JPH0794074A - 含浸型陰極及び含浸型陰極組立体、並びに含浸型陰極組立体の作製方法 - Google Patents

含浸型陰極及び含浸型陰極組立体、並びに含浸型陰極組立体の作製方法

Info

Publication number
JPH0794074A
JPH0794074A JP25644993A JP25644993A JPH0794074A JP H0794074 A JPH0794074 A JP H0794074A JP 25644993 A JP25644993 A JP 25644993A JP 25644993 A JP25644993 A JP 25644993A JP H0794074 A JPH0794074 A JP H0794074A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
impregnated
cup
porous substrate
impregnated cathode
cathode assembly
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP25644993A
Other languages
English (en)
Inventor
Michio Hara
通雄 原
Tadakatsu Nakahira
忠克 中平
Takeshi Kodama
健 児玉
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sony Corp
Original Assignee
Sony Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Sony Corp filed Critical Sony Corp
Priority to JP25644993A priority Critical patent/JPH0794074A/ja
Publication of JPH0794074A publication Critical patent/JPH0794074A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Solid Thermionic Cathode (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【目的】含浸型陰極をカップ内に収納する際、含浸型陰
極の表面と裏面を確認するという煩雑な作業が不要な含
浸型陰極及び含浸型陰極組立体を提供する。また、ロウ
材を用いることなく多孔質基体と支持用カップとの間に
十分なる接合強度を得ることができる含浸型陰極の作製
方法を提供する。 【構成】含浸型陰極10は、高融点金属から成る多孔質
基体12、及びこの多孔質基体に含浸された電子放射物
質から成り、多孔質基体12の表面及び裏面に白金系金
属層14が形成されている。含浸型陰極組立体は、高融
点金属から成るカップ20と、このカップの内部に収納
された含浸型陰極10とから構成され、カップ20の内
面と、多孔質基体12の一方の面に形成された白金系金
属層14とが溶着している。含浸型陰極組立体の作製方
法は、多孔質基体をカップの内部に固着させた後、この
多孔質基体に電子放射物質を含浸させる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、含浸型陰極及び含浸型
陰極組立体、並びに含浸型陰極組立体の作製方法に関す
る。
【0002】
【従来の技術】陰極線管用の陰極の一種に含浸型陰極が
ある。この含浸型陰極は、例えばタングステン等の高融
点金属から成る多孔質基体と、この多孔質基体に含浸さ
れた電子放射物質から構成されており、ディスク状の形
状を有する。このような含浸型陰極は、高融点金属から
成るカップの内部に収納されて、含浸型陰極組立体とし
て、陰極線管に組み込まれる。
【0003】含浸型陰極をカップ内部に収納する場合に
は、含浸型陰極とカップとをレーザ溶接法あるいは抵抗
溶接法によって、含浸型陰極をカップ内部に固着させ
る。また、含浸型陰極組立体を陰極線管に組み込む際に
は、カップをレーザ溶接法あるいは抵抗溶接法によって
スリーブに固定する必要がある。スリーブに固定された
状態の含浸型陰極組立体の概要を模式的に図3に示す。
図3中、50は含浸型陰極、52はカップ、54はスリ
ーブである。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】このような溶接工程に
おいては、含浸型陰極に高熱が加わる。一般に、含浸型
陰極を構成する電子放出物質の融点は、多孔質基体ある
いはカップやスリーブを構成する材料の融点よりも約1
500゜Cも低い。従って、これらの溶接工程におい
て、電子放射物質が多孔質基体の表面から滲み出した
り、多孔質基体から蒸発するという問題がある。また、
含浸型陰極をカップ内部に固着する際、電子放射物質が
カップを構成する材料と反応し、含浸型陰極に破損が生
じるという問題もある。更には、含浸型陰極とカップと
の間の接合強度が低いという問題もある。含浸型陰極と
カップとの間の接合強度が低いと、最悪の場合、陰極線
管の動作中にカップから含浸型陰極が剥離する。また、
含浸型陰極とカップとに間に空隙が発生すると、含浸型
陰極の加熱を十分に行えなくなる。
【0005】これらの問題を解決するための一手段が、
例えば、特開昭63−34830号公報に開示されてい
る。この公報に開示された技術においては、ルテニウム
・モリブデンから成るロウ材層をタングステンから成る
多孔質基体の裏面に形成する。次いで、多孔質基体に電
子放出物質を含浸させて含浸型陰極を作製した後、かか
る含浸型陰極と支持用カップとを抵抗溶接する。これに
よって、ロウ材層の一部が共晶化し、溶融した部分が多
孔質基体に浸透して、多孔質基体と支持用のカップとの
間に安定な接合が得られるとされている。
【0006】しかしながら、ロウ材層が多孔質基体の裏
面にのみ形成されているので、含浸型陰極をカップ内に
収納する際、含浸型陰極の表面と裏面を確認するという
煩雑な作業が必要である。
【0007】また、多孔質基体表面へのロウ材の塗布量
(塗布厚さ)の制御、あるいは、ロウ材の溶融工程にお
けるロウ材の多孔質基体への浸透量の制御が容易ではな
い。ロウ材の多孔質基体への浸透量が多すぎた場合、多
孔質基体と含浸型陰極の接合強度の低下、あるいは含浸
型陰極の特性劣化を招く。
【0008】更には、含浸型陰極と支持用カップとを抵
抗溶接する際に、電子放射物質が多孔質基体の表面から
滲み出したり蒸発するという問題は、特開昭63−34
830号公報に開示された技術では解決することができ
ない。
【0009】従って、本発明の第1の目的は、含浸型陰
極をカップ内に収納する際、含浸型陰極の表面と裏面を
確認するという煩雑な作業を不要とし、しかも、電子放
射物質の多孔質基体表面からの滲み出しや蒸発を防止し
得る含浸型陰極及び含浸型陰極組立体を提供することに
ある。また、本発明の第2の目的は、ロウ材を用いるこ
となく多孔質基体と支持用カップとの間に十分なる接合
強度を得ることができ、しかも、電子放射物質の多孔質
基体表面からの滲み出しや蒸発を防止し得る含浸型陰極
の作製方法を提供することにある。
【0010】
【課題を解決するための手段】上記の第1の目的を達成
するための本発明の含浸型陰極は、高融点金属から成る
多孔質基体、及びこの多孔質基体に含浸された電子放射
物質から成り、多孔質基体の表面及び裏面に白金系金属
層が形成されていることを特徴とする。白金系金属層を
イリジウム若しくはオスミウム/ルテニウム合金から構
成し、厚さを0.1乃至1μmとすることが好ましい。
白金系金属層の厚さが0.1μm未満では、含浸型陰極
と支持用のカップとの間の接合強度が不十分になる虞れ
がある。また、厚い分には問題がないが、白金系金属層
の形成時間が長くなるので、実際の製造工程を考慮する
と、厚さの上限は1μm程度である。
【0011】更に、上記の第1の目的を達成するための
本発明の含浸型陰極組立体は、高融点金属から成るカッ
プと、このカップの内部に収納された含浸型陰極とから
構成されている。そして、含浸型陰極は、高融点金属か
ら成る多孔質基体、及びこの多孔質基体に含浸された電
子放射物質から成り、多孔質基体の両面には白金系金属
層が形成されており、多孔質基体の一方の面に形成され
た白金系金属層とカップの内面とが溶着していることを
特徴とする。カップをタンタルから構成し、白金系金属
層をイリジウム若しくはオスミウム/ルテニウム合金か
ら構成し、厚さを0.1乃至1μmとすることが好まし
い。
【0012】上記の第2の目的を達成するための本発明
の含浸型陰極組立体の作製方法は、カップ、及びこのカ
ップの内部に収納され電子放射物質が含浸された高融点
金属から成る多孔質基体とから構成された含浸型陰極組
立体の作製方法である。そして、多孔質基体をカップの
内部に固着させた後、この多孔質基体に電子放射物質を
含浸させることを特徴とする。本発明の含浸型陰極組立
体の作製方法においては、多孔質基体に電子放射物質を
含浸させた後に、余剰の電子放射物質を除去する工程が
含まれることが望ましい。また、カップはモリブデンか
ら構成することができる。
【0013】
【作用】本発明の含浸型陰極あるいは含浸型陰極組立体
においては、多孔質基体の表面及び裏面の両面に白金系
金属層が形成されているので、含浸型陰極をカップ内に
収納する際、含浸型陰極の表面と裏面を確認するという
煩雑な作業が不要である。しかも、多孔質基体の裏面に
白金系金属層が形成されているので、含浸型陰極をカッ
プに固着させたとき、この白金系金属層が溶融して、含
浸型陰極とカップとは強固に接合される。更には、多孔
質基体の表面にも白金系金属層が形成されているので、
含浸型陰極が高温に加熱されても、多孔質基体表面から
電子放射物質が滲み出したり蒸発することを防止し得
る。
【0014】本発明の含浸型陰極組立体の作製方法にお
いては、多孔質基体をカップの内部に固着させた後、こ
の多孔質基体に電子放射物質を含浸させるので、ロウ材
を用いることなく多孔質基体と支持用カップとの間に十
分なる接合強度を得ることができる。しかも、電子放射
物質の多孔質基体表面からの滲み出しや蒸発を防止し得
る。
【0015】
【実施例】以下、図面を参照して、実施例に基づき本発
明を説明する。
【0016】(実施例1)実施例1は、本発明の含浸型
陰極及び含浸型陰極組立体に関する。この含浸型陰極1
0は、図1の(A)に模式的な断面図を示すように、高
融点金属から成る多孔質基体12、及びこの多孔質基体
12に含浸された電子放射物質から成り、多孔質基体1
2の表面及び裏面に白金系金属層1が形成されている。
多孔質基体12はタングステンから成る。また、白金系
金属層14はイリジウムから成り、厚さは0.1乃至1
μmである。
【0017】本発明の含浸型陰極組立体の模式的な断面
図を図1の(B)に示す。含浸型陰極組立体は、高融点
金属から成る支持用のカップ20と、このカップ20の
内部に収納された含浸型陰極10とから構成されてい
る。含浸型陰極は、高融点金属(実施例1においてはタ
ングステン)から成る多孔質基体12、及び多孔質基体
12に含浸された電子放射物質から構成されている。多
孔質基体12の両面には白金系金属層14が形成されて
いる。また、多孔質基体14の一方の面に形成された白
金系金属層14とカップ20の内面(具体的にはカップ
20の内部底面)とが溶着している。カップ20はタン
タルから成る。白金系金属層14はイリジウムから成
り、厚さは0.1乃至1μmである。
【0018】実施例1の含浸型陰極10の作製方法の概
要を以下説明する。
【0019】先ず、モル比で4:1:1のBaO、Ca
O、Al23から成る電子放射物質を約1800゜Cに
加熱して、タングステンから成りディスク状の多孔質基
体12に含浸させる。多孔質基体12の空隙率を約25
%とした。また、多孔質基体の大きさを、直径1.5m
m、厚さ0.6mmとしたが、この大きさは適宜選択さ
れる。含浸には、真空加熱装置あるいは水素炉を用いる
ことができる。その後、超音波洗浄処理あるいは加熱処
理によって、余分な電子放射物質を多孔質基体12から
除去する。
【0020】その後、例えばDCスパッタ装置、RFマ
グネトロンスパッタ装置あるいは電子ビーム蒸着装置を
用いて、イリジウムから成る白金系金属層14を多孔質
基体12の両面に形成する。白金系金属層の厚さは、
0.1乃至1μmであればよい。こうして、図1の
(A)に示した含浸型陰極10を作製することができ
る。尚、多孔質基体12の側壁に白金系金属層が形成さ
れても、何等問題はない。また、電子放射物質が含浸さ
れた大口径の多孔質基体材料の両面に白金系金属層を形
成した後、かかる多孔質基体材料をレーザ加工等によっ
て所望の形状に加工して、含浸型陰極10を作製するこ
ともできる。
【0021】次に、こうして得られた含浸型陰極10
を、タンタルから成る支持用のカップ20の内部に配置
する。カップ20の内径を1.52mm、深さを0.5
5mmとしたが、この寸法は含浸型陰極10の大きさに
合わせて適宜選択する。そして、例えば、モリブデン、
タングステンあるいは炭素等の高融点材料から成る溶接
棒を用いた抵抗溶接法にて、アルゴンガス雰囲気下で、
多孔質基体12の一方の面に形成された白金系金属層1
4と、カップ20の内面(具体的にはカップ20の内部
底面)とを溶着させる。尚、抵抗溶接法の代わりにレー
ザ溶接法を採用してもよい。あるいは又、多孔質基体1
2の側壁にも白金系金属層を形成した場合には、多孔質
基体12の側面をカップ20の側壁に溶着させてもよ
い。
【0022】こうして、含浸型陰極10とカップ20と
が強固に接合され、図1の(B)に示した含浸型陰極組
立体が完成する。尚、このとき、同時に、カップ20と
スリーブ22とを溶接してもよい。あるいは又、含浸型
陰極組立体の完成後、かかる含浸型陰極組立体のカップ
20をスリーブ22に抵抗溶接法やレーザ溶接法にて取
り付けてもよい。これらの場合、溶接箇所は、スリーブ
22の径にも依るが、6〜8点程度が望ましい。スリー
ブ22は、タンタル若しくはモリブデンから成る。
【0023】(実施例2)実施例2は、本発明の含浸型
陰極組立体の作製方法に関する。含浸型陰極組立体は、
カップ40、及びカップ40の内部に収納され電子放射
物質が含浸された高融点金属から成る多孔質基体32か
ら構成されている。この多孔質基体32の表面には、実
施例1のような白金系金属層を形成する必要はない。以
下、図2を参照して、本発明の含浸型陰極組立体の作製
方法を説明する。
【0024】先ず、図2の(A)に模式的に示すよう
に、多孔質基体32を支持用のカップ40の内部に固着
させる。多孔質基体32は、タングステンから成り、そ
の空隙率を約25%とした。また、多孔質基体32の大
きさを、直径1.5mm、厚さ0.6mmとしたが、こ
の大きさは適宜選択される。カップ40はモリブデン若
しくはタンタルから成り、その内径を1.52mm、深
さを0.55mmとしたが、この寸法は多孔質基体32
の大きさに合わせて適宜選択する。尚、電子放射物質と
の反応性を考慮するとモリブデンを用いる方が望まし
い。多孔質基体32のカップ40への固着は、抵抗溶接
法やレーザ溶接法にて行うことができる。多孔質基体3
2の底面をカップ40の内部底面に固着させてもよい
し、多孔質基体32の側面をカップ40の側壁に固着さ
せてもよい。
【0025】次に、図2の(B)に模式的に示すよう
に、モル比で4:1:1のBaO、CaO、Al23
ら成る電子放射物質44を約1800゜Cに加熱して、
多孔質基体32に含浸させる。含浸には、真空加熱装置
あるいは水素炉を用いることができる。その後、多孔質
基体32とカップ40との間にあるいは多孔質基体32
の表面に残存した余剰の電子放射物質を、純水中での超
音波洗浄処理、あるいは加熱処理によって多孔質基体3
2から除去することが望ましい。超音波洗浄処理を行っ
た場合には、その後、真空中で多孔質基体32を乾燥さ
せることが望ましい。尚、図において、電子放射物質が
含浸された多孔質基体には黒点を付した。
【0026】こうして完成された含浸型陰極組立体を、
スリーブ42に取り付ける(図2の(C)参照)。具体
的には、カップ40をスリーブ42に抵抗溶接法やレー
ザ溶接法にて取り付ける。スリーブ42は、タンタル若
しくはモリブデンから成る。溶接箇所は、スリーブ42
の径にも依るが、6〜8点程度が望ましい。
【0027】尚、カップ40のスリーブ42への取り付
けは、多孔質基体32を支持用のカップ40の内部に固
着させる前に行ってもよいし、多孔質基体32を支持用
のカップ40の内部に固着させるときに同時に行っても
よい。
【0028】以上、本発明を好ましい実施例に基づき説
明したが、本発明はこれらの実施例に限定されるもので
はない。多孔質基体12,32は、モリブデンから構成
することができる。白金系金属層を、イリジウムの代わ
りに、オスミウム/ルテニウム合金から構成してもよ
い。本発明の含浸型陰極あるいは含浸型陰極組立体、若
しくは含浸型陰極組立体の作製方法によって作製された
含浸型陰極あるいは含浸型陰極組立体は、陰極線管以外
にも、例えば撮像管において使用することができる。
【0029】
【発明の効果】本発明の含浸型陰極あるいは含浸型陰極
組立体においては、含浸型陰極をカップ内に収納する
際、含浸型陰極の表面と裏面を確認するという煩雑な作
業が不要である。しかも、多孔質基体の裏面に白金系金
属層を形成することによって、含浸型陰極とカップとは
強固に接合され、更には、電子放射物質とカップとの間
の反応を抑制することができる。また、多孔質基体の表
面に白金系金属層を形成することによって、作製過程に
おいて、含浸型陰極が高温に加熱されても、多孔質基体
表面から電子放射物質が滲み出したり蒸発することを防
止し得るだけでなく、仕事函数が低くなる結果、熱電子
を放出させるために必要とされる含浸型陰極の加熱温度
を約100゜C低下させることができ、含浸型陰極組立
体の長寿命化を図ることが可能になる。
【0030】本発明の含浸型陰極組立体の作製方法にお
いては、ロウ材を用いることなく多孔質基体と支持用の
カップとの間に十分なる接合強度を得ることができる
し、多孔質基体とカップとを高精度で組み立てることが
でき、しかも、量産性に富む。また、電子放射物質の多
孔質基体表面からの滲み出しや蒸発を防止でき、高品質
の含浸型陰極組立体を作製することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の含浸型陰極及び含浸型陰極組立体の模
式的な断面図である。
【図2】本発明の含浸型陰極組立体の作製方法の各工程
を説明するための模式的な断面図である。
【図3】スリーブに固定された状態の含浸型陰極組立体
の概要を模式的に示す図である。
【符号の説明】
10 含浸型陰極 12,32 多孔質基体 14 白金系金属層 20,40 カップ 22,42 スリーブ 44 電子放射物質

Claims (7)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】高融点金属から成る多孔質基体、及び該多
    孔質基体に含浸された電子放射物質から成る含浸型陰極
    であって、多孔質基体の表面及び裏面に白金系金属層が
    形成されていることを特徴とする含浸型陰極。
  2. 【請求項2】白金系金属層はイリジウム若しくはオスミ
    ウム/ルテニウム合金から成り、厚さは0.1乃至1μ
    mであることを特徴とする請求項1に記載の含浸型陰
    極。
  3. 【請求項3】高融点金属から成るカップ、及び該カップ
    の内部に収納された含浸型陰極から構成された含浸型陰
    極組立体であって、 該含浸型陰極は、高融点金属から成る多孔質基体、及び
    該多孔質基体に含浸された電子放射物質から成り、 該多孔質基体の両面には白金系金属層が形成されてお
    り、 多孔質基体の一方の面に形成された白金系金属層とカッ
    プの内面とが溶着していることを特徴とする含浸型陰極
    組立体。
  4. 【請求項4】カップはタンタルから成り、白金系金属層
    はイリジウム若しくはオスミウム/ルテニウム合金から
    成り、厚さは0.1乃至1μmであることを特徴とする
    請求項3に記載の含浸型陰極組立体。
  5. 【請求項5】カップ、及び該カップの内部に収納され電
    子放射物質が含浸された高融点金属から成る多孔質基体
    から構成された含浸型陰極組立体の作製方法であって、 多孔質基体をカップの内部に固着させた後、該多孔質基
    体に電子放射物質を含浸させることを特徴とする含浸型
    陰極組立体の作製方法。
  6. 【請求項6】多孔質基体に電子放射物質を含浸させた後
    に、余剰の電子放射物質を除去する工程を含むことを特
    徴とする請求項5に記載の含浸型陰極組立体の作製方
    法。
  7. 【請求項7】前記カップはモリブデンから成ることを特
    徴とする請求項5又は請求項6に記載の含浸型陰極組立
    体の作製方法。
JP25644993A 1993-09-20 1993-09-20 含浸型陰極及び含浸型陰極組立体、並びに含浸型陰極組立体の作製方法 Pending JPH0794074A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP25644993A JPH0794074A (ja) 1993-09-20 1993-09-20 含浸型陰極及び含浸型陰極組立体、並びに含浸型陰極組立体の作製方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP25644993A JPH0794074A (ja) 1993-09-20 1993-09-20 含浸型陰極及び含浸型陰極組立体、並びに含浸型陰極組立体の作製方法

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH0794074A true JPH0794074A (ja) 1995-04-07

Family

ID=17292810

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP25644993A Pending JPH0794074A (ja) 1993-09-20 1993-09-20 含浸型陰極及び含浸型陰極組立体、並びに含浸型陰極組立体の作製方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH0794074A (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2011129384A (ja) * 2009-12-18 2011-06-30 Toshiba Corp 含浸型陰極構体

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2011129384A (ja) * 2009-12-18 2011-06-30 Toshiba Corp 含浸型陰極構体

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US4833361A (en) Impregnated cathode having cathode base body and refractory metal support welded together
JPH0794074A (ja) 含浸型陰極及び含浸型陰極組立体、並びに含浸型陰極組立体の作製方法
KR900008195B1 (ko) 함침형 음극구체(含浸形陰極構體)
JP2735955B2 (ja) 含浸形陰極構造体およびその製造方法
JPH06101299B2 (ja) 含浸型陰極の製造方法
JPS6364236A (ja) 含浸形陰極の製造方法
JP2668657B2 (ja) 陰極線管用の含浸型陰極
JPS6319731A (ja) 含浸形陰極構体
JPH07105190B2 (ja) 含浸形陰極構体の製造方法
JPH0821311B2 (ja) 含浸形陰極構体
JP2650638B2 (ja) 陰極線管
JPH11260241A (ja) 含浸型陰極構体およびその製造方法
JPS5830035A (ja) 点状陰極
JP2000215800A (ja) 含浸型陰極の製造方法
JPH0619942B2 (ja) 含浸型陰極の製造方法
WO2025197619A1 (ja) 電子源及びその製造方法、並びに、電子線装置
JPH0687390B2 (ja) 含浸形カソード構体
JPS61163532A (ja) 含浸型陰極構体
JPS62217528A (ja) 含浸形カソ−ドの製造方法
JPH04259726A (ja) 含浸型陰極
JPH0945214A (ja) 陰極基体およびそれを用いた含浸型陰極構体
JP3068160B2 (ja) 含浸型陰極及びその製造方法
JPS61142626A (ja) 含浸形陰極の製造方法
JPH10106433A (ja) 含浸型陰極構体の製造方法
JPS63254637A (ja) 含浸形陰極