のために、必然的に窒素流量、製膜圧力をも調整しなけ
ればならなくなる。又、一旦、窒素と鎖状炭化水素の流
量比を変えるとプラズマ中の平衡状態が崩れてしまい、
プラズマが安定し、所定の圧力に復するまでに時間がか
かってしまい、目的の構造をもつ被膜を安定して得るこ
とが困難となるという問題がある。このようなことは、
窒素により組成を制御しても同じである。
法によって炭窒化チタニウム膜を製膜する場合、反応ガ
スとして、少なくとも１種類の鎖状炭化水素と窒素及び
アルゴンを用いるが、通常、被膜中の炭素濃度を変える
場合、鎖状炭化水素と窒素の流量比を変えて行なうもの
であるが、被膜中の炭素濃度を鎖状炭化水素の流量だけ
で制御しようとしても、鎖状炭化水素がイオン化され難
いために、鎖状炭化水素の流量比を大きく変化させなけ
れば被膜中の炭素濃度を変化することは困難である。そ
のために、必然的に窒素流量、製膜圧力をも調整しなけ
ればならなくなる。又、一旦、窒素と鎖状炭化水素の流
量比を変えるとプラズマ中の平衡状態が崩れてしまい、
プラズマが安定し、所定の圧力に復するまでに時間がか
かってしまい、目的の構造をもつ被膜を安定して得るこ
とが困難となるという問題がある。このようなことは、
窒素により組成を制御しても同じである。
【０００５】本発明は、イオンプレーティング法によっ
て、炭窒化チタニウムを形成する際に、炭素濃度制御
性、反応ガス流量、反応圧力の制御性に優れている被膜
の製造方法を提供することを目的とするものである。
て、炭窒化チタニウムを形成する際に、炭素濃度制御
性、反応ガス流量、反応圧力の制御性に優れている被膜
の製造方法を提供することを目的とするものである。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明者等は、前記問題
を解決し、前記目的を達成するために、イオンプレーテ
ィング法によるＴｉＣＮ被膜形成について鋭意研究を重
ねた結果、鎖状炭化水素と窒素の流量は変えず、アルゴ
ンの流量だけを変えることによって被膜中の炭素濃度を
変え得て目的を達し得ることを見出して本発明を完成す
るに至った。すなわち、本発明は、イオンプレーティン
グ法によって炭素濃度が異なる炭窒化チタニウム層の多
層被膜あるいは炭素濃度に勾配をもたせた炭窒化チタニ
ウム被膜を金属材料に被覆する方法において、反応ガス
として少なくとも１種類の鎖状炭化水素と窒素及びアル
ゴンとを用い、鎖状炭化水素と窒素の流量を一定にし、
鎖状炭化水素と窒素及びアルゴンの全流量に対するアル
ゴンの流量比を変えることによって、炭窒化チタニウム
中の炭素濃度を変化させる耐摩耗性硬質被膜の製造方法
である。
を解決し、前記目的を達成するために、イオンプレーテ
ィング法によるＴｉＣＮ被膜形成について鋭意研究を重
ねた結果、鎖状炭化水素と窒素の流量は変えず、アルゴ
ンの流量だけを変えることによって被膜中の炭素濃度を
変え得て目的を達し得ることを見出して本発明を完成す
るに至った。すなわち、本発明は、イオンプレーティン
グ法によって炭素濃度が異なる炭窒化チタニウム層の多
層被膜あるいは炭素濃度に勾配をもたせた炭窒化チタニ
ウム被膜を金属材料に被覆する方法において、反応ガス
として少なくとも１種類の鎖状炭化水素と窒素及びアル
ゴンとを用い、鎖状炭化水素と窒素の流量を一定にし、
鎖状炭化水素と窒素及びアルゴンの全流量に対するアル
ゴンの流量比を変えることによって、炭窒化チタニウム
中の炭素濃度を変化させる耐摩耗性硬質被膜の製造方法
である。
【０００７】本発明において被膜を形成する基板として
は、たとえば、Ｓ１５Ｃなどの肌焼鋼、Ｓ４５Ｃなどの
構造用鋼、ＳＵＰ１０などのばね鋼、ＳＵＪ２などの軸
受鋼、ＳＡＣＭ１などの窒化鋼、ＳＫＤ６などの熱間加
工用鋼、ＳＫＤ１１などの冷間加工用鋼、ＳＫＨ５１な
どの高速度工具鋼、ＳＵＳ３０１などの耐熱鋼、ＳＵＳ
４１０などの耐食耐酸鋼など種々の鋼、超硬合金、Ａ７
０７５Ｐなどのアルミニウム合金などの金属材料などが
挙げられる。
は、たとえば、Ｓ１５Ｃなどの肌焼鋼、Ｓ４５Ｃなどの
構造用鋼、ＳＵＰ１０などのばね鋼、ＳＵＪ２などの軸
受鋼、ＳＡＣＭ１などの窒化鋼、ＳＫＤ６などの熱間加
工用鋼、ＳＫＤ１１などの冷間加工用鋼、ＳＫＨ５１な
どの高速度工具鋼、ＳＵＳ３０１などの耐熱鋼、ＳＵＳ
４１０などの耐食耐酸鋼など種々の鋼、超硬合金、Ａ７
０７５Ｐなどのアルミニウム合金などの金属材料などが
挙げられる。
【０００８】製膜に用いるイオンプレーティング法とし
て蒸発源としてのチタニウムを蒸発する方法は、抵抗加
熱、電子銃加熱、カソードアーク放電、グロー放電、高
周波放電などが挙げられ、いずれの方法でもよい。
て蒸発源としてのチタニウムを蒸発する方法は、抵抗加
熱、電子銃加熱、カソードアーク放電、グロー放電、高
周波放電などが挙げられ、いずれの方法でもよい。
【０００９】又、用いる鎖状炭化水素としては、入手が
容易で経済的なメタン、エチレン、アセチレン、プロパ
ンなどが適当であって、これらを混合して用いてもよ
い。鎖状炭化水素、窒素及びアルゴンの流量は、製膜に
用いる装置の大きさ、排気能力などに依存するものであ
って、とくに規定されることはないが、鎖状炭化水素、
窒素及びアルゴンの全流量に対するアルゴンの流量比を
１５％以下とすれば、とくに圧力変化が少なく、目的組
成の被膜を得ることができる。
容易で経済的なメタン、エチレン、アセチレン、プロパ
ンなどが適当であって、これらを混合して用いてもよ
い。鎖状炭化水素、窒素及びアルゴンの流量は、製膜に
用いる装置の大きさ、排気能力などに依存するものであ
って、とくに規定されることはないが、鎖状炭化水素、
窒素及びアルゴンの全流量に対するアルゴンの流量比を
１５％以下とすれば、とくに圧力変化が少なく、目的組
成の被膜を得ることができる。
【００１０】
【作用】反応ガスとして、鎖状炭化水素、窒素以外に用
いるアルゴンは、鎖状炭化水素及び窒素のイオン化率を
高めるために用いるものであるが、アルゴン流量を増加
させれば、被膜中の炭素濃度を増加し得ることを見出
し、又、アルゴンの流量を鎖状炭化水素、窒素及びアル
ゴンの全流量に対する流量比で１５％以下にすれば、製
膜中の圧力変動を少なくすることができることを見出し
た。したがって、アルゴンだけの流量調整で被膜中の炭
素濃度の制御を行なえば、そのほかの反応ガスの流量を
変えることなく炭窒化チタニウムを多層化、傾斜化（濃
度勾配をもたせる）することが可能となるものである。
アルゴンの流量比が１５％を超えることは、製膜圧力の
上昇、急激な製膜温度上昇を招き望ましくないものであ
る。
いるアルゴンは、鎖状炭化水素及び窒素のイオン化率を
高めるために用いるものであるが、アルゴン流量を増加
させれば、被膜中の炭素濃度を増加し得ることを見出
し、又、アルゴンの流量を鎖状炭化水素、窒素及びアル
ゴンの全流量に対する流量比で１５％以下にすれば、製
膜中の圧力変動を少なくすることができることを見出し
た。したがって、アルゴンだけの流量調整で被膜中の炭
素濃度の制御を行なえば、そのほかの反応ガスの流量を
変えることなく炭窒化チタニウムを多層化、傾斜化（濃
度勾配をもたせる）することが可能となるものである。
アルゴンの流量比が１５％を超えることは、製膜圧力の
上昇、急激な製膜温度上昇を招き望ましくないものであ
る。
【００１１】
【実施例】次に、本発明の実施例を述べる。 実施例 １ 真空アーク放電型イオンプレーティング装置を使用し、
被膜を形成する基材として、有機溶剤によって洗浄した
ＳＫＨ５１高速度工具鋼（ビッカース硬度Ｈｖ８５０）
を、金属蒸発源としてＴｉを用い、それぞれを装置の真
空反応槽内に設置した。真空反応槽内の圧力を１．５×
１０−３Ｐａまで排気し、Ｔｉイオン衝撃による洗浄、
加熱を行ないＴｉＣＮの製膜を開始する。反応ガスとし
て、窒素を２２ｃｃ／分、アセチレンを１４ｃｃ／分の
割合で真空反応槽内に導入し、圧力を４Ｐａとした。金
属Ｔｉに９０Ａの電流を流し、真空アーク放電によって
Ｔｉイオンを放出させ、一方、鋼材には、−４００Ｖの
バイアス電圧を印加した。このような条件下で鋼材表面
にＴｉＣＮ被膜を２０分間製膜した。その後、アルゴン
を２ｃｃ／分（５容量％）導入し、圧力４．７Ｐａで２
０分間製膜した。その後、アルゴンの流量を４ｃｃ／分
（８容量％）に増加し、圧力６．７Ｐａでさらに２０分
間製膜し、合計１時間製膜した。
被膜を形成する基材として、有機溶剤によって洗浄した
ＳＫＨ５１高速度工具鋼（ビッカース硬度Ｈｖ８５０）
を、金属蒸発源としてＴｉを用い、それぞれを装置の真
空反応槽内に設置した。真空反応槽内の圧力を１．５×
１０−３Ｐａまで排気し、Ｔｉイオン衝撃による洗浄、
加熱を行ないＴｉＣＮの製膜を開始する。反応ガスとし
て、窒素を２２ｃｃ／分、アセチレンを１４ｃｃ／分の
割合で真空反応槽内に導入し、圧力を４Ｐａとした。金
属Ｔｉに９０Ａの電流を流し、真空アーク放電によって
Ｔｉイオンを放出させ、一方、鋼材には、−４００Ｖの
バイアス電圧を印加した。このような条件下で鋼材表面
にＴｉＣＮ被膜を２０分間製膜した。その後、アルゴン
を２ｃｃ／分（５容量％）導入し、圧力４．７Ｐａで２
０分間製膜した。その後、アルゴンの流量を４ｃｃ／分
（８容量％）に増加し、圧力６．７Ｐａでさらに２０分
間製膜し、合計１時間製膜した。
【００１２】この操作において、アルゴンの流量を変え
ることによる圧力安定までに要した時間は１分間であっ
た。又、得られた被膜は、炭素濃度が１モル％のＴｉＣ
Ｎが１．５μｍ、２モル％が１．１μｍ、５モル％が１
μｍの合計３．６μｍの膜厚を有していた。被膜の硬度
は、ビッカース硬度３１００であった。
ることによる圧力安定までに要した時間は１分間であっ
た。又、得られた被膜は、炭素濃度が１モル％のＴｉＣ
Ｎが１．５μｍ、２モル％が１．１μｍ、５モル％が１
μｍの合計３．６μｍの膜厚を有していた。被膜の硬度
は、ビッカース硬度３１００であった。
【００１３】このように、アセチレン及び窒素の流量は
変えずにそのままとし、アルゴンだけ流量を変えること
によって、被膜中の炭素濃度を制御することができるこ
とが認められる。 実施例 ２ 窒素の流量を１０ｃｃ／分、メタンを２６ｃｃ／分、ア
ルゴンを１ｃｃ／分(３容量％）、基板のバイアス電圧
を−４４０Ｖとした以外は、実施例１と同じ条件で製膜
を開始し、２０分後アルゴン流量を３ｃｃ／分（８容量
％）にし、圧力５Ｐａで２０分間製膜した。その後、ア
ルゴンの流量を５ｃｃ／分（１２容量％) として、圧力
６．３Ｐａで２０分間製膜した。合計１時間の製膜反応
によって、炭素濃度が３モル％のＮｉＣＮ被膜が１．５
μｍ、６モル％が１．２μｍ、１０モル％が１．１μｍ
の合計３．８μｍの被膜が得られた。
変えずにそのままとし、アルゴンだけ流量を変えること
によって、被膜中の炭素濃度を制御することができるこ
とが認められる。 実施例 ２ 窒素の流量を１０ｃｃ／分、メタンを２６ｃｃ／分、ア
ルゴンを１ｃｃ／分(３容量％）、基板のバイアス電圧
を−４４０Ｖとした以外は、実施例１と同じ条件で製膜
を開始し、２０分後アルゴン流量を３ｃｃ／分（８容量
％）にし、圧力５Ｐａで２０分間製膜した。その後、ア
ルゴンの流量を５ｃｃ／分（１２容量％) として、圧力
６．３Ｐａで２０分間製膜した。合計１時間の製膜反応
によって、炭素濃度が３モル％のＮｉＣＮ被膜が１．５
μｍ、６モル％が１．２μｍ、１０モル％が１．１μｍ
の合計３．８μｍの被膜が得られた。
【００１４】アルゴン流量を変えることによる圧力安定
までに要した時間は２分間であった。又、被膜の硬度
は、ビッカース硬度で３５００であった。 実施例 ３ 窒素の流量を２３ｃｃ／分とし、圧力４Ｐａ、基板のバ
イアス電圧を−２００Ｖとした以外は、実施例１と同じ
条件で製膜を開始し、２０分後、窒素流量を１５ｃｃ／
分、アセチレンを２２ｃｃ／分、アルゴンを３ｃｃ／分
（８容量％）で４Ｐａとし、さらに２０分後、アルゴン
を６ｃｃ／分（１４容量％）で圧力６Ｐａとして２０分
間製膜し、合計１時間の製膜反応によって、ＴｉＮ層が
１．３μｍ、炭素濃度が６モル％のＴｉＣＮが１．２μ
ｍ、１０モル％が１．４μｍの合計３．９μｍの被膜が
得られた。
までに要した時間は２分間であった。又、被膜の硬度
は、ビッカース硬度で３５００であった。 実施例 ３ 窒素の流量を２３ｃｃ／分とし、圧力４Ｐａ、基板のバ
イアス電圧を−２００Ｖとした以外は、実施例１と同じ
条件で製膜を開始し、２０分後、窒素流量を１５ｃｃ／
分、アセチレンを２２ｃｃ／分、アルゴンを３ｃｃ／分
（８容量％）で４Ｐａとし、さらに２０分後、アルゴン
を６ｃｃ／分（１４容量％）で圧力６Ｐａとして２０分
間製膜し、合計１時間の製膜反応によって、ＴｉＮ層が
１．３μｍ、炭素濃度が６モル％のＴｉＣＮが１．２μ
ｍ、１０モル％が１．４μｍの合計３．９μｍの被膜が
得られた。
【００１５】アルゴン流量を変えることによる圧力安定
までに要した時間は１分間であった。又、被膜の硬度
は、ビッカース硬度で２８００であった。 比較例 １ 反応ガスとして、窒素を２２ｃｃ／分、アセチレンを１
４ｃｃ／分、アルゴンを２ｃｃ／分の割合で真空反応槽
内に導入し、圧力を４．７Ｐａとし、鋼材に−３００Ｖ
のバイアス電圧を印加する。このような条件下で鋼材表
面にＴｉＣＮを３０分間製膜した。その後、窒素１５ｃ
ｃ／分、アセチレン２２ｃｃ／分にした。このとき圧力
は０．７Ｐａに低下し、４Ｐａになるように７分間かか
った。合計１時間の製膜反応によりできた被膜は膜厚
３．７μｍのＴｉＣＮであった。又、被膜の硬度は、ビ
ッカース硬度で２３００であった。 比較例 ２ 窒素の流量を８ｃｃ／分、メタンを２０ｃｃ／分、アル
ゴンを６ｃｃ／分とし、アルゴンの流量比を１８％とし
た以外は実施例１と同じ条件で１時間製膜を行なった。
までに要した時間は１分間であった。又、被膜の硬度
は、ビッカース硬度で２８００であった。 比較例 １ 反応ガスとして、窒素を２２ｃｃ／分、アセチレンを１
４ｃｃ／分、アルゴンを２ｃｃ／分の割合で真空反応槽
内に導入し、圧力を４．７Ｐａとし、鋼材に−３００Ｖ
のバイアス電圧を印加する。このような条件下で鋼材表
面にＴｉＣＮを３０分間製膜した。その後、窒素１５ｃ
ｃ／分、アセチレン２２ｃｃ／分にした。このとき圧力
は０．７Ｐａに低下し、４Ｐａになるように７分間かか
った。合計１時間の製膜反応によりできた被膜は膜厚
３．７μｍのＴｉＣＮであった。又、被膜の硬度は、ビ
ッカース硬度で２３００であった。 比較例 ２ 窒素の流量を８ｃｃ／分、メタンを２０ｃｃ／分、アル
ゴンを６ｃｃ／分とし、アルゴンの流量比を１８％とし
た以外は実施例１と同じ条件で１時間製膜を行なった。
【００１６】得られた被膜の硬度はビッカース硬度で３
１００であったが、製膜操作中の温度が６３０℃になっ
てしまったため、製膜前にはビッカース硬度で８５０で
あった基板の硬度は７２０まで低下してしまった。
１００であったが、製膜操作中の温度が６３０℃になっ
てしまったため、製膜前にはビッカース硬度で８５０で
あった基板の硬度は７２０まで低下してしまった。
【００１７】
【発明の効果】本発明は、イオンプレーティング法によ
るＴｉＣＮ被膜を形成する際に、反応ガスの鎖状炭化水
素、窒素の流量を変えずアルゴン流量だけを変えるよう
にしたので、ＴｉＣＮの多層膜、傾斜度を制御性よく製
膜することができ、品質が安定した耐摩耗性硬質被膜を
製造し得るものであって、顕著な効果が認められる。
るＴｉＣＮ被膜を形成する際に、反応ガスの鎖状炭化水
素、窒素の流量を変えずアルゴン流量だけを変えるよう
にしたので、ＴｉＣＮの多層膜、傾斜度を制御性よく製
膜することができ、品質が安定した耐摩耗性硬質被膜を
製造し得るものであって、顕著な効果が認められる。
Claims (1)
- 【請求項１】 イオンプレーティング法によって炭素濃
度が異なる炭窒化チタニウム層の多層被膜あるいは炭素
濃度に勾配をもたせた炭窒化チタニウム被膜を金属材料
に被覆する方法において、反応ガスとして少なくとも１
種類の鎖状炭化水素と窒素及びアルゴンとを用い、鎖状
炭化水素と窒素の流量を一定にし、鎖状炭化水素と窒素
及びアルゴンの全流量に対するアルゴンの流量比を変え
ることによって、炭窒化チタニウム中の炭素濃度を変化
させることを特徴とする耐摩耗性硬質被膜の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7840892A JPH0791635B2 (ja) | 1992-02-28 | 1992-02-28 | 耐摩耗性硬質被膜の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7840892A JPH0791635B2 (ja) | 1992-02-28 | 1992-02-28 | 耐摩耗性硬質被膜の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0625836A JPH0625836A (ja) | 1994-02-01 |
| JPH0791635B2 true JPH0791635B2 (ja) | 1995-10-04 |
Family
ID=13661214
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7840892A Expired - Fee Related JPH0791635B2 (ja) | 1992-02-28 | 1992-02-28 | 耐摩耗性硬質被膜の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0791635B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP3642427B1 (ja) | 2004-03-16 | 2005-04-27 | セイコーエプソン株式会社 | 装飾品および時計 |
| JP4839120B2 (ja) * | 2006-04-03 | 2011-12-21 | 株式会社リケン | 積層皮膜を有するピストンリング |
-
1992
- 1992-02-28 JP JP7840892A patent/JPH0791635B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0625836A (ja) | 1994-02-01 |
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