JPH0794132A - 二次荷電粒子検出器および集束イオンビーム装置 - Google Patents
二次荷電粒子検出器および集束イオンビーム装置Info
- Publication number
- JPH0794132A JPH0794132A JP5240131A JP24013193A JPH0794132A JP H0794132 A JPH0794132 A JP H0794132A JP 5240131 A JP5240131 A JP 5240131A JP 24013193 A JP24013193 A JP 24013193A JP H0794132 A JPH0794132 A JP H0794132A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- channel type
- ion beam
- electron multiplier
- type electron
- focused ion
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Abstract
(57)【要約】 (修正有)
【目的】 絶縁アンプを用いること無く、粒子取り込み
口に印加する電圧の極性を切り換えるだけで、二次電子
検出または二次イオン検出の切り換えが可能で、かつ利
得特性の劣化無しに長時間使用可能な二次荷電粒子検出
器を提供する。 【構成】 集束イオンビーム装置で使用する二次荷電粒
子検出器を、チャネル型電子増倍管16〜18、シンチ
レーター9、ライトガイド10、光電子増倍管11で構
成する。 【効果】 チャネル型電子増倍管の利得を比較的低く設
定し、光電子増倍管の利得を高く設定して使用すること
で、チャネル型電子増倍管の利得特性の劣化が始まるま
での使用時間を延ばすことができる。
口に印加する電圧の極性を切り換えるだけで、二次電子
検出または二次イオン検出の切り換えが可能で、かつ利
得特性の劣化無しに長時間使用可能な二次荷電粒子検出
器を提供する。 【構成】 集束イオンビーム装置で使用する二次荷電粒
子検出器を、チャネル型電子増倍管16〜18、シンチ
レーター9、ライトガイド10、光電子増倍管11で構
成する。 【効果】 チャネル型電子増倍管の利得を比較的低く設
定し、光電子増倍管の利得を高く設定して使用すること
で、チャネル型電子増倍管の利得特性の劣化が始まるま
での使用時間を延ばすことができる。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は集束イオンビームを試料
の所定領域を走査させながら照射することにより、その
試料表面の所定領域の加工、又は観察を行う集束イオン
ビーム装置に関し、特にその二次荷電粒子検出器部に関
する。
の所定領域を走査させながら照射することにより、その
試料表面の所定領域の加工、又は観察を行う集束イオン
ビーム装置に関し、特にその二次荷電粒子検出器部に関
する。
【0002】
【従来の技術】従来の集束イオンビーム装置に使用され
ている二次荷電粒子検出器はシンチレーター、ライトガ
イド、光電子増倍管で構成されるEverhart−T
hornley型検出器とチャンネルトロン、マイクロ
チャネルプレート等のチャネル型電子増倍管がある。図
2にイオンビーム照射により試料表面から発生する粒子
を示す。集束イオンビーム1を試料2に照射すると、試
料2の表面から二次電子3、二次イオン4、スパッタ中
性粒子5、などが放出することがよく知られている。
ている二次荷電粒子検出器はシンチレーター、ライトガ
イド、光電子増倍管で構成されるEverhart−T
hornley型検出器とチャンネルトロン、マイクロ
チャネルプレート等のチャネル型電子増倍管がある。図
2にイオンビーム照射により試料表面から発生する粒子
を示す。集束イオンビーム1を試料2に照射すると、試
料2の表面から二次電子3、二次イオン4、スパッタ中
性粒子5、などが放出することがよく知られている。
【0003】集束イオンビーム装置は、以下のようにな
っている。集束イオンビーム1を試料2の所定領域に於
いて走査させながら照射することにより、その所定領域
は、イオンスパッタにより、表面は除去される。つま
り、試料の内部を露出することができる。また、その照
射領域に有機化合物蒸気を吹き付けながら集束イオンビ
ーム1を同様に照射すると、所定領域に吸着された有機
化合物はイオンビームにより分解され、パターン膜が形
成される。
っている。集束イオンビーム1を試料2の所定領域に於
いて走査させながら照射することにより、その所定領域
は、イオンスパッタにより、表面は除去される。つま
り、試料の内部を露出することができる。また、その照
射領域に有機化合物蒸気を吹き付けながら集束イオンビ
ーム1を同様に照射すると、所定領域に吸着された有機
化合物はイオンビームにより分解され、パターン膜が形
成される。
【0004】また、集束イオンビーム1を試料に照射す
ることにより前述のように二次荷電粒子(二次電子3、
二次イオン4)放出され、それを検出することにより、
試料2の表面、および内部の状況を観察することができ
る。図3に示すEverhart−Thornley型
検出器はこの内の二次電子3を検出するのに用いられて
いる。その構造は外筒7、高圧コロナリング8、シンチ
レーター9、ライトガイド10、光電子増倍管11、プ
リアンプ12、画像表示装置13、高圧電源14、高圧
電源6より構成される。高圧コロナリング8には高圧電
源6により二次電子を加速・収集するための正の高圧が
印加され、試料2と検出器の空間に電場15が形成され
る。二次電子3は電場15により、加速しながら集束
し、シンチレータ9に到達する。二次電子3の衝突によ
りシンチレータ9は発光し、その光はライトガイド10
により光電子増倍管11に導かれ電流信号に変換され、
その電流信号をプリアンプ12で電圧信号に変換され、
画像表示装置13上に表示される。
ることにより前述のように二次荷電粒子(二次電子3、
二次イオン4)放出され、それを検出することにより、
試料2の表面、および内部の状況を観察することができ
る。図3に示すEverhart−Thornley型
検出器はこの内の二次電子3を検出するのに用いられて
いる。その構造は外筒7、高圧コロナリング8、シンチ
レーター9、ライトガイド10、光電子増倍管11、プ
リアンプ12、画像表示装置13、高圧電源14、高圧
電源6より構成される。高圧コロナリング8には高圧電
源6により二次電子を加速・収集するための正の高圧が
印加され、試料2と検出器の空間に電場15が形成され
る。二次電子3は電場15により、加速しながら集束
し、シンチレータ9に到達する。二次電子3の衝突によ
りシンチレータ9は発光し、その光はライトガイド10
により光電子増倍管11に導かれ電流信号に変換され、
その電流信号をプリアンプ12で電圧信号に変換され、
画像表示装置13上に表示される。
【0005】チャネル型電子増倍管は二次電子、二次イ
オン、X線等の検出が可能である。チャネル型電子増倍
管の例としてマイクロチャネルプレートを使った二次電
子検出の例を図4に示す。マイクロチャネルプレート前
段電極16に高圧電源20により正の電圧を印加して、
試料2で発生した二次電子3をマイクロチャネルプレー
ト17内に引き込む。一般に知られているようにマイク
ロチャネルプレート17は直径10μm程度の、内壁を
抵抗体としたガラス管を多数束ねた板状の構造をしてお
り、ガラス管の一本一本が二次電子増倍の働きをする。
マイクロチャネルプレート後段電極18には高圧電源2
1により、マイクロチャネルプレート前段電極16より
高い電位を与えておき、マイクロチャネルプレート17
内で二次電子を加速し、ガラス管内壁へ衝突させ、再び
二次電子を放出させる。この過程が多数回繰り返され、
マイクロチャネルプレート17から多数の電子が放出さ
れる。アノード19にマイクロチャネルプレート後段電
極18より数100V高い電圧を高圧電源22により与
えておき、マイクロチャネルプレート17から放出され
た多数の電子を集める。この電流を絶縁アンプ23によ
り電圧に変換し、画像表示装置13上に表示する。
オン、X線等の検出が可能である。チャネル型電子増倍
管の例としてマイクロチャネルプレートを使った二次電
子検出の例を図4に示す。マイクロチャネルプレート前
段電極16に高圧電源20により正の電圧を印加して、
試料2で発生した二次電子3をマイクロチャネルプレー
ト17内に引き込む。一般に知られているようにマイク
ロチャネルプレート17は直径10μm程度の、内壁を
抵抗体としたガラス管を多数束ねた板状の構造をしてお
り、ガラス管の一本一本が二次電子増倍の働きをする。
マイクロチャネルプレート後段電極18には高圧電源2
1により、マイクロチャネルプレート前段電極16より
高い電位を与えておき、マイクロチャネルプレート17
内で二次電子を加速し、ガラス管内壁へ衝突させ、再び
二次電子を放出させる。この過程が多数回繰り返され、
マイクロチャネルプレート17から多数の電子が放出さ
れる。アノード19にマイクロチャネルプレート後段電
極18より数100V高い電圧を高圧電源22により与
えておき、マイクロチャネルプレート17から放出され
た多数の電子を集める。この電流を絶縁アンプ23によ
り電圧に変換し、画像表示装置13上に表示する。
【0006】マイクロチャネルプレートを使った二次イ
オン検出の例を図5に示す。マイクロチャネルプレート
前段電極16に二次イオン4を引き込むため、負の電位
を高圧電源21、22により与える。二次イオン4はマ
イクロチャネルプレート17内壁に衝突して二次電子を
発生する。マイクロチャネルプレート後段電極18には
高圧電源21により、マイクロチャネルプレート前段電
極16より高い負電位を与えておき、マイクロチャネル
プレート17内で二次電子を加速し、ガラス管内壁へ衝
突させ、再び二次電子を放出させる。この過程が多数回
繰り返され、マイクロチャネルプレート17から多数の
電子が放出される。アノード19を接地電位とし、マイ
クロチャネルプレート17から放出された多数の電子を
集める。この電流をアンプ24により電圧に変換し、画
像表示装置13上に表示する。
オン検出の例を図5に示す。マイクロチャネルプレート
前段電極16に二次イオン4を引き込むため、負の電位
を高圧電源21、22により与える。二次イオン4はマ
イクロチャネルプレート17内壁に衝突して二次電子を
発生する。マイクロチャネルプレート後段電極18には
高圧電源21により、マイクロチャネルプレート前段電
極16より高い負電位を与えておき、マイクロチャネル
プレート17内で二次電子を加速し、ガラス管内壁へ衝
突させ、再び二次電子を放出させる。この過程が多数回
繰り返され、マイクロチャネルプレート17から多数の
電子が放出される。アノード19を接地電位とし、マイ
クロチャネルプレート17から放出された多数の電子を
集める。この電流をアンプ24により電圧に変換し、画
像表示装置13上に表示する。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】前記のEverhar
t−Thornley型検出器では二次電子の検出は可
能だが二次イオンの検出はできない。図3において高圧
コロナリング8に負電圧を与え、二次イオンを収集する
場合、イオンに対するシンチレータの感度は低く、また
スパッタも伴うため実用的でない。特にシンチレータ表
面にチャージアップ防止用にアルミニウム薄膜を付けた
ものは、イオンの飛程は電子のそれに比べて桁違いに小
さいため、収集された二次イオンはアルミニウム薄膜を
通過できずシンチレータの発光に寄与しない。
t−Thornley型検出器では二次電子の検出は可
能だが二次イオンの検出はできない。図3において高圧
コロナリング8に負電圧を与え、二次イオンを収集する
場合、イオンに対するシンチレータの感度は低く、また
スパッタも伴うため実用的でない。特にシンチレータ表
面にチャージアップ防止用にアルミニウム薄膜を付けた
ものは、イオンの飛程は電子のそれに比べて桁違いに小
さいため、収集された二次イオンはアルミニウム薄膜を
通過できずシンチレータの発光に寄与しない。
【0008】またチャネル型電子増倍管を用いると、前
述のように二次電子と二次イオンの検出が可能である
が、二次電子検出の場合、絶縁アンプが必要となる。絶
縁アンプは構成が複雑であり、電子部品を高圧に浮かせ
て動作させることから信頼性の問題も発生し、汎用性に
かける。さらにチャネル型電子増倍管は寿命が累積出力
電流量でほぼ決まり、およそ10-2/cm2 に達すると
利得特性の劣化が始まる。従って長時間使用するために
は利得を下げて出力電流を極力小さくして使用しなけれ
ばならないが、画像信号としてS/Nを考慮するとマイ
クロアンペア程度の出力電流は必要である。
述のように二次電子と二次イオンの検出が可能である
が、二次電子検出の場合、絶縁アンプが必要となる。絶
縁アンプは構成が複雑であり、電子部品を高圧に浮かせ
て動作させることから信頼性の問題も発生し、汎用性に
かける。さらにチャネル型電子増倍管は寿命が累積出力
電流量でほぼ決まり、およそ10-2/cm2 に達すると
利得特性の劣化が始まる。従って長時間使用するために
は利得を下げて出力電流を極力小さくして使用しなけれ
ばならないが、画像信号としてS/Nを考慮するとマイ
クロアンペア程度の出力電流は必要である。
【0009】
【課題を解決するための手段】前記課題を解決するた
め、本発明の手段は集束イオンビーム装置で使用する二
次荷電粒子検出器を、チャネル型電子増倍管、シンチレ
ーター、ライトガイド、光電子増倍管で構成し、二次電
子を検出する時はチャネル型電子増倍管の粒子取り込み
口に正の高電圧を印可し、二次イオンを検出する時はチ
ャネル型電子増倍管の粒子取り込み口に負の高電圧を印
可することで、検出する二次荷電粒子の種類の切り換え
を行い、チャネル型電子増倍管の出力をシンチレータで
受け、その発光をライトガイドにより光電子増倍管に導
き電気信号に変換することを特徴とする。
め、本発明の手段は集束イオンビーム装置で使用する二
次荷電粒子検出器を、チャネル型電子増倍管、シンチレ
ーター、ライトガイド、光電子増倍管で構成し、二次電
子を検出する時はチャネル型電子増倍管の粒子取り込み
口に正の高電圧を印可し、二次イオンを検出する時はチ
ャネル型電子増倍管の粒子取り込み口に負の高電圧を印
可することで、検出する二次荷電粒子の種類の切り換え
を行い、チャネル型電子増倍管の出力をシンチレータで
受け、その発光をライトガイドにより光電子増倍管に導
き電気信号に変換することを特徴とする。
【0010】
【作用】前述の手段によれば、絶縁アンプを用いること
無く、チャネル型電子増倍管の粒子取り込み口の電圧の
極性を変えるだけで、二次イオン検出と二次電子検出の
切り換えが可能となる。またチャネル型電子増倍管の出
力電流がマイクロアンペア以下となるようチャネル型電
子増倍管を利得の比較的低いところで使用し、後段の光
電子増倍管でマイクロアンペアとなるように増幅するこ
とで、チャネル型電子増倍管の出力電流を減らし、利得
特性の劣化が始まるまでの使用時間を延ばすことができ
る。
無く、チャネル型電子増倍管の粒子取り込み口の電圧の
極性を変えるだけで、二次イオン検出と二次電子検出の
切り換えが可能となる。またチャネル型電子増倍管の出
力電流がマイクロアンペア以下となるようチャネル型電
子増倍管を利得の比較的低いところで使用し、後段の光
電子増倍管でマイクロアンペアとなるように増幅するこ
とで、チャネル型電子増倍管の出力電流を減らし、利得
特性の劣化が始まるまでの使用時間を延ばすことができ
る。
【0011】
【実施例】本発明の集束イオンビーム装置は、真空チャ
ンバー内にある集束イオンビーム1を試料2の所定領域
を照射するイオンビーム照射系(図示せず)と、または
それ加えて、試料の前述の所定領域にほぼ局所的に有機
化合物蒸気を吹き付けるガス吹き付け装置と、以下に詳
しく述べる二次荷電粒子検出器よりなる。
ンバー内にある集束イオンビーム1を試料2の所定領域
を照射するイオンビーム照射系(図示せず)と、または
それ加えて、試料の前述の所定領域にほぼ局所的に有機
化合物蒸気を吹き付けるガス吹き付け装置と、以下に詳
しく述べる二次荷電粒子検出器よりなる。
【0012】以下、本発明の二次荷電粒子検出器の実施
例を図面を用いて説明する。図1は、本発明の一実施例
を示した二次荷電粒子検出器の模式断面図である。前記
二次荷電粒子検出器は試料表面から放出した二次荷電粒
子を引き込むための電圧を印加するマイクロチャネルプ
レート前段電極16、二次荷電粒子を二次電子に変換し
増倍させるマイクロチャネルプレート17、マイクロチ
ャネルプレート内の電子を加速するための電圧を印加す
るマイクロチャネルプレート後段電極18、マイクロチ
ャネルプレートから出力された電子を光に変換するシン
チレータ9、シンチレータの発光を光電子増倍管へ伝送
するライトガイド10、ライトガイドからの光信号を電
流信号に変換し、増幅する光電子増倍管11、光電子増
倍管から出力された電流信号を電圧に変換するプリアン
プ12およびこれらに電圧を供給する高圧電源21,2
2,29,30から構成される。本実施例1に示す二次
荷電粒子検出器の動作を説明する。
例を図面を用いて説明する。図1は、本発明の一実施例
を示した二次荷電粒子検出器の模式断面図である。前記
二次荷電粒子検出器は試料表面から放出した二次荷電粒
子を引き込むための電圧を印加するマイクロチャネルプ
レート前段電極16、二次荷電粒子を二次電子に変換し
増倍させるマイクロチャネルプレート17、マイクロチ
ャネルプレート内の電子を加速するための電圧を印加す
るマイクロチャネルプレート後段電極18、マイクロチ
ャネルプレートから出力された電子を光に変換するシン
チレータ9、シンチレータの発光を光電子増倍管へ伝送
するライトガイド10、ライトガイドからの光信号を電
流信号に変換し、増幅する光電子増倍管11、光電子増
倍管から出力された電流信号を電圧に変換するプリアン
プ12およびこれらに電圧を供給する高圧電源21,2
2,29,30から構成される。本実施例1に示す二次
荷電粒子検出器の動作を説明する。
【0013】二次電子を検出する場合は、切り換えスイ
ッチ28を正電圧電源29側にしてマイクロチャネルプ
レート前段電極16に数100〜数1000Vの電圧を
与え、試料表面から発生した二次電子をマイクロチャネ
ルプレート17に引き込む。マイクロチャネルプレート
後段電極18は高圧電源21により、マイクロチャネル
プレート内の電子を加速するよう高電圧が印加されてい
る。マイクロチャネルプレート内の電子はガラス管内壁
に衝突し、二次電子を放出させる。この過程が多数回繰
り返され、マイクロチャネルプレート17から多数の電
子が放出される。電子の増倍率は高圧電源21の出力電
圧により制御される。これらの電子を加速・収集するた
めシンチレータ9に高圧電源22によりマイクロチャネ
ルプレート後段電極18から数1000Vの電位差を与
えておく。マイクロチャネルプレート17から放出した
電子はシンチレータ9に衝突し光信号となる。この光信
号はライトガイド10を通って光電子増倍管11に伝送
される。光信号は光電子増倍管11により電流信号に変
換され増幅される。光電子増倍管11の利得制御は高圧
電源14の出力電圧を変化させることにより行う。光電
子増倍管11から出力される電流信号はプリアンプ12
により電圧信号に変換され、画像表示装置等に入力され
る。
ッチ28を正電圧電源29側にしてマイクロチャネルプ
レート前段電極16に数100〜数1000Vの電圧を
与え、試料表面から発生した二次電子をマイクロチャネ
ルプレート17に引き込む。マイクロチャネルプレート
後段電極18は高圧電源21により、マイクロチャネル
プレート内の電子を加速するよう高電圧が印加されてい
る。マイクロチャネルプレート内の電子はガラス管内壁
に衝突し、二次電子を放出させる。この過程が多数回繰
り返され、マイクロチャネルプレート17から多数の電
子が放出される。電子の増倍率は高圧電源21の出力電
圧により制御される。これらの電子を加速・収集するた
めシンチレータ9に高圧電源22によりマイクロチャネ
ルプレート後段電極18から数1000Vの電位差を与
えておく。マイクロチャネルプレート17から放出した
電子はシンチレータ9に衝突し光信号となる。この光信
号はライトガイド10を通って光電子増倍管11に伝送
される。光信号は光電子増倍管11により電流信号に変
換され増幅される。光電子増倍管11の利得制御は高圧
電源14の出力電圧を変化させることにより行う。光電
子増倍管11から出力される電流信号はプリアンプ12
により電圧信号に変換され、画像表示装置等に入力され
る。
【0014】二次イオンを検出する場合は、切り換えス
イッチ28を負電圧電源30側にしてマイクロチャネル
プレート前段電極16に−数1000〜−数100Vの
電圧を与え、試料表面から発生した二次イオンをマイク
ロチャネルプレート17に引き込む。引き込まれた二次
イオンはマイクロチャネルプレート17の内壁に衝突し
て二次電子を発生する。マイクロチャネルプレート後段
電極18は高圧電源21により、マイクロチャネルプレ
ート内で発生した二次電子を加速するよう高電圧が印加
されている。二次電子はガラス管内壁に衝突し、再び二
次電子を放出させる。この過程が多数回繰り返され、マ
イクロチャネルプレート17から多数の電子が放出され
る。電子の増倍率は高圧電源21の出力電圧により制御
される。これらの電子を加速・収集するためシンチレー
タ9に高圧電源22によりマイクロチャネルプレート後
段電極18から数1000Vの電位差を与えておく。マ
イクロチャネルプレート17から放出した電子はシンチ
レータ9に衝突し光信号となる。この光信号はライトガ
イド10を通って光電子増倍管11に伝送される。光信
号は光電子増倍管11により電流信号に変換され増幅さ
れる。光電子増倍管11の利得制御は高圧電源14の出
力電圧を変化させることにより行う。光電子増倍管11
から出力される電流信号はプリアンプ12により電圧信
号に変換され、画像表示装置等に入力される。
イッチ28を負電圧電源30側にしてマイクロチャネル
プレート前段電極16に−数1000〜−数100Vの
電圧を与え、試料表面から発生した二次イオンをマイク
ロチャネルプレート17に引き込む。引き込まれた二次
イオンはマイクロチャネルプレート17の内壁に衝突し
て二次電子を発生する。マイクロチャネルプレート後段
電極18は高圧電源21により、マイクロチャネルプレ
ート内で発生した二次電子を加速するよう高電圧が印加
されている。二次電子はガラス管内壁に衝突し、再び二
次電子を放出させる。この過程が多数回繰り返され、マ
イクロチャネルプレート17から多数の電子が放出され
る。電子の増倍率は高圧電源21の出力電圧により制御
される。これらの電子を加速・収集するためシンチレー
タ9に高圧電源22によりマイクロチャネルプレート後
段電極18から数1000Vの電位差を与えておく。マ
イクロチャネルプレート17から放出した電子はシンチ
レータ9に衝突し光信号となる。この光信号はライトガ
イド10を通って光電子増倍管11に伝送される。光信
号は光電子増倍管11により電流信号に変換され増幅さ
れる。光電子増倍管11の利得制御は高圧電源14の出
力電圧を変化させることにより行う。光電子増倍管11
から出力される電流信号はプリアンプ12により電圧信
号に変換され、画像表示装置等に入力される。
【0015】前述のように画像信号として、マイクロア
ンペア程度の電流信号が必要である。従って通常、検出
器の利得として1万〜100万倍程度が必要となる。マ
イクロチャネルプレートは利得1万倍〜100万倍程度
のものが市販されている。光電子増倍管は利得100万
倍程度のものが市販されている。マイクロチャネルプレ
ートの寿命は累積出力電流量で決まり、一般に10-2C
/cm2に達すると利得の低下が顕著になる。従ってマ
イクロチャネルプレートは利得を数〜数10程度に低く
設定し、光電子増倍管は利得を1万〜10万倍に設定し
て、マイクロチャネルプレートと光電子増倍管の利得の
積が1万〜100万倍程度になる様にして使用する。こ
のようにすればマイクロチャネルプレートの出力電流値
を低くして使用できるため、利得の低下が顕著になるま
での使用時間を延ばすことができる。
ンペア程度の電流信号が必要である。従って通常、検出
器の利得として1万〜100万倍程度が必要となる。マ
イクロチャネルプレートは利得1万倍〜100万倍程度
のものが市販されている。光電子増倍管は利得100万
倍程度のものが市販されている。マイクロチャネルプレ
ートの寿命は累積出力電流量で決まり、一般に10-2C
/cm2に達すると利得の低下が顕著になる。従ってマ
イクロチャネルプレートは利得を数〜数10程度に低く
設定し、光電子増倍管は利得を1万〜10万倍に設定し
て、マイクロチャネルプレートと光電子増倍管の利得の
積が1万〜100万倍程度になる様にして使用する。こ
のようにすればマイクロチャネルプレートの出力電流値
を低くして使用できるため、利得の低下が顕著になるま
での使用時間を延ばすことができる。
【0016】
【発明の効果】以上述べたように本発明によれば、絶縁
アンプを用いることなく、集束イオンビーム装置の二次
荷電粒子検出器の粒子取り込み口に印加する電圧の極性
を切り換えるだけで、二次イオン検出または二次電子検
出の切り換えが可能で、かつチャネル型電子増倍管の利
得特性の劣化無しに長時間使用することが可能な二次荷
電粒子検出器を実現できる。
アンプを用いることなく、集束イオンビーム装置の二次
荷電粒子検出器の粒子取り込み口に印加する電圧の極性
を切り換えるだけで、二次イオン検出または二次電子検
出の切り換えが可能で、かつチャネル型電子増倍管の利
得特性の劣化無しに長時間使用することが可能な二次荷
電粒子検出器を実現できる。
【図1】本発明の実施例を示す断面図である。
【図2】イオンビーム照射により固体試料表面から発生
する二次粒子を示す模式図である。
する二次粒子を示す模式図である。
【図3】Everhart−Thornley型検出器
の断面図を示す。
の断面図を示す。
【図4】マイクロチャネルプレートを使った二次電子検
出器の断面図を示す。
出器の断面図を示す。
【図5】マイクロチャネルプレートを使った二次イオン
検出器の断面図を示す。
検出器の断面図を示す。
1 集束イオンビーム 2 試料 3 二次電子 4 二次イオン 5 スパッタ中性粒子 6 高圧電源 7 外筒 8 高圧コロナリング 9 シンチレータ 10 ライトガイド 11 光電子増倍管 12 プリアンプ 13 画像表示装置 14 高圧電源 15 電場 16 マイクロチャネルプレート前段電極 17 マイクロチャネルプレート 18 マイクロチャネルプレート後段電極 19 アノード 20 高圧電源 21 高圧電源 22 高圧電源 23 絶縁アンプ 24 アンプ 25 高圧フィードスルー 26 負電圧電源 27 真空容器 28 切り換えスイッチ 29 正高圧電源 30 負高圧電源
Claims (3)
- 【請求項1】 集束イオンビーム装置で使用する二次荷
電粒子検出器を、チャネル型電子増倍管、シンチレータ
ー、ライトガイド、光電子増倍管で構成し、二次電子を
検出する時はチャネル型電子増倍管の粒子取り込み口電
極に正の高電圧を印加し、二次イオンを検出する時はチ
ャネル型電子増倍管の粒子取り込み口電極に負の高電圧
を印加し、チャネル型電子増倍管の出力をシンチレータ
で受け、その発光をライトガイドにより光電子増倍管に
導き電気信号に変換することを特徴とする二次荷電粒子
検出器。 - 【請求項2】 集束イオンビームを試料の所定領域に走
査させながら照射する集束イオンビーム照射系と、チャ
ネル型電子増倍管、シンチレーター、ライトガイド、光
電子増倍管で構成し、二次電子を検出する時はチャネル
型電子増倍管の粒子取り込み口電極に正の高電圧を印加
し、二次イオンを検出する時はチャネル型電子増倍管の
粒子取り込み口電極に負の高電圧を印加し、チャネル型
電子増倍管の出力をシンチレータで受け、その発光をラ
イトガイドにより光電子増倍管に導き電気信号に変換す
る二次荷電粒子検出器を備えたことを特徴とする集束イ
オンビーム装置。 - 【請求項3】 集束イオンビームを試料の所定領域に走
査させながら照射する集束イオンビーム照射系と、前記
試料のイオンビーム照射領域にほぼ局所的に有機化合物
蒸気を吹き付けるガス吹き付け装置と、チャネル型電子
増倍管、シンチレーター、ライトガイド、光電子増倍管
で構成し、二次電子を検出する時はチャネル型電子増倍
管の粒子取り込み口電極に正の高電圧を印加し、二次イ
オンを検出する時はチャネル型電子増倍管の粒子取り込
み口電極に負の高電圧を印加し、チャネル型電子増倍管
の出力をシンチレータで受け、その発光をライトガイド
により光電子増倍管に導き電気信号に変換する二次荷電
粒子検出器を備えたことを特徴とする集束イオンビーム
装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5240131A JPH0794132A (ja) | 1993-09-27 | 1993-09-27 | 二次荷電粒子検出器および集束イオンビーム装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5240131A JPH0794132A (ja) | 1993-09-27 | 1993-09-27 | 二次荷電粒子検出器および集束イオンビーム装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0794132A true JPH0794132A (ja) | 1995-04-07 |
Family
ID=17054964
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5240131A Pending JPH0794132A (ja) | 1993-09-27 | 1993-09-27 | 二次荷電粒子検出器および集束イオンビーム装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0794132A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2000514238A (ja) * | 1998-03-03 | 2000-10-24 | エテック システムズ インコーポレイテッド | 汎用走査型電子顕微鏡としての電子ビームマイクロカラム |
| CN117650032A (zh) * | 2023-11-08 | 2024-03-05 | 北京中科科仪股份有限公司 | 一种探头装置、二次电子探测器及扫描电镜 |
-
1993
- 1993-09-27 JP JP5240131A patent/JPH0794132A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2000514238A (ja) * | 1998-03-03 | 2000-10-24 | エテック システムズ インコーポレイテッド | 汎用走査型電子顕微鏡としての電子ビームマイクロカラム |
| CN117650032A (zh) * | 2023-11-08 | 2024-03-05 | 北京中科科仪股份有限公司 | 一种探头装置、二次电子探测器及扫描电镜 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| EP0314763B1 (en) | Secondary electron detector for use in a gaseous atmosphere | |
| US7119333B2 (en) | Ion detector for ion beam applications | |
| JPH0544133B2 (ja) | ||
| US20050230620A1 (en) | Secondary electron detector, especially in a scanning electron microscope | |
| EP0278034A1 (en) | Detector of charged particles | |
| JP5576406B2 (ja) | 荷電粒子線装置 | |
| US10037862B2 (en) | Charged particle detecting device and charged particle beam system with same | |
| Jacka et al. | A differentially pumped secondary electron detector for low‐vacuum scanning electron microscopy | |
| JP3270707B2 (ja) | イオン検出装置 | |
| JPH024441Y2 (ja) | ||
| US8237125B2 (en) | Particle detection system | |
| JPH07142022A (ja) | 集束イオンビーム装置及び荷電粒子検出器 | |
| US7242008B2 (en) | Bipolar ion detector | |
| US9076629B2 (en) | Particle detection system | |
| JP2002100316A (ja) | 低真空走査電子顕微鏡 | |
| JPH0580157A (ja) | イオン検出装置 | |
| JPH06289299A (ja) | 走査光電子顕微鏡 | |
| JP2001291485A (ja) | 走査電子顕微鏡 | |
| JPH05314946A (ja) | イオン検出装置 | |
| JPH02301949A (ja) | 二次荷電粒子検出方法 | |
| JPS6264042A (ja) | 荷電粒子等の検出器 | |
| JP2001272473A (ja) | ビームプロファイルモニタ |