JPH0797564B2 - 縦型半導体製造装置 - Google Patents
縦型半導体製造装置Info
- Publication number
- JPH0797564B2 JPH0797564B2 JP2042179A JP4217990A JPH0797564B2 JP H0797564 B2 JPH0797564 B2 JP H0797564B2 JP 2042179 A JP2042179 A JP 2042179A JP 4217990 A JP4217990 A JP 4217990A JP H0797564 B2 JPH0797564 B2 JP H0797564B2
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- JP
- Japan
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- cassette
- wafer
- boat
- shelf
- transfer position
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Links
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 title claims description 22
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 15
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 claims description 82
- 239000000872 buffer Substances 0.000 claims description 31
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 5
- 241000196324 Embryophyta Species 0.000 description 3
- 230000007723 transport mechanism Effects 0.000 description 2
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は縦型半導体製造装置に係り、特に縦型半導体製
造装置と外部のカセット搬送ロボットとの間で行われる
カセットの搬送を効率よく行うことができる縦型半導体
製造装置に関する。
造装置と外部のカセット搬送ロボットとの間で行われる
カセットの搬送を効率よく行うことができる縦型半導体
製造装置に関する。
従来の縦型半導体製造装置としては、例えば実開平１−
121923号に記載されたものがある。この装置は、反応室
と、反応室内と反応室下方との間で移動可能なボート
と、ボートとウェハ移載位置にあるカセットとの間でウ
ェハを移載するウェハ移載機と、ウェハ移載位置に設け
られるカセットストッカとを有している。
121923号に記載されたものがある。この装置は、反応室
と、反応室内と反応室下方との間で移動可能なボート
と、ボートとウェハ移載位置にあるカセットとの間でウ
ェハを移載するウェハ移載機と、ウェハ移載位置に設け
られるカセットストッカとを有している。
このカセットストッカは横方向にスライドすることがで
き、カセット収納数を２倍、即ち２バッチ分として、生
膜処理の終えたウェハを収納するカセットと次に処理し
ようとするウェハを収納するカセットを収納することが
可能である。しかしながら、カセットストッカには、生
膜状態を管理するためのモニター用ウェハやボートの端
部におかれる製品とならないダミーウェハを収納するカ
セットも収納しなければならないため、製品となるウェ
ハ２バッチ分のカセットも含めて全カセットを収納する
ためには、カセットストッカ自体が大きくなるという問
題がある。カセットストッカは、ウェハ移載位置として
精密な位置出しが要求されるため、カセットストッカ自
体が大きくなることは、その加工性、組立性の悪化につ
ながる。また、カセットストッカを横スライドさせるた
めの駆動機構の負担も大きくなるため高価になるという
問題もある。
き、カセット収納数を２倍、即ち２バッチ分として、生
膜処理の終えたウェハを収納するカセットと次に処理し
ようとするウェハを収納するカセットを収納することが
可能である。しかしながら、カセットストッカには、生
膜状態を管理するためのモニター用ウェハやボートの端
部におかれる製品とならないダミーウェハを収納するカ
セットも収納しなければならないため、製品となるウェ
ハ２バッチ分のカセットも含めて全カセットを収納する
ためには、カセットストッカ自体が大きくなるという問
題がある。カセットストッカは、ウェハ移載位置として
精密な位置出しが要求されるため、カセットストッカ自
体が大きくなることは、その加工性、組立性の悪化につ
ながる。また、カセットストッカを横スライドさせるた
めの駆動機構の負担も大きくなるため高価になるという
問題もある。
そのため、カセットストッカには、１バッチ分のカセッ
トしか収納できないのが実情である。
トしか収納できないのが実情である。
カセットストッカに１バッチ分のカセットしか収納でき
ないと、ウェハの処理終了後装置外部へカセット搬出
し、その後次のバッチ分のカセットを装置外部から装置
内部のカセットストッカへ搬入する必要がある。装置外
部からのカセットの搬入，搬出はファクトリオートメー
ション化によりカセット搬送ロボット等により行われる
が、カセット搬送ロボット等によりカセットの搬送速度
に制限があるため、多くの半導体製造装置のあるクリー
ンルームで効率良く装置を稼働させるには、多くのカセ
ット搬送ロボットが必要であるとともに、装置外に設け
られカセットを収納するカセットストッカの台数が多く
なり、あるいはカセットストッカの容量が大きくなると
いう問題がある。
ないと、ウェハの処理終了後装置外部へカセット搬出
し、その後次のバッチ分のカセットを装置外部から装置
内部のカセットストッカへ搬入する必要がある。装置外
部からのカセットの搬入，搬出はファクトリオートメー
ション化によりカセット搬送ロボット等により行われる
が、カセット搬送ロボット等によりカセットの搬送速度
に制限があるため、多くの半導体製造装置のあるクリー
ンルームで効率良く装置を稼働させるには、多くのカセ
ット搬送ロボットが必要であるとともに、装置外に設け
られカセットを収納するカセットストッカの台数が多く
なり、あるいはカセットストッカの容量が大きくなると
いう問題がある。
本発明は、上記課題を解決するために、ウェハ移載位置
の上方に設けられ、少なくとも次に処理されるウェハを
収納したカセットと処理済みのウェハを収納したカセッ
トとを収納することができるバッファカセット棚と、前
記ウェハ移載位置と前記バッファカセット棚間及びこれ
らと装置外部との間でカセットを搬送する，上下に昇降
可能なカセット移載機とを有することを特徴とする。
の上方に設けられ、少なくとも次に処理されるウェハを
収納したカセットと処理済みのウェハを収納したカセッ
トとを収納することができるバッファカセット棚と、前
記ウェハ移載位置と前記バッファカセット棚間及びこれ
らと装置外部との間でカセットを搬送する，上下に昇降
可能なカセット移載機とを有することを特徴とする。
即ち、請求項１記載の発明によれば、ウェハ移載位置に
あるカセット内に収納された半導体ウェハを反応室下方
にあるボートへ移載し、ウェハを載置したボートを反応
室内に入れて処理した後、ボートを反応室から下方に出
して、該ボートからウェハを前記ウェハ移載位置にある
カセット内に移載する縦型半導体製造装置において、前
記ウェハ移載位置の上方に設けられ、少なくとも次に処
理されるウェハを収納したカセットと処理済みのウェハ
を収納したカセットとを収納することができるバッファ
カセット棚と、前記ウェハ移載位置と前記バッファカセ
ット棚及びこれらと装置外部との間でカセットを搬送す
る，上下に昇降可能なカセット移載機とを有することを
特徴とする。
あるカセット内に収納された半導体ウェハを反応室下方
にあるボートへ移載し、ウェハを載置したボートを反応
室内に入れて処理した後、ボートを反応室から下方に出
して、該ボートからウェハを前記ウェハ移載位置にある
カセット内に移載する縦型半導体製造装置において、前
記ウェハ移載位置の上方に設けられ、少なくとも次に処
理されるウェハを収納したカセットと処理済みのウェハ
を収納したカセットとを収納することができるバッファ
カセット棚と、前記ウェハ移載位置と前記バッファカセ
ット棚及びこれらと装置外部との間でカセットを搬送す
る，上下に昇降可能なカセット移載機とを有することを
特徴とする。
また、請求項２記載の発明によれば、ウェハ移載位置に
あるカセット内に収納された半導体ウェハを反応室下方
にあるボートへ移載し、ウェハを載置したボートを反応
室内に入れて処理した後、ボートを反応室から下方に出
して、該ボートからウェハを前記ウェハ移載位置にある
カセット内に移載する縦型半導体製造装置において、前
記ウェハ移載位置には、少なくとも１バッチ分の半導体
ウェハを収納するカセットを収納する移載棚が設けられ
ると共に、前記移載棚の上方に設けられ、少なくとも次
に処理されるウェハを収納したカセットと処理済みのウ
ェハを収納したカセットを収納することができるバッフ
ァカセット棚と、前記ウェハ移載位置と前記バッファカ
セット棚間及びこれらと装置外部との間でカセット搬送
する，上下に昇降可能なカセット移載機と、を有するこ
とを特徴とする。
あるカセット内に収納された半導体ウェハを反応室下方
にあるボートへ移載し、ウェハを載置したボートを反応
室内に入れて処理した後、ボートを反応室から下方に出
して、該ボートからウェハを前記ウェハ移載位置にある
カセット内に移載する縦型半導体製造装置において、前
記ウェハ移載位置には、少なくとも１バッチ分の半導体
ウェハを収納するカセットを収納する移載棚が設けられ
ると共に、前記移載棚の上方に設けられ、少なくとも次
に処理されるウェハを収納したカセットと処理済みのウ
ェハを収納したカセットを収納することができるバッフ
ァカセット棚と、前記ウェハ移載位置と前記バッファカ
セット棚間及びこれらと装置外部との間でカセット搬送
する，上下に昇降可能なカセット移載機と、を有するこ
とを特徴とする。
本発明装置はこのような構成であるから、ウェハ移載位
置にあるカセット内のウェハを取り出してボートへ移載
し処理している間に、カセット移載機により次バッチの
カセットを外部からバッファカセット棚内の一部に収納
しておく。処理終了時には処理済みウェハがボートから
ウェハ移載位置のカセット内へ移載された後、このカセ
ットをカセット移載機によりバッファカセット棚内の他
の部分に搬送する。そして次バッチ用カセットをカセッ
ト移載機によりバッファカセット棚内の前記一部からウ
ェハ移載位置に搬送後、これよりウェハを取り出してボ
ートへ移載しウェハの処理を行う。この間に外部へのカ
セットの回収，外部からのカセットの供給をカセット移
載機により行うことで、装置のウェハカセットの回収，
供給待ちをなくすことができる。
置にあるカセット内のウェハを取り出してボートへ移載
し処理している間に、カセット移載機により次バッチの
カセットを外部からバッファカセット棚内の一部に収納
しておく。処理終了時には処理済みウェハがボートから
ウェハ移載位置のカセット内へ移載された後、このカセ
ットをカセット移載機によりバッファカセット棚内の他
の部分に搬送する。そして次バッチ用カセットをカセッ
ト移載機によりバッファカセット棚内の前記一部からウ
ェハ移載位置に搬送後、これよりウェハを取り出してボ
ートへ移載しウェハの処理を行う。この間に外部へのカ
セットの回収，外部からのカセットの供給をカセット移
載機により行うことで、装置のウェハカセットの回収，
供給待ちをなくすことができる。
縦型半導体製造装置において、ウェハ移載位置の上方に
バッファカセット棚を設けることで、従来空いていた空
間を有効利用できる。また、バッファカセット棚とウェ
ハ移載位置との間はカセット単位の搬送になるため、バ
ッファカセット棚の加工、組立、位置出し精度はウェハ
移載位置よりも厳密である必要はない。従って、バッフ
ァカセット棚増設費用は低く抑えることができる。
バッファカセット棚を設けることで、従来空いていた空
間を有効利用できる。また、バッファカセット棚とウェ
ハ移載位置との間はカセット単位の搬送になるため、バ
ッファカセット棚の加工、組立、位置出し精度はウェハ
移載位置よりも厳密である必要はない。従って、バッフ
ァカセット棚増設費用は低く抑えることができる。
以下図面により本発明の実施例を説明する。
図面は本発明装置の一実施例の構成を示す説明用斜視図
であり、１は、ウェハ移載位置にあるカセット内に収納
された半導体ウェハを反応室下方にあるボートへ移載
し、ウェハを載置したボートを反応室内に入れて処理し
た後、ボートを反応室から下方に出して、該ボートから
ウェハを前記ウェハ移載位置にあるカセット内に移載す
る縦型半導体製造装置、即ち炉体である。
であり、１は、ウェハ移載位置にあるカセット内に収納
された半導体ウェハを反応室下方にあるボートへ移載
し、ウェハを載置したボートを反応室内に入れて処理し
た後、ボートを反応室から下方に出して、該ボートから
ウェハを前記ウェハ移載位置にあるカセット内に移載す
る縦型半導体製造装置、即ち炉体である。
炉体１内には、ウェハ移載位置に、ボートへ又はボート
から移載されるウェハを収納するカセットを収納する移
載棚３が設けられる。移載棚は、左右に移動可能な移動
カセット棚３となっている。移動カセット棚３の上方に
は、一時的に次に処理されるバッチ分のカセットと、処
理済みのバッチ分のカセットを収納することができるバ
ッファカセット棚２が設けられる。さらに、炉体１内に
は、移動カセット棚３とバッファカセット棚２間及びこ
れらと装置外部との間でカセットを搬送する，上下に昇
降可能なカセット搬送機構４が設けられる。
から移載されるウェハを収納するカセットを収納する移
載棚３が設けられる。移載棚は、左右に移動可能な移動
カセット棚３となっている。移動カセット棚３の上方に
は、一時的に次に処理されるバッチ分のカセットと、処
理済みのバッチ分のカセットを収納することができるバ
ッファカセット棚２が設けられる。さらに、炉体１内に
は、移動カセット棚３とバッファカセット棚２間及びこ
れらと装置外部との間でカセットを搬送する，上下に昇
降可能なカセット搬送機構４が設けられる。
本実施例は上記のような構成であるから、移動カセット
棚３にあるカセット内のウェハを取り出してボートへ移
載し処理している間に、カセット搬送機構４により次バ
ッチのカセットを外部からバッファカセット棚２内の一
部に収納しておく。処理済みウェハがボートから移動カ
セット棚３のカセット内へ移載された後、このカセット
をカセット搬送機構４によりバッファカセット棚２内の
他の部分に搬送する。そして、次バッチ用カセットをカ
セット搬送機構４によりバッファカセット棚２内から移
動カセット棚３に搬送後、これよりウェハを取り出して
ボートへ移載しウェハの処理を行う。この間に外部への
カセットの回収，外部からのカセットの供給をカセット
搬送機構４により行うことで、装置のウェハカセットの
回収，供給待ちをなくすことができる。
棚３にあるカセット内のウェハを取り出してボートへ移
載し処理している間に、カセット搬送機構４により次バ
ッチのカセットを外部からバッファカセット棚２内の一
部に収納しておく。処理済みウェハがボートから移動カ
セット棚３のカセット内へ移載された後、このカセット
をカセット搬送機構４によりバッファカセット棚２内の
他の部分に搬送する。そして、次バッチ用カセットをカ
セット搬送機構４によりバッファカセット棚２内から移
動カセット棚３に搬送後、これよりウェハを取り出して
ボートへ移載しウェハの処理を行う。この間に外部への
カセットの回収，外部からのカセットの供給をカセット
搬送機構４により行うことで、装置のウェハカセットの
回収，供給待ちをなくすことができる。
上述のように本発明によれば、縦型半導体製造装置にお
いて、ウェハ移載位置の上方に設けられ、少なくとも次
に処理されるウェハを収納したカセットと処理済みのウ
ェハを収納したカセットとを収納することができるバッ
ファカセット棚と、前記ウェハ移載位置と前記バッファ
カセット棚間及びこれらと装置外部との間でカセットを
搬送する，上下に昇降可能なカセット移載機とを有する
構成としたので、外部のカセット搬送ロボットの台数を
増大することなく、装置のカセット回収，供給待ちによ
る休止時間をなくすことが可能となり、装置の稼働率を
向上することができる。
いて、ウェハ移載位置の上方に設けられ、少なくとも次
に処理されるウェハを収納したカセットと処理済みのウ
ェハを収納したカセットとを収納することができるバッ
ファカセット棚と、前記ウェハ移載位置と前記バッファ
カセット棚間及びこれらと装置外部との間でカセットを
搬送する，上下に昇降可能なカセット移載機とを有する
構成としたので、外部のカセット搬送ロボットの台数を
増大することなく、装置のカセット回収，供給待ちによ
る休止時間をなくすことが可能となり、装置の稼働率を
向上することができる。
縦型半導体製造装置において、ウェハ移載位置の上方に
バッファカセット棚を設けることで、従来空いていた空
間を有効利用できる。また、バッファカセット棚とウェ
ハ移載位置との間はカセット単位の搬送になるため、バ
ッファカセット棚の加工、組立、位置出し精度はウェハ
移載位置よりも厳密である必要はない。従ってバッファ
カセット棚増設費用は低く抑えることができる。
バッファカセット棚を設けることで、従来空いていた空
間を有効利用できる。また、バッファカセット棚とウェ
ハ移載位置との間はカセット単位の搬送になるため、バ
ッファカセット棚の加工、組立、位置出し精度はウェハ
移載位置よりも厳密である必要はない。従ってバッファ
カセット棚増設費用は低く抑えることができる。
またカセット移載機の台数及び装置外に設置すべきカセ
ットストッカの台数あるいはその容量が少なくて済むの
で、それだけコストを低減でき、運用上のソフトウェア
の開発も容易となり、ファクトリオートメーション化を
容易に達成することができる。
ットストッカの台数あるいはその容量が少なくて済むの
で、それだけコストを低減でき、運用上のソフトウェア
の開発も容易となり、ファクトリオートメーション化を
容易に達成することができる。
図面は本発明装置の一実施例の構成を示す説明用斜視図
である。 １……装置、２……バッファカセット棚、３……移載棚
（移動カセット棚）、４……カセット移載機（カセット
搬送機構）。
である。 １……装置、２……バッファカセット棚、３……移載棚
（移動カセット棚）、４……カセット移載機（カセット
搬送機構）。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 池田 文秀 東京都西多摩郡羽村町神明台２―１―１ 国際電気株式会社羽村工場内 (72)発明者 泉 昭一郎 東京都西多摩郡羽村町神明台２―１―１ 国際電気株式会社羽村工場内 (72)発明者 吉田 徹 東京都西多摩郡羽村町神明台２―１―１ 国際電気株式会社羽村工場内 (72)発明者 斉藤 良二 東京都西多摩郡羽村町神明台２―１―１ 国際電気株式会社羽村工場内 (56)参考文献 特開 昭63−219134（ＪＰ，Ａ) 実開 平１−121923（ＪＰ，Ｕ)
Claims (2)
- 【請求項１】ウェハ移載位置にあるカセット内に収納さ
れた半導体ウェハを反応室下方にあるボートへ移載し、
ウェハを載置したボートを反応室内に入れて処理した
後、ボートを反応室から下方に出して、該ボートからウ
ェハを前記ウェハ移載位置にあるカセット内に移載する
縦型半導体製造装置において、 前記ウェハ移載位置の上方に設けられ、少なくとも次に
処理されるウェハを収納したカセットと処理済みのウェ
ハを収納したカセットとを収納することができるバッフ
ァカセット棚と、 前記ウェハ移載位置と前記バッファカセット棚間及びこ
れらと装置外部との間でカセットを搬送する，上下に昇
降可能なカセット移載機と、 を有することを特徴とする縦型半導体製造装置。 - 【請求項２】ウェハ移載位置にあるカセット内に収納さ
れた半導体ウェハを反応室下方にあるボートへ移載し、
ウェハを載置したボートを反応室内に入れて処理した
後、ボートを反応室から下方に出して、該ボートからウ
ェハを前記ウェハ移載位置にあるカセット内に移載する
縦型半導体製造装置において、 前記ウェハ移載位置には、少なくとも１バッチ分の半導
体ウェハを収納するカセットを収納する移載棚が設けら
れると共に、 前記移載棚の上方に設けられ、少なくとも次に処理され
るウェハを収納したカセットと処理済みのウェハを収納
したカセットとを収納することができるバッファカセッ
ト棚と、 前記ウェハ移載位置と前記バッファカセット棚間及びこ
れらと装置外部との間でカセットを搬送する，上下に昇
降可能なカセット移載機と、 を有することを特徴とする縦型半導体製造装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2042179A JPH0797564B2 (ja) | 1990-02-21 | 1990-02-21 | 縦型半導体製造装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2042179A JPH0797564B2 (ja) | 1990-02-21 | 1990-02-21 | 縦型半導体製造装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03244121A JPH03244121A (ja) | 1991-10-30 |
| JPH0797564B2 true JPH0797564B2 (ja) | 1995-10-18 |
Family
ID=12628764
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2042179A Expired - Lifetime JPH0797564B2 (ja) | 1990-02-21 | 1990-02-21 | 縦型半導体製造装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0797564B2 (ja) |
Families Citing this family (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP3258748B2 (ja) * | 1993-02-08 | 2002-02-18 | 東京エレクトロン株式会社 | 熱処理装置 |
| JP3530986B2 (ja) * | 1995-06-22 | 2004-05-24 | 東京エレクトロン株式会社 | 移載アームのティーチング方法及び熱処理装置 |
| US6579052B1 (en) | 1997-07-11 | 2003-06-17 | Asyst Technologies, Inc. | SMIF pod storage, delivery and retrieval system |
| JP2000138283A (ja) * | 1998-08-28 | 2000-05-16 | Tadahiro Omi | ウエハの交換機能を有するウエハストッカ |
| US6283692B1 (en) | 1998-12-01 | 2001-09-04 | Applied Materials, Inc. | Apparatus for storing and moving a cassette |
| US6506009B1 (en) | 2000-03-16 | 2003-01-14 | Applied Materials, Inc. | Apparatus for storing and moving a cassette |
| FR2844258B1 (fr) * | 2002-09-06 | 2005-06-03 | Recif Sa | Systeme de transport et stockage de conteneurs de plaques de semi-conducteur, et mecanisme de transfert |
| US7433756B2 (en) | 2003-11-13 | 2008-10-07 | Applied Materials, Inc. | Calibration of high speed loader to substrate transport system |
| US7577487B2 (en) | 2005-09-14 | 2009-08-18 | Applied Materials, Inc. | Methods and apparatus for a band to band transfer module |
Family Cites Families (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS60258459A (ja) * | 1984-06-04 | 1985-12-20 | Deisuko Saiyaa Japan:Kk | 縦型熱処理装置 |
| US4770590A (en) * | 1986-05-16 | 1988-09-13 | Silicon Valley Group, Inc. | Method and apparatus for transferring wafers between cassettes and a boat |
| JP2570756Y2 (ja) * | 1988-02-12 | 1998-05-13 | 国際電気株式会社 | 縦型ｃｖｄ・拡散装置 |
-
1990
- 1990-02-21 JP JP2042179A patent/JPH0797564B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH03244121A (ja) | 1991-10-30 |
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