JPH08104538A - 高紫外線透過性弗燐酸塩ガラス及びその製造方法 - Google Patents
高紫外線透過性弗燐酸塩ガラス及びその製造方法Info
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Abstract
高い透過性を示し、かつ光学的均質性を有する弗燐酸塩
ガラス及びその製造方法の提供。 【構成】 陽イオンとして、P、Al、Y、Mg、C
a、Sr及びBaを含み、モル%で表示して、Pイオン
が0.15−20%、Alイオンが22−40%、Yイ
オンが4−15%、Mgイオンが3−12%、Caイオ
ンが14−30%、Srイオンが7−16%、Baイオ
ンが4−20%の範囲であり、陰イオンとして、Oイオ
ンとFイオンとを含み、モル%で表示して、Oイオンが
0.5−27%、Fイオンが73−99.5%の範囲で
あり、さらにOHイオンを含む。ガラスの溶解雰囲気を
不活性ガスと水蒸気との混合ガスとするか、水酸化物等
を含むガラスを原料とする製造方法より成る。
Description
外線光及び紫外線レーザーに使用されるレンズ、窓部
材、ミラー、プリズム、フィルタ、エタロン板、光ファ
イバ用母材ガラスに好適な紫外線透過性弗燐酸塩ガラス
及びその製造方法に関する。
微細化、高集積化の進展はきわめて著しく、すでにチッ
プ当たりの素子数が百万以上のVLSIの時代に入って
いる。これにともないウエハ上に回路パターンを描画す
る光リソグラフィ技術においてもその開発が急速に進
み、より微細な線幅、例えば1MビットDRAMに対応
する線幅1μm及び4MビットDRAMに対応する0.
8μmが開発されている。そして今、サブミクロンの線
幅、例えば16−256MビットDRAMの範囲に対応
する0.5−0.2μmの線幅で描画できるリソグラフ
ィ技術の開発が急がれている。最近の光学系、光源、フ
ォトレジストなどの着実な進歩から見てやはり光リソグ
ラフィが主流になるものと推定される。しかし、400
nm以下の紫外線を用いた場合は、従来の光学ガラスを
用いたレンズでは使用波長が354nm(i線)付近よ
り光透過率が急激に低下して、光吸収による発熱が生
じ、レンズの焦点位置の変化や収差が生じることにな
る。このため、石英ガラスレンズが用いられるが、その
場合、色収差の補正が問題となる。また、KrFエキシ
マレーザー(波長248nm)のような強力単色光を用
いる場合、光誘起欠陥による吸収が生じるため、長時間
の使用ができない。また、他の材料ではアルカリハロゲ
ン化物結晶、アルカリ土類ハロゲン化物結晶はその物質
の特性上非常によい透過性を有するが、単結晶は光学均
質性が低く、化学的耐久性も十分ではないので、高性
能、高精密な光学系においてはレンズなどの光学部品と
は成りにくい。また、紫外線伝送用のファイバとして石
英ファイバが用いられるが、開口数が大きくできないた
め、新規な高開口数ガラスファイバが求められる。
ラスとしては、従来の光学ガラスの中では弗燐酸塩系ガ
ラスが比較的に優れていると考えられている。このガラ
スには、酸素イオンよりも紫外線吸収が短波長にある弗
素が含有されているため、酸化物ガラスよりもはるかに
優れた紫外線透過性を有している。しかし、大量の弗素
を含有した弗燐酸塩ガラスは失透に対する安定性が低
く、工業的規模で光学的均質性をもつガラスを製造する
ことが非常に難しい。現在、紫外線透過少量燐酸含有弗
化物ガラスとしては、P2 O5 が0.5−8%、A12
O3 が0.1−2%、BaOが0.5−7%、A1F3
が29−42%MgF2 が5−13%、CaF2 が15
−30.5%、SrF2 が10−22%、BaF2 が0
−11%、BaCl2 が0.5−16.5%及びNaF
が0−7.5%である弗燐酸塩ガラスが知られているに
過ぎない〔特開平2−283635号〕。ところが、こ
のガラスは弗素イオンを大量に含有したガラスである
が、ガラスの失透に対する安定性を向上させるために多
量の塩素イオンを導入しており、その結果、波長350
nm以下の紫外線領域では十分な透過性が得られなかっ
た。
下の紫外線領域でも十分に高い透過性を示し、かつ光学
的均質性を有する弗燐酸塩ガラス及びその製造方法を提
供することにある。
有する弗化物のガラスの諸欠点を分析してみると、塩素
イオンを除いた場合のガラスの紫外線透過率の低下は燐
酸系ガラスと同様に P−O−R(R=Mg、Ca、Sr、Na、Li、K) のような結合がガラス構造中に存在したからであると本
発明者らは考えた。さらに、ガラスの紫外線透過率の改
善に対しては、このような結合をガラス構造から除去す
ることが最大のポイントとなると推察し、種々検討を行
った。その結果、比較的少量の燐酸を含有するガラスに
少量OHイオンを導入することで、ガラス構造中のP−
O−R結合をP−O−H結合で置き換えた少量OHドー
プ弗燐酸塩ガラスが、今までにない優れた紫外線透過性
を有し、かつ光学的均質性を有することを見出して本発
明を完成した。
て、P、Al、Y、Mg、Ca、Sr及びBaを含み、
前記各陽イオンの割合がモル%で表示して、Pイオンが
0.15−20%の範囲、Alイオンが22−40%の
範囲、Yイオンが4−15%の範囲、Mgイオンが3−
12%の範囲、Caイオンが14−30%の範囲、Sr
イオンが7〜16%の範囲、Baイオンが4−20%の
範囲であり、且つガラスを構成する陰イオンとして、O
イオンとFイオンとを含み、前記各陰イオンの割合がモ
ル%で表示して、Oイオンが0.5−27%の範囲、F
イオンが73−99.5%の範囲であり、さらにOHイ
オンを含み、波長3μm付近のOHイオンにもとづく吸
収ピークの吸収係数α(cm-1)からC(cm-3)=α
×1019で算出されるOH濃度が0.04−3×1019
/cm3 の範囲であることを特徴とする紫外線透過性弗
燐酸塩ガラスに関する。
られたガラス融液を冷却してガラスを製造する方法であ
って、前記ガラス原料の溶解雰囲気を不活性ガスと水蒸
気との混合ガス雰囲気とすることを特徴とする前記本発
明のOHイオンを含有する弗燐酸塩ガラスの製造方法、
及びガラス原料を溶解し、得られたガラス融液を冷却し
てガラスを製造する方法であって、ガラス原料として5
%以下の水酸化物又は水を含有する化合物を含む混合物
を用いることを特徴とする前記本発明のOHイオンを含
有する弗燐酸塩ガラスの製造方法に関する。
ンを導入したことにより、ガラスの紫外線透過率だけで
なく、ガラスの失透に対する安定性も向上した。図1に
示したように(A1F4 )n の鎖状構造からなる弗化物
ガラスにPイオンとOHイオンを導入することによっ
て、 P−O−H−−−F−A1− のような強い水素結合が形成され、(A1F4 )n の鎖
状構造3次元的に結合するため、ガラスの結晶化が抑制
されるものと考えられる。本発明のガラスの各成分につ
いて以下に説明する。
き、ガラス構造の安定化即ち失透に対する安定性を増す
成分である。また化学的耐久性を向上させるためにもP
イオンは不可欠な成分である。さらにPイオンは他の陽
イオンに比べ優先的にOHイオンと結合する特性をもつ
ので、Pイオンを弗化物ガラス導入することによってガ
ラス中にあるOHイオンのほとんどがP−O−Hのよう
に結合される。このような結合はA1−O−Hのような
結合に比べ、ガラスの紫外線透過率の向上に寄与するこ
とが本発明者らの実験で確認された。ただし、Pイオン
はガラスの成分として20%よりも多くなると、紫外線
の透過率を低下させるP−O−Rのような結合が相対的
に多くなるので、得られたガラスの紫外線透過率が悪化
する。これに対し、Pイオンの含有量が0.5%より少
ないとガラスの失透に対する安定性が悪くなり、化学的
耐久性も低下してしまう。従って、Pイオンの組成範囲
は、0.5−20%の範囲であることが適当である。特
に、1−19%の範囲であることが好ましい。
質を付与する成分としても、Pイオンと共にガラス構造
の安定化及びガラス融液の粘性を高め化学的耐久性の向
上に寄与する成分としても非常に重要である。ガラスに
高紫外線透過率の光学特性を付与するためにも、失透に
対する安定性を向上させるためにも22%以上が必要で
ある。しかし、40%を超えると逆に失透しやすくな
る。従って、A1イオンの組成範囲は、22−40%の
範囲であることが適当である。特に、23−38%の範
囲であることが好ましい。
屈折率及び化学的耐久性の向上に寄与する成分である。
但し、適量範囲を超えて導入するとかえって失透しやす
くなるので、4−15%の範囲であることが適当であ
る。特に、5−13%の範囲であることが好ましい。
るには非常に有用な成分である。但し、12%を超える
とガラスの失透に対する安定性が低くなり、3%より少
ないとガラスの高温溶解性が悪くなるので、3−12%
の範囲が適当である。特に、4−10%の範囲であるこ
とが好ましい。
与すると共に、失透に対して安定なガラス化範囲を広げ
るのに有効な成分である。但し、30%を超え、或いは
14%未満ではガラスの失透に対する安定性が低下する
ので、14−30%の範囲であることが適当である。特
に、14.5−28%の範囲であることが好ましい。
な原子番号の比較的大きなイオンは、いずれもガラスの
失透に対する安定性と屈折率を向上させるために導入さ
れる成分である。但し、SrイオンとBaイオンの導入
量は、それぞれ16%及び20%を超えるとガラスの失
透に対する安定性が悪化するのに対し、7%及び4%未
満では高温溶解性が悪くなり、十分安定なガラスも得ら
れない。従って、SrイオンとBaイオンの導入量はそ
れぞれ7−16%及び4−20%の範囲であることが適
当である。特に、Srイオンは8−15%、Baイオン
は4−19%の範囲であることが好ましい。
いが、ガラスの熔融性及び転移温度を調整する時に非常
に有用な成分ではある。但し、5%を超えるとガラスの
失透に対する安定性が悪化し、化学的耐久性も低下す
る。そのため、5%以下、好ましくは3.5%以下であ
ることが適当である。
は、ガラスの失透に対する安定性を向上させる成分であ
る。酸素イオンが0.5%未満ではガラスの失透傾向を
抑える効果が低下するのに対し、27%を超えると高い
紫外線透過性が得られなくなる。そのため、酸素イオン
の割合は0.5−27%の範囲とすることが適当であ
る。特に、1−26%の範囲が好ましい。
ンは、大量に含有させることによりガラスの紫外線透過
率を向上させることができる成分である。フッ素イオン
が73%未満では高い紫外線透過率が得られないのに対
し、99.5%を超えると十分安定なガラスが得られな
くなる。そのため、フッ素イオンの割合は73−99.
5%の範囲とすることが適当である。特に、74−99
%の範囲が好ましい。
Hイオンを含み、かつ波長3μm付近のOHイオンにも
とづく吸収ピークの吸収係数α(cm-1)からC(cm
-3)=α×1019で算出されるOH濃度が0.04−3
×1019/cm3 の範囲であることが特徴である。弗燐
酸塩ガラスに所定量のOHイオンを導入することで、ガ
ラス化範囲を広げることができ、かつ失透に対する安定
性を高めるのに非常に有効である。図1に示すように、
導入されたOHイオンは、数は少ないが、(P−O−H
−−−F−A1−F)のような強い水素結合で数多くの
(A1F4 )n 鎖状構造を連結し、ガラス構造を強固に
すると考えられる。ガラスのOHイオンの含有量は0.
04×1019/cm3 未満では失透に対する安定性の増
加に効果がなく、ガラスの紫外線透過性も悪化するの
で、0.04×1019/cm3 以上のOHイオンを導入
することが必要となる。また、OHイオンはいずれもP
イオンとP−O−H−−−Fのような結合を形成するた
めに導入される成分であるので、燐酸含有量の増加とと
もにOHイオンの導入量を増やすことが必要となる。こ
れはガラスの紫外線透過率を増大するためである。とこ
ろが、OHイオンの含有量は3×1019/cm3 を超え
るとガラスの失透に対する安定性は悪化する。従って、
3×1019cm3 以下とすることが適当である。特に、
0.05−2.5×1019cm3 の範囲となることが好
ましい。
は、前述のように図1からも分かるように、燐酸の含有
量に応じて適量のOHイオンを導入することが適当であ
る。例えば、図2の写真に示したように、アルゴン雰囲
気で溶解して得られるOHイオンを含まないガラスは失
透した。これに対し、アルゴンと水蒸気との混合ガス雰
囲気で溶解した場合、わずか0.087×1019/cm
3 のOHイオンを溶解雰囲気から混入させることによっ
て結晶のない透明なガラスが得られる。
ラスは、ガラス原料を溶解し、得られたガラス融液を冷
却してガラスを製造する方法であって、(1)前記ガラ
ス原料の溶解雰囲気を不活性ガスと水蒸気との混合ガス
雰囲気とする方法か、または(2)ガラス原料として5
%以下の水酸化物又は結晶水等として水を含有する化合
物を含む混合物を用いる方法により製造することができ
る。上記(1)の方法は、溶解雰囲気中の水蒸気とガラ
ス融液との反応を利用してOHイオンをガラスに混入さ
せる方法である。不活性ガスとしては、例えば窒素、ア
ルゴン、ヘリウム、ネオン等のガスを用いることができ
る。これらの不活性ガスを水の入っているガス洗浄瓶に
流し、洗浄瓶の中の水蒸気で飽和させ、ある程度の水蒸
気分圧を得てからガラス溶解炉に供給して、ガラス溶解
の雰囲気とする。例えば、その様子を図3に溶解炉への
水蒸気導入のプロセスとして示す。水蒸気の導入量は図
3に示した洗浄瓶中の水の温度で調整する。即ちガス洗
浄瓶中の水温で溶解炉雰囲気の水蒸気分圧を調整するこ
とによってガラス中のOHイオンの含有量を調整するこ
とができる。この方法においては、ガラス原料は、通常
ガラス原料として用いられているものを、OHイオンを
除いて所望の組成になるように混合したものを用いるこ
とができる。但し、水酸化物や結晶水を含む化合物を使
用できないことを意味するものではなく、原料の一部に
水酸化物や結晶水を含む化合物を使用した場合には、水
蒸気とガラス融液との反応を適宜調整することで所望量
のOHイオンを含むガラスを製造することができる。
%以下の水酸化物又は水を含有する化合物を含む混合物
を用いる方法である。即ち、通常のガラス原料であるフ
ッ化物、酸化物やリン酸塩、炭酸塩、硝酸塩等の化合物
に加えて、所望のOHイオンを含むようにH3 PO4 、
A1(OH)3 、アルカリ土類金属の水酸化物及びアル
カリ金属の水酸化物等や結晶水を含む酸化物等の水を含
む化合物を含む混合物をガラス原料として用いること
で、OHイオンを導入した本発明の弗燐酸塩ガラスを製
造することができる。但し、ガラスの失透性に対する安
定性を考慮するとOHを含む各化合物の添加量を5%
(モル%)以下とすることが適当である。特に、4.5
%以下であることが好ましい。
は、グラシィーカーボン製が好ましいが、白金るつぼを
用いることも可能である。ただし、白金るつぼを用いる
場合にはガラスに白金インクルージョンの混入を避ける
注意が必要である。また、ガラスの溶解雰囲気として
は、上記(1)の方法では不活性ガスと水蒸気との混合
ガスを用い、上記(2)の方法では不活性ガスを用い
る。不活性ガスは前記のものである。不活性ガスを用い
ることで、ガラス中の弗素及びOHの揮発を防ぐためで
あり、溶解雰囲気からOHイオンをガラスに混入させる
ためでもある。
今までにない優れた紫外線透過性を持ち、またガラスと
しても比較的安定に得ることができる。そのため、工業
的規模での生産が可能であり、石英ガラス及びCaF2
結晶に代わる光学材料として非常に有望である。さら
に、光学機器に用いられる光学部品としても、紫外線
光、可視光伝送用ファイバの母材としても有望である。
特に、0.2以上大きい開口数を有する紫外線伝送用フ
ァイバの作成に有用である。
これらの実施例に限定されるものではない。 実施例1〜36 表1〜表3には実施例のガラス組成を陽イオン及び陰イ
オンの割合を示し、表4〜表6には表1〜表3に示した
組成に対応する各種化合物の割合をモル%で示した。こ
れらのガラスを溶解する際の出発原料としては、A1
(PO3 )3 、Mg(PO3 )2 、Ca(PO3 )2 、
Sr(PO3 )2 、Ba(PO3 )2 、H3 PO4 、A
1(OH)3 、Mg(OH)2 、Ca(OH)2 、Sr
(OH)2、Ba(OH)2 、A1F3 、YF3 、Mg
F2 、CaF2 、SrF2 、BaF2 、 NaF、Li
F及びKFなどを用いた。これらの原料を、表4〜6に
示した所定の割合に50〜100g秤取し、十分混合し
て調合原料と成した。得られた調合原料をカーボンるつ
ぼに入れ、950〜1100℃でアルゴンと水蒸気との
混合ガス雰囲気で1〜2時間ガラスの溶解を行った。熔
融後、ガラス融液をカーボンるつぼに入れたまま室温ま
で放冷してガラスを得た。得られたガラスは無色透明で
光学顕微鏡で観察できる結晶は析出していなかった。
溶解雰囲気への水蒸気の導入又は原料への水酸化物及び
/又は結晶水を含む化合物の混合(又はその両方)によ
り行った。水蒸気の導入については、アルゴンガスを洗
浄瓶の中の水蒸気で飽和させ、ある程度の水蒸気分圧を
得てからこの混合ガスを溶解炉に供給し、ガラス溶解の
雰囲気とした。溶解炉雰囲気の水蒸気分圧は、図3に示
す洗浄瓶中の水の温度で調整し、これを通じてガラス中
のOHイオンの含有量を調整した。例えば、洗浄瓶の水
の温度を25、45、85℃とした水蒸気分圧の混合雰
囲気で溶解した実施例26、27、28のガラス中のO
Hイオンの濃度は、それぞれ0.21、0.46、0.
88×1019/cm3 となった。その他、実施例1、
2、4、7、11、12、13、14、15、16、1
7、18、20、23、24、26、27、29、3
4、35、36は溶解雰囲気中への水蒸気の導入により
OHイオンの導入を行った。また、実施例30、32
は、原料への水酸化物の混合によりOHイオンの導入を
行った。さらに、実施例3、5、6、8、9、10、1
9、21、22は、溶解雰囲気中への水蒸気の導入及び
原料への水酸化物の混合によりOHイオンの導入を行っ
た。各ガラスのOHイオン含有量は表1〜3に示す。
クトルの測定は、それぞれ日本電子−330型分光光度
計と日本分光VALOR−III型赤外線分光光度計で
厚さ10mmのサンプルガラスを用いて行った。ガラス
中のOHイオンの濃度は、ガラスの赤外線吸収スペクト
ルを用い、次の式(Journal of Non−C
rystalline Solids,163(199
3)p74−80の文献を参照)で定量した。 OH濃度(cm-3)=α(OH)×1019 ここで吸収係数のα(OH)(cm-1)は吸収スペクト
ルから次式で計算することができる。 α(OH)=(1/LO )×Ln(IO /ID ) ここでLO はサンプルの厚さ、IO はサンプルの最高透
過率(通常は波長1400nmの透過率を用いる)、I
D は波長3000−3200nm範囲にあるOHイオン
の吸収ピークとなる波長での透過率である。
ガス雰囲気で溶解した実施例7のガラスと(B)乾燥し
たアルゴンガス雰囲気で溶解した同組成のガラス(比較
例)の紫外線透過スペクトルを示した。水蒸気を含有す
る雰囲気で溶解した本発明のガラスの紫外線透過率は、
乾燥アルゴンガス雰囲気で溶解した比較例のガラスのそ
れよりも高いことが図4から分かる。また、石英ガラス
と比較するため、図5には市販のSuprasil−P
20石英ガラスと実施例14のガラスの紫外線透過スペ
クトルを示した。本発明のガラスは波長200−400
nmの紫外線領域で石英ガラスと同程度或いはそれより
少し高い透過率を有することが図5からはっきり分か
る。さらに他の実施例のガラスについての紫外線透過性
は、表1〜3に示す。以上の実施例より本発明のガラス
は200〜400nm波長範囲の紫外線光用レンズ、窓
材、ミラー、フィルターなどの光学材料または紫外線光
伝送ファイバ用母材として期待される。
ラスにP−O−H−−−F−A1−のような強い水素結
合が形成されて(A1F4 )n の鎖状構造3次元的に結
合することを説明する図。
例)と、アルゴンと水蒸気との混合ガス雰囲気で溶解し
たOHイオンを含む透明な本発明のガラスの図面に代わ
る写真。
で溶解した実施例7のガラスと(B)乾燥したアルゴン
ガス雰囲気で溶解した同組成のガラス(比較例)の紫外
線透過スペクトル。
と実施例14のガラスの紫外線透過スペクトル。
Claims (4)
- 【請求項1】 ガラスを構成する陽イオンとして、P、
Al、Y、Mg、Ca、Sr及びBaを含み、前記各陽
イオンの割合がモル%で表示して、Pイオンが0.15
−20%の範囲、Alイオンが22−40%の範囲、Y
イオンが4−15%の範囲、Mgイオンが3−12%の
範囲、Caイオンが14−30%の範囲、Srイオンが
7〜16%の範囲、Baイオンが4−20%の範囲であ
り、且つガラスを構成する陰イオンとして、Oイオンと
Fイオンとを含み、前記各陰イオンの割合がモル%で表
示して、Oイオンが0.5−27%の範囲、Fイオンが
73−99.5%の範囲であり、さらにOHイオンを含
み、波長3μm付近のOHイオンにもとづく吸収ピーク
の吸収係数α(cm-1)からC(cm-3)=α×1019
で算出されるOH濃度が0.04−3×1019/cm3
の範囲であることを特徴とする紫外線透過性弗燐酸塩ガ
ラス。 - 【請求項2】 Li、Na及びKから選ばれる少なくと
も1種のアルカリ金属イオンをモル%で表示して5%以
下含有する請求項1記載のガラス。 - 【請求項3】 ガラス原料を溶解し、得られたガラス融
液を冷却してガラスを製造する方法であって、前記ガラ
ス原料の溶解雰囲気を不活性ガスと水蒸気との混合ガス
雰囲気とすることを特徴とする請求項1に記載のOHイ
オンを含有する弗燐酸塩ガラスの製造方法。 - 【請求項4】 ガラス原料を溶解し、得られたガラス融
液を冷却してガラスを製造する方法であって、ガラス原
料として5%以下の水酸化物又は水を含有する化合物を
含む混合物を用いることを特徴とする請求項1に記載の
OHイオンを含有する弗燐酸塩ガラスの製造方法。
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|---|---|---|---|
| JP23878394A JP3575836B2 (ja) | 1994-10-03 | 1994-10-03 | 高紫外線透過性弗燐酸塩ガラス及びその製造方法 |
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Cited By (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1162180A1 (en) * | 2000-06-05 | 2001-12-12 | Kabushiki Kaisha Ohara | Optical glass suffering little change in refractive index when exposed to ultra-violet light during service |
| JP2006213546A (ja) * | 2005-02-02 | 2006-08-17 | Hoya Corp | ガラスの製造方法および赤外カットフィルター |
| JP2007055883A (ja) * | 2005-07-28 | 2007-03-08 | Hoya Corp | 光学ガラスおよび光学素子とその製造方法 |
| JP2008137877A (ja) * | 2006-12-05 | 2008-06-19 | Hoya Corp | 光学ガラスおよび光学素子 |
| JP2009203114A (ja) * | 2008-02-28 | 2009-09-10 | Hoya Corp | フツリン酸ガラス、プレス成形用ガラス素材、光学素子ブランク、光学素子およびそれらの製造方法ならびにガラス成形体の製造方法 |
| JP2009256167A (ja) * | 2008-03-28 | 2009-11-05 | Hoya Corp | フツリン酸ガラス、プレス成形用ガラス素材、光学素子ブランク、光学素子とそれぞれの製造方法 |
| WO2011024270A1 (ja) * | 2009-08-26 | 2011-03-03 | Hoya株式会社 | フツリン酸ガラス、プレス成形用ガラス素材、光学素子ブランク、光学素子およびそれらの製造方法ならびにガラス成形体の製造方法 |
| JP2014005202A (ja) * | 2013-10-01 | 2014-01-16 | Hoya Corp | フツリン酸ガラス、プレス成形用ガラス素材、光学素子ブランク、光学素子およびそれらの製造方法ならびにガラス成形体の製造方法 |
| US8637415B2 (en) | 2008-03-28 | 2014-01-28 | Hoya Corporation | Fluorophosphate glass, precision press molding preform, optical element blank, optical element and methods of manufacturing the same |
| US8642490B2 (en) | 2008-03-28 | 2014-02-04 | Hoya Corporation | Fluorophosphate glass, precision press molding preform, optical element blank, optical element and method of manufacturing the same |
| WO2019142397A1 (ja) * | 2018-01-18 | 2019-07-25 | 株式会社ニコン | 光学ガラス、光学ガラスを用いた光学素子、光学装置 |
-
1994
- 1994-10-03 JP JP23878394A patent/JP3575836B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (14)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7196027B2 (en) | 2000-06-05 | 2007-03-27 | Kabushiki Kaisha Ohara | Optical glass suffering little change in refractive index by radiation of light |
| EP1162180A1 (en) * | 2000-06-05 | 2001-12-12 | Kabushiki Kaisha Ohara | Optical glass suffering little change in refractive index when exposed to ultra-violet light during service |
| JP2006213546A (ja) * | 2005-02-02 | 2006-08-17 | Hoya Corp | ガラスの製造方法および赤外カットフィルター |
| JP2007055883A (ja) * | 2005-07-28 | 2007-03-08 | Hoya Corp | 光学ガラスおよび光学素子とその製造方法 |
| US7989377B2 (en) | 2006-12-05 | 2011-08-02 | Hoya Corporation | Optical glass and optical element |
| JP2008137877A (ja) * | 2006-12-05 | 2008-06-19 | Hoya Corp | 光学ガラスおよび光学素子 |
| JP2009203114A (ja) * | 2008-02-28 | 2009-09-10 | Hoya Corp | フツリン酸ガラス、プレス成形用ガラス素材、光学素子ブランク、光学素子およびそれらの製造方法ならびにガラス成形体の製造方法 |
| JP2009256167A (ja) * | 2008-03-28 | 2009-11-05 | Hoya Corp | フツリン酸ガラス、プレス成形用ガラス素材、光学素子ブランク、光学素子とそれぞれの製造方法 |
| US8637415B2 (en) | 2008-03-28 | 2014-01-28 | Hoya Corporation | Fluorophosphate glass, precision press molding preform, optical element blank, optical element and methods of manufacturing the same |
| US8642490B2 (en) | 2008-03-28 | 2014-02-04 | Hoya Corporation | Fluorophosphate glass, precision press molding preform, optical element blank, optical element and method of manufacturing the same |
| WO2011024270A1 (ja) * | 2009-08-26 | 2011-03-03 | Hoya株式会社 | フツリン酸ガラス、プレス成形用ガラス素材、光学素子ブランク、光学素子およびそれらの製造方法ならびにガラス成形体の製造方法 |
| US8633121B2 (en) | 2009-08-26 | 2014-01-21 | Hoya Corporation | Fluorophosphate glass, glass material for press molding, optical element blank, optical element, processes for production of same, and process for production of glass moldings |
| JP2014005202A (ja) * | 2013-10-01 | 2014-01-16 | Hoya Corp | フツリン酸ガラス、プレス成形用ガラス素材、光学素子ブランク、光学素子およびそれらの製造方法ならびにガラス成形体の製造方法 |
| WO2019142397A1 (ja) * | 2018-01-18 | 2019-07-25 | 株式会社ニコン | 光学ガラス、光学ガラスを用いた光学素子、光学装置 |
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