JPH0810364Y2 - 触媒反応器の支持装置 - Google Patents
触媒反応器の支持装置Info
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- JPH0810364Y2 JPH0810364Y2 JP1990045090U JP4509090U JPH0810364Y2 JP H0810364 Y2 JPH0810364 Y2 JP H0810364Y2 JP 1990045090 U JP1990045090 U JP 1990045090U JP 4509090 U JP4509090 U JP 4509090U JP H0810364 Y2 JPH0810364 Y2 JP H0810364Y2
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- 230000003197 catalytic effect Effects 0.000 title claims description 5
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 20
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 claims description 8
- 238000009434 installation Methods 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- NJPPVKZQTLUDBO-UHFFFAOYSA-N novaluron Chemical compound C1=C(Cl)C(OC(F)(F)C(OC(F)(F)F)F)=CC=C1NC(=O)NC(=O)C1=C(F)C=CC=C1F NJPPVKZQTLUDBO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Description
【考案の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本考案は、脱硝装置等の触媒を充填した触媒反応器の
支持装置に関する。
支持装置に関する。
従来の脱硝触媒を充填した反応器の支持装置は、第８
図及び第９図に示すように、反応器本体01の外周に複数
の支持柱04を建て、反応器本体01の下部のまわりに支持
梁03を突設し、前記支持柱04の上端に取付けられた建家
梁07上にスライドプレート05を介在させて支持梁03を載
置して支持するようにしている。これによって、反応器
の垂直荷重が支持され、また水平荷重は支持梁03と建家
梁07に設けられたストッパー金物06によって支持され
る。
図及び第９図に示すように、反応器本体01の外周に複数
の支持柱04を建て、反応器本体01の下部のまわりに支持
梁03を突設し、前記支持柱04の上端に取付けられた建家
梁07上にスライドプレート05を介在させて支持梁03を載
置して支持するようにしている。これによって、反応器
の垂直荷重が支持され、また水平荷重は支持梁03と建家
梁07に設けられたストッパー金物06によって支持され
る。
前記の従来の反応器の支持装置では、支持柱及び建家
梁を反応器本体の外周に設け、反応器本体より突出する
支持梁を建家梁の上面に乗せ垂直荷重を支持し、またス
トッパー金物で水平荷重を支持しているために、支持柱
建家梁等の配設で周囲に広いスペースを必要とするばか
りでなく、設置に時間と工数を要していた。
梁を反応器本体の外周に設け、反応器本体より突出する
支持梁を建家梁の上面に乗せ垂直荷重を支持し、またス
トッパー金物で水平荷重を支持しているために、支持柱
建家梁等の配設で周囲に広いスペースを必要とするばか
りでなく、設置に時間と工数を要していた。
本考案は前記に鑑みてなされたものであって、従来の
建家梁による支持を省き反応器を単独で支持することが
できる触媒反応器の支持装置を提供しようとするもので
ある。
建家梁による支持を省き反応器を単独で支持することが
できる触媒反応器の支持装置を提供しようとするもので
ある。
本考案の触媒反応器の支持装置は、触媒を充填した反
応器本体の下部に反応器本体の支持梁を周設し、反応器
本体の中心まわりに配設された基礎台上に摺動可能に支
持された３個以上の支持脚を前記支持梁に固定し、反応
器の冷体時前記各支持脚の外側に熱膨張を吸収する隙間
をもって配置され、かつ前記支持脚の上方への移動を規
制する第１の支持金物と、前記反応器の冷体時前記各支
持脚の内側に隙間なしで配設され、かつ前記支持脚の上
方への移動を規制する第２の支持金物とを基礎台に取付
けた。
応器本体の下部に反応器本体の支持梁を周設し、反応器
本体の中心まわりに配設された基礎台上に摺動可能に支
持された３個以上の支持脚を前記支持梁に固定し、反応
器の冷体時前記各支持脚の外側に熱膨張を吸収する隙間
をもって配置され、かつ前記支持脚の上方への移動を規
制する第１の支持金物と、前記反応器の冷体時前記各支
持脚の内側に隙間なしで配設され、かつ前記支持脚の上
方への移動を規制する第２の支持金物とを基礎台に取付
けた。
本考案では、反応器の垂直荷重は、反応器本体の下部
に周設された支持梁、同支持梁に固定され反応器の中心
まわりに配置された３個以上の支持脚を介して基礎台に
よって安定的に支持される。また、反応器の中心まわり
には基礎台上に摺動可能に支持された３個以上の支持脚
が配置され、この各支持脚の外側には、反応器の冷体時
に隙間を形成し、同隙間で支持脚の熱膨張を吸収する第
１の支持金物が基礎台に取付けられ、また、各支持脚の
内側には、反応器の冷体時に隙間なしとした第２の支持
金物が基礎台に取付けられているために、地震等による
反応器本体の水平方向の移動に対しては、反応器が運転
されていない冷体時には第２の支持金物により、また、
反応器が運転されて支持脚が熱膨張したときには第１の
支持金物により、というようにいづれかの支持脚と支持
金物とが接触してストッパーの機能が奏せられる。
に周設された支持梁、同支持梁に固定され反応器の中心
まわりに配置された３個以上の支持脚を介して基礎台に
よって安定的に支持される。また、反応器の中心まわり
には基礎台上に摺動可能に支持された３個以上の支持脚
が配置され、この各支持脚の外側には、反応器の冷体時
に隙間を形成し、同隙間で支持脚の熱膨張を吸収する第
１の支持金物が基礎台に取付けられ、また、各支持脚の
内側には、反応器の冷体時に隙間なしとした第２の支持
金物が基礎台に取付けられているために、地震等による
反応器本体の水平方向の移動に対しては、反応器が運転
されていない冷体時には第２の支持金物により、また、
反応器が運転されて支持脚が熱膨張したときには第１の
支持金物により、というようにいづれかの支持脚と支持
金物とが接触してストッパーの機能が奏せられる。
また、反応器の転倒に対しては、支持脚が金物によっ
て上方への移動が制約され、その転倒が防止される。
て上方への移動が制約され、その転倒が防止される。
更に、反応器本体は運転時の温度上昇によって、その
中心より外方へ向って熱膨張するが、前記のように各支
持脚と金物との間には、反応器本体の中心に対して外側
に隙間が反応器本体の冷体時形成されているために、反
応器本体の熱膨張はこの隙間によって吸収される。
中心より外方へ向って熱膨張するが、前記のように各支
持脚と金物との間には、反応器本体の中心に対して外側
に隙間が反応器本体の冷体時形成されているために、反
応器本体の熱膨張はこの隙間によって吸収される。
本考案の一実施例を、第１図ないし第７図によって説
明する。
明する。
本実施例は、支持棚2aに支持された脱硝触媒のパック
２の複数個が充填された水平断面が矩形の反応器本体１
を備え、処理されるガスは、第１図中矢印に示すよう
に、上方から反応器本体１へ入り、こゝで触媒によって
脱硝された上、反応器本体１の下方から処理されたガス
が排出されるようになっている。
２の複数個が充填された水平断面が矩形の反応器本体１
を備え、処理されるガスは、第１図中矢印に示すよう
に、上方から反応器本体１へ入り、こゝで触媒によって
脱硝された上、反応器本体１の下方から処理されたガス
が排出されるようになっている。
反応器本体１の下部には、反応器本体とほゞ同じ大き
さな矩形の支持梁３が周設されている。同支持梁３の隅
角の４個所に対当する位置に、ベースプレート５が基礎
台10にアンカーボルト６によって取付けられている。前
記支持梁３の各隅角には、断面がＨ状の支持脚４が取付
けられ、各支持脚４の下端には、ほゞ正方形の支持脚４
より突出する底板4aが取付けられ、各支持脚４の底板4a
はスライドプレート７を介してベースプレート５上に載
置され、基礎台10に対して水平方向に摺動できるように
なっている。
さな矩形の支持梁３が周設されている。同支持梁３の隅
角の４個所に対当する位置に、ベースプレート５が基礎
台10にアンカーボルト６によって取付けられている。前
記支持梁３の各隅角には、断面がＨ状の支持脚４が取付
けられ、各支持脚４の下端には、ほゞ正方形の支持脚４
より突出する底板4aが取付けられ、各支持脚４の底板4a
はスライドプレート７を介してベースプレート５上に載
置され、基礎台10に対して水平方向に摺動できるように
なっている。
前記ベースプレート５には、第４図に示すように、前
記各底板4aを取囲み、かつこれを覆うように逆Ｌ字状の
第1,第２の支持金物8,9が取付けられている。前記各底
板4aの反応器本体１の中心０から遠い側の二辺に対して
は、それぞれ２個の第１の支持金物8,8が、また中心０
に近い側の２辺に対しては、それぞれ１個の第２の支持
金物9,9が設けられている。また、反応器が運転してい
ない冷体時には、前記第２の支持金物９の逆Ｌ字状の上
部と支持脚４との隙間ｌ1は零に、また前記第１の支持
金物８の逆Ｌ字状の上部と支持脚４との間には反応器本
体１の運転時の熱膨張による伸び量分の熱膨張吸収用の
隙間ｌ2が設けられている（第５図参照）。また更に、
前記逆Ｌ字形の第1,第２の支持金物8,9の上部は支持脚
４の底板4aに係合して支持脚４の上方への移動を制約す
るようになっている。
記各底板4aを取囲み、かつこれを覆うように逆Ｌ字状の
第1,第２の支持金物8,9が取付けられている。前記各底
板4aの反応器本体１の中心０から遠い側の二辺に対して
は、それぞれ２個の第１の支持金物8,8が、また中心０
に近い側の２辺に対しては、それぞれ１個の第２の支持
金物9,9が設けられている。また、反応器が運転してい
ない冷体時には、前記第２の支持金物９の逆Ｌ字状の上
部と支持脚４との隙間ｌ1は零に、また前記第１の支持
金物８の逆Ｌ字状の上部と支持脚４との間には反応器本
体１の運転時の熱膨張による伸び量分の熱膨張吸収用の
隙間ｌ2が設けられている（第５図参照）。また更に、
前記逆Ｌ字形の第1,第２の支持金物8,9の上部は支持脚
４の底板4aに係合して支持脚４の上方への移動を制約す
るようになっている。
以上のように構成された本実施例においては、反応器
の垂直荷重は、支持梁３、支持脚４、ベースプレート５
を介して基礎台10によって支持される。
の垂直荷重は、支持梁３、支持脚４、ベースプレート５
を介して基礎台10によって支持される。
反応器本体１が基礎台10に対して相体的に水平方向へ
移動する時には、支持脚４の底板4aがスライドプレート
７を介して基礎台10に取付けられたベースプレート５上
を摺動するが、支持脚４が第1,第２の支持金物8,9に接
触してストッパーとしての機能が奏せられ、地震等によ
る水平荷重が基礎台10によって支持される。
移動する時には、支持脚４の底板4aがスライドプレート
７を介して基礎台10に取付けられたベースプレート５上
を摺動するが、支持脚４が第1,第２の支持金物8,9に接
触してストッパーとしての機能が奏せられ、地震等によ
る水平荷重が基礎台10によって支持される。
また、支持脚４の上方への移動は、支持脚の底板4aと
逆Ｌ字状の第1,第２の支持金物8,9の上部との係合によ
って制約され、反応器の転倒を防止することができる。
逆Ｌ字状の第1,第２の支持金物8,9の上部との係合によ
って制約され、反応器の転倒を防止することができる。
また更に、反応器が運転を行なって温度が上昇する
と、反応器本体１はその中心０を伸びの基点として、外
方へ向って熱膨張する。しかし、反応器の冷体時には、
第４図ないし第６図に示すように、中心０から遠い外側
の第１の支持金物８と支持脚４との間には隙間ｌ2が設
けられているので、第７図に示すように反応器本体１の
熱膨張を吸収することができる。
と、反応器本体１はその中心０を伸びの基点として、外
方へ向って熱膨張する。しかし、反応器の冷体時には、
第４図ないし第６図に示すように、中心０から遠い外側
の第１の支持金物８と支持脚４との間には隙間ｌ2が設
けられているので、第７図に示すように反応器本体１の
熱膨張を吸収することができる。
以上説明したように、本実施例では、反応器を安定的
に支持することができ、また、地震等による水平力を支
持し、かつ、反応器の転倒を防ぐことができ、また更に
反応器本体の熱膨張を吸収することができる。
に支持することができ、また、地震等による水平力を支
持し、かつ、反応器の転倒を防ぐことができ、また更に
反応器本体の熱膨張を吸収することができる。
しかも、本実施例では、従来必要としていた建家梁等
を不要とし、スペースを小さくすることができ、また、
その設置に要する時間、工数、及び材料を節減すること
ができる。
を不要とし、スペースを小さくすることができ、また、
その設置に要する時間、工数、及び材料を節減すること
ができる。
前記の実施例では、支持脚４を４個設けているが、本
考案においては、反応器本体の中心まわりに３個又は５
個以上の支持脚を設けるようにすることもできる。
考案においては、反応器本体の中心まわりに３個又は５
個以上の支持脚を設けるようにすることもできる。
本考案は次の効果を奏することができる。
（１） 反応器の垂直荷重を、支持梁と支持脚を介して
基礎台上に安定的に支持することができる。
基礎台上に安定的に支持することができる。
（２） 基礎台上に取付けられた第1,第２の支持金物に
よって、反応器の水平力を支持し、またその転倒を防ぐ
ことができる。
よって、反応器の水平力を支持し、またその転倒を防ぐ
ことができる。
（３） 前記第１の支持金物と支持脚との隙間によっ
て、反応器本体の熱膨張を吸収することができる。
て、反応器本体の熱膨張を吸収することができる。
（４） 従来必要であった建家梁等が不要となり、所要
スペースを小さくすることができ、また設置のための時
間、工数、材料の節減を計ることができる。
スペースを小さくすることができ、また設置のための時
間、工数、材料の節減を計ることができる。
第１図は本考案の一実施例の立面図、第２図は第１図の
Ａ−Ａ矢視断面図、第３図は同実施例の支持梁の平面
図、第４図は同実施例の支持金物の部分を示す説明図、
第５図は同実施例の基礎台、支持金物及び支持脚下部の
部分の縦断面図、第６図は同実施例の反応器の冷体時の
支持金物の状態の説明図、第７図は同実施例の反応器の
運転時の支持金物の状態の説明図、第８図は従来の触媒
を充填した反応器の支持装置平面図、第９図は同従来の
反応器の支持装置の立面図である。 １……反応器本体,2……触媒パック,3……支持梁,4……
支持脚,4a……支持脚の底板,5……ベースプレート,6…
…アンカーボルト,7……スライドプレート,8,9……支持
金物,10……基礎台,0……反応器本体中心。
Ａ−Ａ矢視断面図、第３図は同実施例の支持梁の平面
図、第４図は同実施例の支持金物の部分を示す説明図、
第５図は同実施例の基礎台、支持金物及び支持脚下部の
部分の縦断面図、第６図は同実施例の反応器の冷体時の
支持金物の状態の説明図、第７図は同実施例の反応器の
運転時の支持金物の状態の説明図、第８図は従来の触媒
を充填した反応器の支持装置平面図、第９図は同従来の
反応器の支持装置の立面図である。 １……反応器本体,2……触媒パック,3……支持梁,4……
支持脚,4a……支持脚の底板,5……ベースプレート,6…
…アンカーボルト,7……スライドプレート,8,9……支持
金物,10……基礎台,0……反応器本体中心。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭60−184742（ＪＰ，Ａ) 実願昭47−11150号（実開昭48−88607 号）の願書に添付した明細書及び図面の内 容を撮影したマイクロフィルム（ＪＰ, Ｕ) 実願昭61−195273号（実開昭63−99051 号）の願書に添付した明細書及び図面の内 容を撮影したマイクロフィルム（ＪＰ, Ｕ)
Claims (1)
- 【請求項１】触媒を充填した反応器本体の下部に反応器
本体の支持梁を周設し、反応器本体の中心まわりに配設
され基礎台上に摺動可能に支持された３個以上の支持脚
を前記支持梁に固定し、反応器の冷体時前記各支持脚の
外側に熱膨張を吸収する隙間をもって配置され、かつ前
記支持脚の上方への移動を規制する第１の支持金物と、
前記反応器の冷体時前記各支持脚の内側に隙間なしで配
設され、かつ前記支持脚の上方への移動を規制する第２
の支持金物とを基礎台に取付けたことを特徴とする触媒
反応器の支持装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1990045090U JPH0810364Y2 (ja) | 1990-05-01 | 1990-05-01 | 触媒反応器の支持装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1990045090U JPH0810364Y2 (ja) | 1990-05-01 | 1990-05-01 | 触媒反応器の支持装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH045222U JPH045222U (ja) | 1992-01-17 |
| JPH0810364Y2 true JPH0810364Y2 (ja) | 1996-03-29 |
Family
ID=31558969
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1990045090U Expired - Lifetime JPH0810364Y2 (ja) | 1990-05-01 | 1990-05-01 | 触媒反応器の支持装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0810364Y2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN117146111A (zh) * | 2023-07-26 | 2023-12-01 | 国能龙源环保有限公司 | 反应器 |
Family Cites Families (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS4888607U (ja) * | 1972-01-26 | 1973-10-25 | ||
| JPS60184742A (ja) * | 1984-02-09 | 1985-09-20 | Shiyouden:Kk | 免震支柱 |
| JPH06678Y2 (ja) * | 1986-12-18 | 1994-01-05 | 日本ピラ−工業株式会社 | 支承構造 |
-
1990
- 1990-05-01 JP JP1990045090U patent/JPH0810364Y2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH045222U (ja) | 1992-01-17 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| EXPY | Cancellation because of completion of term |