JPH0797432A - エポキシ樹脂組成物及びこのエポキシ樹脂組成物を用いた光半導体装置 - Google Patents
エポキシ樹脂組成物及びこのエポキシ樹脂組成物を用いた光半導体装置Info
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- JPH0797432A JPH0797432A JP5243481A JP24348193A JPH0797432A JP H0797432 A JPH0797432 A JP H0797432A JP 5243481 A JP5243481 A JP 5243481A JP 24348193 A JP24348193 A JP 24348193A JP H0797432 A JPH0797432 A JP H0797432A
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Landscapes
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
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- Structures Or Materials For Encapsulating Or Coating Semiconductor Devices Or Solid State Devices (AREA)
- Light Receiving Elements (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 透明性が高く、耐熱性、光学的均一性に優
れ、かつ速硬化性を有する光半導体封止用エポキシ樹脂
組成物を提供する。 【構成】 ビスフェノールA型エポキシ樹脂、トリグリ
シジルイソシアヌレート及びブロム化エポキシ樹脂から
なる混合物を主体とするエポキシ樹脂、硬化剤、硬化促
進剤に、R1 xR2 y(R3S)zP(但し、R1、R2、R3
は、アルキル基、フェニル基、アルコキシル基、フェノ
キシ基、ベンジル基を表し、Sはイオウを表し、Pはリ
ンを表す。また、x及びyは、0、1又は2、zは、
1、2又は3かつ、x+y+z=3である。)で表され
る含イオウリン化合物を配合する。
れ、かつ速硬化性を有する光半導体封止用エポキシ樹脂
組成物を提供する。 【構成】 ビスフェノールA型エポキシ樹脂、トリグリ
シジルイソシアヌレート及びブロム化エポキシ樹脂から
なる混合物を主体とするエポキシ樹脂、硬化剤、硬化促
進剤に、R1 xR2 y(R3S)zP(但し、R1、R2、R3
は、アルキル基、フェニル基、アルコキシル基、フェノ
キシ基、ベンジル基を表し、Sはイオウを表し、Pはリ
ンを表す。また、x及びyは、0、1又は2、zは、
1、2又は3かつ、x+y+z=3である。)で表され
る含イオウリン化合物を配合する。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は透明性が高く、耐熱性、
光学的均一性に優れ、かつ速硬化性を有するエポキシ樹
脂組成物及びこのエポキシ樹脂の硬化物で封止された光
半導体装置にに関するものである。
光学的均一性に優れ、かつ速硬化性を有するエポキシ樹
脂組成物及びこのエポキシ樹脂の硬化物で封止された光
半導体装置にに関するものである。
【0002】
【従来の技術】発光素子および受光素子封止用には、透
明性の優れた酸無水物硬化系のエポキシ樹脂組成物が使
用されている。例えばトランスファ成形用のエポキシ樹
脂組成物においては、硬化剤として、テトラヒドロ無水
フタル酸やヘキサヒドロ無水フタル酸等の二塩基酸無水
物が使用されている(特開平1−167359号公報、
特開平2−222165号公報参照)。
明性の優れた酸無水物硬化系のエポキシ樹脂組成物が使
用されている。例えばトランスファ成形用のエポキシ樹
脂組成物においては、硬化剤として、テトラヒドロ無水
フタル酸やヘキサヒドロ無水フタル酸等の二塩基酸無水
物が使用されている(特開平1−167359号公報、
特開平2−222165号公報参照)。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、一般の
エポキシ樹脂組成物は、透明性に関しては使用可能な水
準にあるものの、150℃におけるトランスファ成形に
3〜5分間を要し、成形サイクルが長いという問題があ
った。また、耐熱性、光学的均一性の点においても必ず
しも満足できるレベルとは言い難かった。本発明の目的
は、透明性が高く、耐熱性、光学的均一性に優れ、かつ
速硬化性を有するエポキシ樹脂組成物及びこのエポキシ
樹脂の硬化物で封止された光半導体装置を提供すること
にある。
エポキシ樹脂組成物は、透明性に関しては使用可能な水
準にあるものの、150℃におけるトランスファ成形に
3〜5分間を要し、成形サイクルが長いという問題があ
った。また、耐熱性、光学的均一性の点においても必ず
しも満足できるレベルとは言い難かった。本発明の目的
は、透明性が高く、耐熱性、光学的均一性に優れ、かつ
速硬化性を有するエポキシ樹脂組成物及びこのエポキシ
樹脂の硬化物で封止された光半導体装置を提供すること
にある。
【0004】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、速硬化性
に着目し鋭意研究を重ねる中で、単純に硬化促進剤の種
類を変えたり、また添加量を増量しただけではトランス
ファ成形時の熱時硬度がさほど向上せず、短時間成形は
困難であり、むしろ光透過率やポットライフを低下させ
るという知見を得た。一方、多官能(3官能以上)の樹
脂と硬化剤を使用すると短時間成形が可能になる見通し
を得たが、この場合急激な硬化反応により光学的均一性
が著しく損なわれたり、硬化物が着色しやすくなること
が分かった。
に着目し鋭意研究を重ねる中で、単純に硬化促進剤の種
類を変えたり、また添加量を増量しただけではトランス
ファ成形時の熱時硬度がさほど向上せず、短時間成形は
困難であり、むしろ光透過率やポットライフを低下させ
るという知見を得た。一方、多官能(3官能以上)の樹
脂と硬化剤を使用すると短時間成形が可能になる見通し
を得たが、この場合急激な硬化反応により光学的均一性
が著しく損なわれたり、硬化物が着色しやすくなること
が分かった。
【0005】そこで本発明者らは硬化促進剤を増加させ
ずに、速硬化性を有し、熱時硬度を向上するための組成
を種々検討した結果、エポキシ樹脂としてビスフェノー
ルA型エポキシ樹脂、ブロム化エポキシ樹脂および3官
能エポキシ樹脂であるトリグリシジルイソシアヌレート
を併用するのが効果的であることをつきとめた。
ずに、速硬化性を有し、熱時硬度を向上するための組成
を種々検討した結果、エポキシ樹脂としてビスフェノー
ルA型エポキシ樹脂、ブロム化エポキシ樹脂および3官
能エポキシ樹脂であるトリグリシジルイソシアヌレート
を併用するのが効果的であることをつきとめた。
【0006】更に、この系の着色を防止し、なおかつ硬
化促進機能を有する化合物について研究を重ねた結果、
特定の含イオウリン化合物を使用することによって透明
性を損なわずに耐熱性、光学的均一性に優れ、かつ速硬
化性を有する光半導体封止用エポキシ樹脂組成物が得ら
れることが分かり、本発明に到達したのである。
化促進機能を有する化合物について研究を重ねた結果、
特定の含イオウリン化合物を使用することによって透明
性を損なわずに耐熱性、光学的均一性に優れ、かつ速硬
化性を有する光半導体封止用エポキシ樹脂組成物が得ら
れることが分かり、本発明に到達したのである。
【0007】すなわち、本発明のエポキシ樹脂組成物
は、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、トリグリシジル
イソシアヌレート及び一般式が化3で表されるブロム化
エポキシ樹脂からなる混合物を主体とするエポキシ樹
脂、硬化剤、硬化促進剤及び一般式化4で表される含イ
オウリン化合物を含むことを特徴とする。
は、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、トリグリシジル
イソシアヌレート及び一般式が化3で表されるブロム化
エポキシ樹脂からなる混合物を主体とするエポキシ樹
脂、硬化剤、硬化促進剤及び一般式化4で表される含イ
オウリン化合物を含むことを特徴とする。
【0008】
【化3】 (但し、化3において、n=0.1〜1.0である)
【0009】
【化4】R1 xR2 y(R3S)zP (但し、化4において、R1、R2、R3は、アルキル
基、フェニル基、アルコキシル基、フェノキシ基、ベン
ジル基を表し、Sはイオウを表し、Pはリンを表す。ま
た、x及びyは、0、1又は2、zは、1、2、又は
3、かつ、x+y+z=3である。)
基、フェニル基、アルコキシル基、フェノキシ基、ベン
ジル基を表し、Sはイオウを表し、Pはリンを表す。ま
た、x及びyは、0、1又は2、zは、1、2、又は
3、かつ、x+y+z=3である。)
【0010】ビスフェノールA型エポキシ樹脂は、ベー
ス樹脂として機能するものであり、常温で固体であれば
いかなる分子量のものも使用できる。トリグリシジルイ
ソシアヌレートは、耐熱性、透明性、速硬化性を向上す
るために使用されるものである。一般式化1で表される
ブロム化エポキシ樹脂は、熱時硬度、光学的均一性を付
与するために用いられる。
ス樹脂として機能するものであり、常温で固体であれば
いかなる分子量のものも使用できる。トリグリシジルイ
ソシアヌレートは、耐熱性、透明性、速硬化性を向上す
るために使用されるものである。一般式化1で表される
ブロム化エポキシ樹脂は、熱時硬度、光学的均一性を付
与するために用いられる。
【0011】これらのエポキシ樹脂の混合割合は重量比
で、ビスフェノールA型エポキシ樹脂:ブロム化エポキ
シ樹脂:トリグリシジルイソシアヌレート=80:1
0:10〜10:50:40の範囲に設定されている必
要がある。この範囲を外れると、本発明の特徴が損なわ
れるからである。
で、ビスフェノールA型エポキシ樹脂:ブロム化エポキ
シ樹脂:トリグリシジルイソシアヌレート=80:1
0:10〜10:50:40の範囲に設定されている必
要がある。この範囲を外れると、本発明の特徴が損なわ
れるからである。
【0012】本発明で用いる硬化剤は、従来公知のもの
でよく、とくに制限はない。ただし、光学特性を確保す
るために酸無水物を使用するのが好ましく、例えば、無
水フタル酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸、テトラヒドロ
無水フタル酸、無水コハク酸などが好適に使用される。
酸無水物の配合量はエポキシ樹脂に対して0.7〜1.
2当量、好ましくは0.8〜1.1当量となるように配
合する必要がある。この範囲を外れると、反応が不十分
となり硬化体の物性が低下するためである。
でよく、とくに制限はない。ただし、光学特性を確保す
るために酸無水物を使用するのが好ましく、例えば、無
水フタル酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸、テトラヒドロ
無水フタル酸、無水コハク酸などが好適に使用される。
酸無水物の配合量はエポキシ樹脂に対して0.7〜1.
2当量、好ましくは0.8〜1.1当量となるように配
合する必要がある。この範囲を外れると、反応が不十分
となり硬化体の物性が低下するためである。
【0013】本発明で用いる硬化促進剤は、従来公知の
ものでよく、例えばイミダゾール類、三級アミン、四級
アンモニウム塩、四級ホスホニウム塩、ジアザビシクロ
ウンデセン及びその塩などが例示される。硬化促進剤の
配合量は、エポキシ樹脂と硬化剤との合計量に対して
0.1〜5重量%にすればよい。
ものでよく、例えばイミダゾール類、三級アミン、四級
アンモニウム塩、四級ホスホニウム塩、ジアザビシクロ
ウンデセン及びその塩などが例示される。硬化促進剤の
配合量は、エポキシ樹脂と硬化剤との合計量に対して
0.1〜5重量%にすればよい。
【0014】本発明では、一般式化4で表される含イオ
ウリン化合物を含むことを必須とする。この含イオウリ
ン化合物は、亜リン酸エステル類の一種であり、酸化防
止機能を有するので、加熱硬化時に樹脂が黄変するのを
防止する。更に、硬化剤として酸無水物を用い、かつ硬
化促進剤を併用する系においては、イオウ原子が酸無水
物基を開環する作用を有するため、硬化反応を促進す
る。
ウリン化合物を含むことを必須とする。この含イオウリ
ン化合物は、亜リン酸エステル類の一種であり、酸化防
止機能を有するので、加熱硬化時に樹脂が黄変するのを
防止する。更に、硬化剤として酸無水物を用い、かつ硬
化促進剤を併用する系においては、イオウ原子が酸無水
物基を開環する作用を有するため、硬化反応を促進す
る。
【0015】含イオウリン化合物を具体的に例示する
と、トリスラウリルチオフオスファイト、トリスプロピ
ルチオフオスファイト、トリスメチルチオフオスファイ
ト、トリスフェノキシチオフオスファイト、トリスフェ
ニルチオフオスファイト、トリスベンジルチオフオスフ
ァイト、ビスプロピオチオフオスファイト、ビスノニル
チオメチルフオスファイト、メチルエチルチオブチルフ
オスファイト、メチルノニルチオブチルフオスファイ
ト、メチルノニルチオラウリルフオスファイト、ペンチ
ルノニルチオラウリルフオスファイト、トリスステアリ
ルチオフオスファイトなどが挙げられる。
と、トリスラウリルチオフオスファイト、トリスプロピ
ルチオフオスファイト、トリスメチルチオフオスファイ
ト、トリスフェノキシチオフオスファイト、トリスフェ
ニルチオフオスファイト、トリスベンジルチオフオスフ
ァイト、ビスプロピオチオフオスファイト、ビスノニル
チオメチルフオスファイト、メチルエチルチオブチルフ
オスファイト、メチルノニルチオブチルフオスファイ
ト、メチルノニルチオラウリルフオスファイト、ペンチ
ルノニルチオラウリルフオスファイト、トリスステアリ
ルチオフオスファイトなどが挙げられる。
【0016】これらは、単独でも2種以上を混合して用
いてもよい。配合量は、エポキシ樹脂と硬化剤の合計量
に対して0.05〜5.0%、より好ましくは0.1〜
1.5%の範囲とする。この範囲を下回った場合、着色
防止効果、硬化促進効果が乏しく本発明の目的を達成出
来ない。逆にこの範囲を上回った場合、着色防止機能、
硬化促進機能はさほど向上せず、むしろ耐熱性、透明性
の低下を招くからである。
いてもよい。配合量は、エポキシ樹脂と硬化剤の合計量
に対して0.05〜5.0%、より好ましくは0.1〜
1.5%の範囲とする。この範囲を下回った場合、着色
防止効果、硬化促進効果が乏しく本発明の目的を達成出
来ない。逆にこの範囲を上回った場合、着色防止機能、
硬化促進機能はさほど向上せず、むしろ耐熱性、透明性
の低下を招くからである。
【0017】なお、上記光エポキシ樹脂組成物には、上
記各成分以外に必要に応じて離型剤、酸化防止剤、着色
剤、変性剤、充填剤等の従来公知の添加剤が用いられ
る。
記各成分以外に必要に応じて離型剤、酸化防止剤、着色
剤、変性剤、充填剤等の従来公知の添加剤が用いられ
る。
【0018】
【実施例】本発明を実施例により、さらに詳細に説明す
るが、本発明はこれに限定されるものではない。表1に
示すとおり各原料を配合し、80℃〜90℃の熱ロール
にて10〜20分間混練後、冷却粉砕し、目的とする微
粉末状のエポキシ樹脂組成物を得た。
るが、本発明はこれに限定されるものではない。表1に
示すとおり各原料を配合し、80℃〜90℃の熱ロール
にて10〜20分間混練後、冷却粉砕し、目的とする微
粉末状のエポキシ樹脂組成物を得た。
【0019】
【表1】 *1:三井石油化学工業株式会社製ビスフェノールA型
エポキシ樹脂 *2:日産化学工業株式会社製トリグリシジルイソシア
ヌレート *3:旭化成工業株式会社製ブロム化エポキシ樹脂 *4:新日本理化株式会社製テトラヒドロ無水フタル酸 *5:Amoco Chemcal社製無水ピロメリッ
ト酸 *6:城北化学株式会社製トリスラウリルトリチオフオ
スファイト *7:四国化成株式会社製イミダゾール
エポキシ樹脂 *2:日産化学工業株式会社製トリグリシジルイソシア
ヌレート *3:旭化成工業株式会社製ブロム化エポキシ樹脂 *4:新日本理化株式会社製テトラヒドロ無水フタル酸 *5:Amoco Chemcal社製無水ピロメリッ
ト酸 *6:城北化学株式会社製トリスラウリルトリチオフオ
スファイト *7:四国化成株式会社製イミダゾール
【0020】これらの樹脂組成物を、各種金型を用い
て、成形温度150℃、成形時間60秒、成形圧力7M
Paトランスファ成形し、さらに150℃で4時間アフ
タキュアした。得られた各種成形品について、次のよう
にして特性を調べた。その結果を表2示す。 (1)光透過率 分光光度計(株式会社 日立製作所製 U−2000
型)を使用し、厚さ2mmの試料について波長570m
mにおける光透過率を測定した。 (2)ガラス転移温度 直径4mm、厚さ20mmの試料についてTMA(理学
電機株式会社製PTC−10A型)を用い、5℃/分で
昇温したときの試料の伸びが急変する温度とした。 (3)光学ムラ 直径50mm、厚さ2mmの試料の試料について光学顕
微鏡(倍率:100倍)により試料内部の樹脂流動跡の
有無を観察した。樹脂流動跡のないものを○、有るもの
を×で表示した。 (4)熱時硬度 縦128mm、横12.7mm、厚さ4mmの金型を用
い、成形温度150℃成形時間60秒、成形圧力7MP
aの条件で成形し、金型解放10秒後に成形品表面をシ
ョアA硬度計で測定した。 (5)速硬化性 熱時硬度測定用試料を成形した際に、成形品およびカル
(厚さ5mm)の硬化性(型からの離型性)を下記のご
とく評価した。 A−−−成形品、カルとも離型性良 B−−−成形品離型性良、カル未硬化(離型不良) C−−−成形品、カルとも離型不良
て、成形温度150℃、成形時間60秒、成形圧力7M
Paトランスファ成形し、さらに150℃で4時間アフ
タキュアした。得られた各種成形品について、次のよう
にして特性を調べた。その結果を表2示す。 (1)光透過率 分光光度計(株式会社 日立製作所製 U−2000
型)を使用し、厚さ2mmの試料について波長570m
mにおける光透過率を測定した。 (2)ガラス転移温度 直径4mm、厚さ20mmの試料についてTMA(理学
電機株式会社製PTC−10A型)を用い、5℃/分で
昇温したときの試料の伸びが急変する温度とした。 (3)光学ムラ 直径50mm、厚さ2mmの試料の試料について光学顕
微鏡(倍率:100倍)により試料内部の樹脂流動跡の
有無を観察した。樹脂流動跡のないものを○、有るもの
を×で表示した。 (4)熱時硬度 縦128mm、横12.7mm、厚さ4mmの金型を用
い、成形温度150℃成形時間60秒、成形圧力7MP
aの条件で成形し、金型解放10秒後に成形品表面をシ
ョアA硬度計で測定した。 (5)速硬化性 熱時硬度測定用試料を成形した際に、成形品およびカル
(厚さ5mm)の硬化性(型からの離型性)を下記のご
とく評価した。 A−−−成形品、カルとも離型性良 B−−−成形品離型性良、カル未硬化(離型不良) C−−−成形品、カルとも離型不良
【0021】
【表2】
【0022】上記の結果から、次のことがわかる。 1.本発明になるエポキシ樹脂組成物の硬化物は、光透
過率が比較例2の硬化物と同等以上で、耐熱性、光学的
均一性及び速硬化性はこれよりも優れている。 2.四塩基酸無水物を硬化剤とした比較例3の硬化物
と、速硬化性及び耐熱性が同等で、光透過率及び光学的
均一性はそれよりも優れている。 3.含イオウリン化合物を用いない比較例1の樹脂組成
物の硬化物と比較すると、光透過率、速硬化性、光学的
均一性共に優れている。
過率が比較例2の硬化物と同等以上で、耐熱性、光学的
均一性及び速硬化性はこれよりも優れている。 2.四塩基酸無水物を硬化剤とした比較例3の硬化物
と、速硬化性及び耐熱性が同等で、光透過率及び光学的
均一性はそれよりも優れている。 3.含イオウリン化合物を用いない比較例1の樹脂組成
物の硬化物と比較すると、光透過率、速硬化性、光学的
均一性共に優れている。
【0023】次に、上記各実施例のエポキシ樹脂組成物
を用いて、受光素子を封止した。得られた光半導体装置
は、耐熱性、光学的均一性が高く、信頼性の高いもので
あった。
を用いて、受光素子を封止した。得られた光半導体装置
は、耐熱性、光学的均一性が高く、信頼性の高いもので
あった。
【0024】
【発明の効果】本発明によれば、光透過性、耐熱性、光
学的均一性に優れ、かつ速硬化性を有するエポキシ樹脂
組成物を提供することができ、このエポキシ樹脂組成物
で封止することにより信頼性の高い光半導体装置を得る
ことができる。
学的均一性に優れ、かつ速硬化性を有するエポキシ樹脂
組成物を提供することができ、このエポキシ樹脂組成物
で封止することにより信頼性の高い光半導体装置を得る
ことができる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 C08L 63/00 NJW NKW H01L 23/24 31/02
Claims (3)
- 【請求項1】 ビスフェノールA型エポキシ樹脂、トリ
グリシジルイソシアヌレート及び一般式が化1で表され
るブロム化エポキシ樹脂からなる混合物を主体とするエ
ポキシ樹脂、硬化剤、硬化促進剤及び一般式化2で表さ
れる含イオウリン化合物を含むことを特徴とするエポキ
シ樹脂組成物。 【化1】 (但し、化1において、n=0.1〜1.0である) 【化2】R1 xR2 y(R3S)zP (但し、化2において、R1、R2、R3は、アルキル
基、フェニル基、アルコキシル基、フェノキシ基、ベン
ジル基を表し、Sはイオウを表し、Pはリンを表す。ま
た、x及びyは、0、1又は2、zは、1、2又は3、
かつ、x+y+z=3である。) - 【請求項2】 硬化剤として、酸無水物を配合した請求
項1記載のエポキシ樹脂組成物。 - 【請求項3】 請求項1又は2記載のエポキシ樹脂で素
子を封止してなる光半導体装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5243481A JPH0797432A (ja) | 1993-09-30 | 1993-09-30 | エポキシ樹脂組成物及びこのエポキシ樹脂組成物を用いた光半導体装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5243481A JPH0797432A (ja) | 1993-09-30 | 1993-09-30 | エポキシ樹脂組成物及びこのエポキシ樹脂組成物を用いた光半導体装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0797432A true JPH0797432A (ja) | 1995-04-11 |
Family
ID=17104535
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5243481A Pending JPH0797432A (ja) | 1993-09-30 | 1993-09-30 | エポキシ樹脂組成物及びこのエポキシ樹脂組成物を用いた光半導体装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0797432A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100372804B1 (ko) * | 1997-12-29 | 2003-05-12 | 제일모직주식회사 | 스티렌계난연성수지조성물 |
| KR100814706B1 (ko) * | 2006-12-31 | 2008-03-18 | 제일모직주식회사 | 반도체 소자 밀봉용 에폭시 수지 조성물 및 이를 이용한반도체 소자 |
-
1993
- 1993-09-30 JP JP5243481A patent/JPH0797432A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100372804B1 (ko) * | 1997-12-29 | 2003-05-12 | 제일모직주식회사 | 스티렌계난연성수지조성물 |
| KR100814706B1 (ko) * | 2006-12-31 | 2008-03-18 | 제일모직주식회사 | 반도체 소자 밀봉용 에폭시 수지 조성물 및 이를 이용한반도체 소자 |
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