JPH0811189B2 - 特に噴流層反応器中の飽和カルボン酸の酸化脱水素のための耐摩砕触媒系及びその使用 - Google Patents

特に噴流層反応器中の飽和カルボン酸の酸化脱水素のための耐摩砕触媒系及びその使用

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JPH0811189B2
JPH0811189B2 JP3073147A JP7314791A JPH0811189B2 JP H0811189 B2 JPH0811189 B2 JP H0811189B2 JP 3073147 A JP3073147 A JP 3073147A JP 7314791 A JP7314791 A JP 7314791A JP H0811189 B2 JPH0811189 B2 JP H0811189B2
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Description

【発明の詳細な説明】
【0001】本発明は、噴流層反応器(entrained-bed r
eactor) 中で、飽和カルボン酸を対応する不飽和酸に気
相酸化脱水素するための、特にイソ酪酸をメタクリル酸
に酸化脱水素するための、燐及び鉄酸化物をべースにし
た耐摩砕触媒系に関する。
【0002】このような触媒系に関する触媒活性を有す
る物質は、仏国特許出願公開第2,497,795号に
既に記載されており、一般式FePx Mey z (式
中:− Meは少なくとも一つの次の元素:Li、Na、
K、Rb、Cs、Mg、Ca、Sr、及びBaを表し、− xは0.2〜3.0の値を有し、− yは0.01〜0.2の値を有し、そして− zは他の元素に結合する酸素の量であってそれらの
酸化状態に相当する量である)で示される。
【0003】この種の触媒は、特に塊状固体の形態をと
る。一般原則として、その調製は、水性媒質中で実施
し、鉄、燐及び金属Meの酸化物は鉄塩、金属Meの塩
及びオルト燐酸を蒸着することによって調製する。
【0004】仏国特許出願公開第2,497,795号
によれば、酸化脱水素反応は、固定層反応器中で実施す
る。固定層は、管中に堆積された触媒粒子の静止圧縮装
填物から成る。触媒粒子サイズ(直径2〜3ミリメート
ル)は、圧力降下を最小にするような大きさであるが、
しかしそれゆえ拡散する場合に制限が生じる。所望の物
質の収量を改良するために、反応は、物質に対するモル
比が約1:75、好ましくは10:30の蒸気の存在下
で実施する。これらの条件下では、気体は押出し流れに
近づき、接触時間は正確に制御され得るので、転換率及
び選択性は一般に非常に高くなる。したがって、イソ酪
酸の転換率は98%までになり得、メタクリル酸に対す
る選択性は70%までになり得る。にもかかわらず、飽
和カルボン酸の酸化脱水素に関する場合のような発熱触
媒反応においては、ホットスポットが時々出現し、これ
らは、特に選択性を変化させることによって、触媒性能
に影響する。そこで、性能に影響が出た場合には、触媒
を取替える必要がある。さらに、大量の水が存在する
と、反応後の水の分離のために非常に費用がかかる。
【0005】したがって、このような反応は、非常に少
量の水の存在下で、例えばいわゆる噴流層、又は輸送
層、又は空気輸送反応器中で、実施できれば有益であろ
う。このような反応器は、気体反応体が送り込まれ、そ
の中に懸濁した触媒が共に上昇する上昇カラムを包含す
る。カラムの頂部から出た物質は、サイクロン型の装置
中で触媒と分離される。次に、一般に、触媒は再生用気
体が循環する流動層再生カラムの上部に送られる。触媒
は、再生カラムの底部から出て、上昇カラムの底に送り
返される。
【0006】このような噴流層反応器は、以下のような
利点を有する。
【0007】−一方で、気体及び固体に対する押出し
流れにより気体塊及び固体相の滞流時間の正確な制御が
可能になり、− 他方、流動層反応器の場合に起きるような、泡によ
る反応領域の短絡現象を防ぎ、− 上昇カラムによって形成される反応帯域中の水含量
を減少できると共に、水性気流、特に水蒸気、窒素のよ
うな不活性気体を含有してもよい酸素、並びに反応周期
中の触媒からの燐の任意の損失を補償する反応体からな
る混合物を用いて触媒を再生することができ、− そして、最後に、反応帯域における水の消費量が非
常に少なくて済む。
【0008】さらに、その高熱容量のために、移送され
る固体粒子が反応熱を除去するという事実によって、発
熱反応において温度制御が有効である。しかしながら、
何よりも、決定的な利点は、二段階の触媒操作、即ち第
一段階における固体触媒の還元と、第二段階における再
生のためのその酸化及びその再水和を正確に分離し得る
ことである。
【0009】触媒を再生するためには、欧州特許出願公
開第263,005号の教示による手法を使用できる。
【0010】にもかかわらず、この型の反応器には、い
くつかの制限がある。すなわち、触媒は相互間又は内壁
との粒子の衝突によって生じる摩砕に耐えねばならな
い。
【0011】本出願人は、上記の種類の塊状触媒によっ
て、飽和カルボン酸の酸化脱水素用噴流層反応器の上記
の利点を活用することができること、並びに噴流層反応
器におけるこの反応の使用は、上記触媒中にゼオライト
を混和することによって、摩砕に耐え得るよう上記の触
媒を改質すれば改良されることを見出した。
【0012】したがって、本発明の目的は、第一に、一
般式FePx Mey z (式中、Me、x、y、及びz
は上記と同様である)の触媒を含み、塊状固体形態であ
り、少なくとも一つのゼオライトを伴うことを特徴とす
る触媒系である。
【0013】ゼオライトは、天然及び合成の結晶アルミ
ノ珪酸塩である。その一、二、又は三次元構造は、Al
4 及びSiO4 四面体の堆積で構成され、二つの四面
体は、単一酸素架橋によってのみ結合される。アルミニ
ウムは三価であるため、四面体AlO4 はその性質を広
範に変え得る陽イオン(Na+ 、K+ 、Ca++、Mg++
等、及び有機陽イオン等)によって補償される負電荷を
有する。ゼオライトは、単一実験式:(Mn+x (Al
2 y - (SiO2 z (H2 O)w (式中、Mは少
なくとも一つの補償陽イオン、(n=1及び/又は
2)、並びにnx=y、y=1、1≦z/y≦6、3≦
w≦5である)で表され、それらは大きさが分子の大き
さに近い微孔質構造を有する。ゼオライトとしては、一
般に0.3〜1.3nmの孔径の(開)細孔を有し、及
び/又は例えばモルデナイトのように少なくとも90%
の結晶度を有し、及び/又は特に30〜100μmか
ら、好ましくは40〜60μmから選択される平均粒度
を有し、及び/又は一般に50〜300m2 /g、好ま
しくは100〜200m2 /gの比表面積を示す天然又
は合成のゼオライトを選択し得る。
【0014】触媒系中のゼオライトの部分は、実効触媒
の約1〜10重量%に相当する。
【0015】本発明による触媒系の比表面積は、一般
に、約4〜10m2/gである。
【0016】好ましくは触媒系は、特に、約50〜40
0μmの寸法を有する粒子の形態である。
【0017】このような触媒系は、大気圧又は真空下
(例えば、2x104 〜105 Paの程度)で、鉄化合
物(Fe(NO3 3 9H2 Oのような)、及び金属M
eの化合物、並びに燐酸水溶液の重量に対して約60〜
90%の範囲の量のゼオライトを含有する燐酸水溶液を
蒸留して水性酸性液を除去し、その後蒸発または乾燥、
か焼、微粉砕、及びふるい分けすることによって調製さ
れ得る。
【0018】これらの後者の段階は、当業者には十分公
知である。その実施例としては、約120℃で約16〜
24時間、又は約180℃で約4〜8時間の蒸発、並び
に約400〜500℃で約6〜24時間のか焼が挙げら
れる。
【0019】さらに本発明の別の目的は、α,β−不飽
和カルボン酸を生成するための飽和カルボン酸の酸化脱
水素方法であって、この方法は、上記の飽和酸を蒸気相
の分子酸素又は酸素を含有する気体、並びに妥当である
場合は不活性希釈気体と、約250〜600℃、好まし
くは350〜450℃の反応温度で、一般式FePx
y z (式中、Me、x、y、及びzは上記と同様で
ある)の触媒を包含する触媒系の存在下で、噴流層反応
器中で、妥当である場合には約0.5を越えない飽和酸
に対するモル比の水蒸気の存在下で、接触させることか
ら成る。妥当である場合には、触媒系は、その摩砕耐性
を改良するために、上記のようなゼオライトを混和する
ことによって改質され得る。
【0020】噴流層反応器の上昇カラムの操作条件は、
一般に次の通りである。反応器内に送り込まれる装填物
は、一般に予熱された、飽和酸、分子酸素、及び飽和酸
に対する比率が一般に約1〜8モル%である不活性気体
希釈剤(窒素のような)の混合物であって、飽和酸に対
する分子酸素のモル比は0.2〜20、好ましくは約
0.5〜2である。反応器内に送り込まれる装填物中に
水蒸気が存在する場合、上記のモル比(すなわち、0.
5を越えない)は、明らかに、十分公知のように、実際
の酸化脱水素反応によって生成される水の量を除外する
と理解されるべきである。上昇カラム中の接触時間は、
好ましくは0.1〜50秒の間で選択される。気体速度
は触媒の最終自由落下速度よりも速くなければならない
ことは避けられない。この自由落下速度の計算は、当業
者の理解の範囲内である。
【0021】気流に対する触媒系の容積濃度は、一般的
に0.1〜15%、好ましくは約1〜5%である。
【0022】流動層再生カラムの操作条件は、一般に次
の通りである。流動層に触媒塊を装填する。この装填物
を、それが反応帯域に注入される前に、空気、水、及び
不活性気体から成る、約300〜500℃に維持され
た、触媒の酸化−還元状態を制御するための気流と接触
させる。気流中の水の容積含量は、一般に約1〜75%
である。
【0023】以下の実施例により本発明をさらに説明す
るが、しかしその範囲を限定するものではない。これら
の実施例においては、別記しない限り、パーセンテージ
は重量をべ−スにしたものである。
【0024】
【実施例】実施例1:本発明による触媒(バルク組成F
eP1.23Cs0.15)の調製 必要量を用いて、硝酸セシウム(CsNO3 2 O)を
40℃で水に溶解し、次に硝酸第二鉄(Fe(NO3
3 9H2 O)を攪拌しながらその溶液に添加する。この
溶液を室温で一晩攪拌する。
【0025】平行して、触媒酸化物の重量に対して3%
のゼオライトY(Al/Si=0.524、平均直径
50μm、比表面積:115m2 /g)(DA 250
の参照番号で、Institut Francais
duPetroleにより供給される)と共に85%
3 PO4 の溶液を攪拌する。
【0026】2つの溶液を、均質化するために丸底フラ
スコ中で十分攪拌する。次いで、大気圧下、115℃程
度の温度で蒸発を実施して、8リットルの出発容積に対
して約1.5リットルの容積の硝酸溶液を除去する。
【0027】その溶液を種々の磁器トレーに分配して、
それを120℃で一晩、次いで180℃で8時間、オー
ブンに入れる。
【0028】つぎにその塊を460℃で16時間空気中
でか焼する。それを破砕し、粉砕して、触媒を適当なサ
イズに縮小する(75〜150μm)。
【0029】この触媒の特性は、以下の通りである:− 比表面積 6m2 /g− 平均直径 = 190μm。
【0030】実施例2:その比表面積が5m2 /gであ
る以外は、実施例1と同様の手順に従って、同一組成の
塊状触媒を生成した。
【0031】比較実施例3:実施例1と同様の手順に従
い、ゼオライトを、85%H3 PO4 の量に対して3%
の比率のオルト珪酸テトラエチルに置換する。蒸発後、
ゲルが得られる。得られる触媒の比表面積は20m2
gである。
【0032】比較実施例4:実施例1と同様の手順に従
い、85%H3 PO4 の量に対して90%のゼオライト
を用いる。
【0033】比較実施例5:ゼオライトを同量のコロイ
ドシリカ(Ludox)に置換する以外は、実施例1と
同様の手順に従い、120℃で一晩、180℃で8時間
蒸発後、粉砕し、炭素を用いてペレット化し、その後4
60℃で16時間か焼する。
【0034】この触媒の比表面積は5m2 /gである。
【0035】実施例6:摩砕の評価 Rueil−MalmaisonでGeomechan
ique Companyが供給している摩砕試験を、
実施例1及び2、並びに比較実施例3〜5の触媒に関し
て実施した。
【0036】摩砕速度は、1時間で生成する指定サイズ
(s)より小さい微細粒子の量によって決定され、式:
(s未満の微細粒子の最終%−s未満の微細粒子の初期
%)÷s未満の微細粒子の初期%×100(h-1)で定
義される。
【0037】得られた結果をそれぞれ50μm及び90
μmより小さい部分について表1にまとめて示す。
【0038】
【表1】
【0039】表1の証拠から、最良の摩砕耐性を有する
触媒は本発明の実施例1のものであることになる。
【0040】実施例7〜12 噴流層反応器中でのイソ酪酸(IBA)のメタクリル酸
への脱水素反応 反応器は、内径20mm、厚さ3mm、高さ2.8mの
ステンレススチール製の加熱上昇カラム(即ち反応帯
域)を包含する。上記の上昇カラムの出口での気体−固
体分離は、サイクロン中で実施する。再生カラムは、高
さ/直径の比が2に設定された加熱流動層を包含する。
【0041】酸素/窒素混合物中の液体イソ酪酸を、石
英パッキングを充填した気化器中に注入して均質化し、
イソ酪酸の燃焼を防ぐために350℃以下の温度で気化
させる。気体混合物中の所望の酸素含量は、窒素中に空
気を希釈して得られる。各流速は、質量流動計で監視す
る。
【0042】上記の約350℃の混合物を、415℃の
温度に維持した上昇カラム中に注入する。このカラム中
で、混合物は、流動層から供給される実施例1の触媒系
と共に上昇する。
【0043】これらの実施例の各々に関して、上昇カラ
ム中の気体流の総流速、イソ酪酸のモルパーセンテー
ジ、及び上昇カラム中のO2 /イソ酪酸モル比を、以下
の表IIに示す。
【0044】再生する触媒系を分離するために、上昇カ
ラムから出る流れをサイクロンに送り込む。そのために
流動層にこの触媒の塊を装填し、これを、450℃の温
度に維持され、空気、水及び窒素から成り、これに、反
応周期中の触媒からの燐の損失を補償するために100
ppmの燐酸トリエチルを付加した気流と接触させる。
この気流の全流速、及び水の流速も、表IIに示す。
【0045】上記の条件で操作すると、良好なイソ酪酸
転換率及びメタクリル酸に対する良好な選択性が得られ
る。
【0046】
【表2】
フロントページの続き (72)発明者 スタニスラ・ピエトルズイ フランス国、59370・モンザンバロウル、 リユ・オシユ、6

Claims (10)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 一般式FePx Mey z (式中、Me
    はLi、Na、K、Rb、Cs、Mg、Ca、Sr、及
    びBaのうちの少なくとも一つの元素を表し、xは0.
    2〜3.0の値を有し、yは0.01〜0.2の値を有
    し、zは他の元素の酸化状態に応じてそれらに結合した
    酸素の量である)で示される触媒を含み、塊状固体形態
    であって、且つ少なくとも一種のゼオライトを伴うこと
    を特徴とする触媒系。
  2. 【請求項2】 使用するゼオライトが、0.3〜1.3
    nmの孔径の細孔、及び/又は少なくとも90%の結晶
    度、及び/又は30〜100μmの平均粒度、及び/又
    は50〜300m2 /gの比表面積を有することを特徴
    とする請求項1記載の触媒系。
  3. 【請求項3】 ゼオライトにより形成される部分が実効
    触媒の1〜10重量%に相当することを特徴とする請求
    項1又は2記載の触媒系。
  4. 【請求項4】 その比表面積が4〜10m2 /gである
    ことを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載の触媒
    系。
  5. 【請求項5】 50〜400μmの寸法を有する粒子の
    形態をとることを特徴とする請求項1〜4のいずれかに
    記載の触媒系。
  6. 【請求項6】 α,β−不飽和カルボン酸を生成するた
    めの飽和カルボン酸の酸化脱水素方法であって、噴流層
    反応器中で、反応温度を250〜600℃とし、一般式
    FePx Mey z (式中、MeはLi、Na、K、R
    b、Cs、Mg、Ca、Sr、及びBaのうちの少なく
    とも一つの元素を表し、xは0.2〜3.0の値を有
    し、yは0.01〜0.2の値を有し、zは他の元素の
    酸化状態に応じてそれらに結合した酸素の量である)の
    触媒を含む触媒系を存在させ、場合により、飽和酸に対
    するモル比が0.5を上回らない水蒸気を存在させて、
    分子状酸素又は酸素含有ガス、及び場合によっては不活
    性希釈気体と上記飽和酸とを気相中で接触させることか
    ら成る方法。
  7. 【請求項7】 請求項1〜5のいずれかで定義されたよ
    うな触媒系を用いることを特徴とする請求項6記載の方
    法。
  8. 【請求項8】 飽和酸の比率が1〜8モル%であり、分
    子状酸素対飽和酸のモル比が0.2〜20である、飽和
    酸、分子状酸素、及び不活性気体希釈剤の一般には予熱
    された混合物を噴流層反応器の上昇カラム中に送り、上
    昇カラム内での接触時間を0.1〜50秒間とすること
    を特徴とする請求項6又は7記載の方法。
  9. 【請求項9】 上昇カラム中の気流に対する触媒系の容
    積濃度が0.1〜15%であることを特徴とする請求項
    6〜8のいずれかに記載の方法。
  10. 【請求項10】 触媒を再生するために、流動層再生カ
    ラムに再生すべき触媒塊を装填し、この装填物を、空
    気、水及び不活性気体で構成され、300〜500℃の
    温度に維持される気流と接触させる(気流中の水の容積
    含量は1〜75%である)ことを特徴とする請求項6〜
    9のいずれかに記載の方法。
JP3073147A 1990-04-06 1991-04-05 特に噴流層反応器中の飽和カルボン酸の酸化脱水素のための耐摩砕触媒系及びその使用 Expired - Lifetime JPH0811189B2 (ja)

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JPH054049A JPH054049A (ja) 1993-01-14
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CA (1) CA2039907A1 (ja)
DE (1) DE69101118T2 (ja)
DK (1) DK0453332T3 (ja)
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