JPH079556U - 温風式リフローはんだ付け装置 - Google Patents

温風式リフローはんだ付け装置

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JPH079556U
JPH079556U JP4098093U JP4098093U JPH079556U JP H079556 U JPH079556 U JP H079556U JP 4098093 U JP4098093 U JP 4098093U JP 4098093 U JP4098093 U JP 4098093U JP H079556 U JPH079556 U JP H079556U
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air
air passage
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hot air
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JP4098093U
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Inventor
千代士 奥原
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奥原電気株式会社
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 製品の品質向上と装置の小型化を図り得る温
風式リフローはんだ付け装置を提供する。 【構成】 リフロー炉の内部に温風を吹き込んではんだ
付けを行う温風式リフローはんだ付け装置において、温
風を上下方向に流通させるリフロー炉23と、電熱器2
4を内蔵した蓄熱装置26と、前記リフロー炉23と蓄
熱装置26を無端に接続する循環風路27と、前記循環
風路27を通して温風を循環させる通風機28,29
と、循環する温風の流量を調節すると共に循環風路27
の内外部を連通させる制御弁30,31と、所定の温度
プロファイルを実行するように前記制御弁30,31の
開度を制御する制御装置33とを備えたことを特徴とす
る。

Description

【考案の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】
本考案は、はんだ付作業の品質を向上し得る小型の温風式リフローはんだ付け 装置に関するものである。
【0002】
【従来の技術】
高密度の表面実装を可能にするため、プリント配線基板等の表面に温風を吹き 付け、基板表面に塗布したクリームはんだを溶融させて半導体チップ等の実装部 品を配線パターンにはんだ付けする温風式リフローはんだ付け装置が広く使用さ れている。
【0003】 図7は静止式又はバッチ式と呼ばれるもので、この装置は実装部品を仮付けし た基板、すなわちワーク1の搬入及び搬出操作を司る操作台2と、この操作台2 から搬入されたワーク1にはんだ付けを行うリフロー炉3と、このリフロー炉3 の内部に温風4を吹き込む温風発生機5等によって構成されており、この温風発 生機5の内部に配置した電熱器6の発生熱量を増大させると、温風の温度が上昇 し、ワーク表面のはんだを溶融させてはんだ付けを行うようにしている。
【0004】 しかし、この装置によると、温風の温度を迅速に変化させることができないた め、リフローはんだ付け作業の工作基準である温度プロファイル(後述する)を 忠実に実行することが困難であり、品質上に不安が残るという問題点があった。
【0005】 ここで、温度プロファイルの意義について説明すると、この温度プロファイル は図6に仮想線で示すように、基板上に分布する各種サイズの実装部品を均一 に加熱するため、基板の温度をクリームはんだの溶融点(183度c)より若干 低い温度(140〜160度c)で約60秒間予熱するプロセス7と、実装部 品の急激な温度上昇を抑制して熱障害を防止すると共に、緩慢な温度上昇による クリームはんだの乾燥・変質を防止するため、基板を毎秒2〜3度cの温度勾配 で昇温するプロセス8と、細部の溶着を完全に行うためワーク1を高温度(約 245度c)で約10秒間保持するプロセス9等を含んでおり、この温度プロフ ァイルに従って基板の温度を上昇させると品質の良いはんだ付け作業を行うこと ができる。
【0006】 また別の装置として図8に示すコンベア式と呼ばれるものがある。この装置は 多数のワーク1,1,1…を連続的に搬送するコンベア10と、このコンベア1 0上を移動するワーク1を異なる温度の雰囲気に曝して加熱する4基の加熱炉1 2,13,14,15等によって構成されており、各加熱炉12,13,14, 15内の雰囲気温度とコンベア10の搬送速度を適正に選定すると、所定の温度 プロファイルをほぼ忠実に実行することが可能になり、品質の良いはんだ付け作 業を行うことができる。
【0007】 しかし、コンベア式の装置には次に述べるような問題点があった。 (1) この装置は連続生産を行うので、大量生産には有利であるが、多種少 量生産には不利である。 すなわち装置の外形寸法が大きいため(装置の全長は4〜5メートルである) 、冷態起動する際の準備時間が長く(30〜50分を必要とする)、また製造費 も高価になるためである。
【0008】 (2) ワーク1が加熱炉12,13,14,15内を移動するので、ワーク 1の温度を直接検出するのが困難であり、その代わりに温風の温度を検出するの で、温度プロファイルを実行する際の温度の把握が不正確である。
【0009】
【考案が解決しようとする課題】
本考案は前記の問題点に鑑み、所定の温度プロファイルを忠実に実行すること によって製品の品質を向上させると共に、装置を小型に構成することによって製 造費を大幅に低減できる温風式リフローはんだ付け装置を提供することを課題と する。
【0010】
【課題を解決するための手段】
前記の課題を解決するため、本考案では次の手段を構成した。 (請求項1) リフロー炉の内部に温風を吹き込んではんだ付けを行う温風式 リフローはんだ付け装置において、温風を上下方向に流通させるリフロー炉と、 電熱器を内蔵した蓄熱装置と、前記リフロー炉と蓄熱装置を無端に接続する循環 風路と、前記循環風路を通して温風を循環させる通風機と、循環する温風の流量 を調節すると共に循環風路の内外部を連通させる制御弁と、所定の温度プロファ イルを実行するように前記制御弁の開度を制御する制御装置とを備えたことを特 徴とする温風式リフローはんだ付け装置。 (請求項2) リフロー炉と蓄熱装置と循環風路を含む循環系統を半密閉構造 のケーシングの内部に配置し、前記ケーシング内の雰囲気温度を調節する温度調 節装置を設けている請求項1に記載の温風式リフローはんだ付け装置。
【0011】
【作用】
(1) 温風が蓄熱装置と循環風路の内部に充満しているので、ワークを加熱 する熱源の蓄熱量が大きく、また制御弁が温風の流量を制御すると共に、循環風 路の内外部を連通して循環風路内の温風を外部に排出したり、あるいは冷たい外 気を循環風路内に取り込むので、ワークに対する供給熱量を大幅に且つ迅速に変 化させることができる。
【0012】 (2) 前記(1)項の結果、所定の温度プロファイルに従ってはんだ付け作 業を行うことが可能になり、製品の品質を向上させることができる。
【0013】 (3) 基板の加熱・冷却は単一のリフロー炉で行われるので、装置の外形寸 法を小型に構成することが可能になり、製造費を大幅に低減することができる。
【0014】 (4) 請求項2によると、リフロー炉及び蓄熱装置等はその周辺が窒素等の 不活性ガス又は空気のバリヤーで包囲されるので、放熱ロスを最小限に抑制する ことが可能になり、熱エネルギーを節約することができる。
【0015】
【実施例】
以下、本考案の実施例を図面に基づいて説明する。図1ないし図6は本考案の 一実施例を示すもので、この実施例の主要部は、上部と下部に温風の供給口21 及び排出口22を設けた中空構造のリフロー炉23と、大型の容器60の内部に 電熱器24及び押込み通風機25を配置した蓄熱装置26と、リフロー炉23及 び蓄熱装置26を無端に接続する循環風路27と、この循環風路27を通して温 風を循環させる通風機28,29と、循環風路27を循環する温風の流量及び温 度を変化させる制御弁30,31と、所定の温度プロファイルを実行するように 前記制御弁30,31の開度を制御する制御装置33と、この制御装置33を除 く循環系統、すなわちリフロー炉23、蓄熱装置26、循環風路27等からなる 循環系統を収容する半密閉構造のケーシング34等によって構成されており、前 記制御弁30,31は循環風路のリフロー炉入口側及び出口側の部分に配置され ている。
【0016】 尚、ケーシング34の上部には、図2に示すようにケーシング34内の温度を 常温(約30度c)に保持する温度調節装置35が、またケーシング34の側部 には蓋41を有する密閉構造の準備室37が配置されており、この準備室37の 内部にパレット36が収容されている。 パレット36はワーク32を炉内に搬入及び搬出するためのもので、公知の搬 送機構(図示せず)の上部に移動可能に配置されている。
【0017】 リフロー炉23は水平方向の断面積が中央部で最も大きく、また上下方向に先 細りするように長方体の上下に截頭四角錐を重ねた形状をしており、上半部の正 面側にはビューポート38が設けられている。尚、ケーシング34の正面側にも ビューポート39が設けられており、この2つのビューポート38,39を透し て作業者がはんだ付け作業の進行状況を観察できるようになっている。
【0018】 またリフロー炉23の準備室側のほぼ中央部には、図2に示すようにヒンジ4 0を介して矢印g方向に開閉する電動機駆動の扉42が設けられている。この扉 42はワーク32の搬入及び搬出時のみ解放し、それ以外は閉鎖するようになっ ており、はんだ付け作業中、温風が炉外に洩出するのを防止している。
【0019】 蓄熱装置26を構成する大型の容器60の内容積はリフロー炉23のそれの5 〜6倍に設定されており、運転中、電熱器24がつくり出した高温度(約600 度c)の不活性ガス(窒素ガス)又は空気が蓄熱装置26の内部に充満している 。
【0020】 制御弁30,31は図4に示すように、3個のポート43,44,45を有す る本体51と、3個の開口46,47,48を有し且つ軸49の周りに回動する 弁体50とを組み合わせたロータリー式のバルブであり、図示の位置から弁体5 0が矢印a方向に回動すると循環風路27内の流量が図5に矢印eで示すように 減少し、弁体50が45度回動すると流量がゼロになる。
【0021】 そして、更に弁体50が回動すると、本体51のポート43,45が連通して 図4に矢印cで示すように循環風路27内の温風が外部に放出される。この放出 量は弁体50の回動角度の増大に伴って図5の矢印fに示すように増大し、弁体 が90度回動すると最大値に達する。
【0022】 また、弁体50が図4の位置から矢印b方向に回動すると、循環風路27を流 れる温風の流量が図5に矢印eで示すように減少し、弁体が45度回動すると流 量がゼロになる。 そして、更に弁体50が回動すると本体51のポート44,45が連通して図 4に矢印dで示すように外気が循環風路27の内部に吸入される。この吸入量は 弁体50の回動角度の増大に伴って図5の矢印fで示すように増大し、弁体50 が90度回動すると最大値に達する。
【0023】 尚、この実施例における制御弁30は、流量を絞ると弁体50が矢印a方向に 回動するものを使用し、制御弁31には矢印b方向に回動するものを使用する。
【0024】 制御装置33は所定の温度プロファイルに従って時々刻々変化する温度及びそ の時点における温度勾配を設定値として出力する設定部52(図1参照)と、基 板表面の温度を検出する温度センサー53と、この温度センサー53が検出した 温度信号を設定部52から入力した温度信号と比較すると共に、同じく設定部5 2から入力した温度勾配の設定信号をその時点における基板の温度勾配の実績値 と比較し、その差がゼロになるように制御弁30,31に対して制御信号h,i を発生する制御部54と、操作盤55等によって構成されている。
【0025】 尚、設定部52と制御部54は図2に示すように、準備室37の下方に配置さ れており、また操作盤55は図3に示すようにケーシング34の正面側に且つビ ューポート39の下方に位置するように配置されている。 尚、図中の56は通風機28,29を駆動する電動機、57は扉42を開閉駆 動する電動機である。
【0026】 次に、このはんだ付け装置の取扱要領及び作動について説明する。先ず、真空 ポンプ(図示せず)を用いて蓄熱装置26、循環風路27の内部及びケーシング 34の内部の空気を吸引し、その代わりに窒素ガスを封入する。
【0027】 次に、蓄熱装置内の電熱器24及び通風機28,29,25を起動して温風を 循環させ、約10分間、煖機運転を行うと共に蓄熱装置26の内部に約600度 cの窒素ガスを充満させる。また、温度調節装置35を起動してケーシング34 の内部の窒素ガスの温度を約30度cに整定させる。
【0028】 以上ではんだ付け作業の準備が完了するので、準備室37のパレット36上に ワーク32を載せ、ワーク32をパレット36と共に炉内に搬入し、操作盤55 上のスタートボタン(図示せず)を押す。
【0029】 この操作によって制御装置33が作動する。すなわち設定部52は時々刻々変 化する温度及び温度勾配の設定値を制御部54に出力する。一方、この設定値を 受け取った制御部54は、その設定値とその時点における基板の温度及び温度勾 配の実績値を比較してその差がゼロになるように制御弁30,31の開度を制御 する。
【0030】 この開度の変化によって制御弁30,31は図5に示すように流量が変化する 。すなわち弁開度がプラス側に増大すると流量が増大する。この際、高温の窒素 ガスが蓄熱容器26及び循環風路27等の内部に充満しており、熱源の蓄熱量が 大きいので、ワークに対する供給熱量を迅速に増大させることができる。
【0031】 また弁開度がマイナス側に増大すると、一方の制御弁30はポート43と45 が連通して高温の窒素ガスをケーシング34の内部に排出し、排出された窒素ガ スは温度調節装置35によってほぼ常温(約30度c)に近い値に冷却される。 この際、他方の制御弁31はポート44と45が連通してケーシング34内の 冷却した窒素ガスを循環風路27の内部に取り込む。従って、取り込んだ低温の 窒素ガスが循環風路内の高温の窒素ガスと混合して窒素ガスの温度を急速に低下 させる。
【0032】 尚、この操作をはんだ付け終了後、ワークを冷却する際に適用すると、冷却速 度を最適に設定することが可能になり、1バッチのサイクルタイムを最小限に短 縮することができる。
【0033】 基板の昇温経過曲線58を図6に実線で示す。 この曲線58は所定の温度プロファイル(仮想線参照)に接近しているので、 品質の良いはんだ付け作業を行うことができる。
【0034】 尚、本考案は前述の実施例にのみ限定されるものではなく、例えば、窒素ガス の代わりに空気を使用してもよく、この場合は半密閉構造のケーシング及び温度 調節装置を省略しても差し支えない等、その他本考案の要旨を逸脱しない範囲内 で種々の変更を加え得ることは勿論である。
【0035】
【考案の効果】
以上に述べたように本考案は次の優れた効果を発揮する。 (1) 温風が蓄熱装置と循環風路の内部に充満しているので、ワークを加熱 する熱源の蓄熱量が大きく、また制御弁が温風の流量を制御すると共に、循環風 路の内外部を連通して循環風路内の温風を外部に排出したり、あるいは、冷たい 外気を循環風路内に取り込むので、ワークに対する供給熱量を大幅に且つ迅速に 変化させることができる。
【0036】 (2) 前記(1)項の結果、所定の温度プロファイルに従ってはんだ付け作 業を行うことが可能になり、製品の品質を向上させることができる。 (3) 基板の加熱・冷却は単一のリフロー炉で行われるので、装置の外形寸 法を小型に構成することが可能になり、製造費を大幅に低減することができる。
【0037】 (4) 請求項2によると、リフロー炉及び蓄熱装置等はその周辺が窒素等の 不活性ガス又は空気のバリヤーで包囲されるので、放熱ロスを最小限に抑制する ことが可能になり、熱エネルギーを節約することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本考案の実施例を示すブロック図である。
【図2】図1に示す実施例の切断正面図である。
【図3】図2における III−III 方向からの矢視図であ
る。
【図4】制御弁の構造原理を示す切断平面図である。
【図5】図4に示す制御弁の作用を説明する図である。
【図6】標準の温度プロファイルと実施例の装置の作動
を説明する図である。
【図7】従来の温風式リフローはんだ付け装置の概要を
示す切断側面図である。
【図8】従来の別の温風式リフローはんだ付け装置の概
要を示す切断側面図である。
【符号の説明】
23 リフロー炉 26 蓄熱装置 27 循環風路 28,29 通風機 30,31 制御弁 32 ワーク 33 制御装置 34 ケーシング 35 温度調節装置

Claims (2)

    【実用新案登録請求の範囲】
  1. 【請求項1】 リフロー炉の内部に温風を吹き込んでは
    んだ付けを行う温風式リフローはんだ付け装置におい
    て、温風を上下方向に流通させるリフロー炉と、電熱器
    を内蔵した蓄熱装置と、前記リフロー炉と蓄熱装置を無
    端に接続する循環風路と、前記循環風路を通して温風を
    循環させる通風機と、循環する温風の流量を調節すると
    共に循環風路の内外部を連通させる制御弁と、所定の温
    度プロファイルを実行するように前記制御弁の開度を制
    御する制御装置とを備えたことを特徴とする温風式リフ
    ローはんだ付け装置。
  2. 【請求項2】 リフロー炉と蓄熱装置と循環風路を含む
    循環系統を半密閉構造のケーシングの内部に配置し、前
    記ケーシング内の雰囲気温度を調節する温度調節装置を
    設けている請求項1に記載の温風式リフローはんだ付け
    装置。
JP4098093U 1993-07-28 1993-07-28 温風式リフローはんだ付け装置 Pending JPH079556U (ja)

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5194388U (ja) * 1975-01-28 1976-07-29
JPS5481070U (ja) * 1977-11-21 1979-06-08

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5194388U (ja) * 1975-01-28 1976-07-29
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